JPH0548210Y2 - - Google Patents
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Landscapes
- Holo Graphy (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本考案は証明書,証券,封書等の記載事項の変
更,貼替え,開封防止用ホログラムラベルに関す
る。
更,貼替え,開封防止用ホログラムラベルに関す
る。
(従来技術)
ホログラフイーはある平面における光波の振幅
と位相の両方を記録する技術であり、この技術に
よつて作られたホログラムは、通常の写真(一点
から見た映像しか捕えていない)にくらべ、異な
る角度から見た立体像を再生することが可能であ
る。更にホログラムは製造技術が高度なものであ
り、製造装置も複雑かつ高価であるために、ホロ
グラム自体の偽造、変造は一般的には困難であ
り、この偽造の困難性を利用し、証明書,証券等
の偽造防止手段としての使用が試みられている。
と位相の両方を記録する技術であり、この技術に
よつて作られたホログラムは、通常の写真(一点
から見た映像しか捕えていない)にくらべ、異な
る角度から見た立体像を再生することが可能であ
る。更にホログラムは製造技術が高度なものであ
り、製造装置も複雑かつ高価であるために、ホロ
グラム自体の偽造、変造は一般的には困難であ
り、この偽造の困難性を利用し、証明書,証券等
の偽造防止手段としての使用が試みられている。
(考案が解決しようとする問題点)
しかし、ホログラムを単に被着体に貼りつけて
も、剥離して他の被着体に貼り替えたり、開封後
再び被着体に貼り付けたり、剥離した部分の被着
体表面の記載事項を変えて再びホログラムを貼り
付けることは不可能ではなく、ホログラム自体の
偽造,変造の困難性が活用できない。
も、剥離して他の被着体に貼り替えたり、開封後
再び被着体に貼り付けたり、剥離した部分の被着
体表面の記載事項を変えて再びホログラムを貼り
付けることは不可能ではなく、ホログラム自体の
偽造,変造の困難性が活用できない。
本考案は上記の点に鑑みてなされたものであ
り、支持体とホログラム形成層との間にパターン
状剥離層を介することによりホログラムラベルを
形成すれば上記の欠点が解消されることが明らか
になつた為、これに基づいて考案されたものであ
る。
り、支持体とホログラム形成層との間にパターン
状剥離層を介することによりホログラムラベルを
形成すれば上記の欠点が解消されることが明らか
になつた為、これに基づいて考案されたものであ
る。
(問題点を解決する為の手段)
本考案のホログラムラベルは、支持体とホログ
ラム形成層がパターン状剥離層を介して積層され
ると共に、ホログラム形成上に反射性金属薄膜
層、及び接着剤層が順次積層してあることを特徴
とするものである。
ラム形成層がパターン状剥離層を介して積層され
ると共に、ホログラム形成上に反射性金属薄膜
層、及び接着剤層が順次積層してあることを特徴
とするものである。
以下図面に基づいて本考案を説明する。
第1図は本考案のホログラムラベル1の基本構
造をなす断面図であつて上面側から支持体2、パ
ターン状剥離層3、ホログラム形成層4、反射性
金属薄膜層5、接着剤層6が順次積層されており
このホログラムラベル1は接着剤層が被着体の表
面に接触するように重ね、必要に応じて加熱を行
いつつ、加圧して被着体に貼りつけるものであ
る。
造をなす断面図であつて上面側から支持体2、パ
ターン状剥離層3、ホログラム形成層4、反射性
金属薄膜層5、接着剤層6が順次積層されており
このホログラムラベル1は接着剤層が被着体の表
面に接触するように重ね、必要に応じて加熱を行
いつつ、加圧して被着体に貼りつけるものであ
る。
支持体2としては、合成樹脂を塗布、溶融塗
布、もしくはラミネート等の積層手段により積層
しその後ホログラムを賦型するか或いは積層と共
にホログラムを賦型することにより、レリーフホ
ログラムの形成が可能であり、ラベルと使用する
際にはホログラム形成層の保護層となりうるもの
であれば何でも良いが、通常はプラスチツクフイ
ルムの透明なものを用いるのが良く、例えばポリ
エチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフ
タレート、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル/酢酸ビ
ニル共重合体、ポリ塩化ビニリデン、ポリメタク
リル酸メチル、ポリスチレン、ポリビニルブチラ
ール、ポリカーボネート、ポリアミド、セルロー
ス系樹脂、ナイロン、アクリル系樹脂、ふつ素樹
脂、等の重合体フイルムも用いられうる。とりわ
け、抗張力、耐熱性を有するポリエチレンテレフ
タレートフイルムがよい。
布、もしくはラミネート等の積層手段により積層
しその後ホログラムを賦型するか或いは積層と共
にホログラムを賦型することにより、レリーフホ
ログラムの形成が可能であり、ラベルと使用する
際にはホログラム形成層の保護層となりうるもの
であれば何でも良いが、通常はプラスチツクフイ
ルムの透明なものを用いるのが良く、例えばポリ
エチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフ
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ス系樹脂、ナイロン、アクリル系樹脂、ふつ素樹
脂、等の重合体フイルムも用いられうる。とりわ
け、抗張力、耐熱性を有するポリエチレンテレフ
タレートフイルムがよい。
又、厚さは1〜200μであり、10〜50μが好まし
い。
い。
剥離層は基材フイルムとの接着性が弱い材質の
樹脂が用いられ、具体的には、ポリメチルメタ
クリレート樹脂と他の熱可塑性樹脂、例えば塩化
ビニル/酢酸ビニル共重合体,ニトロセルロース
樹脂,及びポリエチレンワツクスとの混合物、又
酢酸セルロース樹脂と熱硬化性アクリル樹脂,
メラミン樹脂との混合物等が挙げられる。
樹脂が用いられ、具体的には、ポリメチルメタ
クリレート樹脂と他の熱可塑性樹脂、例えば塩化
ビニル/酢酸ビニル共重合体,ニトロセルロース
樹脂,及びポリエチレンワツクスとの混合物、又
酢酸セルロース樹脂と熱硬化性アクリル樹脂,
メラミン樹脂との混合物等が挙げられる。
これらの樹脂を支持体2にグラビア印刷等でパ
ターン状に厚さ0.1〜2μで塗布しパターン状剥離
層3を形成する。ここでパターン状とは、ストラ
イプ状,スポツト状,地紋,絵柄模様等の支持体
上に塗膜が不連続に形成されている状態をいう。
ターン状に厚さ0.1〜2μで塗布しパターン状剥離
層3を形成する。ここでパターン状とは、ストラ
イプ状,スポツト状,地紋,絵柄模様等の支持体
上に塗膜が不連続に形成されている状態をいう。
ホログラム形成層4は種々の材料により構成す
ることができ、銀塩を代表とする公知の写真材
料、感光性樹脂、サーモプラスチツクなどの材料
を使用することができる。しかし、これらの材料
はいずれにおいても露光と現像を要し、多数の原
