JPH0248104B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0248104B2
JPH0248104B2 JP58118487A JP11848783A JPH0248104B2 JP H0248104 B2 JPH0248104 B2 JP H0248104B2 JP 58118487 A JP58118487 A JP 58118487A JP 11848783 A JP11848783 A JP 11848783A JP H0248104 B2 JPH0248104 B2 JP H0248104B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
stilbazolium
acrylate
polymer
water
composition
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP58118487A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS6010243A (ja
Inventor
Kunihiro Ichimura
Tsugio Yamaoka
Sadayoshi Kaneda
Tooru Shibuya
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Murakami Screen KK
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
Original Assignee
Agency of Industrial Science and Technology
Murakami Screen KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Agency of Industrial Science and Technology, Murakami Screen KK filed Critical Agency of Industrial Science and Technology
Priority to JP11848783A priority Critical patent/JPS6010243A/ja
Priority to US06/624,963 priority patent/US4564580A/en
Priority to DE8484304415T priority patent/DE3476703D1/de
Priority to EP84304415A priority patent/EP0130804B1/en
Publication of JPS6010243A publication Critical patent/JPS6010243A/ja
Publication of JPH0248104B2 publication Critical patent/JPH0248104B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 発明の背景 本発明は、印刷版(特にスクリーン印刷版)製
造用として優れた適性を有するエマルジヨン型感
光性樹脂組成物に関する。
印刷版材料、フオトエツチングにおけるフオト
レジストあるいは塗料や印刷インキのビヒクルと
して、各種の感光性樹脂組成物が用いられてい
る。特に、印刷版材料としての感光性樹脂組成物
には、高感度、高解像性等の基本的要件に加え
て、油性あるいは水性インクの適用下に摩擦ある
いは圧縮等の応力に耐える耐刷性、基材との密着
性、保存安定性なども要求される。
このような用途に用いられる感光性樹脂組成物
には、大別して、溶剤現像型、アルカリ水現像
型、および水現像型のものが知られている。その
ほとんどのものが均質系の感光性組成物であつ
て、水現像型のものに一部水性エマルジヨンを使
用したものが使われている。例えば、部分ケン化
ポリ酢酸ビニルまたはポリ酢酸ビニル等の重合体
の水性エマルジヨンに光架橋剤として重クロム酸
塩やジアゾ樹脂を用いた感光性樹脂組成物があつ
て、特にスクリーン印刷版用に広く使用されてい
る。
しかしながら、このような従来の水性エマルジ
ヨン型感光性樹脂組成物にも問題がある。すなわ
ち、(イ)水性エマルジヨンを構成する基材ポリマー
自体の耐溶剤性が充分でないこと、(ロ)感光性樹脂
