JPH06186745A - 放射線感応性物質 - Google Patents

放射線感応性物質

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JPH06186745A JP4122242A JP12224292A JPH06186745A JP H06186745 A JPH06186745 A JP H06186745A JP 4122242 A JP4122242 A JP 4122242A JP 12224292 A JP12224292 A JP 12224292A JP H06186745 A JPH06186745 A JP H06186745A
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Abstract

(57)【要約】 【構成】 コア−シェル構造の粒子と放射線感応性成分
(C)とを有する放射線感応性物質であって、上記コア
−シェル構造の粒子は、水不溶性で熱軟化性のコア成分
(A)と、コア成分(A)を被覆するとともに水性媒体
に可溶性または膨潤性のシェル成分(B)とからなり、
上記放射線感応性成分(C)は、放射線の曝露により、
該放射線感応性物質の溶解特性を変化させるものである
放射線感応性物質。 【効果】 この放射線感応性物質は、ポジ型でもネガ型
にもなり、水性媒体から基材上に塗布でき、放射線感応
性原板を形成する。画像を露光後、水性媒体中で現像で
き、加熱すれば上記粒子が融着し、耐久性のある印刷用
像を形成する。有機溶剤や高腐食性の薬剤を使用しない
ので、無毒であり環境を汚染しない。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は放射線感応性物質に係わ
り、特にリソグラフィク印刷版あるいはフレキソグラフ
ィック印刷版等の放射線感応性原板に好適に用いられる
放射線感応性物質およびこれを用いた放射線感応性原板
の製法および印刷版の製法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より、印刷版技術における課題とし
て、長時間に渡る連続印刷中、高品質の印刷が維持で
き、かつ環境的に危険性がなく、経済的にも不利がない
印刷版を提供するものがあった。従来の印刷版システム
には、これらの課題のいくつかを満たすことができる例
が数多くあるが、いずれも他の面で不利な点を有し、す
べてに満足が得られるものではない。
【0003】例えば、数種のネガ型機能性放射線感応性
原板は、長時間の連続印刷を行うことができるが、現像
のために、危険性を有する有機溶剤の現像液が使用され
ることが知られている。また、ポジ型の放射線感応性原
板は、その処理工程で高侵食性の強アルカリ現像液が使
用されるという問題がある。そして、ポジ型機能性放射
線感応性原板あるいはネガ型機能性放射線感応性原板の
製造工程は、基材に放射線感応性組成物を塗布する際
に、有害な、あるいはしばしば可燃性の溶媒を用いた塗
布液の使用を伴うという問題がある。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
のような環境的な危険がなく、長時間の連続印刷で高品
質な印刷を行うことができるポジ型機能性放射線感応性
原板、あるいはネガ型機能性放射線感応性原板を形成で
きるようにした、放射線感応性物質を提供することにあ
る。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明の放射線感応性物
質は、コア−シェル構造の粒子と放射線感応性成分
(C)とを有する放射線感応性物質であって、上記コア
−シェル構造の粒子は、水不溶性で熱軟化性のコア成分
(A)と、コア成分(A)を被覆するとともに水性媒体
に可溶性または膨潤性のシェル成分(B)からなり、上
記放射線感応性成分(C)は、放射線の曝露により、該
放射線感応性物質の溶解特性を変化させるものである。
【0006】以下、本発明を詳細に説明する。本発明の
第一の実施態様によれば、コア−シェル構造の粒子と放
射線感応性成分(C)とを有する放射線感応性物質であ
って、上記コア−シェル構造の粒子は、水不溶性で熱軟
化性のコア成分(A)と、水性媒体に可溶性または膨潤
性のシェル成分(B)とからなり、上記放射線感応性成
分(C)は、放射線の曝露により、放射線感応性物質の
溶解特性を変化させるものである放射線感応性物質を提
供することができる。
【0007】上記コア−シェル構造の粒子は、成分
(A)と成分(B)との明確な領域に区分されているも
のである。その領域は成分(A)(コア)が成分(B)