版を用いて同時に行なつたにせよ、必ずしも量産
向きとは言えない。
ることができ、銀塩を代表とする公知の写真材
料、感光性樹脂、サーモプラスチツクなどの材料
を使用することができる。しかし、これらの材料
はいずれにおいても露光と現像を要し、多数の原
版を用いて同時に行なつたにせよ、必ずしも量産
向きとは言えない。
そこで、ホログラムを感光性樹脂、サーモプラ
スチツク等を利用して、一旦、凹凸の形で表現し
て、レリーフホログラムとし、得られたレリーフ
ホログラムを、めつき等により型取りして金型も
しくは樹脂型を作成し使用することにより、合成
樹脂に対する賦型法でレリーフホログラムの大量
複製が可能になる。この意味でホログラム形成層
4は賦型可能な合成樹脂により構成されているこ
とがより好ましい。
スチツク等を利用して、一旦、凹凸の形で表現し
て、レリーフホログラムとし、得られたレリーフ
ホログラムを、めつき等により型取りして金型も
しくは樹脂型を作成し使用することにより、合成
樹脂に対する賦型法でレリーフホログラムの大量
複製が可能になる。この意味でホログラム形成層
4は賦型可能な合成樹脂により構成されているこ
とがより好ましい。
賦型可能な合成樹脂としては次のようなものを
挙げることができる。ポリ塩化ビニル、アクリル
(例、MMA)、ポリスチレン、ポリカーボネート
等の熱可塑性樹脂、不飽和ポリエステル、メラミ
ン、エポキシ、ポリエステル(メタ)アクリレー
ト、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ
(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)ア
クリレート、ポリオール(メタ)アクリレート、
メラミン(メタ)アクリレート、トリアジン系ア
クリレート等の熱硬化性樹脂を硬化させたもの、
或いは、上記熱可塑性樹脂と熱硬化性樹脂の混合
物が使用可能である。
挙げることができる。ポリ塩化ビニル、アクリル
(例、MMA)、ポリスチレン、ポリカーボネート
等の熱可塑性樹脂、不飽和ポリエステル、メラミ
ン、エポキシ、ポリエステル(メタ)アクリレー
ト、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ
(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)ア
クリレート、ポリオール(メタ)アクリレート、
メラミン(メタ)アクリレート、トリアジン系ア
クリレート等の熱硬化性樹脂を硬化させたもの、
或いは、上記熱可塑性樹脂と熱硬化性樹脂の混合
物が使用可能である。
更に賦型可能な合成樹脂として、ラジカル重合
性不飽和基を有する熱成形性物質が使用可能であ
り、これには次の2種類のものがある。
性不飽和基を有する熱成形性物質が使用可能であ
り、これには次の2種類のものがある。
(1) ガラス転移点が0〜250℃のポリマー中にラ
ジカル重合性不飽和基を有するもの。さらに具
体的には、ポリマーとしては以下の化合物〜
を重合もしくは共重合させたものに対し後述
する方法(イ)〜(ニ)によりラジカル重合性不飽和基
を導入したものを用いることができる。
ジカル重合性不飽和基を有するもの。さらに具
体的には、ポリマーとしては以下の化合物〜
を重合もしくは共重合させたものに対し後述
する方法(イ)〜(ニ)によりラジカル重合性不飽和基
を導入したものを用いることができる。
水酸基を有する単量体:N−メチロールア
クリルアミド、2−ヒドロキシエチルアクリ
レート、2−ヒドロキシエチルメタクリレー
ト、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、
2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2
−ヒドロキシブチルアクリレート、2−ヒド
ロキシブチルメタクリレート、2−ヒドロキ
シ−3−フエノキシプロピルメタクリレー
ト、2−ヒドロキシ−3−フエノキシプロピ
ルアクリレートなど。
クリルアミド、2−ヒドロキシエチルアクリ
レート、2−ヒドロキシエチルメタクリレー
ト、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、
2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2
−ヒドロキシブチルアクリレート、2−ヒド
ロキシブチルメタクリレート、2−ヒドロキ
シ−3−フエノキシプロピルメタクリレー
ト、2−ヒドロキシ−3−フエノキシプロピ
ルアクリレートなど。
カルボキシル基を有する単量体:アクリル
酸、メタクリル酸、アクリロイルオキシエチ
ルモノサクシネートなど。
酸、メタクリル酸、アクリロイルオキシエチ
ルモノサクシネートなど。
エポキシ基を有する単量体:グリシジルメ
タクリレートなど。
タクリレートなど。
アジリジニル基を有する単量体:2−アジ
リジニルエチルメタクリレート、2−アジリ
ジニルプロピオン酸アリルなど。
リジニルエチルメタクリレート、2−アジリ
ジニルプロピオン酸アリルなど。
アミノ基を有する単量体:アクリルアミ
ド、メタクリルアミド、ダイアセトンアクリ
ルアミド、ジメチルアミノエチルメタクリレ
ート、ジエチルアミノエチルメタクリレート
など。
ド、メタクリルアミド、ダイアセトンアクリ
ルアミド、ジメチルアミノエチルメタクリレ
ート、ジエチルアミノエチルメタクリレート
など。
スルフオン基を有する単量体:2−アクリ
ルアミド−2−メチルプロパンスルフオン酸
など。
ルアミド−2−メチルプロパンスルフオン酸
など。
イソシアネート基を有する単量体:2,4
−トルエンジイソシアネートと2−ヒドロキ
シエチルアクリレートの1モル対1モル付加
物などのジイソシアネートと活性水素を有す
るラジカル重合性単量体の付加物など。
−トルエンジイソシアネートと2−ヒドロキ
シエチルアクリレートの1モル対1モル付加
物などのジイソシアネートと活性水素を有す
るラジカル重合性単量体の付加物など。
さらに、上記の共重合体のガラス転移点を
調節したり、硬化膜の物性を調節したりする
ために、上記の化合物と、この化合物と共重
合可能な以下のような単量体と共重合させる
こともできる。このような共重合可能な単量
体としては、例えばメチルメタクリレート、
メチルアクリレート、エチルアクリレート、
プロピルアクリレート、プロピルメタクリレ
ート、ブチルアクリレート、ブチルメタクリ
レート、イソブチルアクリレート、イソブチ
ルメタクリレート、t−ブチルアクリレー
ト、t−ブチルメタクリレート、イソアミル
アクリレート、イソアミルメタクリレート、
シクロヘキシルアクリレート、シクロヘキシ
ルメタクリレート、2−エチルヘキシルアク
リレート、2−エチルヘキシルメタクリレー
トなどが挙げられる。
調節したり、硬化膜の物性を調節したりする
ために、上記の化合物と、この化合物と共重
合可能な以下のような単量体と共重合させる
こともできる。このような共重合可能な単量
体としては、例えばメチルメタクリレート、
メチルアクリレート、エチルアクリレート、
