JP2774440B2 - 光回折パターン記録体 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、ホログラム画像等の
表面凹凸模様で表現される光回折パターンを記録した光
回折パターン記録体に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】光回折パターン記録体の１つであるホロ
グラムは、ホログラフィー技術により光の波動情報を記
録した記録体であり、立体的な３次元画像を再生するこ
とができる。ホログラムは、一般にはその製造が困難で
あることから、偽造防止効果が高く、例えばクレジット
カードやバンクカードに設けられることにより、そのセ
キュリティ性を高めるものとして利用されている。

【０００３】ここで、従来より、被着物のデザインとマ
ッチし、かつホログラム画像と同調する絵柄を設けたホ
ログラムが知られている（特開昭６２−１５３９９３号
公報等）。図４は、従来のこの種のホログラムの一例の
構成を示す断面図である。図４において、ホログラム１
は、カード等の基体１０上に、接着剤層２を介して、反
射層３，ホログラム画像を形成したホログラム層４，絵
柄等を表現した絵柄層５を順次積層したものである。ま
た、反射層３には、透明型と不透明型とがあり、この違
いにより、ホログラム画像が透明タイプのものと不透明
タイプのものとに分けられる。このホログラムによれ
ば、カードの登録番号等の個別情報を絵柄層５で表現す
ることにより、カードの照合や確認時に、ホログラム画
像と絵柄層５の画像とを同時に視認することができるの
で、偽造防止効果をさらに高めることができる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかし、前述の従来の
技術では、ホログラム画像が透明タイプのものと不透明
タイプのものとの双方を設け、これらのホログラム画像
と絵柄層５の画像とを同調させることは、構成上不可能
であった。また、ホログラム層４の上層に絵柄層５を設
ける層構成では、絵柄層５の下側に位置するホログラム
層４のホログラム画像が隠ぺいされ、絵柄層５はその画
像のみしか表現することができなかった。

【０００５】本発明は、上述のような課題を解消するた
めになされたものであって、絵柄等の情報の画像と、透
明タイプ及び不透明タイプのホログラム等の光回折パタ
ーンの画像とを同調させることを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
め、本発明による光回折パターン記録体の第１の解決手
段は、下面に表面凹凸模様で表現される光回折パターン
を記録した光回折パターン層（２３）と、前記光回折パ
ターン層の下層に形成された反射透明性を有する透明反
射層（２４）と、前記透明反射層の下層の一部に形成さ
れ、文字，図形，記号，模様，絵柄若しくはこれらの結
合又はこれらと色彩との結合による所定の情報を表示し
た情報表示層（２５）と、前記透明反射層及び前記情報
表示層の下層に形成された反射性を有する不透明な不透
明反射層（２６）とを備えることを特徴とする。

【０００７】第２の解決手段は、第１の解決手段におい
て、前記不透明反射層の下層には、前記光回折パターン
記録体を接着対象物に接着する接着剤層（２７）を備え
ることを特徴とする。

【０００８】第３の解決手段は、第１または２の解決手
段において、前記光回折パターン形成層の上層には、前
記光回折パターン記録体を支持する基材層（３０）を備
えることを特徴とする。

【０００９】

【作用】第１の解決手段においては、透明反射層の反射
率が高くなる角度から見ると、情報表示層上には、光回
折パターン層と透明反射層とにより透明タイプの光回折
パターンの画像が視認され、その領域以外には、光回折
パターン層と不透明反射層とにより不透明タイプの光回
折パターンの画像が視認される。また、上記以外の角度
から見ると、情報表示層上の光回折パターン層と透明反
射層とが透明に見え、その下層の情報表示層の画像が視
認される。従って、情報表示層の画像と、透明タイプ及
び不透明タイプの光回折パターンの画像とを同調させる
ことができる。

【００１０】第２の解決手段においては、光回折パター
ン記録体は、接着剤層により接着対象物に接着される。
従って、光回折パターン記録体を任意の接着対象物に設
けることができるようになる。

