JPH0577633B2 - - Google Patents
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Description
請求の範囲
1 SiC、HfC、NbC、TaC、TiC、VCまたは
ZrCの群から選択される炭化物繊維または炭化物
ホイスカで強化された窒化珪素成形体を熱等静圧
プレス(HIP)する方法において、窒素含有雰囲
気中で常圧で予備焼結された成形体をカプセル封
入せずに1000〜3000℃の温度で保護ガス雰囲気中
で、方程式:
ZrCの群から選択される炭化物繊維または炭化物
ホイスカで強化された窒化珪素成形体を熱等静圧
プレス(HIP)する方法において、窒素含有雰囲
気中で常圧で予備焼結された成形体をカプセル封
入せずに1000〜3000℃の温度で保護ガス雰囲気中
で、方程式:
【化】
[式中PN2は窒素分圧を表わし、Tsは〓の温度
を表わす]に従う窒素分圧下で熱等静圧プレス
し、この際該分圧の下限はa=872213、b=
405.6およびc=−16.6なる値によつて与えられ
ており、該分圧の上限は使用した炭化物に応じて
次の値:
を表わす]に従う窒素分圧下で熱等静圧プレス
し、この際該分圧の下限はa=872213、b=
405.6およびc=−16.6なる値によつて与えられ
ており、該分圧の上限は使用した炭化物に応じて
次の値:
【表】
によつて規定されていることを特徴とする炭化物
繊維または炭化物ホイスカで強化された窒化珪素
成形体の熱等静圧プレス方法。 2 保護ガスが希ガスまたは希ガス混合物である
請求項1記載の方法。 3 少なくとも1000bar(100MPa)の全ガス圧
(窒素+保護ガス)で作業する請求項1または2
記載の方法。 4 炭化物繊維および/または炭化物ホイスカの
量が出発混合物に対して50重量%までである請求
項1から請求項3までのいずれか1項記載の方
法。 5 窒素雰囲気中での常圧予備焼結を独立多孔度
に達するまで行う請求項1から請求項4までのい
ずれか1項記載の方法。 6 常用の焼結添加剤の存在で作業する請求項1
から請求項5までのいずれか1項記載の方法。 7 焼結添加剤を出発混合物に対して5〜15重量
%の量で添加する請求項6記載の方法。 技術分野 本発明は、炭化物繊維および炭化物ホイスカで
強化された窒化珪素体の熱等静圧プレス方法に関
する。 背景技術 窒化珪素セラミツクは、耐熱性および耐酸化性
に関する特性が極めて優れているために、例えば
熱機械で使用するための発動機構造の材料とし
て、また金属作業の際の変形および切断工具とし
て極めて重要である。この場合電気的および機械
的特性は炭化物繊維または炭化物ホイスカの導入
によつてなお著しく改良されうる(米国特許第
4507224号明細書)。従つて炭化物繊維または炭化
物ホイスカで強化された窒化珪素セラミツクの製
造は極めて重要である。 特に発動機構造の場合に要求されるような改良
された機械的特性を有する緻密な材料となるホイ
スカ強化Si3N4セラミツクの製造は、従来はカプ
セルに入れた粉末体の熱プレスまたは熱等静圧プ
レスによつてのみ成功した。しかしこの熱プレス
は均等で簡単な形状を有する物体に限定されてい
る。 P.D.シヤレツク(Shalek)等〔Am.Ceram.