組成物の耐溶剤性をおとさないようにするために
組成物中の部分ケン化ポリ酢酸ビニルの配合量が
多くなり、その結果として耐水性が低下してしま
うこと、(ハ)重合体エマルジヨンの乳化剤として比
較的多量の界面活性剤を使用すること、等の理由
により、耐水性および耐溶剤性、したがつて耐刷
性、の優れた硬化膜が得られないという問題点が
認められるのである。
一方、それ自体で光架橋性を有する水溶性の高
感度感光性重合体として部分ケン化ポリ酢酸ビニ
ル重合体鎖にスチルバゾリウム基を導入したもの
が知られており(特開昭55−23163号、同55−
62905号各公報)、またこの光架橋性重合体を、重
クロム酸塩、ジアゾ樹脂等の光架橋剤の代りに、
ポリ酢酸ビニル等の重合体エマルジヨンに添加し
てなる水性エマルジヨン型感光性樹脂組成物も知
られている(特開昭55−62446号公報)。この組成
物は、感度および保存安定性等の点で優れた性質
を有するが、通常のエマルジヨン型組成物と同様
にエマルジヨン化のために界面活性剤を比較的多
量に使用するため、これから得られた硬化物の耐
溶剤性、耐水性等の低下はやはり避け難い。
発明の概要 本発明は、上述した従来技術の欠点に鑑み、水
性エマルジヨン型でありながら、良好な耐溶剤性
ならびに耐水性を有する硬化物を与え得る感光性
樹脂組成物を提供することを目的とするものであ
る。
本発明者らは、上述の目的で研究した結果、前
述したスチルバゾリウム基を付加した部分ケン化
ポリ酢酸ビニル重合体は、それ自体で高感度光架
橋性を有するのみでなく、ビニル単量体等の光活
性単量体に対して乳化作用を有するため、この酢
酸ビニル重合体の誘導体をマトリクス重合体兼乳
化剤として用い、これに光活性単量体および光重
合開始剤を配合することにより、多量の界面活性
剤を含むことなく安定な水性エマルジヨン組成物
が得られ、且つこれを光硬化させることにより良
好な耐溶剤性および耐水性を有する樹脂硬化物が
得られることを見出した。本発明の感光性樹脂組
成物は、このような知見に基づくものである。
要 旨 すなわち、本発明による感光性樹脂組成物は、
スチルバゾリウム基を付加したケン化度70〜99%
の酢酸ビニル重合体の水溶液と、水不溶性あるい
は難溶性で光活性なエチレン性不飽和基を少なく
とも1個有する化合物と、光重合開始剤とを含む
水性エマルジヨンからなること、を特徴とするも
のである。
効 果 本発明によれば、感光性樹脂組成物中の光架橋
性マトリクス樹脂として用いられるスチルバゾリ
ウム付加ポリマーの乳化作用を利用して光活性モ
ノマーを乳化することにより、水現像が可能で且
つ光硬化後に耐水性および耐溶剤性に優れた硬化
部を与えしかも極めて保存安定性の良いエマルジ
ヨン型の感光性樹脂組成物が提供される。
なお、本発明の組成物は、水現像性(すなわ
ち、塗布乾燥した非硬化部が水溶性ないし水によ
り除去可能)のものである。
発明の具体的説明 組成物 本発明による感光性樹脂組成物は、前記のよう
に、必須3成分を含むものである。その詳細は、
下記の通りである。なお、以下の記載において組
成を表わす「%」および「部」は、特にことわら
ない限り重量基準である。
感光性ケン化酢酸ビニル重合体 本発明のエマルジヨン型感光性樹脂組成物の連
続相は、スチルバゾリウム基を付加したケン化度
70〜99モル%の酢酸ビニル重合体(便宜的に、以
下、「スチルバゾリウム付加ポリマー」という)
の水溶液からなる。スチルバゾリウム基を導入す
べき重合体鎖は、ケン化された酢酸ビニル重合体
からなる。ここで「酢酸ビニル重合体」とは、酢
酸ビニルのホモ重合体および共重合体のいずれを
も意味し、具体的にはポリ酢酸ビニルおよび酢酸
ビニルとこれと共重合可能な単量体との共重合体
ならびにケン化ポリ酢酸ビニルのホルマール化ま
たはブチラール化物等の低級(C1〜C4)アセタ
ール化物およびp−ベンズアルデヒドスルホン
酸、β−ブチルアルデヒドスルホン酸、o−ベン
ズアルデヒドスルホン酸、2,4−ベンズアルデ
ヒドスルホン酸等によるアセタール化物を含むも
のである。酢酸ビニルと共重合可能なモノマーと
しては、たとえば、エチレン、アクリレート類
(メチルアクリレート、メチルメタクリレート
等)、アクリルアミド類(アクリルアミド、メタ
クリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、
N,N−ジメチルアクリルアミド等)、不飽和カ