【００１１】第３の解決手段においては、光回折パター
ン記録体は、基材層により支持される。従って、光回折
パターン記録体を転写可能な転写シートとして用いるこ
とができる。

【００１２】

【実施例】以下、図面等を参照して、本発明による光回
折パターン記録体の一実施例について説明する。図１
は、本発明による光回折パターン記録体の第１の実施例
の構成を示す断面図である。なお、実施例では、光回折
パターンとしてホログラムを例にあげて説明する。

【００１３】光回折パターン記録体２０は、順次積層さ
れた剥離層２１，保護層２２，ホログラム層２３，透明
反射層２４，絵柄層２５，金属反射層２６，接着剤層２
７から構成され、基材３０により支持されている。従っ
て、光回折パターン記録体２０は、基材３０とにより転
写シートを構成する。基材３０は、光回折パターン記録
体２０を支持するものであり、光回折パターン記録体２
０が接着対象物に接着されるとき（すなわち転写される
とき）に、分離されるものである。基材３０の材質とし
ては、その厚みが数〜数十μｍ程度のポリエチレンテレ
フタレート（ＰＥＴ）やポリカーボネートがあげられ
る。本発明の実施例では、基材３０は、ＰＥＴによりそ
の厚みが約２５μｍに形成した。

【００１４】剥離層２１は、光回折パターン記録体２０
を基材３０に剥離性を有して密着させるためのものであ
る。保護層２２は、転写後（接着対象物への接着後）の
光回折パターン記録体２０のホログラム層２３を保護す
るためのものである。剥離層２１及び保護層２２は、一
般には剥離性保護層として１つの層で形成され、この材
質としては、充分に透過性があり、耐摩擦性，耐汚染
性，耐溶剤性を有する樹脂、例えば（メタ）アクリル酸
エステル系樹脂，塩化ビニル系樹脂，酢酸ビニル系樹
脂，ウレタン系樹脂，メラニン系樹脂，ポリエステル系
樹脂の単体，混合物及び共重合体が用いられる。この剥
離性保護層は、上記の樹脂を使用して各種コーティング
方法により、塗布厚０．０５〜１０μｍ程度に形成され
る。

【００１５】ホログラム層２３は、２または３次元画像
を再生可能な表面凹凸パターン（光回折パターン）が形
成されたものである。この表面凹凸パターンとしては、
物体光と参照光との光の干渉による干渉縞の光の強度分
布が凹凸模様で記録されたレリーフホログラムやレリー
フ回折格子が記録可能であり、フレネルホログラム、フ
ラウンホーファホログラム、レンズレスフーリエ変換ホ
ログラム、イメージホログラム等のレーザ再生ホログラ
ム、及びレインボーホログラム等の白色光再生ホログラ
ム、さらに、それらの原理を利用したカラーホログラ
ム、コンピュータホログラム、ホログラムディスプレ
イ、マルチプレックスホログラム、ホログラフィックス
テレオグラムや、ホログラム記録手段を利用したホログ
ラフィック回折格子があげられ、その他、電子線描画装
置等を用いて機械的に回折格子を作製することにより、
計算に基づいて任意の回折光が得られるホログラムや回
折格子等をあげることもでき、これらが単一若しくは多
重に記録されていても良い。

【００１６】この実施例での表面凹凸パターンは、ホロ
グラムの再生位置による、視覚効果を変化させるため
に、ホログラム撮影時の結像、焦点位置をホログラム再
生時に、エンボス面の手前、若しくは奥側１〜６ｍｍの
ところに結像するように、ピッチ，凹凸の高低差を設定
したものである。実際には、ピッチが０．１〜２０μ
ｍ，凹凸の高低差が０．０１〜１μｍである。また、こ
の表面凹凸パターンは、予め作製されたホログラム原版
の型面の凹凸形状の逆の形状が熱プレス等により複製さ
れたものである。

