JPS58174939A - 画像形成材料 - Google Patents

画像形成材料

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JPS58174939A
JPS58174939A JP4169082A JP4169082A JPS58174939A JP S58174939 A JPS58174939 A JP S58174939A JP 4169082 A JP4169082 A JP 4169082A JP 4169082 A JP4169082 A JP 4169082A JP S58174939 A JPS58174939 A JP S58174939A
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Yasuo Kojima
児島 康生
Nobumasa Sasa
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    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明に、予め着色された染料筒たは顔料含有マスク層
の上に感光層を設け、この感光層に儂様露光を与えた後
に、表面を水処理することにより高コントラストのii
i像を形成し得るjg&形成材料に関する。
従来、平版部ixm稿として用いられる非銀塩感光材料
のうち、染料やIIA@に含む感光性樹脂層を用いるタ
イプとしては、養開昭52−62427号、l!Ij5
2−2520号公報等に開示されているものがある。
この方法では、高濃匿のjIll!を慢ようとして、感
光性樹脂層中の染料や顔料を増やすと、染料や#i科が
感光性樹脂の感光を促す活性光mt−吸収する逢めに、
かえって感at社下をきたしてしまう。
ま念、感光性樹脂層でレリーフIj僧を形成する及び/
またはレリーフ画像形成後に染色するタイプとしては、
特開昭49−22929号、同49−22930号公報
[!$8示されているものがある。
この方法では、染料を含有する特別の!i!色浴色環処
理l!になること、さらに適度な濃度に仕上げるために
は染色条件を注意深くコントロールする必要がある。
また、予めマスク層を設け、その上に感光性樹脂層を設
けるタイプとしては、特開昭48−6.5927号、四
50−139720号公報に記載されているものがある
この方法では、金属状のマスク層を用いる方法で、像様
露光を与えた後から、画像を形成するために1丁なう金
属層のエツチングには、特殊な酸か、アルカリが必要で
あるため、処理液安定性や公害上、労働衛生上の問題が
あり、好ましくない。
−万、特開昭47−16124号、同52−89916
号公報には高分子バインダー中に染料や#i料金混合あ
るいは分散したマスク層上に感光性mk層を設ける方法
が開示されている。
この方法によると感光層を現像するKは、やはり脣定○
有機溶媒やアルカリを必要とし、公害上、労働衛生上の
間層があり、好ましくない。
そこで本発明者等は、先に水軟化性高分子化合物を含有
する感光層を有する水で現像可能なiii*形成材形成
材層昭56−119332号等として提案した。この画
像形成材料について本発明者等は研究を続けたところ現
g1に際し、長時間を要するという難点を有することが
判った。
本発明者等は以上の事実を踏まえて鋭意研究を重ね念結
果、感光層に水不溶性粒子状分散物を用いることにより
、水で現像可能であり、しかも非常に短時間で3J!儂
できることを見出し、本発明に到達し念ものである。
即ち、本発明の目的は、水により短時間で現像可能であ
り、しかも感光層の皮III強健が高く、優れた皮喚形
成総を有して、その皮@には、ピンホールが少なく、高
濃跋で高コントラストのj像が安定して得られるjg1
形成材料を提供することにめる。
かかる本発明の目的は、支持体上に支持体に近い側から
(1)着色マスク層、(b)エチレン性不飽和化合物、
光重合開始鋼及び水不溶性粒子状分数物を相互に溶解な
いし分散してなる感光性組成物を塗設してなる層を有す
ることを特徴とするii*形成材料によって達成される
本発明の好ましい実織態様に従えに1上記水不溶性□粒
子状分赦物がラテックス状高分子化合物であり、前配水
不溶性粒子状分散物が有機溶開会敵性であり、前記エチ
レン性不飽和化合物及び光重合開始鋼が有機溶剤可溶性
である感光性組成物を塗設してなる層であって、前記着
色マスク層が水軟化性高分子化合物を含むこと、ま九前
記着色マスク層が着色銅としてカーボンブラックを含有
することである。
以下、本発明について説明する。
先ず、本発明の411成のうち水不溶性粒子状分散物(