(シェル)の内部に閉じ込められ、かつコアとシェルと
が互いに強い物理的吸着、あるいは好ましくは化学的結
合によって結びついた状態に構成されている。また、両
成分はいずれも通常の状態で固体で、流動性を有しない
のが好ましい。一般に、このようなコア−シェル構造の
粒子は知られており、その製法は、米国特許明細書第4
868016号、英国特許明細書第887357号、お
よび英国特許明細書第1107249号(実施例22)
に記載されている。
【0008】上記成分(A)は、親油性ポリマーで、周
辺温度よりも高い最低造膜温度を有することが好まし
い。そして成分(A)は、スチレン、置換スチレン、
(メタ)アクリル酸エステル、ハロゲン化ビニル、(メ
タ)アクリロニトリル、ビニルエステルの1以上から得
られる残基を有する付加重合体、ポリエーテル、ポリエ
ステル、ポリアミド、またはポリウレタンでもよい。あ
るいは上述のコア−シェル構造の粒子を形成しうる熱溶
融性の親油性物質または組成物でもよい。好ましい物質
は、スチレンまたは置換スチレンを50重量%以上含有
する付加重合体である。
【0009】成分(B)は好ましくはポリマーであり、
カルボキシル基、スルホン酸基、スルホンアミド基、第
四アンモニウム基、アミノ基、あるいは水性溶媒、すな
わち水や、アルカリ水溶液、酸水溶液中で溶解あるいは
少なくとも膨潤するような性質を与える他の基を含むも
のが望ましい。特に、成分(B)として適した物質は以
下のようなものがある。
【0010】(i) 1つあるいは複数のエチレン性不
飽和カルボン酸とスチレン、置換スチレン、メタクリル
エステル、メタクリロニトリル、あるいは酢酸ビニルの
うちの1つあるいは複数との共重合によって得られるコ
ポリマー、
【0011】(ii) ジカルボン酸と、水酸基を含む
高分子とのハーフエステルになっているもので、例え
ば、フタル酸、コハク酸、あるいはマレイン酸と、ポリ
ビニルアセタール、なかでもポリビニルブチラールとが
ハーフエステルになっているもの、
【0012】(iii) アルキルまたはアラルキル
と、スチレン−、またはアルキルビニルエーテル−無水
マレイン酸共重合体とのハーフエステル、特にアルキル
とスチレン−無水マレイン酸共重合とのハーフエステ
ル、例えばモンサント(Monsanto)社製、「ス
クリプセット(Scripset)540」、などがあ
げられる。
【0013】上記放射線感応性成分(C)はポジ型機能
性あるいはネガ型機能性のものを用いることができる。
代表的な成分(C)としては、ネガ型機能性物質の場合
には水溶性ジアゾ樹脂、水溶性あるいは水分散性の感光
性樹脂、または光重合性化合物、またはこれらを任意に
組合せたものが挙げられる。またポジ型機能性物質の場
合には、水性媒体に可溶性かあるいは分散性のキノンジ
アジド誘導体、あるいは他の適宜の物質が挙げられる。
【0014】好適なネガ型機能性物質の例として、4−
ジアゾジフェニルアミン・ホルムアルデヒド縮合物の塩
化亜鉛塩、スチリルピリジウム官能性ポリビニルアルコ
ール(例えば、「SPP−H−13」;東洋合成工業
製)、水希釈性ポリエステルアクリレート(例えば、
「RCP2701」;ハルクロス ケミカルズ ユーケ
社製)と適当な光開始剤(例えば、「コンタキュアQT
X」;インターナショナルバイオセンシステイクス社
製)との混合物がある。典型的なポジ型機能性物質は、
例えばナフトキノンジアジドスルホニルイミダゾール誘
導体を含むものである。
【0015】本発明によるコア−シェル構造の粒子にお
いて、そのコアは成分(A)からなり、シェルは成分
(B)からなる。コアはシェルに被覆されている。放射
線感応性成分(C)は、シェル上に存在していてもよ
い。
【0016】上記成分(C)は、放射線の曝露により放
射線感応性物質の溶解特性を変化させるに十分な量が必
要である。一般に、該物質の重量の2.0〜80.0重
量%とされる。また、該物質における成分(A)と成分
(B)との重量比は、例えば20:1〜1:20、好ま
しくは9:1〜1:1の範囲である。
【0017】必要に応じ、本発明の放射線感応性物質
は、例えば感光剤、染料、顔料、安定剤あるいはこのよ
うな系によく用いられる他の添加剤を含んでいてもよ
い。
【0018】本発明の放射線感応性物質は、基材上に被
覆されて、放射線感応性原板を形成することができる。
上記粒子が成分(C)を含まない場合には、かかる粒子
は、上記基材上に形成された一層または二層以上の成分
(C)からなる層内に分布することが好ましい。逆に、
上記粒子と成分(C)とがそれぞれ別々の層に含まれて
いてもよい。