Soc.Bull.65(1986)、351〜365頁〕は、SiCホイス
カで強化されたSi3N4を1600〜1850℃で熱プレス
なしに製造することを記載しており、この場合に
は40容量%までのホイスカ分を有する緻密な物体
が得られた。しかしこの等静圧プレスはカプセル
封入および圧縮後のカプセル除去を必要とする。
粉末体はカプセルに封入しないと熱等静圧プレス
(HIP法)の工程で、炭化物繊維および−ホイス
カ導入の特性改良効果の損失をもたらす次の反
応: 金属炭化物+窒素→金属窒化物+炭素 (金属=Si,Hf,Nb,Zr,Ta,Ti,V)に
より同繊維およびホイスカの分解を惹起する。 しかし他方高い焼結温度は、Si3N4マトリツク
スの珪素および窒素への分解を防止するためには
高められた窒素圧を必要とする。従つて、次の反
応: Si3N4(s)→3Si()+2N2(g) (1) による焼結時のSi3N4物質の分解を回避するため
には、無圧焼結で1900℃を下回る温度を使用する
必要がある。これに対してガス圧焼結(数十
MPaまでの範囲の圧力)およびさらに熱等静圧
プレス(数百MPaまで)の場合には、窒化珪素
は窒素雰囲気中で極めて高い温度まで(例えば
100MPaで2700℃を越えるまで)安定である。 10バールのN2圧を用いる1700〜2000℃でのガ
ス圧焼結によつて成程、20重量%までのSiCホイ
スカを有する可変性形状を有する物体も製造する
ことができたけれども、完全な圧縮のためには、
35mol%までの分量の焼結助剤が必要である(タ
マリ等、窯業協会誌94、1986、1177〜1179)。し
かしこの多量の焼結助剤は、焼結材料中の相応に
高いガラス分の発生をもたらし、このガラス分は
機械的高温特性の著しい劣化として現れるという
欠点を有する。 しかし炭化物繊維または炭化物ホイスカで強化
された窒化窒素の場合、熱等静圧プレスにおいて
は、前記方程式: “金属炭化物+窒素→金属窒化物+炭素” による炭化物繊維および−ホイスカの分解も考慮
されなければならない。従つてセラミツク物体の
全安定性のためには、Si3N4の分解反応および炭
化物繊維の分解反応を考慮しなければならず、こ
の際これらの両反応は相互に関係していて、それ
ぞれの他方の成分(Si3N4または炭化物繊維)の
安定性に不利な影響を及ぼす。 発明の開示 従つて本発明の課題は、炭化物繊維および−ホ
イスカで強化された窒化珪素物体の熱等静圧プレ
ス方法において、前記欠点を回避することができ
かつ機械的、化学的および電気的特性および安定
性を根拠にして高い要求に十分応えられる炭化物
繊維および−ホイスカで強化された窒化珪素物体
を簡単にかつ経済的に製造することができる前記
方法を提供することであつた。 ところで、従来方法の欠点、特に成分(Si3N4
および炭化物繊維)の分解は、高い全ガス圧およ
び特定の窒素分圧で窒素−保護ガスの雰囲気中で
作業する場合には回避することができた。 従つて本発明の対象は、SiC,HfC,NbC,
TaC,TiC,VCまたはZrCの群から得られる炭
化物繊維または炭化物ホイスカで強化された窒化
珪素の成形体を窒素を含む雰囲気中で熱等静圧プ
レス(HIP)する方法において、窒素を含む雰囲
気中で常圧で予備焼結された成形体を、カプセル
封入なしに1000〜3000℃の温度で窒素−保護ガス
の雰囲気中で、次の方程式:
繊維または炭化物ホイスカで強化された窒化珪素
成形体の熱等静圧プレス方法。 2 保護ガスが希ガスまたは希ガス混合物である
請求項1記載の方法。 3 少なくとも1000bar(100MPa)の全ガス圧
(窒素+保護ガス)で作業する請求項1または2
記載の方法。 4 炭化物繊維および/または炭化物ホイスカの
量が出発混合物に対して50重量%までである請求
項1から請求項3までのいずれか1項記載の方
法。 5 窒素雰囲気中での常圧予備焼結を独立多孔度
に達するまで行う請求項1から請求項4までのい
ずれか1項記載の方法。 6 常用の焼結添加剤の存在で作業する請求項1
から請求項5までのいずれか1項記載の方法。 7 焼結添加剤を出発混合物に対して5〜15重量
%の量で添加する請求項6記載の方法。 技術分野 本発明は、炭化物繊維および炭化物ホイスカで
強化された窒化珪素体の熱等静圧プレス方法に関
する。 背景技術 窒化珪素セラミツクは、耐熱性および耐酸化性
に関する特性が極めて優れているために、例えば
熱機械で使用するための発動機構造の材料とし
て、また金属作業の際の変形および切断工具とし
て極めて重要である。この場合電気的および機械
的特性は炭化物繊維または炭化物ホイスカの導入
によつてなお著しく改良されうる(米国特許第
4507224号明細書)。従つて炭化物繊維または炭化
物ホイスカで強化された窒化珪素セラミツクの製
造は極めて重要である。 特に発動機構造の場合に要求されるような改良
された機械的特性を有する緻密な材料となるホイ
スカ強化Si3N4セラミツクの製造は、従来はカプ
セルに入れた粉末体の熱プレスまたは熱等静圧プ
レスによつてのみ成功した。しかしこの熱プレス
は均等で簡単な形状を有する物体に限定されてい
る。 P.D.シヤレツク(Shalek)等〔Am.Ceram.