【００１７】ホログラム層２３は、透明又はホログラム
を透視可能な程度に透過性を有するように着色されてい
る。なお、ホログラム層２３は、多層に着色されていて
も良く、また、各色に分割されて着色されていても良
い。ホログラム層２３の着色は、染料又は顔料によって
行うのが好ましく、使用できる染料の例としては、例え
ば下記の染料が使用できる。直接染料，酸性染料，塩基
性染料，媒染染料，建染染料，硫化染料，可溶性建染染
料，アゾイック染料，反応染料，カチオン染料，分散染
料，酸化染料，金属錯塩染料等。

【００１８】ここで使用される染料は、着色されたホロ
グラム層２３に光が入射し、透明反射層２４または金属
反射層２６の表面で反射して再び出射してくるために、
着色されたホログラム層２３を２度、光が透過すること
となるので、着色されたホログラム層２３の光透過性を
あまり低下させず、しかも、ホログラム層２３を曇らせ
ないものであることが望ましい。光透過率は、ホログラ
ム層２３の厚みによっても異なるので、ホログラム層２
３の白色光透過率が５０％以上であることが好ましく、
ヘイズメーターにより測定される曇価が１０％以下のも
のが好ましい。白色光透過率が５０％未満であるとホロ
グラム画像が鮮明に見えず立体感が乏しくなるし、ヘイ
ズメーターによる曇価が１０％を越えると、ホログラム
の背景に乳白色の曇りが生じ、やはりホログラム画像の
鮮明さが失われ、立体感が乏しくなる。

【００１９】この他、染料に使用される性能としては、
着色されるホログラム層２３の材質，ホログラム層２３
の形成方法およびホログラム層２３に対して行われる加
工に際しての耐久性がある。例えばホログラム層２３を
紫外線硬化性樹脂を用いて形成するときは、表面凹凸パ
ターンのエンボス後に相当量の紫外線を照射するため、
紫外線照射に対して変褪色のないものが好ましいし、電
子線硬化性樹脂を用いてホログラム層２３を形成すると
きは、電子線照射に際して消色，変色の少ない染料を用
いるのが好ましい。また、カード類に使用するために、
耐薬品性，耐溶剤性，耐可塑剤性および洗濯堅牢度等の
諸物性を考慮した染料を用いるのが好ましい。

【００２０】上記のような種々の実際的な条件を考慮す
ると、染料としては油溶性金属錯塩の形のものが好まし
く、例えば、１−２型アゾ系金属錯塩染料，１−１型ア
ゾ系金属錯塩染料，金属フタロシアニン系染料，及びこ
れらの染料の有機塩基塩をあげることができ、より具体
的には次のようなものである。バリファーストイエロー
＃３１０４及び＃３１０５（いずれもオリエント化学工
業社製），ザポンファーストイエローＧＲ（ＢＡＳＦ社
製），アイゼンスピロンイエローＧＲＨ及びＧＲＨスペ
シャル（いずれも保土谷化学社製），アイゼンメタロン
イエローＨＮＲＳ（保土谷化学社製），オラゾールイエ
ローIIＧＬＮ（チバガイギー社製），バリファーストオ
レンジ＃３２０６（オリエント化学工業社製），ザポン
ファーストオレンジＲＥ，Ｇ及びＲＲ（いずれもＢＡＳ
Ｆ社製），アイゼンスピロンオレンジＧＲＨ及び２ＲＨ
（保土谷化学社製），バリファーストレッド＃３３０４
及び３３０５（オリエント化学工業社製），ネオザポン
レッドＧＥ及びザポンファーストレッドＧＥ（いずれも
ＢＡＳＦ社製），アイゼンスピロンレッドＢＥＨ，ＧＥ
Ｈ，及びＧＥＨスペシャル（保土谷化学社製），オラゾ
ールレッドIIＢＬ（チバガイギー社製），アイゼンスピ
ロンバイオレッドＲＨ（保土谷化学社製），ザポンファ
ーストブルーＨＦＬ及びザポンファーストブラウンＢＥ
（いずれもＢＡＳＦ社製）等。