【0019】本発明の第2の実施態様によれば、放射性
感応性物質の各成分を実質的な水性媒体に溶解もしくは
分散させ、ついで得られた溶液または分散液を基材に塗
布し、乾燥することを特徴とする放射線感応性原板の製
法を提供することができる。
【0020】このような方法においては、従来の有機溶
媒を用いる組成物に付随する可燃性および毒性による危
険性を減少させることができる。上記成分(C)とコア
−シェル構造の粒子の塗布は、上記放射線感応性物質の
性質にしたがって、別々にあるいは同時に行なうことが
できる。
【0021】上記放射線感応性原板をリソグラフ印刷版
の製造に用いるときには、成分(A)が親油性の場合、
上記基材は親水性、あるいは親水性とすることができる
ようになっていることが好ましい。
【0022】上記基材に適するものとしては、紙、プラ
スチック、金属、金属とプラスチックの積層物、その他
これらと同種類のものがあげられるが、好ましくは、電
解研磨処理および陽極酸化処理を施したアルミニウム板
が用いられる。
【0023】本発明の第3の実施態様によれば、第2の
実施態様における放射線感応性原板に画像を露光し、こ
の露光後の放射線感応性原板を水性媒体中で現像して、
可溶部分を除去するとともに不溶部分からなる画像を基
材上に残し、ついでこの現像後の放射線感応性原板を高
温に曝して上記コア−シェル構造の粒子を画像中で融着
させることを特徴とする印刷版の製法を提供することが
できる。
【0024】ここで、水性媒体中で可溶性または膨潤性
の成分(B)の存在により、露光後、実質的な水性媒体
によって、画像領域に含まれる粒子を高温融着させる前
に、非画像部分を原板から完全に除去することができ
る。
【0025】コア成分(A)をそのガラス転移温度以上
に加熱すると、画像中のコア−シェル構造の粒子の相転
移がおこり、コア成分(A)は流動性が増して、流動す
ることができるようになる。そして、これらの粒子は、
画像中で非常に接近してゆき、隣接する粒子同士が溶融
して互いに融着する。
【0026】この過程で、実質的により弾力性が高く、
より疎水性でインクと親和性が高く(成分(A)が親油
性の場合)、かつ化学的侵食に対する耐性が高い物質か
らなる連続した膜が、画像中に形成される。しかしなが
ら、上記の粒子を構成する物質の化学構造は、長時間の
連続印刷において高画質の印刷物を得る目的で行なう加
熱工程を経ても、変化しない。
【0027】上記成分(A)としては、30〜300℃
程度で軟化するものが好ましく、また100℃〜200
℃程度で粒子を融着させることが好ましい。
【0028】上記放射線感応性原板は、写真のポジ乾板
またはネガ乾板を通して、紫外線、可視光などの光源
で、露光することができる。この発明での放射線とは、
したがって、可視光、紫外光、電子線、X線などを言
う。光源の種類は、放射線感応性物質中の放射線感応性
成分(C)の性質にしたがって選択するが、例えば、印
写機、投影機、あるいはレーザなどを用いることができ
る。また、現像は、非画像部分を除去するために、完全
に水性あるいは実質的に水性の現像液中で行なうことが
できる。加熱処理時間は、30秒〜10分程度、好まし
くは1〜2分程度とする。また加熱処理温度は、好適に
は100〜200℃程度で行なうことができる。
【0029】このようにして融着した画像部分は、従来
の製造方法での基材の被覆および現像工程の非画像部分
の除去を、有機溶媒をベースとした物質の使用によって
のみ可能であったネガ型板でしか実現しえなかったレベ
ルの耐溶媒性、耐アルカリ性、高耐久性を有する。この
ようにして得られた印刷画像は、高い画質、解像度を有
するものであり、また印刷版はリソグラフ印刷版に用い
られたとき、バックにしみを形成することがない。
【0030】
【実施例】以下に本発明の実施例を示す。 (実施例1)攪拌機、コンデンサ、温度計、及び窒素入
出管を付した2Lフラスコに414cm3の蒸留水を仕
込んだ。攪拌下、この水に85.8cm3の「カーボセ
ットXL37」(BFグッドリッチ社製、カルボキシル
官能性アクリル樹脂の35%水性分散液)を加えた。次
にこれに25%アンモニア水を16cm3加えた。液が
澄明になったとき、これに150gのスチレンを、つい
で10cm3の蒸留水に1.5gの過硫酸アンモニウム
を溶解した溶液を加えた。この混合物を50℃で4時間
激しく攪拌し、目的の生成物を得た。この生成物は固形
分含量が25重/重%であり、含まれる粒子の粒径は
0.5ミクロン以下、またモノマ含量は0.05重/重
%であった。この目的生成物はポリスチレンのコアとカ
ルボキシル化アクリルコポリマーのシェルからなる粒子