Soc.Bull.65(1986)、351〜365頁〕は、SiCホイス
カで強化されたSi3N4を1600〜1850℃で熱プレス
なしに製造することを記載しており、この場合に
は40容量%までのホイスカ分を有する緻密な物体
が得られた。しかしこの等静圧プレスはカプセル
封入および圧縮後のカプセル除去を必要とする。
粉末体はカプセルに封入しないと熱等静圧プレス
(HIP法)の工程で、炭化物繊維および−ホイス
カ導入の特性改良効果の損失をもたらす次の反
応: 金属炭化物+窒素→金属窒化物+炭素 (金属=Si,Hf,Nb,Zr,Ta,Ti,V)に
より同繊維およびホイスカの分解を惹起する。 しかし他方高い焼結温度は、Si3N4マトリツク
スの珪素および窒素への分解を防止するためには
高められた窒素圧を必要とする。従つて、次の反
応: Si3N4(s)→3Si()+2N2(g) (1) による焼結時のSi3N4物質の分解を回避するため
には、無圧焼結で1900℃を下回る温度を使用する
必要がある。これに対してガス圧焼結(数十
MPaまでの範囲の圧力)およびさらに熱等静圧
プレス(数百MPaまで)の場合には、窒化珪素
は窒素雰囲気中で極めて高い温度まで(例えば
100MPaで2700℃を越えるまで)安定である。 10バールのN2圧を用いる1700〜2000℃でのガ
ス圧焼結によつて成程、20重量%までのSiCホイ
スカを有する可変性形状を有する物体も製造する
ことができたけれども、完全な圧縮のためには、
35mol%までの分量の焼結助剤が必要である(タ
マリ等、窯業協会誌94、1986、1177〜1179)。し
かしこの多量の焼結助剤は、焼結材料中の相応に
高いガラス分の発生をもたらし、このガラス分は
機械的高温特性の著しい劣化として現れるという
欠点を有する。 しかし炭化物繊維または炭化物ホイスカで強化
された窒化窒素の場合、熱等静圧プレスにおいて
は、前記方程式: “金属炭化物+窒素→金属窒化物+炭素” による炭化物繊維および−ホイスカの分解も考慮
されなければならない。従つてセラミツク物体の
全安定性のためには、Si3N4の分解反応および炭
化物繊維の分解反応を考慮しなければならず、こ
の際これらの両反応は相互に関係していて、それ
ぞれの他方の成分(Si3N4または炭化物繊維)の
安定性に不利な影響を及ぼす。 発明の開示 従つて本発明の課題は、炭化物繊維および−ホ
イスカで強化された窒化珪素物体の熱等静圧プレ
ス方法において、前記欠点を回避することができ
かつ機械的、化学的および電気的特性および安定
性を根拠にして高い要求に十分応えられる炭化物
繊維および−ホイスカで強化された窒化珪素物体
を簡単にかつ経済的に製造することができる前記
方法を提供することであつた。 ところで、従来方法の欠点、特に成分(Si3N4
および炭化物繊維)の分解は、高い全ガス圧およ
び特定の窒素分圧で窒素−保護ガスの雰囲気中で
作業する場合には回避することができた。 従つて本発明の対象は、SiC,HfC,NbC,
TaC,TiC,VCまたはZrCの群から得られる炭
化物繊維または炭化物ホイスカで強化された窒化
珪素の成形体を窒素を含む雰囲気中で熱等静圧プ
レス(HIP)する方法において、窒素を含む雰囲
気中で常圧で予備焼結された成形体を、カプセル
封入なしに1000〜3000℃の温度で窒素−保護ガス
の雰囲気中で、次の方程式:
【化】
〔式中PN2はN2の分圧を表わし、Tsは温度
(〓)を表わす〕に相応する窒素分圧下でHIPし、
この際該分圧の下限はa=872213、b=405.6お
よびc=−16.6なる値によつて与えられ、該分圧
の上限は使用される炭化物に応じて次の値:
(〓)を表わす〕に相応する窒素分圧下でHIPし、
この際該分圧の下限はa=872213、b=405.6お
よびc=−16.6なる値によつて与えられ、該分圧
の上限は使用される炭化物に応じて次の値:
【表】
【表】
