JP2015153857A - 塗布処理方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体及び塗布処理装置 - Google Patents
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Abstract
Description
20 スピンチャック
33 レジスト液ノズル
40 溶剤ノズル
50 制御部
F レジスト膜
R レジスト液
W ウェハ
Claims (10)
- 基板上に塗布液を塗布する方法であって、
第1の回転数で基板を回転させながら、前記基板の中心部への塗布液の供給を開始し液溜りを形成する第1の工程と、
第1の回転数より速い第2の回転数まで基板を加速させ、当該第2の回転数で基板の回転を維持する第2の工程と、
その後第3の回転数まで基板を減速させ、当該第3の回転数に到達した後に前記塗布液の供給を停止する第3の工程と、を有し、
前記第1の回転数は、0rpm超200rpm未満であることを特徴とする、塗布処理方法。 - 前記第1の工程において、前記第1の回転数で基板を回転させながら、前記基板の中心部への塗布液の供給を0.5秒以上継続して液溜りを形成することを特徴とする、請求項1に記載の塗布処理方法。
- 前記第3の工程において、3000rpm/秒未満の加速度で基板の回転数を減速させることを特徴とする、請求項1または2のいずれか一項に記載の塗布処理方法。
- 前記塗布液の粘度は、10cp以上であることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一項に記載の塗布処理方法。
- 前記第1の工程の前に、基板の中心部に溶剤を供給し、その後基板を回転させ、基板上の前記溶剤が基板の周縁部に到達する前に前記第1の工程における塗布液の供給を開始することを特徴とする、請求項1〜4のいずれか一項に記載の塗布処理方法。
- 前記第3の工程の後に、前記第1の回転数より早く且つ前記第2の回転数よりも遅い第4の回転数で基板を回転させる第4の工程を有することを特徴とする、請求項1〜5のいずれか一項に記載の塗布処理方法。
- 前記第4の工程では、塗布液の膜厚が1μm以上となるまで基板の回転を維持することを特徴とする、請求項6に記載の塗布処理方法。
- 請求項1〜7のいずれか一項に記載の塗布処理方法を塗布処理装置によって実行させるように、当該塗布処理装置を制御する制御部のコンピュータ上で動作するプログラム。
- 請求項8に記載のプログラムを格納した読み取り可能なコンピュータ記憶媒体。
- 基板上に塗布液を塗布する塗布処理装置であって、
基板を保持して回転させる回転保持部と、
基板に塗布液を供給する塗布液ノズルと、
第1の回転数で基板を回転させながら、前記基板の中心部への塗布液の供給を開始し液溜りを形成する第1の工程と、
第1の回転数より速い第2の回転数まで基板を加速させ、当該第2の回転数で基板の回転を維持する第2の工程と、
その後第3の回転数まで基板を減速させ、当該第3の回転数に到達した後に前記塗布液の供給を停止する第3の工程と、を実行し、
且つ、前記第1の回転数を0rpm超200rpm未満とするように、前記回転保持部及び前記塗布液ノズルを制御する制御部と、を有することを特徴とする、塗布処理装置。
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