を含むコア−シェル(CS)分散液であった。
【0031】(実施例2)封止型攪拌機、コンデンサ、
温度計、及び窒素入出管を付した500mlセパレート
フラスコに、43mlの「カーボセットXL37」、2
00mlの蒸留水、及び6mlの25%アンモニア水を
仕込んだ。液が透明になったとき、これに20mlの蒸
留水に0.75gの過硫酸アンモニウムを溶解した溶液
を加えた。温度を65℃に昇温し、窒素ガス置換を行っ
た。次にこれに1時間を要して75gのアクリロニトリ
ルを加え、さらに5時間加熱を続けた。少量の凝集物を
濾過して除くと、微細な粒径の粒子の分散液が得られ
た。
【0032】(実施例3)実施例2で述べた容器に43
mlの「カーボセットXL37」、200mlの蒸留
水、及び6mlの25%アンモニア水を仕込んだ。液が
透明になったとき、これに20mlの蒸留水に0.75
gの過硫酸アンモニウムを溶解した溶液を加えた。つい
でこれにスチレン(60g)とメチルメタクリレート
(15g)の混合物を加え、この反応混合物を窒素下6
5℃で6時間攪拌した。微細な粒径の粒子の分散液が得
られた。
【0033】(実施例4)研磨し陽極酸化したアルミニ
ウム板上に、4−ジアゾジフェニルアミン/ホルムアル
デヒド縮合物塩化亜鉛塩の1重/容%水溶液をメイヤー
バーコータを用いて塗布し、60℃で1分間乾燥した。
ついでこの塗膜面に実施例1のCS分散液をメイヤーバ
ーコータを用いてオーバーコートし、この板を60℃で
1分間乾燥した。このものの全塗布量は2.5gm-2
あった。得られた放射線感応性原板を焼付け機中で透画
露光し、ついで2%のベンジルアルコールとアニオン界
面活性剤を含む水溶液で現像した。現像された原板をオ
ーブンに入れ、140℃で1分間ベーキングし印刷版を
得た。得られた印刷版上の印写像は弾力性があり、疎水
性でかつ油性インキに対する受容性がきわめて良好にな
っていた。この放射線感応性原板は、21階調のストウ
ファー光学くさびで測定するとき、固化階調4を得るの
に75mJcm-2の露光エネルギーを要した。この印刷
版を印刷機に装着して印刷したところ、90,000枚
の良好な印刷物が得られた。上記においてベーキングを
行わない場合には、印刷版の印写像は非疎水性であり、
強度も弱く、印刷特性も劣るものであった。
【0034】(実施例5)水(10ml)中に1gの
「アクトクリル(ACTOCRYL)WB400」(ア
ンコマー社の製品例、水分散性アクリレートオリゴマ
ー)と0.05gの「カンタキュア(QUANTACU
RE)QTX」(インターナショナルバイオシンセティ
ック社の製品例、水溶性光反応開始剤)を分散し、これ
に20mlの実施例1で製したCS分散液を加えた。こ
の組成物を研磨した陽極酸化アルミニウム板上にメイヤ
ーバーコータを用いて塗布し、60℃で1分間乾燥し
た。塗布量は2.8gm-2であった。得られた放射線感
応性原板を焼付け機(300mJcm-2)中で露光し、
ついで2%のベンジルアルコールとアニオン界面活性剤
を含む水溶液で現像した。現像された原板をオーブンに
入れ、140℃で1分間ベーキングし印刷版を得た。得
られた印刷版上の印写像はきわめて疎水性であり、イン
キ受容性が高く、この印刷版を印刷機に装着して印刷す
ると、きわめて多量の良好な印刷物が得られた。
【0035】(実施例6)N−メチル−4−(p−ホル
ミルスチリル)ピリジニウムメトスルフェートでアセタ
ール化したポリ(ビニルアルコール)の30%水溶液2
gを水で1:1にうすめ、研磨した陽極酸化アルミニウ
ム板上にメイヤーバーコータを用いて塗布し、60℃で
1分間乾燥した。ついで、この塗面に実施例1で得られ
たCS分散液をメイヤーバーコータを用いてオーバーコ
ートし、この板を60℃で1分間乾燥した。全塗布量は
5gm-2であった。得られた放射線感応性原板を焼付け
機(30mJcm-2)中で露光し、ついで水道水で現像
した。この原板をオーブンに入れ、140℃で1分間ベ
ーキングした。きわめて疎水性でかつインキ受容性が高
い印写像が得られ、この印刷版は光学くさびで測定する
と固化階調7を示した。この印刷版を印刷機に装着して
印刷すると、きわめて多量の良好な印刷物が得られた。
【0036】(実施例7)1.0gの氷酢酸、3.0g
の濃塩酸、及び50gの水からなる混合物に1.0gの
1−(ナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホニ
ル)−2−ヘキシルイミダゾール(ドイツ特許明細書第
3939843号に記載)を加えた溶液を研磨した陽極
酸化アルミニウム板にメイヤーバーコータを用いて塗布