によつて与えられることを特徴とするHIP方法で
ある。 本発明方法の有利な実施態様は請求項2から請
求項8までの対象である。 国際公開(WO−A)86/05480から、炭化物
ホイスカで強化されているセラミツク物体の常圧
焼結方法は公知である。この方法により製造され
た強化セラミツク成形体には次に窒素またはアル
ゴン雰囲気中でHIPを施すことができる。この際
予備焼結の場合には1750℃までの温度、HIPの場
合には1800℃までの温度が記載されている。しか
しそこには、酸化アルミニウムを基材とする成形
体の場合のみ、HIPを1575℃の温度で実施する例
が存在する。炭化物繊維を含有するSi3N4成形品
のHIPの場合に生じる特別な難点はそこに記載さ
れていない。またこれらの難点はそこに記載され
た方法を用いても解決することはできない。 焼結の際ガスとしての窒素を省略することはで
きない、それというのも窒素分圧が低下すると焼
結温度の上限は方程式(1)により著しく下がる。 従つて、炭化物繊維または−ホイスカ強化Si3
N4複合体材料の熱等静圧プレスの場合にマトリ
ツクスまたは繊維/ホイスカを破壊することなく
調節すべき窒素分圧は、その都度の炭化物に関し
て上限と下限の間で変動しなければならない。と
ころで、その都度の限界は方程式:
ある。 本発明方法の有利な実施態様は請求項2から請
求項8までの対象である。 国際公開(WO−A)86/05480から、炭化物
ホイスカで強化されているセラミツク物体の常圧
焼結方法は公知である。この方法により製造され
た強化セラミツク成形体には次に窒素またはアル
ゴン雰囲気中でHIPを施すことができる。この際
予備焼結の場合には1750℃までの温度、HIPの場
合には1800℃までの温度が記載されている。しか
しそこには、酸化アルミニウムを基材とする成形
体の場合のみ、HIPを1575℃の温度で実施する例
が存在する。炭化物繊維を含有するSi3N4成形品
のHIPの場合に生じる特別な難点はそこに記載さ
れていない。またこれらの難点はそこに記載され
た方法を用いても解決することはできない。 焼結の際ガスとしての窒素を省略することはで
きない、それというのも窒素分圧が低下すると焼
結温度の上限は方程式(1)により著しく下がる。 従つて、炭化物繊維または−ホイスカ強化Si3
N4複合体材料の熱等静圧プレスの場合にマトリ
ツクスまたは繊維/ホイスカを破壊することなく
調節すべき窒素分圧は、その都度の炭化物に関し
て上限と下限の間で変動しなければならない。と
ころで、その都度の限界は方程式:
【化】
〔式中Tsは焼結およびHIP温度(〓(K))で
ある〕によつて記載されうることが判明した Si3N4が所与の焼結温度でなお安定である場合
の窒素分圧の下限に関する方程式(2)のパラメータ
ーa,bおよびcの値(これを下回つてはならな
い)は、下記の方程式(10)から得られる。窒素分圧
の下限は従つて記載された種類のすべての材料に
ついて同じであり、次のパラメータ: a=872213;b=405.6;c=−16.6を有する。 使用することのできる窒素分圧の上限は、次の
反応(方程式3〜9): 2HfC+N2 → 2HfN+2C (3) 2NbC+N2 → 2NbN+2C (4) 3SiC+2N2→ Si3N4+3C (5) 2TaC+N2 → 2TaN+2C (6) 2TiC+N2 → 2TiN+2C (7) 2VC+N2 → 2VN+2C (8) 2ZrC+N2 → 2ZrN+2C (9) によつて条件づけられ、従つてそれぞれの炭化物
に関して個々に特定されなければならない。 表1にはパラメータa,bおよびcが記載して
あり、これらの値から使用した炭化物に関して方
程式(2)により窒素分圧(PN2)の上限を計算する
ことができる。これらの値は文献から公知である
〔参照:Chase et al.(1975),JANAF
thermohemical tables;Storms,E.K.(1967)