【００２１】また、ホログラム層２３の着色に使用され
る顔料は、有機顔料と無機顔料とに大別される。有機顔
料の部類に属するものとしては、（１）中性型、例えば
ニトロ系顔料，アゾ系顔料，アントラキノン系顔料，フ
タロシアニン系顔料，アジン系顔料等、（２）陽イオン
型、例えばトリフェニルメタン系顔料，キサンテン系顔
料等、（３）陰イオン型、例えばアゾ系顔料，トリフェ
ニルメタン系顔料等のものがあり、無機顔料の部類に属
するものとしては、コバルト系顔料，鉄系顔料，クロム
系顔料，マンガン系顔料，銅系顔料，バナジウム系顔
料，水銀系顔料，鉛系顔料，硫化物系顔料，セレン化物
系顔料等がある。

【００２２】上記の顔料についても、染料と同様に、光
透過率，曇価，紫外線，電子線の照射時又は加熱時の変
褪色，耐薬品性，耐可塑剤性，洗濯堅牢度等の諸性質に
注意を払う必要がある。特に、顔料を使用する際には、
一般的に言って透過性が問題になりやすく、顔料の粒子
径，周囲の合成樹脂に対する濡れ、分散に関する考慮が
必要であり、粒子径が大きすぎると透明性が低下し、濡
れ、分散が悪いと曇りが生じる。これらの意味で顔料の
粒子径は、ごく小さく、好ましくは光の波長の１／２以
下が好ましく、また、顔料を合成樹脂に対し、共沈法，
ロールミリング，ニクストルージング等で高濃度に分散
し、濡れ、分散を向上させたマスターバッチ，マスター
ペレット等を用いることが好ましい。濡れ，分散を向上
させた顔料の例としては、例えば大成化工社製のシコト
ランスイエロー（ＢＡＳＦ社よりシコトランスＬ−２７
１５Ｄとして発売されている微粒子酸化鉄（長径０．０
６μｍ，短径０．０２μｍ）の硝化綿チップ化顔料），
大成化工社製のＨＦチップ４Ｂ（不溶性アゾ系染料の硝
化綿チップ化顔料）をあげることができる。

【００２３】ホログラム層２３を構成する材料は、ホロ
グラム層２３が上記のように着色される場合と、無色透
明な場合とで区別することなく、ホログラムの微小凹凸
形状を付与できうる合成樹脂が使用できる。この合成樹
脂としては、熱可塑性合成樹脂、例えばポリ塩化ビニ
ル，アクリル樹脂（例えばポリメチルメタクリレート
等），ポリカーボネート，若しくはポリスチレン等、又
は熱硬化性合成樹脂、例えば不飽和ポリエステル，メラ
ミン，エポキシ，ポリエステル（メタ）アクリレート
（本明細書においては、（メタ）アクリレートの語は、
アクリレート及びメタクリレートの双方を包含する意味
である。），ウレタン（メタ）アクリレート，エポキシ
（メタ）アクリレート，ポリエーテル（メタ）アクリレ
ート，ポリオール（メタ）アクリレート，メラミン（メ
タ）アクリレート，若しくはトリアジン系（メタ）アク
リレート等があげられる。あるいは、上記熱可塑性合成
樹脂及び熱硬化性合成樹脂を混合して使用しても良い。