した。この塗布物を60℃で1分間乾燥した。次にこの
塗面に実施例1で得られたCS分散液をオーバーコート
し、60℃で1分間乾燥した。全塗布量は2.7gm-2
であった。得られた放射線感応性原板を焼付け機(30
0mJcm-2)中で透画露光し、ついでメタケイ酸ナト
リウムと界面活性剤を含む水溶液で現像した。ついでこ
の原板をオーブン中140℃で1分間ベーキングした。
得られた印刷版の印写像は非常に疎水性であり、インキ
受容性が高く、この印刷版を印刷機に装着して印刷する
と、きわめて多量の良好な印刷物が得られた。
【0037】(実施例8)オーバーコート剤として実施
例2で得られたCS分散液を用いて実施例4の方法を繰
り返した。この原板を実施例4と同様に露光し、現像
し、加熱して得られた印刷版を印刷機に装着して印刷す
ると110,000枚の良好な印刷物が得られた。
【0038】(実施例9)実施例3で得られたCS分散
液を用いて実施例5の方法を繰り返した。この原板を実
施例5と同様に露光し、現像し、加熱して得られた印刷
版を印刷機に装着して印刷すると、きわめて多量の良好
な印刷物が得られた。
【0039】
【発明の効果】本発明の放射線感応性物質は、実質的な
水性溶液の状態で基材に塗布して、放射線感応性原板を
形成できるものである。また得られる放射線感応性原板
は、露光後、実質的に中性の水性現像液で現像を行うこ
とができ、さらに、現像後、加熱することによって強度
に優れた印刷用像を形成することができるものである。
このようにして得られた印刷用像は、長期に渡る連続印
刷においてもその品質を維持できるものである。
【0040】このように、本発明によれば、放射線感応
性原板を実質的に水性の塗布手段を用いて作製すること
が可能となる。また、実質的に水性の現像液によって現
像することが可能となる。さらに、親油性、強度、耐久
性、および弾性等の点において、従来技術によって水性
の塗布組成物によって被覆された放射線感応性原板より
もかなり優れ、かつ従来技術によって有機溶剤系組成物
を用いて被覆されたネガ型機能性放射線感応性原板と同
等程度の、印刷用像を形成することが可能となる。
フロントページの続き (72)発明者 アレン・ピーター・ゲーツ イギリス・HG5・8HU・クナレスボロ ウ・フォウンテンズ・ウェイ・13 (72)発明者 ジョン・ロバート・ウェイド イギリス・LS21・3NR・オトレイ・ホ ワイトレイ・クロフト・ライズ・23 (72)発明者 マイケル・ジョン・プラット イギリス・LS29・6PJ・イクレイ・メ ンストン・ブルックランズ・レーン・88

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 コア−シェル構造の粒子と放射線感応性
    成分(C)とを有する放射線感応性物質であって、上記
    コア−シェル構造の粒子は、水不溶性で熱軟化性のコア
    成分(A)と、コア成分(A)を被覆するとともに水性
    媒体に可溶性または膨潤性のシェル成分(B)からな
    り、上記放射線感応性成分(C)は、放射線の曝露によ
    り、該放射線感応性物質の溶解特性を変化させるもので
    ある放射線感応性物質。
  2. 【請求項2】 上記コア成分(A)が、スチレン、置換
    スチレン、(メタ)アクリル酸エステル、ハロゲン化ビ
    ニル、(メタ)アクリロニトリル、ビニルエステルから
    得られたポリマーまたはポリエーテルまたはポリエステ
    ル樹脂またはポリアミドまたはポリウレタンである請求
    項1記載の放射線感応性物質。
  3. 【請求項3】 上記シェル成分(B)が、カルボン酸
    基、スルホン酸基、スルホアミド基、第4級アンモニウ
    ム基またはアミノ基を有するポリマーである請求項1ま
    たは2記載の放射線感応性物質。
  4. 【請求項4】 上記シェル成分(B)が、不飽和カルボ
    ン酸とスチレン、置換スチレン、(メタ)アクリル酸エ
    ステル、(メタ)アクリロニトリルまたは酢酸ビニルと
    のコポリマー、あるいはジカルボン酸と水酸基含有ポリ
    マーとのハーフエステル、もしくはスチレンまたはアル
    キルビニルエーテルと無水マレイン酸とのコポリマーの
    アルキルまたはアラルキルハーフエステルである請求項
    3記載の放射線感応性物質。
  5. 【請求項5】 上記放射線感応性成分(C)が、ネガ型
    機能成分である請求項1ないし4のいずれかに記載の放
    射線感応性物質。
  6. 【請求項6】 上記ネガ型機能成分が、水溶性ジアゾ樹
    脂、水溶性または水分散性感光性ポリマーまたは光重合