The refractory carbides,Refractory
material 3,Academic Press,NY,USA;
Toth,L.E.(1971)Transition metal carbides
and mitrides,Refractory materials 7,
Academic Press,NY,USA〕。
ある〕によつて記載されうることが判明した Si3N4が所与の焼結温度でなお安定である場合
の窒素分圧の下限に関する方程式(2)のパラメータ
ーa,bおよびcの値(これを下回つてはならな
い)は、下記の方程式(10)から得られる。窒素分圧
の下限は従つて記載された種類のすべての材料に
ついて同じであり、次のパラメータ: a=872213;b=405.6;c=−16.6を有する。 使用することのできる窒素分圧の上限は、次の
反応(方程式3〜9): 2HfC+N2 → 2HfN+2C (3) 2NbC+N2 → 2NbN+2C (4) 3SiC+2N2→ Si3N4+3C (5) 2TaC+N2 → 2TaN+2C (6) 2TiC+N2 → 2TiN+2C (7) 2VC+N2 → 2VN+2C (8) 2ZrC+N2 → 2ZrN+2C (9) によつて条件づけられ、従つてそれぞれの炭化物
に関して個々に特定されなければならない。 表1にはパラメータa,bおよびcが記載して
あり、これらの値から使用した炭化物に関して方
程式(2)により窒素分圧(PN2)の上限を計算する
ことができる。これらの値は文献から公知である
〔参照:Chase et al.(1975),JANAF
thermohemical tables;Storms,E.K.(1967)
The refractory carbides,Refractory
material 3,Academic Press,NY,USA;
Toth,L.E.(1971)Transition metal carbides
and mitrides,Refractory materials 7,
Academic Press,NY,USA〕。
【表】
本発明による方法では1000〜3000℃の温度範囲
で作業する。複合体セラミツクを製造するための
上限温度は窒化珪素の安定性によつて反応方程式
(1)により特定される。該上限温度は方程式(10): T(℃)=〔872213/(405.6−16.6ln(PN2))〕−
273 (10) によつて表わすことができ、この際窒素分圧PN2
はbarで与えられている。 下限温度は、繊維またはホイスカとして使用し
ようとするその都度の炭化物の、窒素の存在での
安定性によつて特定される。これは方程式(3)〜(9)
による反応を回避しなければならないことを意味
する。 第1a図乃至第1g図は、本発明により使用さ
れる炭化物にとつてその都度可能な窒素分圧
(PN2)および温度(T)の条件(これらの条件で
本発明は作業することができる)を示すグラフで
ある。陰影線の部分が可能な範囲を示す。 第1a図はNbC−繊維/−ホイスカで強化さ
れたSi3N4のHIPのPN2−T範囲を示し、 第1b図はTaC−繊維/−ホイスカで強化さ
れたSi3N4のHIPのPN2−T範囲を示し、 第1c図はSiC−繊維/−ホイスカで強化され
たSi3N4のHIPのPN2−T範囲を示し、 第1d図はHfC−繊維/−ホイスカで強化され
たSi3N4のHIPのPN2−T範囲を示し、 第1e図はTiC−繊維/−ホイスカで強化させ
たSi3N4のHIPのPN2−T範囲を示し、 第1f図はZrC−繊維/−ホイスカで強化され
たSi3N4のHIPのPN2−T範囲を示し、 第1g図はVC−繊維/−ホイスカで強化され
たSi3N4のHIPのPN2−T範囲を示す。 窒素−保護ガス雰囲気の保護ガスとしては適用
される条件下で不活性のすべてのガスまたはガス
混合物を使用することができる。保護ガスは好ま