プロピルアクリレート、プロピルメタクリレ
ート、ブチルアクリレート、ブチルメタクリ
レート、イソブチルアクリレート、イソブチ
ルメタクリレート、t−ブチルアクリレー
ト、t−ブチルメタクリレート、イソアミル
アクリレート、イソアミルメタクリレート、
シクロヘキシルアクリレート、シクロヘキシ
ルメタクリレート、2−エチルヘキシルアク
リレート、2−エチルヘキシルメタクリレー
トなどが挙げられる。
次に上述のようにして得られた重合体を以下
に述べる方法(イ)〜(ニ)により反応させ、ラジカル
重合性不飽和基を導入することによつて、本発
明に係る材料を得ることができる。
に述べる方法(イ)〜(ニ)により反応させ、ラジカル
重合性不飽和基を導入することによつて、本発
明に係る材料を得ることができる。
(イ) 水産基を有する単量体の重合体または共重
合体の場合にはアクリル酸、メタクリル酸な
どのカルボキシル基を有する単量体などを縮
合反応させる。
合体の場合にはアクリル酸、メタクリル酸な
どのカルボキシル基を有する単量体などを縮
合反応させる。
(ロ) カルボキシル基、スルフオン基を有する単
量体の重合体または共重合体の場合には前述
の水酸基を有する単量体を縮合反応させる。
量体の重合体または共重合体の場合には前述
の水酸基を有する単量体を縮合反応させる。
(ハ) エポキシ基、イソシアネート基あるいはア
ジリジニル基を有する単量体の重合体または
共重合体の場合には前述の水酸基を有する単
量体もしくはカルボキシル基を有する単量体
を付加反応させる。
ジリジニル基を有する単量体の重合体または
共重合体の場合には前述の水酸基を有する単
量体もしくはカルボキシル基を有する単量体
を付加反応させる。
(ニ) 水酸基あるいはカルボキシル基を有する単
量体の重合体または共重合体の場合にはエポ
キシ基を有する単量体あるいはアジリジニル
基を有する単量体あるいはジイソシアネート
化合物と水酸基含有アクリル酸エステル単量
体の1対1モルの付加物を付加反応させる。
量体の重合体または共重合体の場合にはエポ
キシ基を有する単量体あるいはアジリジニル
基を有する単量体あるいはジイソシアネート
化合物と水酸基含有アクリル酸エステル単量
体の1対1モルの付加物を付加反応させる。
上記の反応を行うには、微量のハイドロキノ
ンなどの重合禁止剤を加え乾燥空気を送りなが
ら行うことが好ましい。
ンなどの重合禁止剤を加え乾燥空気を送りなが
ら行うことが好ましい。
(2) 融点が0〜250℃でありラジカル重合性不飽
和基を有する化合物。具体的にはステアリルア
クリレート、ステアリルメタクリレート、トリ
アクリルイソシアヌレート、シクロヘキサンジ
オールジアクリレート、トクロヘキサンジオー
ルジメタクリレート、スピログリコールジアク
リレート、スピログリコールジメタクリレート
などが挙げられる。
和基を有する化合物。具体的にはステアリルア
クリレート、ステアリルメタクリレート、トリ
アクリルイソシアヌレート、シクロヘキサンジ
オールジアクリレート、トクロヘキサンジオー
ルジメタクリレート、スピログリコールジアク
リレート、スピログリコールジメタクリレート
などが挙げられる。
また、賦型可能な合成樹脂として前記(1),(2)を
混合して用いることもでき、さらに、それらに対
してラジカル重合性不飽和単量体を加えることも
できる。このラジカル重合性不飽和単量体は、電
離放射線照射の際、架橋密度を向上させ耐熱性を
向上させるものであつて、前述の単量体の他にエ
チレングリコールジアクリレート、エチレングコ
ールジメタクリレート、ポリエステルグコールジ
アクリレート、ポリエステルグリコールジメタク
リレート、ヘキサンジオールジアクリレート、ヘ
キサンジオールジメタクリレート、トリメチロー
ルプロパントリアクリレート、トリメチロールプ
ロパントリメタクリレート、トリメチロールプロ
パンジアクリレート、トリメチロールプロパンジ
メタクリレート、ペンタエリスリトールテトラア
クリレート、ペンタエリスリトールテトラメタク
リレート、ペンタエリスリトールトリアクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジ
ペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、エ
チレングリコールジグリシジルエーテルジアクリ
レート、エチレングリコールジグリシジルエーテ
ルジメタクリレート、ポリエチレングリコールジ
グリシジルエーテルジアクリレート、ポリエチレ
ングリコールジグリシジルエーテルジメタクリレ
ート、プロピレングリコールジグリシジルエーテ
ルジアクリレート、プロピレングリコールジグリ
シジルエーテルジメタクリレート、ポリプロピレ
ングリコールジグリシジルエーテルジアクリレー
ト、ポリプロピレングリコールジグリシジルエー
テルジメタクリレート、ソルビトールテトラグリ
シジルエーテルテトラアクリレート、ソルビトー
ルテトラグリシジルエーテルテトラメタクリレー
トなどを用いることができ、前記した共重合体混
合物の固型分100重量部に対して、0.1〜100重量
部で用いることが好ましい。また、上記のものは
電子線により充分に硬化可能であるが、紫外線照
射で硬化させる場合には、増感剤としてベンゾキ
ノン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテルな
どのベンゾインエーテル類、ハロゲン化アセトフ
エノン類、ビアセチル類などの紫外線照射により
ラジカルを発生するものも用いることができる。
混合して用いることもでき、さらに、それらに対
してラジカル重合性不飽和単量体を加えることも
できる。このラジカル重合性不飽和単量体は、電
離放射線照射の際、架橋密度を向上させ耐熱性を
向上させるものであつて、前述の単量体の他にエ
チレングリコールジアクリレート、エチレングコ
ールジメタクリレート、ポリエステルグコールジ
アクリレート、ポリエステルグリコールジメタク
リレート、ヘキサンジオールジアクリレート、ヘ
キサンジオールジメタクリレート、トリメチロー
ルプロパントリアクリレート、トリメチロールプ
ロパントリメタクリレート、トリメチロールプロ
パンジアクリレート、トリメチロールプロパンジ
メタクリレート、ペンタエリスリトールテトラア
クリレート、ペンタエリスリトールテトラメタク
リレート、ペンタエリスリトールトリアクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジ
ペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、エ
チレングリコールジグリシジルエーテルジアクリ
レート、エチレングリコールジグリシジルエーテ
ルジメタクリレート、ポリエチレングリコールジ
グリシジルエーテルジアクリレート、ポリエチレ
ングリコールジグリシジルエーテルジメタクリレ
ート、プロピレングリコールジグリシジルエーテ
ルジアクリレート、プロピレングリコールジグリ
シジルエーテルジメタクリレート、ポリプロピレ
ングリコールジグリシジルエーテルジアクリレー
ト、ポリプロピレングリコールジグリシジルエー