    性物質である請求項5記載の放射線感応性物質。
  7. 【請求項7】 上記放射線感応性成分(C)が、ポジ型
    機能成分である請求項1ないし4のいずれかに記載の放
    射線感応性物質。
  8. 【請求項8】 上記ポジ型機能成分が、水溶性または水
    分散性のキノンジアジド誘導体である請求項7記載の放
    射線感応性物質。
  9. 【請求項9】 上記コア成分(A)と上記シェル成分
    (B)との重量比が20:1から1:20である請求項
    1ないし8のいずれかに記載の放射線感応性物質。
  10. 【請求項10】 請求項1ないし9のいずれかに記載の
    放射線感応性物質の各成分を実質的な水性媒体に溶解も
    しくは分散させ、ついで、得られた溶液もしくは分散液
    を基材に塗布し、乾燥する放射線感応性原板の製法。
  11. 【請求項11】 請求項1ないし9のいずれかに記載の
    放射線感応性物質を基材に被覆して得られた放射線感応
    性原板に画像を露光し、この露光後の放射線感応性原板
    を水性媒体中で現像して、可溶部分を除去するとともに
    不溶部分からなる画像を基材上に残し、ついでこの現像
    後の放射線感応性原板を高温に曝して上記コア−シェル
    構造の粒子を画像中で融着させる印刷版の製法。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100442859B1 (ko) * 2001-04-04 2004-08-02 삼성전자주식회사 실리콘을 함유하는 알킬 비닐 에테르의 중합체로이루어지는 감광성 폴리머 및 이를 포함하는 레지스트조성물
KR100493015B1 (ko) * 2001-08-25 2005-06-07 삼성전자주식회사 감광성 폴리머 및 이를 포함하는 포토레지스트 조성물
JP2009216925A (ja) * 2008-03-10 2009-09-24 Fujifilm Corp 平版印刷版の作製方法及び平版印刷版原版

Families Citing this family (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB9110418D0 (en) * 1991-05-14 1991-07-03 Du Pont Howson Ltd Radiation-sensitive material
GB2273366B (en) * 1992-11-18 1996-03-27 Du Pont Forming images on radiation-sensitive plates
US5948596A (en) * 1997-05-27 1999-09-07 Kodak Polychrome Graphics Llc Digital printing plate comprising a thermal mask
US5952131A (en) * 1998-04-27 1999-09-14 Xerox Corporation Core and shell matrix compositions and processes
US6479207B1 (en) * 1999-04-22 2002-11-12 Konica Corporation Printing plate element and production method thereof
US7261998B2 (en) * 2001-04-04 2007-08-28 Eastman Kodak Company Imageable element with solvent-resistant polymeric binder
DE60315086T2 (de) * 2002-03-13 2008-04-10 Fujifilm Corp. Lithographischer Druckplattenvorläufer
US7659046B2 (en) * 2002-04-10 2010-02-09 Eastman Kodak Company Water-developable infrared-sensitive printing plate
US7172850B2 (en) 2002-04-10 2007-02-06 Eastman Kodak Company Preparation of solvent-resistant binder for an imageable element