以下、粒子状分散物と林する。)Kついて説明する。
本発明の粒子状分散物とは水不溶性であり、所望の溶媒
中において溶解、凝集、沈降が生じることなく数時間以
上安定な状態を保っていることのできる分散物である。
本発明に有用な粒子状分散物は所望の溶媒中において溶
解、凝集、沈降が生じなければ、特に分数物の種類には
限定されない。
またこれらの粒子状分散物は単独で用いてもよいし、2
′Ia以上併用して用いることもできる。
このような粒子状分数物の例としては、ポリアクリル酸
エステルまたはそのコポリマー、ポリアクリロニトリル
またはそのコポリマー、ポリスチレンfたはそのコポリ
マー、ポリエチレンまたはそのコポリマー、ポリ塩化ビ
ニルまたはそのコポリマー、ポリ塩化ビニリデンま念ハ
そのコポリマー、ポリ酢酸ビニルまたはそのコポリマー
、レゾール樹脂またはそのコポリマー、アイオノマー樹
脂、ポリメチルメタクリレートまたはそのコポリマー、
ポリブタジェンまたはそのコポリマーなどのラテックス
状高分子化合物を挙げることができる。
また、これらのラテックス状高分子化合物は主鎖または
儒IIK極性基を有するモノマーとのコボ−8O5R、
−NO2、−coNり、 %om、 −CN 、 −c
t 、−sr 、 −r 、 −F 、@s@ 、yR N\R(上記一般式にゝ7て・Rは水 素原子又はアルキル基又は縦素環基を表わす。)等が挙
げられる。特に好ましいのFi4級窒素p子又#i4級
リン原子を有する七ツマ−とのコポリマーである。この
うち、主鎖中に4級窒累原子を含で表わされる、いわゆ
るアイオネン型のモノマ一単位を含むものがToり、ま
た、tla@c4級窒素原子を含む代表例としては、一
般式■ で表わされるメタクリロキンアルキルアンモニウムのモ
ノマ一単位を含むものや、一般装置で表わされるビニル
ベンジルアンモニウムの七ツマ一単位を含むものや、さ
らにこのベンジルアンモニウムのモノマ一単位がアミド
基を介して結合し友型のもので特開昭55−22766
号公報に記載の下記一般式■ −[’−CI(2−CH→− 曹 で表わされるものがある。
一万、4級リン原子を主鎖に含むモノマ一単位の例は下
記−絞、tV 基 で示されるものがあるし、貴職に含む力は下記一般式■ H5 一←CH2−C→− oHX。
で示されるもの等が挙げられる。
上記一般式■〜■の各・において、Pで表わされる7ニ
オンの具体例としては、例えば、ハロケンイオン、硫酸
イオン、りン酸イオン、スルホン酸イオン、酢酸イオン
等が挙げられるし、” yR′で表わされるアルキル基
としては、例え屯 メチル、エチル、プロピル、イップ
テル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、デフル等の各基
が挙けられ、また綾嵩櫃基としては、flえば、アリー
ル、アルアルキル、シクロアルキル、例えば、ベンジル
、フェニル、p−メチルベンジル、シクロヘキシル、ン
クロペンテル等の各基が挙げられる。そして、上記各一
般式中、?又はP”  [結合する、Rで表わされたア
ルキル基又は脚素環基は、互いに同しでも、異っていて
もよい。
これらのラテックス状高分子化合物はエマルジョン重合
によって得ることができる。ま九合成されたポリマーを
後にラテックス化することによっても得ることができる
。ま念油溶性のエチレン性不飽和化合物、光重合開始@
fD使用を可能ならしめるため、これらのラテックスは
有機溶MK分教されていることが望ましい。さらにこれ
らのラテックスは有機溶剤に対する安定性を高めるため
粒子内で分子間架橋されていることが好ましい。
すなわち好ましい実總態様としては、粒子状分散物がポ
リアクリル酸エステルまたはそのコポリマー、ポリスチ
レンまたはそのコポリマー、ポリエチレンf7tはその
コポリマー、ポリ塩化どニル筐たはそのコポリマー、ポ
リ塩化ビニリデンま念はそのコポリマー、ポリ酢酸ビニ
ルま之はそのコポリマーのラテックスであり、好ましく
はそれらのラテックスが下記の一般式で表わされる極性
基を有する七ツマ−と■コポリマーでありさらに好まし
くはそれらのラテックスが主Sま念Fi@114Fc 
4級窒l!原子または4級リン原子を有しさらに好まし
くFi教子内で分子間架橋されており、特に好ましくは
分散媒として有機溶剤を用いていることである。
本発明の粒子状分散物としては、その他に無機系の充填
剤分数物や低置子のエマルジョンも用いることができる
。好適な無機充填銅分散物としてはコロイダルンリ鵞や
アルミナゾルのような実質□、的に透v!Aな粒子が挙
げられる。また好適な低分子エマルジョントシてはワッ
クスエマルジョンのような撥水性の高いエマルジョンが