しくは希ガスすなわちAr,He,Ne,Xeまたは
これらの混合物である。 窒素−保護ガス雰囲気の組成は、 窒素%=100×PN2/PHip 希ガス%=100−100PN2/PHip のように示され、ここでPHip(bar)は熱等静圧プ
レスの際の所望のまたは技術的理由から必要な全
圧であり、その大きさは熱等静圧プレス(HIP)
法の場合に適用される常用の圧力範囲にある。本
発明方法の場合には好ましくは少なくとも
1000barの全ガス圧PHipで作業する。 炭化物繊維および/または炭化物ホイスカの含
分は、出発混合物に対して50重量%までであつて
よい。炭化物含分の下限は一般に約0.1重量%、
好ましくは0.5重量%、特に1重量%である。炭
化物含分の上限は好ましくは30重量%、特に15重
量%である。 また本発明方法の出発混合物(粉末体)は、窒
化珪素成形体を製造するためのこのような方法に
とつて常用の添加物または溶融相、例えば常用の
焼結助剤(焼結添加剤)も含有していてよい。焼
結助剤としては、好ましくはY2O3,Al2O3および
AlN、特にこれらから成る粉末混合物またはY3
Al5O12を使用する。焼結添加剤の含分は炭化物
含分の増大と共に増大する。特に焼結添加剤の含
分は出発混合物に対して5〜15重量%であり、5
重量%の下限は好ましくは炭化物含分の下限の場
合に適用され、15重量%の上限は好ましくは炭化
物含分の上限の場合に適用される。粉末混合物と
してY2O3,Al2O3およびAlNを使用する場合に
は、焼結添加剤粉末の割合は好ましくは、Y2O3
80〜40重量%,Al2O310〜30重量%およびAlN10
〜30重量%の範囲に存在する。 本発明方法は、熱等静圧プレス(HIP)のため
に、好ましくは独立多孔度(95%より大)を得る
まで窒素雰囲気中で前記の常圧予備焼結と組合わ
せる。この際予備焼結は自体公知の常法で行つて
もよく、このために常用の添加剤、すなわち焼結
助剤(焼結添加剤)を使用する。好ましくは焼結
助剤としては前記の焼結添加剤、特にY2O3,Al2
O3およびAlNから成る粉末混合物、またはY3Al5
O12を使用する。好ましく使用される焼結添加剤
の量も同様に前記の好ましい含分範囲に相応す
る。 焼結添加剤は、特に高温でのセラミツクの機械
的特性を著しく劣下させる。高められたガス圧下
での焼結および熱等静圧プレスによる後処理を意
図する方法の場合、セラミツク物体の最大密度を
得るためには、添加剤をより少なくする必要があ
る。ところで本発明方法を用いると、焼結助剤の
ような添加剤の量を低減することができる。また
本発明方法の他の利点では、窒素分圧は低いが、
全ガス圧が高い場合に、すでに比較的低い温度で
も最大圧縮を達成することができる点にもある。 発明を実施するための最良の形態 次に本発明を実施例により詳述するが、本発明
は実施例に限定されない。 例 1 Si3N485〜70重量%、β−SiC−ホイスカ15重
量%まで、Y2O39.8重量%,Al2O31.7重量%およ
びAlN3.5重量%から成る粉末混合物を、有機液
体で磨砕によつて均質に混合する。ホイスカを含
有する粉末懸濁液を次に回転蒸発器で乾燥し、低
温等静圧により圧縮して試料体を製造する。生密
度2〜2.1g/cm3(絶対密度の60〜63%)である。 この複合セラミツクを1850℃で1bar(0.1MPa)
のN2圧下で独立多孔度になるまで30分間予備焼
結する。予備焼結後の密度は15重量%までのホイ
スカ含分について3.3〜3.15g/cm3(絶対密度の
99〜95%)に達する。 次に予備焼結した試料物体を、カプセルなしに
N21容量%とAr99容量%とから成る混合ガス中
で1900℃の温度で10分間熱等静圧により圧縮する
(HIP法)。等静圧ガスは1000bar(100MPa)であ
り、この際N2分圧は10bar(1MPa)に達する。
この際密度は15重量%までのSiC−ホイスカ含分