US6521343B1 (en) * 2002-05-16 2003-02-18 Westvaco Corporation Cationic core-shell particles with stabilizer-containing acid-swellable shells
US6572969B1 (en) * 2002-05-16 2003-06-03 Meadwestvaco Corporation Core shell polymeric compositions
US6767638B2 (en) * 2002-05-16 2004-07-27 Meadwestvaco Corporation Core-shell polymeric compositions
US6521342B1 (en) * 2002-06-12 2003-02-18 Westvaco Corporation Cationic core-shell particles with acid-swellable shells
JP2005121949A (ja) * 2003-10-17 2005-05-12 Konica Minolta Medical & Graphic Inc 印刷版材料
US20090183647A1 (en) * 2008-01-22 2009-07-23 Mathias Jarek Imageable elements with coalescing core-shell particles
US8377624B2 (en) * 2009-03-27 2013-02-19 Eastman Kodak Company Negative-working thermal imageable elements
US8221960B2 (en) * 2009-06-03 2012-07-17 Eastman Kodak Company On-press development of imaged elements
US8257907B2 (en) * 2009-06-12 2012-09-04 Eastman Kodak Company Negative-working imageable elements
US8329382B2 (en) * 2009-09-02 2012-12-11 Eastman Kodak Company Method of processing elements with coalesced particles

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB887356A (en) 1957-10-08 1962-01-17 Vinyl Products Ltd Improvements in or relating to the manufacture of synthetic resin emulsions
GB1139895A (en) * 1963-12-05 1969-01-15 Gevaert Photo Prod Nv Heat-sensitive recording materials and thermographic recording processes
GB1107249A (en) 1964-08-31 1968-03-27 Johnson & Son Inc S C Alkali-soluble resins and method of preparing the same
US4154614A (en) * 1975-07-02 1979-05-15 Nippon Paint Co., Ltd. Photosensitive diazo composition with graft copolymer for use in printing screen
US4882259A (en) * 1984-08-23 1989-11-21 The Mead Corporation Photosensitive imaging material employing photosensitive microcapsules containing a solid diluent
JPS61193888A (ja) * 1985-02-25 1986-08-28 Ricoh Co Ltd 感熱記録材料
JPS61229595A (ja) * 1985-04-04 1986-10-13 Ricoh Co Ltd スクリ−ン印刷用ダイレクト製版材料
JPH0677147B2 (ja) * 1986-04-23 1994-09-28 富士写真フイルム株式会社 平版印刷原版
EP0258719A3 (de) * 1986-08-30 1989-07-05 Ciba-Geigy Ag Zweischichtensystem