テルジメタクリレート、ソルビトールテトラグリ
シジルエーテルテトラアクリレート、ソルビトー
ルテトラグリシジルエーテルテトラメタクリレー
トなどを用いることができ、前記した共重合体混
合物の固型分100重量部に対して、0.1〜100重量
部で用いることが好ましい。また、上記のものは
電子線により充分に硬化可能であるが、紫外線照
射で硬化させる場合には、増感剤としてベンゾキ
ノン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテルな
どのベンゾインエーテル類、ハロゲン化アセトフ
エノン類、ビアセチル類などの紫外線照射により
ラジカルを発生するものも用いることができる。
ホログラム形成層4にレリーフホログラムを上
記のような賦型可能な合成樹脂を使用して設ける
には、従来既知の方法が利用できる。レリーフホ
ログラムを形成するための型としては、 (1) ホログラムの干渉縞が凹凸の形で、フオトレ
ジスト上に、露光及び現像により形成されてい
るもの、 (2) 上記(1)の凹凸のある側(型面)に、銀めつき
及びニツケルめつきを行う等により、上記(1)の
凹凸が複製された金型、および (3) 上記(1)もしくは(2)の型の型面の凹凸を合成樹
脂で複製した樹脂型等 のいずれでも使用でき、これらの型は適宜な手段
で多数複製して適当な配列を行つて複合型とし、
一回の賦型工程で多くのレリーフホログラムが複
製できるようにするとよい。なお、合成樹脂で型
を作る際には、型の耐摩耗性、熱プレスするとき
は型の耐熱性を向上させる意味で、熱硬化性もし
くは電離放射線硬化性の硬化性の合成樹脂を型の
材料として使用するのがよい。
記のような賦型可能な合成樹脂を使用して設ける
には、従来既知の方法が利用できる。レリーフホ
ログラムを形成するための型としては、 (1) ホログラムの干渉縞が凹凸の形で、フオトレ
ジスト上に、露光及び現像により形成されてい
るもの、 (2) 上記(1)の凹凸のある側(型面)に、銀めつき
及びニツケルめつきを行う等により、上記(1)の
凹凸が複製された金型、および (3) 上記(1)もしくは(2)の型の型面の凹凸を合成樹
脂で複製した樹脂型等 のいずれでも使用でき、これらの型は適宜な手段
で多数複製して適当な配列を行つて複合型とし、
一回の賦型工程で多くのレリーフホログラムが複
製できるようにするとよい。なお、合成樹脂で型
を作る際には、型の耐摩耗性、熱プレスするとき
は型の耐熱性を向上させる意味で、熱硬化性もし
くは電離放射線硬化性の硬化性の合成樹脂を型の
材料として使用するのがよい。
なお、ホログラム形成層4に凹凸の形で設ける
ホログラムとしては、リツプマンホログラムを除
く、フレネルホログラム、フーリエ変換ホログラ
ム、フランホーフアーホログラムなどの原理のも
のに及び、それらの原理を利用したイメージホロ
グラム、レインボーホログラム、ホログラフイツ
クステレオグラム、ホログラフイツク回折格子な
どが用いられる。ホログラム形成層4の厚みはラ
ベル剥離時に剥離層部と非剥離層部との境界断面
でホログラム形成層が容易に破壊する厚さ0.4〜
4μが好ましい。
ホログラムとしては、リツプマンホログラムを除
く、フレネルホログラム、フーリエ変換ホログラ
ム、フランホーフアーホログラムなどの原理のも
のに及び、それらの原理を利用したイメージホロ
グラム、レインボーホログラム、ホログラフイツ
クステレオグラム、ホログラフイツク回折格子な
どが用いられる。ホログラム形成層4の厚みはラ
ベル剥離時に剥離層部と非剥離層部との境界断面
でホログラム形成層が容易に破壊する厚さ0.4〜
4μが好ましい。
反射性金属薄膜層5はホログラム形成層4のホ
ログラムに反射性を与えるものであつて、Cr、
Fe、Co、Ni、Cu、Ag、Au、Ge、Al、Mg、
Sb、Pb、Pd、Cd、Bi、Sn、Se、In、Ga、Rbな
どの金属およびその酸化物、窒化物などを単独も
しくは2種以上組合せて用いて形成される。これ
らの金属のうちAl、Cr、Ni、Ag、Auなどが特
に好ましい。
ログラムに反射性を与えるものであつて、Cr、
Fe、Co、Ni、Cu、Ag、Au、Ge、Al、Mg、
Sb、Pb、Pd、Cd、Bi、Sn、Se、In、Ga、Rbな
どの金属およびその酸化物、窒化物などを単独も
しくは2種以上組合せて用いて形成される。これ
らの金属のうちAl、Cr、Ni、Ag、Auなどが特
に好ましい。
反射性金属薄膜層5は蒸着、スパツタリング、
イオンプレーテイング、CVDなどの方法や、め
つきによつて形成でき、その厚みは200〜1000Å
であることが好ましい。
イオンプレーテイング、CVDなどの方法や、め
つきによつて形成でき、その厚みは200〜1000Å
であることが好ましい。
あるいは上記のような金属、金属酸化物、もし
くは金属窒化物の単独もしくは組合せの薄膜以外
に、ホログラム形成層4とは異なる屈折率を持つ
物質の連続薄膜を設けても、このような膜自体は
透明であるにも拘らず、反射性金属薄膜層として
使用できる。
くは金属窒化物の単独もしくは組合せの薄膜以外
に、ホログラム形成層4とは異なる屈折率を持つ
物質の連続薄膜を設けても、このような膜自体は
透明であるにも拘らず、反射性金属薄膜層として
使用できる。
このうち屈折率がホログラム形成層より大きい
ものとしては(以下、材質名の右にカツコ書きで
屈折率:nを付記する)、Sb2S3(n=3.0)、Fe2
O3(n=2.7)、TiO2(n=2.6)、CdS(n=2.6)、
CeO2(n=2.3)、ZnS(n=2.3)、PbCl2(n=
2.3)、CdO(n=2.2)、Sb2O3(n=2.0)、WO3(n
=2.0)、SiO(n=2.0)、Bi2O3(n=2.5)、In2O3
(n=2.0)、PbO(n=2.6)、Ta2O5(n=2.4)、
ZnO(n=2.1)、ZrO2(n=2.0)、Cd2O3(n=
1.8)、Al2O3(n=1.6)、CaO・SiO2(n=1.8)な
どが挙げられる。
ものとしては(以下、材質名の右にカツコ書きで
屈折率:nを付記する)、Sb2S3(n=3.0)、Fe2
O3(n=2.7)、TiO2(n=2.6)、CdS(n=2.6)、
CeO2(n=2.3)、ZnS(n=2.3)、PbCl2(n=
2.3)、CdO(n=2.2)、Sb2O3(n=2.0)、WO3(n
=2.0)、SiO(n=2.0)、Bi2O3(n=2.5)、In2O3
(n=2.0)、PbO(n=2.6)、Ta2O5(n=2.4)、
ZnO(n=2.1)、ZrO2(n=2.0)、Cd2O3(n=
1.8)、Al2O3(n=1.6)、CaO・SiO2(n=1.8)な
どが挙げられる。
連続薄膜はその屈折率がホログラム形成層4の
屈折率よりも0.3以上大きいことが好ましく、よ
り好ましくは0.5以上大きいことである。本考案
者等の実験によれば1.0以上大きいことが最適で
あるという結果がもたらされている。
屈折率よりも0.3以上大きいことが好ましく、よ
り好ましくは0.5以上大きいことである。本考案
者等の実験によれば1.0以上大きいことが最適で
あるという結果がもたらされている。