ルボン酸類(アクリル酸、メタクリル酸、クロト
ン酸、マレイン酸、フマール酸、イタコン酸等)、
カチオン性モノマー類(ジメチルアミノエチルメ
タクリレート、ビニルイミダゾール、ビニルピリ
ジン、ビニルサクシミド等)などが挙げられる。
スチルバゾリウム基を導入すべきケン化ポリ酢
酸ビニル重合体のケン化度は、水現像可能で且つ
光硬化後に耐溶剤性および耐水性に優れた硬化物
を与える組成物を与えるため、ならびに必要な乳
化作用を有するスチルバゾリウム付加ポリマーを
与えるために、70〜99モル%であることが必要で
ある。
本発明で「ケン化度70〜99モル%の部分ケン化
ポリ酢酸ビニル重合体」とは、原酢酸ビニル重合
体が酢酸ビニルのホモ重合体であるとしたときの
ビニルアルコール部分の含量が70〜99モル%であ
るということを意味する。従つて、この部分ケン
化ポリ酢酸ビニル重合体は、いいかえれば、ビニ
ルアルコール含量が70〜99モル%のビニルアルコ
ール重合体と同義である。従つて、このケン化度
値を与えるように、酢酸ビニル重合体を構成すべ
き酢酸ビニルと共重合可能なモノマー量等も制限
すべきである。また、上記ケン化度の限定と同様
な理由により酢酸ビニル重合体の重合度は300〜
3000の範囲のものが好ましく用いられる。
本発明で用いるスチルバゾリウム付加ポリマー
は、上記のような酢酸ビニル重合体ケン化物に、
そこに含まれるアルコール性水酸基を利用してア
セタール化によりスチルバゾリウム基を付加して
得られるものであり、下記一般式で表わされるも
のである。
但し、上記式中のR1は水素原子、アルキル基
またはアラルキル基を示し、これらはヒドロキシ
ル基、カルバモイル基、エーテル結合、不飽和結
合を含んでも良く、R2は水素原子または低級ア
ルキル基を示す。X-はハロゲンイオン、リン酸
イオン、p−トルエンスルホン酸イオンまたはこ
れら陰イオンの混合物を示し、mは0または1、
nは1〜6の整数を示す。
上記のようなスチルバゾリウム付加ポリマー
は、特開昭55−23163号、同55−62905号、同55−
62405号各公報等により公知であり、その製法も
これら公開公報に記載されている通り公知である
が、念のためにその製法の概要を述べれば次の通
りである。
まず、m−あるいは−p−ホルミルベンズアル
デヒドを、一般式 で表わされるピコリン類と縮合反応させることに
より、一般式 で表わされるホルミルスチルバゾール類を得て、
これをN−アルキル化することにより、式 で表わされるホルミル基を有するスチルバゾリウ
ム塩が得られる。
また、上記(2)式のピコリン類の代りに、式 で表わされる予めN−アルキル化されたピコリニ
ウム塩を用い、これをm−またはp−ホルミルベ
ンズアルデヒドと反応させることによつても上記
(4)式のホルミル基を有するスチルバゾリウム塩が
得られる。
一方、上記方法において、m−またはp−ホル
ミルベンズアルデヒドの代りに、式 で表わされるホルミルフエノキシアセタールを用
いれば、式 で表わされるアセタール基を持つスチルバゾリウ
ム塩が得られる。
しかして、上記式(1)で得られるスチルバゾリウ
ム付加ポリマーは、酢酸ビニル重合体ケン化物
と、上記式(4)のホルミル基を有するスチルバゾリ
ウム塩(上記式(1)でm=0のスチルバゾリウム付
加ポリマーを得る場合)または上記式(7)のアセタ
ール基を有するスチルバゾリウム塩(式(1)でm=
1のスチルバゾリウム付加ポリマーを得る場合)
とを、酸触媒の存在下で反応(アセタール化)さ
せることにより得られる。
なお、上記式(2)〜(7)において、R1、R2、X-
mおよびnは、式(1)におけると同じ意味を有し、
R3はアルキル基もしくはアルキレン基を示す。
本発明で用いるスチルバゾリウム付加ポリマー
において、スチルバゾリウム基の導入率は、酢酸
ビニルケン化物単位あたり0.3〜20モル%の割合
が好ましく、特に0.5〜10モル%の割合が好まし
い。導入率が0.3モル%未満では所望の光架橋性
を有するスチルバゾリウム付加ポリマーが得られ
ず、一方20モル%を超えて導入すると水溶性が著
しく低下する。
本発明のエマルジヨン組成物における連続相
は、上記したようなスチルバゾリウム付加ポリマ
ー(上記アセタール化後の反応液を大量のアセト
ン、アルコール等の貧溶媒に投入することにより
単離される)の水溶液からなるが、上記アセター
ル化反応の収率は約80%程度と高いのでその反応
液を適当に濃度調整してそのまま用いることもで