JPH082701B2 (ja) * 1986-09-04 1996-01-17 株式会社リコー 平版印刷用原版
JPH01113290A (ja) * 1987-10-27 1989-05-01 Ricoh Co Ltd 感熱記録型平版印刷用原版
US4868016A (en) 1988-02-23 1989-09-19 Rohm And Haas Company Method of treating substrates
JPH028847A (ja) * 1988-06-28 1990-01-12 Konica Corp 湿し水不要平版印刷版材料
US5075192A (en) * 1988-08-30 1991-12-24 E. I. Du Pont De Nemours And Company Aqueous processible photosensitive compositions containing core shell microgels
US4956252A (en) * 1988-08-30 1990-09-11 E. I. Dupont De Nemours And Company Aqueous processible photosensitive compositions containing core shell microgels
JPH0816779B2 (ja) 1988-12-02 1996-02-21 富士写真フイルム株式会社 新規な感光性化合物及びそれを用いたフオトレジストの形成方法
DE3903001A1 (de) * 1989-02-02 1990-08-16 Hoechst Ag Lichtempfindliches gemisch und damit hergestelltes lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial
CA2016919C (en) * 1989-05-18 2003-07-29 Masaru Nanpei Photosensitive resin compositions
DE3920230A1 (de) * 1989-06-21 1991-01-24 Hoechst Ag Lichtempfindliches gemisch und daraus hergestelltes lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial
EP0495000A4 (en) * 1989-10-02 1992-10-21 S.C. Johnson & Son, Inc. Stable emulsion polymers and methods of preparing same
US5085976A (en) * 1990-06-11 1992-02-04 E. I. Du Pont De Nemours And Company Process for dimensionally stabilizing photopolymer flexographic printing plates
US5348844A (en) * 1990-12-03 1994-09-20 Napp Systems, Inc. Photosensitive polymeric printing medium and water developable printing plates
GB9110418D0 (en) * 1991-05-14 1991-07-03 Du Pont Howson Ltd Radiation-sensitive material

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100442859B1 (ko) * 2001-04-04 2004-08-02 삼성전자주식회사 실리콘을 함유하는 알킬 비닐 에테르의 중합체로이루어지는 감광성 폴리머 및 이를 포함하는 레지스트조성물
KR100493015B1 (ko) * 2001-08-25 2005-06-07 삼성전자주식회사 감광성 폴리머 및 이를 포함하는 포토레지스트 조성물
JP2009216925A (ja) * 2008-03-10 2009-09-24 Fujifilm Corp 平版印刷版の作製方法及び平版印刷版原版

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US5928833A (en) 1999-07-27

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