挙げられる。これらの無機充填剤分数物や低分子エマル
ジョンも有機溶剤を分散媒として用いであることが望ま
しい。
これら本発明(用いられる粒子状分散物の粒径は10m
μ〜1μの範囲が好ましい。粒径が1#より大きいと最
終的Vr−得られる画像の解像力が愚〈なり、ま九粒径
が10m#より小さな粒子は実冨上調整が困難である。
本発明のエチレン性不飽和化合物Lモノマー、プレポリ
マーすなわち二量体、二量体、四量体およびオリゴマー
(分子量i o、o o o以下の重合物又は重縮金物
)、それらの混合物並びにそれらの共重合体等を包含す
る。
本発明に用いられるエチレン性不飽和化合物としては、
多価アルコールのアクリル酸エステル及びメタクリル酸
エステルが適当であり、エチレングリコール、トリエチ
レングリコール、テトラエチレングリコール、70ピレ
ングリコール、トリメゾロールプロパン、ペンタエリス
リトール、ネオペンチルグリコール等のアクリル酸、メ
タアクリル酸エステルを例として挙げ得る。
ビスフェノールAから変性誘導されたアクリル酸、メタ
アクリル酸エステル例えにとスフエノールA−エピクロ
ルヒドリン系エポキシ*trプレポリマーとアクリル酸
あるいはメタアクリル酸との反応94物、ビスフェノー
ルAの1ルキレンオキシド付加体あるいはその水素添加
物のアクリル酸、メタアクリル酸エステル等も使用し得
る。
これらのエステル系とは別にメチレンビスアクリルアミ
ド、メチレンビスメタアクリルアミド釜びにエチレンジ
アミン、プロピレンジアミン、プテレンジアミン、ペン
タメチレンジアミン等の7アミンのビスアクリルまたけ
ビスメタアク+フルアミドも有用である。
また、ジオールモノアクリレートもしくはジオールモノ
メタアクリレートとジイン71ネートとの反応生成物、
トリアクリルホルマールまた[トリアリル/アメレート
等も適している。
これらのモノマー性化合物とは別に1側鎖に7クリロ1
ルオキ7基、メタアクリロイルオキ7基を含む線状高分
子化合物、fIIjCばグリンジルメタアクリレートの
開環共重合物、ダリシゾルメタTクリレートのビニル共
重合物のアクリル酸、メタクリル酸付加反応物等も使用
可能である。
本発明のエチレン性不飽和化合物としては水溶性のもの
も使用可能であるが、光感度及び画像の耐水性の点から
水不溶性Oものが好ましい。%に光感度の面においてペ
ンタエリスリトールテトラアクリレートおよびトリメチ
ロールプロパントリアクリレートが好ましいモノマーで
、使用可能でめる。
本発Fj)4に用いられる光重4合開始嗣としてはいエ
チレン性不飽和化合物と併用するのに有効な一般に公知
のもので、久の化合物が含まれるがこれに限定されるも
のではない。
具体例としては、アンロイン;ベンゾインメチルエーテ
ル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインブチルエー
テル等のアンロイン鍔導体;臭化デンル、塩化デシル、
デンルアミン等;ベンゾフェノン、アセトフェノン、ベ
ンジルおよびベンゾイル7クロプタノン等のケトン:ミ
ヒラーのケトン、シェドキンアセトフェノン、およびハ
ロゲン化アセト−及びベンゾフェノン等の置換ベンゾフ
ェノン;チオキサントン、クロルチオキサントン、1ン
プロビルナオキサ7トン、ジイノグロビルチオキサント
ン、メチルチオキサントン等のチオキサントン誘導体、
キノン及びベンゾキノン、アントラキノンと2エナント
レンキノンのような多核Jjlljtキノン:クロルγ
ントラキノン、メチルアントラ午ノン、オクタメチルア
ントラ争ノン、ナフトキノン、ジクロナフトキノン等の
置換多am、tキノン;ノ・ロゲン化脂訪族、脂環族及
び芳香族膨化水素及びそれらの混合物などで、但し、ノ
・ロゲンは塩業、臭素、弗素、沃票であり、@えは七ノ
ー及びポリクロロベンゼン、モノ及びポリブロモベンゼ
ン、モノー及ヒポリクロロキンレン、七ノー及ヒポリプ
ロモキンレン、ジクロロ無水マレインfl、1−(クロ
ロ−2−メチル)ナフタレン、2.4−ジメチルベンゼ
ン塩化モルホニル、1−ブロモ−3−(m−フェノキン
フェノキ7)ベンゼン、2−プロモエナルメチルエーテ
ル、無水クロレンデイン酸及びその対応エステル、塩化
クロロメチルナフチル、クロロメチルナフタレン、ブロ
モメチルフェナントレン、シΦヨードメチルアントラセ
ン、ヘキサクロロシクロペンタジェン、ヘキサクロロベ
ンゼン、オクタクロロシクロペンテン及びそれらの化合
物、ロフィン二量体、及びN−メチル−2−ベンゾイル
メチレン−β−ナフトチアゾール、N−エチル−2−(
2−テノイル)メチレン−β−ナフトチアゾール九代表
される複素環化合物がある。本発明の光重合開始剤とし