きる。水溶液中の水の量は、本発明の組成物に要
求される安定なエマルジヨンを与える範囲内で特
に臨界的ではないが、通常、スチルバゾリウム付
加ポリマー100部に対して200〜1200部の範囲が好
適に用いられる。
光活性不飽和化合物 スチルバゾリウム付加ポリマー水溶液に乳化分
散すべき光活性なエチレン性不飽和基を持つ化合
物(以下、「光活性不飽和化合物」と総称する)
としては、アクリロイル基、メタクリロイル基、
アリル基、ビニルエーテル基、アクリルアミド
基、メタクリルアミド基等の光活性基を少なくと
も1個もつもので水に不活性あるいは難溶性のも
のが好ましく用いられる。特に、光活性基を2個
以上もつものは、耐溶剤性の良い硬化物を与える
ので好ましい。光活性不飽和化合物には、通常、
ビニル単量体と称される光活性化合物に加えて、
分子量が10000以下であるような光活性なプレポ
リマーないしはオリゴマーも含まれる。
このような光活性不飽和化合物の例としては、
ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレー
ト、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリ
レート、トリメチロールプロパントリ(メタ)ア
クリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)
アクリレート、ジブロムネオペンチルグリコール
ジ(メタ)アクリレート、2,8−ジブロムプロ
ピル(メタ)アクリレート、トリアリルイソシア
ヌレート、メトキシエチルビニルエーテル、第三
ブチルビニルエーテル、ラウリル(メタ)アクリ
レート、メトキシエチレングリコール(メタ)ア
クリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリ
レート、イソデシル(メタ)アクリレート、ステ
アリル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)
アクリレート、ヘキシルジグリコール(メタ)ア
クリレート、エチレングリコールジ(メタ)アク
リレート、ジ〜ヘキサエチレングリコールジ(メ
タ)アクリレート、エチレングリコールジグリシ
ジルエーテル(メタ)アクリレート、2−エチル
−ヘキシルグリシジルエーテル(メタ)アクリレ
ート、フエニルグリシジルエーテル(メタ)アク
リレート、2−メチルオクチルグリシジルエーテ
ル(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパ
ンポリグリシジルエーテルゾリ(メタ)アクリレ
ート、テレフタル酸ジグリシジルエーテル(メ
タ)アクリレート、トリレンジイソシアネートと
2ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレートとの
反応生成物、フエニルイソシアヌレートと2−ヒ
ドロキシエチル(メタ)アクリレートとの反応生
成物等、あるいはマレイン酸グリコールエステル
等のエチレン性不飽和基を持つ分子量が10000以
下の不飽和ポリエステル、が挙げられる。上記に
おいて「(メタ)アクリレート」は、アクリレー
トおよびメタクリレートのいずれをも意味するも
のである。
これら光活性不飽和化合物は、単独であるいは
2種以上併用して、スチルバゾリウム付加ポリマ
ー100部に対して20〜300部の範囲で使用すること
が好ましい。光活性不飽和化合物が20部未満では
耐水性が充分でなく、また300部を超えて使用す
ると組成物を塗布乾燥した皮膜に不飽和化合物の
分離析出が生ずるおそれがある。
光重合開始剤 本発明の感光性組成物は、上記各成分に加え
て、光重合開始剤を含む。
光重合開始剤としては、上記したような光活性
不飽和化合物の光重合のために使用するものはほ
とんど使用できる。たとえば、ベンゾインアルキ
ルエーテル、ミヒラーズケトン、ジターシヤリー
ブチルパーオキサイド、トリブロムアセトフエノ
ン、あるいはターシヤリーブチルアントラキノン
等のアントラキノン誘導体、クロロチオキサント
ン等のチオキサントン誘導体など、光照射下にラ
ジカルを発生し易い物質が用いられる。これら光
重合開始剤は、光活性不飽和化合物100部に対し
て0.1〜15部の範囲で使用することが好ましい。
その他の成分 本発明の感光性樹脂組成物は、基本的には、上
記必須成分からなるが、この種の感光性組成物に