【００２４】さらに合成樹脂としては、特に、熱プレス
よりホログラムの微小凹凸形状をエンボスでき、エンボ
ス後には、硬化して充分な耐久性を生じるものが良く、
いわゆる紫外線硬化性樹脂，電子線硬化性樹脂，熱硬
化，自然硬化型の反応性の樹脂等が用いられうる。本発
明においては、紫外線若しくは電子線で硬化する樹脂が
適している。具体的には、例えばメチル（メタ）アクリ
レート，エチル（メタ）アクリレート，プロピル（メ
タ）アクリレート，ブチル（メタ）アクリレート，イソ
ブチル（メタ）アクリレート，ｔ−ブチル（メタ）アク
リレート，イソアミル（メタ）アクリレート，シクロヘ
キシル（メタ）アクリレート，２−エチルヘキシル（メ
タ）アクリレート，エチレングリコールジ（メタ）アク
リレート，ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレ
ート，ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート，トリ
メチロールプロパントリ（メタ）アクリレート，トリメ
チロールプロパンジ（メタ）アクリレート，ペンタエリ
スリトールテトラ（メタ）アクリレート，ペンタエリス
リトールトリ（メタ）アクリレート，ジペンタエリスリ
トールヘキサ（メタ）アクリレート，エチレングリコー
ルジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート，ポリ
エチレングリコールジ（メタ）アクリレート，プロピレ
ングリコールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレ
ート，ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル
ジ（メタ）アクリレート，ソルビトールテトラグリシジ
ルエーテルテトラ（メタ）アクリレート等のラジカル重
合性不飽和基を有する単量体が用いられうる。

【００２５】さらに、熱成形性を有する紫外線又は電子
線硬化性樹脂としては、以下の化合物（１）〜（８）を
重合若しくは共重合させた重合体に対し、後述する方法
（イ）〜（ニ）によりラジカル重合性不飽和基を導入し
たものが用いられうる。 （１）水酸基を有する単量体：Ｎ−メチロール（メタ）
アクリルアミド，２−ヒドロキシルエチル（メタ）アク
リレート，２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレー
ト，２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート，２−
ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレ
ート等。

【００２６】（２）カルボキシル基を有する単量体：
（メタ）アクリル酸，（メタ）アクリロイルオキシエチ
ルモノサクシネート等。 （３）エポキシ基を有する単量体：グリシジル（メタ）
アクリレート等。 （４）アジリジニル基を有する単量体：２−アジリジニ
ルエチル（メタ）アクリレート，２−アジリジニルプロ
ピオン酸アリル等。 （５）アミノ基を有する単量体：（メタ）アクリルアミ
ド，ダイアセトン（メタ）アクリルアミド，ジメチルア
ミノエチル（メタ）アクリレート，ジエチルアミノエチ
ル（メタ）アクリレート等。 （６）スルフォン基を有する単量体：２−（メタ）アク
リルアミド−２−メチルプロパンスルフォン酸等。 （７）イソシアネート基を有する単量体：２，４−トル
エンジイソシアネートと２−ヒドロキシエチル（メタ）
アクリレートの１モル対１モル付加物等のジイソシアネ
ートと活性水素を有するラジカル重合性単量体の付加物
等。

【００２７】（８）さらに、上記の共重合体のガラス転
移点を調節したり、硬化膜の物性を調節したりするため
に、上記の化合物と、この化合物と共重合可能な以下の
ような単量体とを共重合させることができる。このよう
な共重合可能な単量体としては、例えばメチル（メタ）
アクリレート，エチル（メタ）アクリレート，プロピル
（メタ）アクリレート，ブチル（メタ）アクリレート，
イソブチル（メタ）アクリレート，ｔ−ブチル（メタ）
アクリレート，イソアミル（メタ）アクリレート，シク
ロヘキシル（メタ）アクリレート，２−エチルヘキシル
（メタ）アクリレート等があげられる。

【００２８】次に、上述のようにして得られた重合体を
以下に述べる方法（イ）〜（ニ）により反応させ、ラジ
カル重合性不飽和基を導入することによって、紫外線若
しくは電子線硬化性樹脂が得られる。 （イ）水酸基を有する単量体の重合体又は共重合体の場
合には、（メタ）アクリル酸等のカルボキシル基を有す
る単量体等を縮合反応させる。 （ロ）カルボキシル基，スルフォン基を有する単量体の
重合体又は共重合体の場合には、前述の水酸基を有する
単量体を縮合反応させる。 （ハ）エポキシ基，イソシアネート基あるいはアジリジ
ニル基を有する単量体の重合体又は共重合体の場合に
は、前述の水酸基を有する単量体若しくはカルボキシル
基を有する単量体を付加反応させる。 （ニ）水酸基あるいはカルボキシル基を有する単量体の
重合体又は共重合体の場合には、エポキシ基を有する単
量体あるいはアジリジニル基を有する単量体あるいはジ
イソシアネート化合物と水酸基含有アクリル酸エステル
単量体の１モル対１モルの付加物を付加反応させても良
い。 またさらに、前述の単量体と、上記の熱成形性の紫外線
又は電子線硬化性樹脂とを混合して用いることもでき
る。