連続薄膜の膜厚は薄膜を形成する材料の透明領
域であればよいが通常は100〜10000Åが好まし
い。連続薄膜をホログラム形成層のレリーフ形成
面に形成する方法として、真空蒸着法、スパツタ
リング法、反応性スパツタリング法、イオンプレ
ーテイング法などの一般的薄膜形成手段が採用で
きる。
域であればよいが通常は100〜10000Åが好まし
い。連続薄膜をホログラム形成層のレリーフ形成
面に形成する方法として、真空蒸着法、スパツタ
リング法、反応性スパツタリング法、イオンプレ
ーテイング法などの一般的薄膜形成手段が採用で
きる。
このように屈折率の大きい連続薄膜を設ける
と、ホログラムの特徴である再生の角度依存性に
より、ホログラムの再生可能な角度範囲外では単
なる透明体としてしか見えず、ホログラムの再生
可能な角度範囲内では光の反射率が最大になり、
反射型ホログラムとしての効果が出てくる。
と、ホログラムの特徴である再生の角度依存性に
より、ホログラムの再生可能な角度範囲外では単
なる透明体としてしか見えず、ホログラムの再生
可能な角度範囲内では光の反射率が最大になり、
反射型ホログラムとしての効果が出てくる。
上記した連続薄膜はホログラム形成層の屈折率
よりも小さいものであつてもよく、LiF(n=
1.4)、MgF2(n=1.4)、3NaF・AlF3(n=1.4も
しくは1.2)、AlF3(n=1.4)、CaF2(n=1.3もし
くは1.4)、NaF(n=1.3)などが例示される。
よりも小さいものであつてもよく、LiF(n=
1.4)、MgF2(n=1.4)、3NaF・AlF3(n=1.4も
しくは1.2)、AlF3(n=1.4)、CaF2(n=1.3もし
くは1.4)、NaF(n=1.3)などが例示される。
あるいは、ホログラム形成層より屈折率が大き
い透明な強誘導体も同様に使用でき、CuCl(n=
2.0)、CuBr(n=2.2)、GaAs(n=3.3〜3.6)、
GaP(n=3.3〜3.5)、N4(CH2)6(n=1.6)、Bi4
(GeO4)3(n=2.1)、KH2PO4(KDP)(n=1.5)、
KD2PO5(n=1.5)、NH4H2PO4(n=1.5)、KH2
AsO4(n=1.6)、RbH2AsO4(n=1.6)、BaTiO3
(n=2.4)、KTa0.65Nb0.35O3(n=2.3)、K0.6Li0.4
NbO3(n=2.3)、KSr2Nb5O15(n=2.3)、Srx
Ba1-xNb2O6(n=2.3)、Ba2NaNbO15(n=2.3)、
LiNbO3(n=2.3)、LiTaO3(n=2.4)、SrTiO3
(n=2.4)、KTaO3(n=2.2)、等が例示される。
い透明な強誘導体も同様に使用でき、CuCl(n=
2.0)、CuBr(n=2.2)、GaAs(n=3.3〜3.6)、
GaP(n=3.3〜3.5)、N4(CH2)6(n=1.6)、Bi4
(GeO4)3(n=2.1)、KH2PO4(KDP)(n=1.5)、
KD2PO5(n=1.5)、NH4H2PO4(n=1.5)、KH2
AsO4(n=1.6)、RbH2AsO4(n=1.6)、BaTiO3
(n=2.4)、KTa0.65Nb0.35O3(n=2.3)、K0.6Li0.4
NbO3(n=2.3)、KSr2Nb5O15(n=2.3)、Srx
Ba1-xNb2O6(n=2.3)、Ba2NaNbO15(n=2.3)、
LiNbO3(n=2.3)、LiTaO3(n=2.4)、SrTiO3
(n=2.4)、KTaO3(n=2.2)、等が例示される。
更に前記した反射性金属薄膜層であつても厚み
が200Å以下の場合は屈折率は複素屈折率n*(n*
=n−iκ)で表わされ、透過率がかなり小さいた
めに透明でありながら反射性金属薄膜層として使
用しうる。具体的にはBe(n=2.7、κ=0.9、以
下n、κの順で記載)、Mg(0.6、0.1)、Ca(0.3、
8.1)、Sr(0.6、3.2)、Ba(0.9、1.7)、La(1.8、
1.9)、Ce(1.7、1.4)、Cr(3.3、1.3)、Mn(2.5、
1.3)、Cu(0.7、2.4)、Ag(0.1、3.3)、Au(0.3、
2.4)、Al(0.8、5.3)、Sb(3.0、1.6)、Pb(1.9、
1.3)、Ni(1.8、1.8)、その他Sn、In、Te等があ
る。
が200Å以下の場合は屈折率は複素屈折率n*(n*
=n−iκ)で表わされ、透過率がかなり小さいた
めに透明でありながら反射性金属薄膜層として使
用しうる。具体的にはBe(n=2.7、κ=0.9、以
下n、κの順で記載)、Mg(0.6、0.1)、Ca(0.3、
8.1)、Sr(0.6、3.2)、Ba(0.9、1.7)、La(1.8、
1.9)、Ce(1.7、1.4)、Cr(3.3、1.3)、Mn(2.5、
1.3)、Cu(0.7、2.4)、Ag(0.1、3.3)、Au(0.3、
2.4)、Al(0.8、5.3)、Sb(3.0、1.6)、Pb(1.9、
1.3)、Ni(1.8、1.8)、その他Sn、In、Te等があ
る。
又、ホログラム形成層4とは屈折率の異なる透
明な合成樹脂の層を反射性金属薄膜層5に代用す
ることもでき、具体的な合成樹脂として使用でき
るものは次のようなものである。
明な合成樹脂の層を反射性金属薄膜層5に代用す
ることもでき、具体的な合成樹脂として使用でき
るものは次のようなものである。
ポリテトラフロロエチレン(屈折率;n=
1.35)、ポリクロロトリフロロエチレン(n=
1.43)、ポリ酢酸ビニル(n=1.45〜1.47)ポリエ
チレン(n=1.50〜1.54)、ポリプロピレン(n
=1.49)、ポリメチルメタクリレート(n=
1.49)、ポリスチレン(n=1.60)、ポリ塩化ビニ
リデン(n=1.60〜1.63)、ポリビニルブチラー
ル(n=1.48)、ポリビニルホルマール(n=
1.50)、ポリ塩化ビニル(n=1.52〜1.55)、ポリ
エステル(n=1.52〜1.57)。
1.35)、ポリクロロトリフロロエチレン(n=
1.43)、ポリ酢酸ビニル(n=1.45〜1.47)ポリエ
チレン(n=1.50〜1.54)、ポリプロピレン(n
=1.49)、ポリメチルメタクリレート(n=
1.49)、ポリスチレン(n=1.60)、ポリ塩化ビニ
リデン(n=1.60〜1.63)、ポリビニルブチラー
ル(n=1.48)、ポリビニルホルマール(n=
1.50)、ポリ塩化ビニル(n=1.52〜1.55)、ポリ
エステル(n=1.52〜1.57)。
なお、ホログラム形成層4を反射性金属薄膜層
5を伴うことなく、単独で用いてもホログラムは
視認可能であるので、反射性金属薄膜層5は省略
しうる。
5を伴うことなく、単独で用いてもホログラムは
視認可能であるので、反射性金属薄膜層5は省略
しうる。
本考案におけるホログラムは上記のようにホロ
グラムの凹凸を下面に有するホログラム形成層4
および、ホログラム形成層の下面の反射性金属薄
膜層5とを原則的に有しているが、ホログラムの
凹凸を上面に有するホログラム形成層と、ホログ
ラムの凹凸の上に接して、もしくはホログラムの
凹凸のない方の面に接して設けられた反射性金属
薄膜層とから成つていてもよい。