を有する試料の場合にも3.3g/cm3(絶対密度の
99%)を越えるまで増大するが、試料物体中の
SiCホイスカの分解は生じない。第2図はホイス
カ含分に対する絶縁密度および相対密度(破砕密
度;fractional density%)のグラフである。 これに対して1000bar(100MPa)(上記全圧に
相当する)のN2分圧を用いて圧縮する場合には、
試料表面におけるSiCホイスカの分解にもかかわ
らず同時に著しい炭素形成が観察される。 熱等静圧圧縮後には破壊抵抗の明らかな増大が
認められる。第3図はホイスカ含分に対するKIc
の値を示す8.5MPam1/2を越えるKIcの最大値は
10重量%のβ−SiC−ホイスカ含分の場合に得ら
れる。 第2図および第3図において曲線(S)は予備
焼結を表わし、曲線(HIP)は熱等静圧圧縮を表
わす。 SiCホイスカを、HfC−,NbC−,TaC−,
TiC−,VC−またはZrC−ホイスカに代えると、
前記作業法により、量割合が同一である場合には
同様な結果が得られる。
で作業する。複合体セラミツクを製造するための
上限温度は窒化珪素の安定性によつて反応方程式
(1)により特定される。該上限温度は方程式(10): T(℃)=〔872213/(405.6−16.6ln(PN2))〕−
273 (10) によつて表わすことができ、この際窒素分圧PN2
はbarで与えられている。 下限温度は、繊維またはホイスカとして使用し
ようとするその都度の炭化物の、窒素の存在での
安定性によつて特定される。これは方程式(3)〜(9)
による反応を回避しなければならないことを意味
する。 第1a図乃至第1g図は、本発明により使用さ
れる炭化物にとつてその都度可能な窒素分圧
(PN2)および温度(T)の条件(これらの条件で
本発明は作業することができる)を示すグラフで
ある。陰影線の部分が可能な範囲を示す。 第1a図はNbC−繊維/−ホイスカで強化さ
れたSi3N4のHIPのPN2−T範囲を示し、 第1b図はTaC−繊維/−ホイスカで強化さ
れたSi3N4のHIPのPN2−T範囲を示し、 第1c図はSiC−繊維/−ホイスカで強化され
たSi3N4のHIPのPN2−T範囲を示し、 第1d図はHfC−繊維/−ホイスカで強化され
たSi3N4のHIPのPN2−T範囲を示し、 第1e図はTiC−繊維/−ホイスカで強化させ
たSi3N4のHIPのPN2−T範囲を示し、 第1f図はZrC−繊維/−ホイスカで強化され
たSi3N4のHIPのPN2−T範囲を示し、 第1g図はVC−繊維/−ホイスカで強化され
たSi3N4のHIPのPN2−T範囲を示す。 窒素−保護ガス雰囲気の保護ガスとしては適用
される条件下で不活性のすべてのガスまたはガス
混合物を使用することができる。保護ガスは好ま
しくは希ガスすなわちAr,He,Ne,Xeまたは
これらの混合物である。 窒素−保護ガス雰囲気の組成は、 窒素%=100×PN2/PHip 希ガス%=100−100PN2/PHip のように示され、ここでPHip(bar)は熱等静圧プ
レスの際の所望のまたは技術的理由から必要な全
圧であり、その大きさは熱等静圧プレス(HIP)
法の場合に適用される常用の圧力範囲にある。本
発明方法の場合には好ましくは少なくとも
1000barの全ガス圧PHipで作業する。 炭化物繊維および/または炭化物ホイスカの含
分は、出発混合物に対して50重量%までであつて
よい。炭化物含分の下限は一般に約0.1重量%、
好ましくは0.5重量%、特に1重量%である。炭
化物含分の上限は好ましくは30重量%、特に15重
量%である。 また本発明方法の出発混合物(粉末体)は、窒
化珪素成形体を製造するためのこのような方法に
とつて常用の添加物または溶融相、例えば常用の
焼結助剤(焼結添加剤)も含有していてよい。焼
結助剤としては、好ましくはY2O3,Al2O3および
AlN、特にこれらから成る粉末混合物またはY3
Al5O12を使用する。焼結添加剤の含分は炭化物