てに水溶性のものも使用可能であるが、光感度、耐水性
の点力・ら水不溶性のものが好ましい。
本発明の粒子状分散物等全含有する光重合感光層用組成
物への添加物として所望により、熱重合禁止鋼、aJw
I嗣、現像促進剤及び接着性改良嗣などの各種添加剤を
含有させることができる。
熱重合禁止鋼の具体例としては、例屑はパラメトキンフ
ェノール、ヒドロキノン、アルキルもしくにアリール置
換ヒドロキノン、t−ブチルカテコール、ピロガロール
、塩化第1銅、フェノチアジン、フロラニール、ナフチ
ルアミン、β−ナフトール、2.6−ジーt−ブチル−
p−クーレゾール、ビリジン、ニトロベンゼン、ジニト
ロベンゼン、p−トルイジン、メチレンブルー、有機酸
鋼(例えば酢酸銅など)などがある。
司m嗣としては、ジエチルフタレート、ジエチルフタレ
ート、ジブチルフタレート、ジイソブチルフタレート、
ジオクチルフタレート、オクテルカグリル7タレート、
シシダロへキンルフメレート、ジトリテンルフタレ〜ト
、プナルベンジルフタレート、ジアリールフタレート、
ジアリールフタレートなどのフタル酸エステル類、ジメ
チルグリコールフタレート、メチルフタリルエチルグリ
プレート、メチルフタリルエチルグリプレート、ブチル
フタリルブチルグリコレート、トリエチレングリコール
シカグリル酸エステルなどのグリコールエステル類、ト
リクレジルフォスフェート、トリフェニルフォスフェー
トなどのリン酸エステル類、ンイソプテルアジベート、
ジオクチルアジペート、ジメテルセバクート、ジブチル
セパケート、ジオクチルアゼレート、ジプチルマレ−ド
ナどの脂肪族二塩基酸エステル類、クエン酸トリエチル
、グリセリントリアセチルエステル、ラウリン酸ブチル
などがある。
本発明の粒子状分数物を含む感光層に用いるエチレン性
不飽和化合物の添加量は、光重合感光層用組成物中、固
型分の20〜90重量優、好ましくは40〜70重を憾
である。史r1光重合開始削添加量に、エチレン性不飽
和化合物に対して約1.0重量鳴〜約100]1ji暢
、好ましくは約10憲量憾〜約50重量釜の範囲である
。更に、必要に応じて添加される熱重合禁止剤の添加量
は、光重合感光層用組成物100重量部に対して0.0
01〜5重量部が望ましい。なお、感光層の膜厚として
は、0.1 u m 〜7 a m、好ましく FiO
,5/J m 〜4txmがよい。
次に本発明の着色マスク層について説明する。
この着色マスク層の機能は、感光層が溶媒により溶解除
去され之領坂て同一の溶媒によシ溶解除去あるいは擦シ
除去されて着色画像を形成する層となっている。該着色
ij嘗形成層は着色剤としての染料、顔料が結合剤中に
分散、混合あるいけ溶解して形成されており、染料は紫
外線吸収剤その他の染料(%開昭47−16124号公
報に記載のもの等)、及び顔料は有機顔料、無機顔料(
顔料便覧二日本顔料技術協会編及び上記特許に記載のも
の等)から適宜選択して用いられる。
本発明の画gII形−−科を平版印刷用原稿として用い
る場合には、%にカーボンブラックを着色剤として用い
るのが好ましい。これはカーボンブラックのカバリング
パワーが高いので、同−ea1に得るための膜厚が薄く
出来、jtII再現性が良好であることによる。
本発明の着色マスク層に用いる結合剤としてd也々の高
分子171;m1IIIIlが用いられるが、水溶性ま
たは水軟化性高分子化合物であればいずれも用いること
ができる。水溶性高分子化合物としては、例えばカゼイ
ン、アルブミン、ゼラチン、アラビアガム等の天然性高
分子化合物、例えばメチルセルロース、カルボキシメチ
ルセルロース、ヒドロキ7エテルセルロース、ヒドロキ
シプロピルメチルセルロースなどの水溶性セルロースエ
ーテル、例えばポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポ
リアクリルアミド、ポリビニルピロリドン、ポリソジウ
ムーL−グルタメート、水溶性ポリビニルブチラール、
ポリビニルアルコール、ビニルアルコールとマレイン酸
との共重合体、ビニルアルコールとアクリルアミド共重
合体、ビニルピロリドンと酢酸ビニルとの共重合体、(
メタ)アクリル散エステルと(メタ)アクリル酸の共重
合体、アシル化ゼラチン(例えばフタル化ゼラチン、マ
レイン化ゼラチン)の合成水溶性高分子化合物が含まれ
、これらは単独もしくFi2a以上併用して使用される
本発明の着色マスク層結合嗣としては水軟化性高分子化
合物がよシ好ましい。水軟化性高分子化合物とはそのヤ
ング率が水の存在下で低下する化合物で、その水分率が
相対湿#80幅(25℃)で1゜5暢〜30esである
高分子化合物が好ましい。