通常含まれる添加剤を任意に含有することができ
る。
このような任意添加剤としては、たとえばスチ
ルバゾリウム付加ポリマー100部に対して0.5部以
下の乳化安定剤(通常のエマルジヨン系感光性樹
脂組成物では1部程度であるから、それに比較し
てかなり少い量である)、光活性モノマーの溶解
補助剤としてその100部に対して30部以下の有機
溶剤、さらには、染料、顔料等の着色料、消泡剤
等が挙げられる。
また、本発明で用いるスチルバゾリウム付加ポ
リマーは、それ自体で光架橋性を有するものであ
るが、より強固な光硬化部を与えるために、本発
明の組成物に更に追加の光架橋剤を含めることも
できる。このような目的で用いる光架橋剤として
は、たとえば(イ)重クロム酸アンモニウム、重クロ
ム酸カリウム、重クロム酸ナトリウム等の重クロ
ム酸塩類、および(ロ)1−ジアゾジフエルアミン−
パラホルムアルデヒド縮合物の硫酸塩、リン酸
塩、および塩化亜鉛複塩等陰イオンコンプレツク
スのジアゾ樹脂を用いることができる。この種の
ジアゾ樹脂としてはパラアミノジフエニルアミン
の他に4−アミノ−4′−メチルジフエニルアミ
ン、4−アミノ−4′−エチルジフエニルアミン、
4−アミノ−4′−メトキシジフエニルアミン、4
−アミノ−4′−クロルジフエニルアミン、4−ア
ミノ−4′−ニトロジフエニルアミン等のジフエニ
ルアミン類のジアゾ化物をパラホルムアルデヒ
ド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、
n−ブチルアルデヒド等のアルデヒド類を用いて
縮合させた水溶性のジアゾ樹脂が使用できる。こ
れら光架橋剤は、スチルバゾリウム付加ポリマー
100部に対して20部程度まで用いることができる。
組成物の調製 上記各成分から本発明の組成物を得るには、通
常、次のような方法がとられる。すなわち、スチ
ルバゾリウム付加ポリマーを所定量の水に溶解し
て水溶液とする(前述したようにアセタール化反
応液をそのまま用いてもよい)。別途、光重合開
始剤を、光活性不飽和化合物あるいはこれと必要
に応じて用いる少量の有機溶剤との混合液に溶解
して得た溶液を用意し、これを上記のスチルバゾ
リウム付加ポリマー水溶液に添加し、ニーダーや
スクリユー式撹拌機等で撹拌して乳化させ、更に
必要に応じて着色剤、消泡剤等の任意成分を添加
して撹拌、混合する。最後に、必要に応じて少量
の水に溶解した追加の光架橋剤を添加して混合す
る。
組成物の利用 上記のようにして得られた本発明の感光性樹脂
組成物は、用途に応じて、アルミニウム等の金属
板、スクリーンメツシユ、紙、木材、合成樹脂
板、半導体基板、その他任意の基板上に、たとえ
ば1〜300μmの乾燥厚さとなるように塗布し、
乾燥して使用される。この感光材料には、紫外線
等からなる活性光を、たとえば紫外線の場合には
波長300〜400nm範囲の照射エネルギー量が10〜
5000mJ/cm2となるように照射して照射部を硬化
させたのち、非照射部を噴霧水等により除去すれ
ば、レリーフ画像あるいは画像膜が形成され、各
種印刷版、レジスト膜等として利用される。
本発明の感光性樹脂組成物の一つの好ましい利
用態様は、スクリーン版用感光材料としての使用
である。この場合、ポリエステル、ナイロン、ポ
リエチレン等の合成樹脂またはこれら樹脂へのニ
ツケル等の金属蒸着加工物あるいはステンレス等
からなるスクリーンメツシユ上に、本発明の組成
物の塗布および乾燥を繰り返して、厚さ40〜
400μmのスクリーン版を得ればよい。
スクリーン版を得るに際して、本発明の組成物
をポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ポリエステル
等の剥離性フイルム上に塗布し、乾燥して15〜
100μの塗膜を得ておいて、この塗膜を水あるい
は同様に本発明の感光性樹脂組成物を塗布してお
いたスクリーンメツシユに転写する方法も可能で
ある。この方法は、いわゆる直間法と呼ばれる方
法であつて、同様の感光剤を繰り返してスクリー
ンメツシユ上に塗布する方法に比べて作業的にも
簡単でしかも印刷特性の優れた版を製造すること
ができる。本発明の感光性組成物は、乾燥状態に
おいても保存安定性が良いので、このような直間
法による利用に極めて優れた適性を有している。
実験例 実施例 1 部分ケン化ポリ酢酸ビニル(重合度1700、ケン
化度88モル%、日本合成(株)製「ゴーセノールGH