グラムの凹凸を下面に有するホログラム形成層4
および、ホログラム形成層の下面の反射性金属薄
膜層5とを原則的に有しているが、ホログラムの
凹凸を上面に有するホログラム形成層と、ホログ
ラムの凹凸の上に接して、もしくはホログラムの
凹凸のない方の面に接して設けられた反射性金属
薄膜層とから成つていてもよい。
接着剤層6はホログラムラベルを被着体に貼り
つけるためのものであり、種々のタイプの接着剤
がこの層を形成する目的で使用でき、次のような
接着剤が例示される。フエノール系樹脂、フラン
系樹脂、尿素系樹脂、メラミン系樹脂、ポリエス
テル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、エポキシ系樹
脂若しくはその他の熱硬化性樹脂、ポリ酢酸ビニ
ル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリ塩化ビ
ニル樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリ(メ
タ)アクリル系樹脂、ニトロセルロース、ポリア
ミド若しくはその他の熱可塑性樹脂、ブタジエン
−アクリロニトリルゴム、ネオプレンゴム若しく
はその他のゴム、又は、ニカワ、天然樹脂、カゼ
イン、ケイ酸ナトリウム、デキストリン、でんぷ
ん、アラビアゴム等のうち1種又は2種以上を主
成分とする接着剤を使用することができる。又、
これら接着剤は溶液型、エマルジヨン型、粉末型
又はフイルム型等のいずれのものでもよく、又、
常温固化型、溶剤揮発固化型、溶解固化型等のい
ずれのものでもよい。
つけるためのものであり、種々のタイプの接着剤
がこの層を形成する目的で使用でき、次のような
接着剤が例示される。フエノール系樹脂、フラン
系樹脂、尿素系樹脂、メラミン系樹脂、ポリエス
テル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、エポキシ系樹
脂若しくはその他の熱硬化性樹脂、ポリ酢酸ビニ
ル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリ塩化ビ
ニル樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリ(メ
タ)アクリル系樹脂、ニトロセルロース、ポリア
ミド若しくはその他の熱可塑性樹脂、ブタジエン
−アクリロニトリルゴム、ネオプレンゴム若しく
はその他のゴム、又は、ニカワ、天然樹脂、カゼ
イン、ケイ酸ナトリウム、デキストリン、でんぷ
ん、アラビアゴム等のうち1種又は2種以上を主
成分とする接着剤を使用することができる。又、
これら接着剤は溶液型、エマルジヨン型、粉末型
又はフイルム型等のいずれのものでもよく、又、
常温固化型、溶剤揮発固化型、溶解固化型等のい
ずれのものでもよい。
更には、本考案においては接着剤層を構成する
材料として粘着剤と言われるもの、例えばアクリ
ル樹脂、アクリル酸エステル樹脂、又は、これら
の共重合体、スチレンブタジエン共重合体、天然
ゴム、カゼイン、ゼラチン、ロジンエステル、テ
ルペン樹脂、フエノール系樹脂、スチレン系樹
脂、クロマンインデン樹脂、キシレン、脂肪族系
炭化水素、ポリビニールアルコール、ポリエチレ
ンオキシド、ポリメチレンオキシド、ポリエチレ
ンスルホン酸等が用いうるし、加熱により接着性
が付与される感熱接着剤(言い換えればヒートシ
ール剤)を用いることもできる。感熱接着剤を構
成する材料としては、ポリエチレン、ポリ酢酸ビ
ニル、又はこれらの共重合体、アクリル樹脂又は
エチレン−アクリル酸共重合体、ポリビニルブチ
ラール、ポリアミド、ポリエステル、可塑化クロ
ロプレン、ポリプロピレン、ポリビニルアルコー
ル、ポリカーボネート、ポリビニルエーテル、ポ
リウレタン、セルロース系樹脂、ワツクス類、パ
ラフイン類、ロジン類、アスフアルト類等の熱可
塑性樹脂、エポキシ樹脂、フエノール樹脂等の未
硬化の熱硬化樹脂が挙げられる。接着剤層6の厚
みとしては4〜20μ程度が好ましい。
材料として粘着剤と言われるもの、例えばアクリ
ル樹脂、アクリル酸エステル樹脂、又は、これら
の共重合体、スチレンブタジエン共重合体、天然
ゴム、カゼイン、ゼラチン、ロジンエステル、テ
ルペン樹脂、フエノール系樹脂、スチレン系樹
脂、クロマンインデン樹脂、キシレン、脂肪族系
炭化水素、ポリビニールアルコール、ポリエチレ
ンオキシド、ポリメチレンオキシド、ポリエチレ
ンスルホン酸等が用いうるし、加熱により接着性
が付与される感熱接着剤(言い換えればヒートシ
ール剤)を用いることもできる。感熱接着剤を構
成する材料としては、ポリエチレン、ポリ酢酸ビ
ニル、又はこれらの共重合体、アクリル樹脂又は
エチレン−アクリル酸共重合体、ポリビニルブチ
ラール、ポリアミド、ポリエステル、可塑化クロ
ロプレン、ポリプロピレン、ポリビニルアルコー
ル、ポリカーボネート、ポリビニルエーテル、ポ
リウレタン、セルロース系樹脂、ワツクス類、パ
ラフイン類、ロジン類、アスフアルト類等の熱可
塑性樹脂、エポキシ樹脂、フエノール樹脂等の未
硬化の熱硬化樹脂が挙げられる。接着剤層6の厚
みとしては4〜20μ程度が好ましい。
本考案は上記の基本構成からなつているが、必
要に応じ、次のような改変を行うこともできる。
要に応じ、次のような改変を行うこともできる。
第2図は、パターン状剥離層3とホログラム形
成層4との間に、アンカー層7を形成したもので
ある。アンカー層7は支持体2とホログラムラベ
ル層4との接着を強め、ラベル剥離時に剥離層部
と非剥離層部との境界断面でホログラム形成層等
が更に容易に破断せしめるものであり、アンカー
層の具体的材質としては、塩化ビニル、酢酸ビニ
ル、ポリビニルアルコール、及びこれらの共重合
体、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエス
テル系樹脂などの従来アンカー層として既知のも
のが使用できる。このアンカー層7の厚みは0.1
〜10μ程度である。
成層4との間に、アンカー層7を形成したもので
ある。アンカー層7は支持体2とホログラムラベ
ル層4との接着を強め、ラベル剥離時に剥離層部
と非剥離層部との境界断面でホログラム形成層等
が更に容易に破断せしめるものであり、アンカー
層の具体的材質としては、塩化ビニル、酢酸ビニ
ル、ポリビニルアルコール、及びこれらの共重合
体、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエス
テル系樹脂などの従来アンカー層として既知のも
のが使用できる。このアンカー層7の厚みは0.1
〜10μ程度である。
(作用効果)
本考案のホログラムラベルは以上説明したよう
な構成をしているので、使用に際しては所要の大
きさ、形状に切断し、証書や身分証明書のような
偽造、変造されたくない被着体、または封書等の
封印部に加圧により、必要に応じて加熱をしなが
ら貼りつける。このようにして一度被着体に貼り
つけられたホログラムラベルは、剥がそうとする
と、剥離層部と非剥離層部との境界断面でホログ