好ましい水軟化性高分子化合物の仇としてはメチルセル
ロース、エチルセルロース、ブチルセルロース、ヒドロ
キシエナルセルロース、カルボキンメチルセルロース、
ンアノエナルセルロース、セルロースアセテート、セル
ロースト′υアセテート、セルロースアセテートブチレ
ート、セルロースアセテートフタレート、ヒドロキ7プ
ロビルメテルセルロースフタレート、ヒドロキシプロピ
ルメチルセルロースへキサヒドロフタレート、ポリアク
リル故エステル、ポリメタクリル酸エステル、ポリビニ
ルブチラール、ポリメチルビニルケトン、ナイロ′/6
6、ポリアミド、ボ1ノビニルメトキシアセタール、ポ
リ酢酸ビニル、エポキシ参詣、ポリウレタン等がある。
この他に、側鎖にカルボキン基を有する附加重合体、例
えばメタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタ
コン酸共重合体、勢分エステル化マレイン酸共重合体、
マレイン酸共重合体、クロトン酸共重合体等がある。
側鎖に水酸基、カルバモイル基、ジメチルアミノ基を有
する附加重合体毛同様に用いられ、例えばビニルアルコ
ール共重合体、ビニルアリールアル”:’−ル共1&体
、メチレンジエチルマロネート共重合体(還元物)、無
水マレイン酸共重合体(還元物)、アクリルアミド共重
合体、メタクリルアミド共重合体、N、N−ジメチルア
ミノメチルメタクリレート共重合体、N、N−ジメチル
アミノエテル7 り13 レ−)共重合体、N、N−ジ
メチルアミノエテルメタクリレート共重合体IP+があ
る。
この伽にビニルピロリドン共重合体等電有用である。上
記共重合体におりるカルボキン基、水酸基、カルバモイ
ル基、ジメチルアミノ基のモル比率は、その他の共重合
体成分の糧類によって異なシ、前述した水軟化性の定義
の範囲において決められる。かかる高分子化合物は単独
4しくに2種以上併用して使用される。
本発明に用いるマスク層の着色剤/結合剤の比率に、目
標とする光学濃度とマスク層の水に対する除去性を考慮
して同業者に公知の方法によシ定めることができる。特
に結合削として水軟化性高分子化合物を用い、着色剤と
して顔料を用いる場合Fi着色嗣/結合剤の比は1.0
/2.0以上であることが望ましい。
本発明のマスク層及び粒子状分散物からなる感光層を―
設させる支持体としては、寸度的に安定な板状物が好適
に使用できる。かかる支持体としては、紙、プラスチッ
クス(例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチ
レンなど)がラミネートされ之紙、アルミニウム、亜鉛
、銅などの金属板、二酢酸セルロース、三酢酸セルロー
ス、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸・
酪酸セルロース、硝酸セルロース、ボ11エチレンテレ
フタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ボ+7グロ
ビレン、ポリカーボネート、ポリとニルアセタールなど
のようなプラスチックスのフィルムなどがある。これら
の支持体の中で、ポリエチレンテレフタレート、ポリプ
ロピレン、ポリエチレンがラミネートされた紙、または
アルミニウム板が好ましい。
支持体は必要に応じ表面処理される。例えばアルミニウ
ム板は砂目立て処理、珪酸ソーダ、弗化ジルコニウム酸
カリウム、リン酸塩等の水浴液への浸漬処理、あるいは
−極酸化処理などの1又に2以上の組合せによる表面処
理がなされていることが好ましい。
プラスチックの表面を有する支持体の場合にに、化学的
処理、放電処理、火焔処理、紫外線処理、高鳩波グロー
放電処理、活性プラズマ処理などの1又は2以上の組合
せによる表面処理がされていることが好ましい。
本発明においては、マスク層の接着性改良のため、支持
体に下塗層を設けても良い。下塗層として適当な台am
脂としては、アクリル酸エステル樹脂、塩化ビニ1】デ
ン樹脂、塩化ビニリデン−アクリロニトリル−イタコン
酸共重合樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン
酸共重合樹脂、アクリル酸アミド又にメタク11ル酸ア
ミド誘導体とアクIJル酸又はメタクリル酸のアルキル
ニスアル、m肪酸ビニルエステル、スチレン又はアク1
70ニトリルとの共重合樹脂、フタル酸又はイソフタル
酸とグリコール拳とのコポリエステル樹脂、グリシジル
アクリレート又はグリシジルアクリレートの重合体又は
共重合体などかあシ、またゼラチンも下塗層成分として
有効である。
下塗層を形成するための成分は上記の他にも多数の合成
樹脂が知られており、父、−布液の調製方法や塗布方法