−17」)に、アセテート化反応によりN−メチル
−γ−(p−ホルミルスチリル)ピリジニウムp
−トルエンスルホン酸塩1.3mol%を付加させて
得たスチルバゾリウム付加ポリマー10%水溶液
200gに、ベンゾイン−イソブチルエーテル4g
とp−メトキシフエノール0.02gを含むペンタエ
リスリトールトリアクリレート23gと「M−
600A−u」(アクリレートオリゴマー共栄社油脂
化学工業(株)製)5g、「アロニツクスM−8030」
(アクリレートオリゴマー東亜合成(株)製)10gを
撹拌しながら加えて乳化させた。これに、水分散
性顔料〔「ニユーラクチミンカラーグリーン」(大
日精化(株)製)〕0.1gを混合して、感光液を作成し
た。この感光液を用いて、テトロン225メツシユ
(黄色に着色)にバケツトを用いて4回塗布乾燥
(30〜40℃の温風で)を繰り返して厚さ90μm
(スクリーン厚を含む)の感光膜を得た。このス
クリーン感光版の感光膜にプリント配線用のポジ
フイルムを密着させて、4KWの超高圧水銀灯
(ジエツトライト、オーク製作所(株)製)で1mの
距離より2分30秒露光した。画像の洗い出し現像
は、下記の込りに行なつた。すなわち、焼付け後
のスクリーン版を25℃の水に3分間浸漬して未露
光部の大部分を溶出させ、さらに20℃の水を6
Kg/cm2の水圧でスプレーガンにより30cmの距離よ
り吹き付けて、画線部の残存感光膜を完全に除去
した。現像後の感光版を、45℃の温風で15分間乾
燥して、プリント配線板用の70μmの細線を有す
るスクリーン版を作製した。この版を使用してガ
ラスエポキシ−銅積層板にエツチングインキ
〔「SER400CMAN」(山栄化学(株)製)〕を5000枚印
刷したところ、画像の破損はなかつた。
実施例 2 部分ケン化ポリ酢酸ビニル(重合度1700、ケン
化度78%、日本合成化学工業(株)製「ゴーセノール
KH−17」)にアセタール化反応によりN−メチ
ル−α(p−ホルミルスチリル)ピリジニウムp
−トルエンスルホン酸塩を0.7mol%付加させて
得たスチルバゾリウム付加ポリマーの10%水溶液
200gに「Irgacure651」(ベンジルジメチルケタ
ール、ciba Geigy社製)1.5gとp−メトキシフ
エノール0.01gを溶解したアクリレートオリゴマ
ー(東亜合成(株)製「アロニツクM−8030」)30g
を撹拌しながら加えて乳化させた。さらに、0.3
gの水性染料「カヤノールミーリンググリーン
GW」日本化薬(株))〕で着色し、これにジアゾ樹
脂(パラジアゾジフエニルアミンのパラホルムア
ルヒデド縮合物)2gを18gの水に溶して混合し
て、感光液とした。
この感光液を用いて実施例1と同様にしてスク
リーン版を作製した。なお、露光時間は3分で、
70μmの細線を解像した。この版を使用してガラ
スエポキシ−銅積層板にエツチングインキ
〔「SER−400 CMAN」(山栄化学(株)製)〕を5000
枚印刷したところ、画像の破損はなかつた。
実施例 3 酢酸ビニル重合体−不飽和カルボン酸Na共重
合体の部分ケン化物(重合度1800、ケン度88%、
「クラレポバールKL318」)に1−メチル−4−
{p−(2,2−ジメトキシエトキシ)スチリル}
ビリジウム−p−トルエンスルホネートを
1.3mol%付加させて得たスチルバゾリウム付加
ポリマーの10%水溶液200gに、ベンゾインエチ
ルエーテル8gとp−メトキシフエノール0.04g
を含むトリメチロールエタントリアクリレート30
gとジエチレングリコールジアクリルエーテル30
gとを撹拌しながら加えて乳化させた。これに、
水分散性顔料〔「ニユーラクチミンカラーグリー
ン」(大日精化(株)製)〕0.1gを混合して、感光液
を作成した。
この感光液を用いて実施例1と同様にしてテス
トロン350メツシユのスクリーン上に塗布して、
100Line/inchで10〜90%の網点画像を有するス
クリーン版を作成した。このスクリーン版を用い
てビニルインキ〔十条化工(株)製〕を塩化ビニルシ
ートに3万枚印刷したところ、画像の破損はなか
つた。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 スチルバゾリウム基を付加したケン化度70〜
    99%の酢酸ビニル重合体の水溶液と、水不溶性あ
    るいは難溶性で光活性なエチレン性不飽和基を少
    なくとも1個有する化合物と光重合開始剤とを含
    む水性エマルジヨンからなることを特徴とする感