ラムが破壊し、支持体上と被着体上にホログラム
が分離して残存してしまうのでラベル全体をそつ
くりそのまま剥がすことができないため、他の物
品にホログラムラベルを貼りかえることができ
ず、ホログラム自体の偽造・変造の困難性によ
り、ホログラムラベルが被着体の真正さを保証で
きる。
な構成をしているので、使用に際しては所要の大
きさ、形状に切断し、証書や身分証明書のような
偽造、変造されたくない被着体、または封書等の
封印部に加圧により、必要に応じて加熱をしなが
ら貼りつける。このようにして一度被着体に貼り
つけられたホログラムラベルは、剥がそうとする
と、剥離層部と非剥離層部との境界断面でホログ
ラムが破壊し、支持体上と被着体上にホログラム
が分離して残存してしまうのでラベル全体をそつ
くりそのまま剥がすことができないため、他の物
品にホログラムラベルを貼りかえることができ
ず、ホログラム自体の偽造・変造の困難性によ
り、ホログラムラベルが被着体の真正さを保証で
きる。
従つて、ラベルが貼つてあつた箇所の記載事項
や印影写真等を書替えるのには、ラベルの残存部
分を除去する必要があり、偽造、変造が困難であ
る。また、支持体上にはパターン状にしかホログ
ラムが残存しない為、ラベルの貼替えは不可能で
あり、かつ封印部の開封は被着体にパターン状に
残存したホログラムにより容易に認識できうる。
や印影写真等を書替えるのには、ラベルの残存部
分を除去する必要があり、偽造、変造が困難であ
る。また、支持体上にはパターン状にしかホログ
ラムが残存しない為、ラベルの貼替えは不可能で
あり、かつ封印部の開封は被着体にパターン状に
残存したホログラムにより容易に認識できうる。
従つて、本考案のホログラムラベルは偽造され
たくない被着体へ適用は勿論のこと、包装物の封
印として適用でき、さらにはホログラムラベルは
美麗により装飾物としても使用できる。
たくない被着体へ適用は勿論のこと、包装物の封
印として適用でき、さらにはホログラムラベルは
美麗により装飾物としても使用できる。
以下具体的実施例を挙げて本考案を更に詳細に
説明する。
説明する。
実施例 1
基材として厚み25μのポリエステルフイルムを
用い、このフイルムの片面に下記(1),(2),(3),
(4),の各組成物を用い、パターン状剥離層(厚さ
0.5μ),ホログラム形成層(厚さ2.5μ),金属反射
層(厚さ500〜1000Å),接着剤層(厚さ20μ)を
順次金属反射層を除きグラビアコートで塗布、金
属反射層は蒸着にて薄膜を形成積層した。
用い、このフイルムの片面に下記(1),(2),(3),
(4),の各組成物を用い、パターン状剥離層(厚さ
0.5μ),ホログラム形成層(厚さ2.5μ),金属反射
層(厚さ500〜1000Å),接着剤層(厚さ20μ)を
順次金属反射層を除きグラビアコートで塗布、金
属反射層は蒸着にて薄膜を形成積層した。
(1) 剥離層用組成物
酢酸セルロース樹脂 ……5重量部
メタノール ……25重量部
MEK ……45重量部
トルエン ……25重量部
メチロール化メラミン樹脂 ……0.5重量部
パラトルエンスルフオン酸 ……0.05重量部
(2) ホログラム形成層用組成物
アクリル樹脂 ……40重量部
メラミン樹脂 ……10重量部
アノン ……50重量部
MEK ……50重量部
(3) 金属反射層用材料
アルミニウム
(4) 粘着剤層用組成物
アクリル系粘着剤 ……100重量部
(日本カーバイド工業(株)、ニツセツPE−118、
40%トルエン/酢酸エチル溶液) ポリイソシアネート 系架橋剤 ……固形分換算で1重量部 (日本ポリウレタン(株)、コロネートL) トルエン ……50重量部 酢酸エチル ……50重量部 得られたホログラムラベルは手貼りにて証書の
記載欄上に貼り付け、この貼り付けられたホログ
ラムラベルは注意深く剥そうとしても剥離層部と
非剥離層部で破壊してしまう為、そつくりそのま
まの形で剥すことは不可能であつた。
40%トルエン/酢酸エチル溶液) ポリイソシアネート 系架橋剤 ……固形分換算で1重量部 (日本ポリウレタン(株)、コロネートL) トルエン ……50重量部 酢酸エチル ……50重量部 得られたホログラムラベルは手貼りにて証書の
記載欄上に貼り付け、この貼り付けられたホログ
ラムラベルは注意深く剥そうとしても剥離層部と
非剥離層部で破壊してしまう為、そつくりそのま
まの形で剥すことは不可能であつた。
第1図は本考案の実施態様を示す断面図、第2
図は本考案で用いる他の態様を示す断面図であ
る。 1……ホログラムラベル、2……支持体、3…
…パターン状剥離層、4……ホログラム形成層、
5……反射性金属薄膜層、6……接着剤層、7…
…アンカー層。
図は本考案で用いる他の態様を示す断面図であ
る。 1……ホログラムラベル、2……支持体、3…
…パターン状剥離層、4……ホログラム形成層、
5……反射性金属薄膜層、6……接着剤層、7…
…アンカー層。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 支持体とホログラム形成層がパターン状剥離
層を介して積層されると共に、ホログラム形成
層上に、反射性金属薄膜層、及び接着剤層が順
次積層してあることを特徴とするホログラムラ
ベル。 (2) パターン状剥離層とホログラム形成層とがア
ンカー層を介して積層してあることを特徴とす
る実用新案登録請求の範囲第(1)項のホログラム
ラベル。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1985187697U JPH0548210Y2 (ja) | 1985-12-05 | 1985-12-05 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1985187697U JPH0548210Y2 (ja) | 1985-12-05 | 1985-12-05 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6296672U JPS6296672U (ja) | 1987-06-19 |
JPH0548210Y2 true JPH0548210Y2 (ja) | 1993-12-21 |
Family
ID=31138398
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1985187697U Expired - Lifetime JPH0548210Y2 (ja) | 1985-12-05 | 1985-12-05 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0548210Y2 (ja) |
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000181358A (ja) * | 1998-12-18 | 2000-06-30 | Toppan Printing Co Ltd | 換金用景品ケースの封緘シール及びこのカウンティングシステム |