については、本発明−bXl!4する写真材料製造工業
界でに絢知の技術なので適宜それらを応用することがで
きる。−IJCは上述したごとき合成樹脂を水1九は有
機溶媒によって溶液またにラテックス状となし、これt
ギーサー勿布、口−ル塗布、エアーナイフ塗布、スプレ
ー塗布などの塗布方法によって上記支持体上Km布する
また本発明の粒子状分散物を含む感光層が酸素の影響に
よって起る重合阻害の防止あるいは感光層表−の傷つき
防止、さらに真空密着性改良などのために本発明におい
ては現儂時に溶解もしくは膨潤するオーバーコート層を
設けることができる。
このオーバーコート層は、機械的にマット化されたもの
、あるいはマット剤が含有される樹脂層であってもよい
。マット剤としては二酸化珪素、酸化亜鉛、酸化チタン
、酸化ジルコニウム、ガラス粒子、アルミナ、でん粉、
重合体粒子(たとえばポリメチルメタアクリレート、ポ
リスチレン、フェノール樹脂などの粒子)および米ai
l特許!!2,701.245号、同IK2,992,
101号各明細書に記載されているマット剤が含まれる
。これらは二種以上併用することもできる。マット剤を
含有するオーバーコート層に使用される樹脂は適宜選択
サレル。具体的に例えばアラビアゴム、ニカワ、ゼラチ
ン、カゼイン、セルローズ1m(念とえはビスコース、
メチルセルローズ、エチルセルローズ、ヒドロキシエチ
ルセルローズ、ヒドロキンプロピルメチルセルローズ、
カルボキンメチルセルローズ等)、でん粉W4(例えば
可溶性でん粉、変性でん粉等)、ポリビニルアルコール
、ポリエチレンオキサイド、ポリアクリル酸、ポリアク
リルアミド、ポリビニルメチルエーテル、ポリビニルピ
ロリドン、ポリアミド等がある。これらは二種以上併用
することもできる。
次に、本発BA[係る画像形成材料の製造法の具体例を
示すと、一般Kに、マスク層結W嗣にアセトン、メタノ
ール、エタノール、メチルエチルケトン、メチルイソブ
チルケトン、ンクロヘキサノン、β−ヒドロキシエチル
メチルエーテル(メチルセロソルブ)、β−アセトキン
エテルメチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、
ジメチルホルムアミド、ヘキサメチルホスポンアミド、
テトラヒドロフラン、クロルベンゼン、トリエチレング
リコールなどの溶媒に可溶性である。そこで上記の溶媒
(JIL81浴媒又112種以上の有機溶媒を含む混合
溶媒)から適当なものを選択し、この中に溶解せしめて
マスク層Ias液を調整する。
このようにしてl!IIlされるマスクN塗布液は、従
来から公知の各種の塗布技術に適用されるような粘[[
11i!Iされる。
膜力、感光層の場合は水また#′i種々の有機溶剤を分
散媒とする粒子状分散物を水fたは所望の有機g剤にて
希釈し適当な粘1とし、これさエチレン性不飽和化合物
および光重合開始剤とを混合し均一な簡布液をvI4整
する。この場合、油溶性のエチレン性不飽和化合物及び
油溶性光重合開始剤の使用を可能ならしめるため溶媒と
して有機溶剤を用いることが望ましい。好適に用いられ
る有機溶剤トしてはアセトン、メタノール、エタノール
、イソブチルアルコール、ノルマルブチルアルコール、
インプロピルアルコール、ノルマルプロピルアルコール
、メチルエテルケトン、メチルイソブチルケトン、ンク
ロヘキサノン、β−ヒドロキシエチルメチルエーテル(
メチルセロソルブ)、β−アセトキシエチルメチルエー
テル、メチルセロソルブアセテート、ジメチルホルムア
ミド、ヘキサメチルホスホンアミド、テトラヒドロフラ
ン、クロルベンゼン、メチレンクロライド、クロロホル
ム、トリエチレングリコール、トルエン、トリクレン勢
が挙げられる。
このように調製された塗布液は公知のホヮイラーm布、
ティラグ塗布、カーテン塗布、ロール塗布、スプレー塗
布、エアーナイフ塗布、ドクターナイフ−布などの塗布
方法のうちから選択された方法によって、支持体上KI
!I布される。
次に、本発明の作用効果について述べると、本発明のj
像形成材料を用いるj*形成方法は、上記のようにして
作られたIii像形成材料を、普ず活性光線で像露光す
る。光源としては、例えば@高圧水銀灯、タングステン
ランプ、水銀灯、キセノンランプ、CRT光源、レーザ
ー光源など各種の光源が用層られる。
紫外111等活性光線で像露光された感光層では、元1
台による架橋反応が進行して、水に対して不溶化する。
光照射#3/Ii接着強化されているので、露光後の画
像形成材料は水中に浸漬し、水現愉した場合、画像未露
光部は容&に、等ぐラビング・IIシ現像される。この
とき、感光層の未露光部とその部分に当る下層のマスク