    光性樹脂組成物。 2 重クロム酸塩およびジアゾ樹脂から選ばれた
    光架橋剤を含む上記第1項の組成物。
JP11848783A 1983-06-30 1983-06-30 感光性樹脂組成物 Granted JPS6010243A (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11848783A JPS6010243A (ja) 1983-06-30 1983-06-30 感光性樹脂組成物
US06/624,963 US4564580A (en) 1983-06-30 1984-06-26 Photosensitive resin composition
DE8484304415T DE3476703D1 (en) 1983-06-30 1984-06-28 Photosensitive resin composition
EP84304415A EP0130804B1 (en) 1983-06-30 1984-06-28 Photosensitive resin composition

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11848783A JPS6010243A (ja) 1983-06-30 1983-06-30 感光性樹脂組成物

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6010243A JPS6010243A (ja) 1985-01-19
JPH0248104B2 true JPH0248104B2 (ja) 1990-10-24

Family

ID=14737889

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11848783A Granted JPS6010243A (ja) 1983-06-30 1983-06-30 感光性樹脂組成物

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6010243A (ja)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60129738A (ja) * 1983-12-16 1985-07-11 Agency Of Ind Science & Technol 透明な着色画像
JPH0666030B2 (ja) * 1984-07-04 1994-08-24 工業技術院長 スクリ−ン製版用感光性樹脂組成物
JPS61149957A (ja) * 1984-12-24 1986-07-08 Daicel Chem Ind Ltd スクリ−ン製版用感光性材料の貼付け方法
JPS6287394A (ja) * 1985-10-14 1987-04-21 Shin Etsu Chem Co Ltd スクリ−ン印刷用メツシユ複合材料
JP3561061B2 (ja) * 1995-12-11 2004-09-02 東洋合成工業株式会社 ポリビニルアルコール系感光性樹脂および感光性樹脂組成物並びにそれを用いたパターン形成方法
WO2007132532A1 (ja) 2006-05-17 2007-11-22 Murakami Co., Ltd. 感光性樹脂組成物およびこれを用いてなる感光性フィルムならびにスクリーン印刷用ステンシル

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5491585A (en) * 1977-12-29 1979-07-20 Kansai Paint Co Ltd Water thinnable latex photosensitive resin composition
JPS54103016A (en) * 1978-01-30 1979-08-14 Kansai Paint Co Ltd Picture forming photosensitive resin composition and method of producing screen printing original using same
JPS5562446A (en) * 1978-11-06 1980-05-10 Agency Of Ind Science & Technol Photosensitive resin composition for screen printing plate