JP2011137849A (ja) * | 2009-12-25 | 2011-07-14 | Dainippon Printing Co Ltd | ホログラムラベルの製造方法及びホログラムラベル |
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JP2012093461A (ja) * | 2010-10-25 | 2012-05-17 | Dainippon Printing Co Ltd | ホログラムラベル |
JP2012150266A (ja) * | 2011-01-19 | 2012-08-09 | Toppan Printing Co Ltd | 偽造防止ラベル |
JP2012173430A (ja) * | 2011-02-18 | 2012-09-10 | Dainippon Printing Co Ltd | ホログラムラベル |
JP2012173431A (ja) * | 2011-02-18 | 2012-09-10 | Dainippon Printing Co Ltd | ホログラムラベル |
JP2012226133A (ja) * | 2011-04-20 | 2012-11-15 | Dainippon Printing Co Ltd | ホログラムラベル |
JP2013025277A (ja) * | 2011-07-26 | 2013-02-04 | Dainippon Printing Co Ltd | 開封防止ラベル |
JP2017037272A (ja) * | 2015-08-13 | 2017-02-16 | 大日本印刷株式会社 | ホログラム構造体 |
JP2017037273A (ja) * | 2015-08-13 | 2017-02-16 | 大日本印刷株式会社 | ホログラム構造体 |
WO2017026521A1 (ja) * | 2015-08-13 | 2017-02-16 | 大日本印刷株式会社 | ホログラム構造体 |
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JP2012093674A (ja) * | 2010-10-29 | 2012-05-17 | Sealex Corp | 改ざん防止シール |
JP6060594B2 (ja) * | 2012-09-28 | 2017-01-18 | 大日本印刷株式会社 | スクラッチカード |
JP2014222309A (ja) * | 2013-05-14 | 2014-11-27 | 凸版印刷株式会社 | ホログラムオーバーレイ |
DE102013108906A1 (de) * | 2013-08-19 | 2015-02-19 | Ovd Kinegram Ag | System und Verfahren zum Herstellen eines individualisierten Sicherheitselements |
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---|---|---|---|---|
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JPS5988780A (ja) * | 1982-11-08 | 1984-05-22 | アメリカン・バンク・ノ−ト・カムパニ− | 光回折記録体及び光回折パタ−ンを作る方法 |
-
1985
- 1985-12-05 JP JP1985187697U patent/JPH0548210Y2/ja not_active Expired - Lifetime
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JP2000181358A (ja) * | 1998-12-18 | 2000-06-30 | Toppan Printing Co Ltd | 換金用景品ケースの封緘シール及びこのカウンティングシステム |
JP4517411B2 (ja) * | 1998-12-18 | 2010-08-04 | 凸版印刷株式会社 | 換金用景品のカウンティングシステム |
JP2011137849A (ja) * | 2009-12-25 | 2011-07-14 | Dainippon Printing Co Ltd | ホログラムラベルの製造方法及びホログラムラベル |
JP2011137848A (ja) * | 2009-12-25 | 2011-07-14 | Dainippon Printing Co Ltd | ホログラムラベルの製造方法及びホログラムラベル |
JP2011170220A (ja) * | 2010-02-22 | 2011-09-01 | Dainippon Printing Co Ltd | ホログラムラベル |
JP2012093461A (ja) * | 2010-10-25 | 2012-05-17 | Dainippon Printing Co Ltd | ホログラムラベル |
JP2012150266A (ja) * | 2011-01-19 | 2012-08-09 | Toppan Printing Co Ltd | 偽造防止ラベル |
JP2012173430A (ja) * | 2011-02-18 | 2012-09-10 | Dainippon Printing Co Ltd | ホログラムラベル |
JP2012173431A (ja) * | 2011-02-18 | 2012-09-10 | Dainippon Printing Co Ltd | ホログラムラベル |
JP2012226133A (ja) * | 2011-04-20 | 2012-11-15 | Dainippon Printing Co Ltd | ホログラムラベル |
JP2013025277A (ja) * | 2011-07-26 | 2013-02-04 | Dainippon Printing Co Ltd | 開封防止ラベル |
JP2017037272A (ja) * | 2015-08-13 | 2017-02-16 | 大日本印刷株式会社 | ホログラム構造体 |
JP2017037273A (ja) * | 2015-08-13 | 2017-02-16 | 大日本印刷株式会社 | ホログラム構造体 |
WO2017026521A1 (ja) * | 2015-08-13 | 2017-02-16 | 大日本印刷株式会社 | ホログラム構造体 |
US10675906B2 (en) | 2015-08-13 | 2020-06-09 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Hologram structure |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6296672U (ja) | 1987-06-19 |
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