JP2009207984A - 塗布処理方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体及び塗布処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ウェハを第1の回転数で回転させ、ウェハ上に純水が拡散しないように、ウェハの中心部に純水を供給する(工程S1)。ウェハの回転を第2の回転数まで加速させ、ウェハ上の純水の中心部に塗布液を供給し、塗布液の下層に塗布液と純水の混合層を形成する(工程S2)。ウェハの回転を第3の回転数まで加速させ、塗布液をウェハ上の全面に拡散させる(工程S3)。ウェハの回転を第4の回転数まで減速させ、ウェハ上の塗布液の膜厚を調整する(工程S4)。ウェハの回転を第5の回転数まで加速させ、ウェハ上の塗布液を乾燥させる(工程S5)。
【選択図】図4
Description
20 スピンチャック
33 塗布液ノズル
40 純水ノズル
50 制御部
F 塗布膜
P 純水
P1 周辺部
P2 中心部
T 塗布液
W ウェハ
Claims (11)
- 基板上に水溶性の塗布液を塗布する方法であって、
基板上の全面に純水が拡散しないように、基板の中心部に純水を供給する第1の工程と、
その後、前記基板上の純水の中心部に水溶性の塗布液を供給し、当該塗布液の下層に塗布液と純水の混合層を形成する第2の工程と、
その後、前記混合層を基板上に拡散させて、前記塗布液を基板上の全面に拡散させる第3の工程と、を有することを特徴とする、塗布処理方法。 - 前記第1の工程において、基板を回転させて、前記基板上の純水の表面を下方に窪ませ、当該純水の周辺部を中心部よりも高くすることを特徴とする、請求項1に記載の塗布処理方法。
- 前記第1の工程において、基板を第1の回転数で回転させ、
前記第2の工程において、基板の回転を前記第1の回転数よりも速い第2の回転数まで加速させて、当該第2の回転数で基板を回転させ、
前記第3の工程において、基板の回転を前記第2の回転数よりも速い第3の回転数まで加速させて、当該第3の回転数で基板を回転させることを特徴とする、請求項1又は2に記載の塗布処理方法。 - 前記第3の工程の後、基板の回転を前記第3の回転数よりも遅い第4の回転数まで減速させ、当該第4の回転数で基板を回転させて、前記基板上の塗布液の膜厚を所定の膜厚に調整する第4の工程と、
その後、基板の回転を前記第4の回転数よりも速い第5の回転数まで加速させ、当該第5の回転数で基板を回転させて、前記基板上の塗布液を乾燥させる第5の工程と、をさらに有することを特徴とする、請求項3に記載の塗布処理方法。 - 請求項1〜4に記載の塗布処理方法を塗布処理装置によって実行させるために、当該塗布処理装置を制御する制御部のコンピュータ上で動作するプログラム。
- 請求項5に記載のプログラムを格納した読み取り可能なコンピュータ記憶媒体。
- 基板上に水溶性の塗布液を塗布する塗布処理装置であって、
基板に所定のタイミングで塗布液を供給する塗布液ノズルと、
基板に所定のタイミングで純水を供給する純水ノズルと、を有し、
前記純水ノズルによって、基板上の全面に純水が拡散しないように、基板の中心部に純水を供給する第1の工程と、その後、前記基板上の純水の中心部に水溶性の塗布液を供給し、当該塗布液の下層に塗布液と純水の混合層を形成する第2の工程と、その後、前記混合層を基板上に拡散させて、前記塗布液を基板上の全面に拡散させる第3の工程と、を実行するように、前記塗布液ノズル及び前記純水ノズルの動作を制御する制御部と、を有することを特徴とする、塗布処理装置。 - 基板を保持して当該基板を所定の速度で回転させる回転保持部をさらに有することを特徴とする、請求項7に記載の塗布処理装置。
- 前記制御部は、前記第1の工程において、基板を回転させて、前記基板上の純水の表面を下方に窪ませ、当該純水の周辺部が中心部よりも高くなるように前記回転保持部の動作を制御することを特徴とする、請求項8に記載の塗布処理装置。
- 前記制御部は、前記第1の工程において、基板を第1の回転数で回転させ、前記第2の工程において、基板の回転を前記第1の回転数よりも速い第2の回転数まで加速させて、当該第2の回転数で基板を回転させ、前記第3の工程において、基板の回転を前記第2の回転数よりも速い第3の回転数まで加速させて、当該第3の回転数で基板を回転させるように、前記回転保持部の動作を制御することを特徴とする、請求項8又は9に記載の塗布処理装置。
- 前記制御部は、前記第3の工程の後、基板の回転を前記第3の回転数よりも遅い第4の回転数まで減速させ、当該第4の回転数で基板を回転させて、前記基板上の塗布液の膜厚を所定の膜厚に調整する第4の工程と、その後、基板の回転を前記第4の回転数よりも速い第5の回転数まで加速させ、当該第5の回転数で基板を回転させて、前記基板上の塗布液を乾燥させる第5の工程と、を実行するように、前記回転保持部の動作を制御することを特徴とする、請求項10に記載の塗布処理装置。
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