含分の増大と共に増大する。特に焼結添加剤の含
分は出発混合物に対して5〜15重量%であり、5
重量%の下限は好ましくは炭化物含分の下限の場
合に適用され、15重量%の上限は好ましくは炭化
物含分の上限の場合に適用される。粉末混合物と
してY2O3,Al2O3およびAlNを使用する場合に
は、焼結添加剤粉末の割合は好ましくは、Y2O3
80〜40重量%,Al2O310〜30重量%およびAlN10
〜30重量%の範囲に存在する。 本発明方法は、熱等静圧プレス(HIP)のため
に、好ましくは独立多孔度(95%より大)を得る
まで窒素雰囲気中で前記の常圧予備焼結と組合わ
せる。この際予備焼結は自体公知の常法で行つて
もよく、このために常用の添加剤、すなわち焼結
助剤(焼結添加剤)を使用する。好ましくは焼結
助剤としては前記の焼結添加剤、特にY2O3,Al2
O3およびAlNから成る粉末混合物、またはY3Al5
O12を使用する。好ましく使用される焼結添加剤
の量も同様に前記の好ましい含分範囲に相応す
る。 焼結添加剤は、特に高温でのセラミツクの機械
的特性を著しく劣下させる。高められたガス圧下
での焼結および熱等静圧プレスによる後処理を意
図する方法の場合、セラミツク物体の最大密度を
得るためには、添加剤をより少なくする必要があ
る。ところで本発明方法を用いると、焼結助剤の
ような添加剤の量を低減することができる。また
本発明方法の他の利点では、窒素分圧は低いが、
全ガス圧が高い場合に、すでに比較的低い温度で
も最大圧縮を達成することができる点にもある。 発明を実施するための最良の形態 次に本発明を実施例により詳述するが、本発明
は実施例に限定されない。 例 1 Si3N485〜70重量%、β−SiC−ホイスカ15重
量%まで、Y2O39.8重量%,Al2O31.7重量%およ
びAlN3.5重量%から成る粉末混合物を、有機液
体で磨砕によつて均質に混合する。ホイスカを含
有する粉末懸濁液を次に回転蒸発器で乾燥し、低
温等静圧により圧縮して試料体を製造する。生密
度2〜2.1g/cm3(絶対密度の60〜63%)である。 この複合セラミツクを1850℃で1bar(0.1MPa)
のN2圧下で独立多孔度になるまで30分間予備焼
結する。予備焼結後の密度は15重量%までのホイ
スカ含分について3.3〜3.15g/cm3(絶対密度の
99〜95%)に達する。 次に予備焼結した試料物体を、カプセルなしに
N21容量%とAr99容量%とから成る混合ガス中
で1900℃の温度で10分間熱等静圧により圧縮する
(HIP法)。等静圧ガスは1000bar(100MPa)であ
り、この際N2分圧は10bar(1MPa)に達する。
この際密度は15重量%までのSiC−ホイスカ含分
を有する試料の場合にも3.3g/cm3(絶対密度の
99%)を越えるまで増大するが、試料物体中の
SiCホイスカの分解は生じない。第2図はホイス
カ含分に対する絶縁密度および相対密度(破砕密
度;fractional density%)のグラフである。 これに対して1000bar(100MPa)(上記全圧に
相当する)のN2分圧を用いて圧縮する場合には、
試料表面におけるSiCホイスカの分解にもかかわ
らず同時に著しい炭素形成が観察される。 熱等静圧圧縮後には破壊抵抗の明らかな増大が
認められる。第3図はホイスカ含分に対するKIc
の値を示す8.5MPam1/2を越えるKIcの最大値は
10重量%のβ−SiC−ホイスカ含分の場合に得ら
れる。 第2図および第3図において曲線(S)は予備
焼結を表わし、曲線(HIP)は熱等静圧圧縮を表
わす。 SiCホイスカを、HfC−,NbC−,TaC−,
TiC−,VC−またはZrC−ホイスカに代えると、
前記作業法により、量割合が同一である場合には
同様な結果が得られる。
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