JP2016115939A - 塗布処理方法、コンピュータ記憶媒体及び塗布処理装置 - Google Patents
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Abstract
Description
30 現像処理装置
31 下部反射防止膜形成装置
32 レジスト塗布装置
33 上部反射防止膜形成装置
40 熱処理装置
41 アドヒージョン装置
42 周辺露光装置
140 スピンチャック
154 レジスト液供給ノズル
158 溶剤供給ノズル
161 乾燥ガスノズル
200 制御部
Q 溶剤
R レジスト膜
W ウェハ
Claims (4)
- 基板上に塗布液を塗布する方法であって、
基板上に前記塗布液の溶剤を供給して、当該基板の外周部に前記溶剤の液膜を環状に形成する溶剤液膜形成工程と、
基板を第1の回転速度で回転させながら、前記塗布液を基板の中心部に供給する塗布液供給工程と、
前記基板を前記第1の回転速度よりも速い第2の回転速度で回転させて前記塗布液を基板上に拡散させる塗布液拡散工程と、を有し、
前記溶剤液膜形成工程は、前記第2の回転速度への加速を開始し前記第2の回転速度に到達する前であって、かつ前記塗布液拡散工程の塗布液が、環状の溶剤液膜に接触する前まで継続されることを特徴とする、塗布処理方法。 - 前記塗布液拡散工程開始前に、平面視において、前記溶剤を供給する溶剤供給ノズルと基板中心との間の位置に乾燥ガスを吹き付けて、前記溶剤の液膜と前記塗布液との間に隙間を確保することを特徴とする、請求項1に記載の塗布処理方法。
- 請求項1または2のいずれかに記載の塗布処理方法を塗布処理装置によって実行させるように、当該塗布処理装置を制御する制御部のコンピュータ上で動作するプログラムを格納した、読み取り可能なコンピュータ記憶媒体。
- 基板上に塗布液を塗布する塗布処理装置であって、
基板を保持して回転させる基板保持部と、
基板上に前記塗布液を供給する塗布液供給ノズルと、
基板上に前記塗布液の溶剤を供給する溶剤供給ノズルと、
前記塗布液供給ノズルを移動させる第1の移動機構と、
前記溶剤供給ノズルを移動させる第2の移動機構と、
基板上に前記塗布液の溶剤を供給して、当該基板の外周部に前記溶剤の液膜を環状に形成し、
基板を第1の回転速度で回転させながら、前記塗布液を基板の中心部に供給し、
前記基板を前記第1の回転速度よりも速い第2の回転速度で回転させて前記塗布液を基板上に拡散させるべく、前記基板保持部、前記塗布液供給ノズル、前記溶剤供給ノズル、前記第1の移動機構及び前記第2の移動機構を制御するように構成された制御部と、を有し、
前記制御部は、
前記第2の回転速度への加速を開始し前記第2の回転速度に到達する前であって、かつ拡散された塗布液が環状の溶剤液膜に接触する前まで、溶剤の供給を継続して行なうように制御することを特徴とする、塗布処理装置。
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