層が除去され、ポジーネガのフィルム画像が形成される
以下に本発明の実施例を記すが、本発明の実織態atは
以下の記rlltKm定されるものではない。
実$lii例I HさlOO100aポリエチレンテレフタレートフィル
ムの片#lJK下紀l11mの塗布液を乾燥後の濃厚が
約1.5Bになるように塗布し、乾燥せしめて着色マス
ク層を形成した。
(〜 着色マスク層 この着色マスク層上に下記本発明の感光液〔A〕、比較
感光液CB) 、 〔C)を乾燥後の濃厚が各々1.5
Bmになるように塗布した。
(b)  感光液〔A〕(本発明) H5 (C)感光液〔B〕(比較感光t) <d)IiiA−it液〔C〕(比較感光液)さらにこ
の上に下記の組成のオーバーコート液をljI厚約2.
5 a zaになるように塗布して画像形成材料の試料
囚、 (A’) 、 (C)t−慢是。。
上記3種類のii*形成材料の各試料を網点原稿と重ね
て3KWメタルノ・ライドランプによυ80国の距離か
らlθ秒関露光し、次に20℃の水中に浸漬し軽く擦す
って現像した。この結果を下記第1表に示した。
第1表から明らかなように、本発明に係る画像形成材料
はl1ii像特性が極めて良好で、しかも蝮時間で現像
がE’Twp、であることがわかる。
実施例2 ゼラチン下塗層が設けられ念厚さ100μのポリエチレ
ンテレフタレートフィルムの片面に、下記組成の塗布液
を乾燥後の襖厚が約1.5#になるようl1cI!I布
し、乾燥せしめて着色マスク層倉形成した。
(a)  51F色マスク層 この着色マスク層の上に下記の感光液を乾燥後の積厚が
1,5#になるように@布した。
さらに実#1if111と同様にオーバーコート層を設
は本発明の試料を作成した。
この本発明の試料について露光時間を30秒とした以外
に実m*iと同様に露光と現像を行ったところ、現像時
閏約15秒で鮮明な黒色j像が得られた。
実施例3 塩化ビニリデンam下塗層が設けられた100pのポリ
エチレンテレ7タレートフイルムの片面に実−flll
と同様にして着色マスク層を設けた。
この着色マスク層の上に1下記の感光液を乾燥鏝ノ積厚
、#1.5IIJCiるよう[111@した。
こO本発明の試料について露光時間を1分とした以外は
実−例1と同様Ell光と現像を行ったところ、現像時
間約30秒で鮮明な黒色i!i像が得られた。
実施例4 感光層塗布液として下記を用い友ほかは実施例3と同様
にして本発明の試料を作成した。
この本発明の試料について実施例1と全く同様KII光
と現像を行ったところ、現像時間30秒で鮮明な黒色i
i*が得られ九〇 実alimfl15 上記混合1120gをエマルゲン935(花王アトラス
製)3憾水溶液30gに加えポモゲナイザ−(AM−8
,日本精機製作所製)テ15,000rpruで分赦し
分散液[A)t−得た。
次に感光層−4iItとして下記を用いた外は実線fI
3と四橡にして本発明の試料を作成した。
この本発明の試料について火織例2と同様に露光と3J
!儂を行ったところ鮮明な黒色ii像が得られた。
特許出鳳人  小西六写真工業株式会社代理人弁理士 
 坂 口 信 昭 ()1か1名) 「−続補 11冊 占(自発) +Y+和58年5月2311 特真庁長官若杉和大殿 1 を件の表示 昭和57年特許願第41690号 2 発明の名称 画像形成材料 3 補正をする者 負性との関係    出願人 名  称 (127)小四六写真下業株式会社4代理人
〒105 6 補正により増加する発明の数 7 補正の対象 明細占(発明の詳細な説明の欄) 補+T’の内容(特願昭57−41690)明細占につ
いて次の通り補止する。
l 第13頁第6行に「アルミナゾル」とあるを「コロ
イダルアルミナ」と補正する。
2 第15頁第4〜5行に「ジオールモノメタアクリレ
ート」とあるを[ジオールモノメタアクリレート」 と
補1丁する。
3 第32頁丁から第3行、第33頁第6行、同第13
行、第36頁第5行、第37頁最下行及び第38頁第9
行に「ジメチル安息香酸イソアミル」とあるをそれぞれ
[ジメチルアミノ安、e1香酸インアミル」と補止する
以  1゜

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)支持体上に、支持体に近い備から(a)着色マス
    ク層、(b)エチレン性不飽和化合物、光重合開始剤及
    び水不溶性粒子状分散物を相互に溶解ないし分数してな
    る感光性組成物を塗設してなる層を有することt−特徴
    とする水洩g1可能な画像形成材料。
  2. (2)上記水不溶性粒子状分数物がラテックス状高分子
    化合物であることを特徴とする特許請求の範囲第1項記