JPS5860745A (ja) * 1981-10-08 1983-04-11 Okamoto Kagaku Kogyo Kk スクリ−ン版用感光性フイルム

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5491585A (en) * 1977-12-29 1979-07-20 Kansai Paint Co Ltd Water thinnable latex photosensitive resin composition
JPS54103016A (en) * 1978-01-30 1979-08-14 Kansai Paint Co Ltd Picture forming photosensitive resin composition and method of producing screen printing original using same
JPS5562446A (en) * 1978-11-06 1980-05-10 Agency Of Ind Science & Technol Photosensitive resin composition for screen printing plate
JPS5860745A (ja) * 1981-10-08 1983-04-11 Okamoto Kagaku Kogyo Kk スクリ−ン版用感光性フイルム

Also Published As

Publication number Publication date
JPS6010243A (ja) 1985-01-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0130804B1 (en) Photosensitive resin composition
EP0107792A1 (en) Photopolymerizable compositions
JP3150756B2 (ja) 放射線感応性物質
JPH03149208A (ja) 不飽和側鎖を有するグラフト重合体、そのグラフト重合体を含む感光性混合物およびそれから製造される記録材料
EP0555070B1 (en) Photocurable compositions
JPH0419543B2 (ja)
KR101334462B1 (ko) 감광성 수지 조성물, 및 이 감광성 조성물을 이용한 감광성 필름 및 스크린 인쇄용 스텐실
JPH0242212B2 (ja)
JPH0248104B2 (ja)
US5397675A (en) Alkali developable photosensitive resin composition containing oil-soluble diazo resin
JPH0248105B2 (ja) Kankoseijushisoseibutsu
JP2001133976A (ja) 感光性樹脂組成物及びそれを用いたスクリーン印刷用版並びにスクリーン印刷用版の製造方法
JPH03188445A (ja) 不飽和側鎖を有するグラフト重合体、そのグラフト重合体を含む感光性混合物およびそれから製造される記録材料
JPH0419542B2 (ja)
JP4472289B2 (ja) スクリーン版用感光性樹脂組成物
JP2510511B2 (ja) スクリ−ン印刷版用感光性樹脂組成物
JP2017003911A (ja) 感光性樹脂組成物、感光性フィルム、スクリーン印刷用版材および感光性レジストフィルム
JPS58174939A (ja) 画像形成材料
JP7405488B2 (ja) ポリ酢酸ビニルをベースとした感光性ポリマー
JPH07146549A (ja) スクリーン製版用感光性樹脂組成物、感光性フィルム及びそれらを用いて製版されたスクリーン印刷版
JP3626539B2 (ja) 感光性樹脂組成物
JPH08202036A (ja) 感光性樹脂組成物
JP6681527B2 (ja) 感光性樹脂組成物、感光性フィルム、スクリーン印刷用版材、スクリーン印刷用ステンシルおよび感光性レジストフィルム、ならびにそれらの製造方法
JP3124477B2 (ja) スクリーン製版用樹脂組成物
JPH09185173A (ja) スクリーン製版用感光性組成物、感光性フィルム及びそれらを用いて製造された未露光スクリーン感光版並びにスクリーン印刷版