    載の画像形成材料。
  3. (3)上記水不溶性粒子状分数物が有機#l嗣分数性で
    あることを特徴とする特許請求の範囲第1項又は第2項
    記載の画像形成材料。
  4. (4)  上記エチレン性不飽和化合物及び光重合開始
    剤が有機溶鋼可溶性であることを特徴とする特許請求の
    範囲m1項起重cojll形成材料。
  5. (5)#配着色マスク層が水軟化性高分子化合物を含む
    ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のWiI宙
    形酸形成材 料6)  前記着色マスク層が着色剤としてカーボング
    ラツクを含有することを特徴とする特許請求の範囲第1
    項記載のji画像形成材料
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6093427A (ja) * 1983-10-28 1985-05-25 Nippon Kayaku Co Ltd 感光性樹脂の硬化方法
JPS6370841A (ja) * 1986-09-12 1988-03-31 Kimoto & Co Ltd 非銀塩画像形成材料
JPH0288604A (ja) * 1988-09-26 1990-03-28 Toagosei Chem Ind Co Ltd 光硬化性組成物
JPH0566561A (ja) * 1991-09-10 1993-03-19 Futaba Corp 感光性組成物及び基板の製造方法
JPH06295062A (ja) * 1993-10-01 1994-10-21 Kimoto & Co Ltd 製版用感光材料
JP2007171406A (ja) * 2005-12-20 2007-07-05 Fujifilm Corp 平版印刷版の作製方法および平版印刷版原版

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS522520A (en) * 1975-06-19 1977-01-10 Napp Systems Inc Photosensitive composition
JPS5289916A (en) * 1976-01-23 1977-07-28 Fuji Photo Film Co Ltd Image formation and material therefor
JPS53137248A (en) * 1977-03-22 1978-11-30 Du Pont Acrylic resin dispersion

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS522520A (en) * 1975-06-19 1977-01-10 Napp Systems Inc Photosensitive composition
JPS5289916A (en) * 1976-01-23 1977-07-28 Fuji Photo Film Co Ltd Image formation and material therefor
JPS53137248A (en) * 1977-03-22 1978-11-30 Du Pont Acrylic resin dispersion

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6093427A (ja) * 1983-10-28 1985-05-25 Nippon Kayaku Co Ltd 感光性樹脂の硬化方法
JPS6370841A (ja) * 1986-09-12 1988-03-31 Kimoto & Co Ltd 非銀塩画像形成材料
JPH0288604A (ja) * 1988-09-26 1990-03-28 Toagosei Chem Ind Co Ltd 光硬化性組成物
JP2545951B2 (ja) * 1988-09-26 1996-10-23 東亞合成株式会社 光硬化性組成物
JPH0566561A (ja) * 1991-09-10 1993-03-19 Futaba Corp 感光性組成物及び基板の製造方法
JPH06295062A (ja) * 1993-10-01 1994-10-21 Kimoto & Co Ltd 製版用感光材料
JP2007171406A (ja) * 2005-12-20 2007-07-05 Fujifilm Corp 平版印刷版の作製方法および平版印刷版原版

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