【００２９】また、上記のものは、電子線照射により十
分に硬化可能であるが、紫外線照射で硬化させる場合に
は、増感剤として、ベンゾキノン，ベンゾイン，ベンゾ
インメチルエーテル等のベンゾインエーテル類，ハロゲ
ン化アセトフェノン類等の紫外線照射によりラジカルを
発生するものも用いることができる。

【００３０】上記の合成樹脂より構成される着色された
又は無色透明なホログラム層２３は、グラビアコート
法，ダイコート法，ナイフコート法，ロールコート法等
の慣用のコーティング方法、及びオフセット印刷法，シ
ルク印刷法，活版印刷法等の一般の印刷法により、厚さ
０．１〜１００μｍ望ましくは０．５〜５０μｍに塗布
形成される。

【００３１】透明反射層２４及び金属反射層２６は、ホ
ログラム画像に反射性を与える（ホログラム画像のホロ
グラム効果を増大させる）ためのものである。透明反射
層２４は、反射透明性を有する反射層であり、その材質
としては、ホログラム層２３とは屈折率の異なる物質の
連続薄膜や、厚みが２００Å未満の金属薄膜等があげら
れる。

【００３２】連続薄膜は、その屈折率がホログラム層２
３より大きくても小さくても良いが、屈折率の差が０．
３以上あることが好ましく、差が０．５以上さらには
１．０以上あることがより好ましい。連続薄膜の膜厚
は、薄膜を形成する材料の透明領域であれば良いが、通
常は１００〜１００００Åが好ましい。連続薄膜をホロ
グラム層２３のレリーフ形成面に形成する方法として
は、真空蒸着法，スパッタリング法，イオンブレーティ
ング法等の薄膜形成方法があげられる。

【００３３】ホログラム層２３より屈折率が大きいもの
としては（以下、材質名の右にカッコ書きで屈折率：ｎ
を付記する。）、Ｓｂ₂ Ｓ₃ （ｎ＝３．０），Ｆｅ₂ Ｏ
₃ （ｎ＝２．７），ＴｉＯ₂ （ｎ＝２．６），ＣｄＳ
（ｎ＝２．６），ＣｅＯ₂ （ｎ＝２．３），ＺｎＳ（ｎ
＝２．３），ＰｂＣｌ₂ （ｎ＝２．３），ＣｄＯ（ｎ＝
２．２），Ｓｂ₂ Ｏ₃ （ｎ＝２．０），ＷＯ₃ （ｎ＝
２．０），ＳｉＯ（ｎ＝２．０），Ｂｉ₂ Ｏ₃ （ｎ＝
２．５），Ｉｎ₂ Ｏ₃ （ｎ＝２．０），ＰｂＯ（ｎ＝
２．６），Ｔａ₂ Ｏ₅ （ｎ＝２．４），ＺｎＯ（ｎ＝
２．１），ＺｒＯ₂ （ｎ＝２．０），Ｃｄ₂ Ｏ₃ （ｎ＝
１．８），Ａｌ₂ Ｏ₃ （ｎ＝１．６），ＣａＯ・ＳｉＯ
₂ （ｎ＝１．８）等があげられる。

【００３４】ホログラム層２３の屈折率よりも小さい連
続薄膜としては、ＬｉＦ（ｎ＝１．４），ＭｇＦ₂ （ｎ
＝１．４），３ＮａＦ・ＡｌＦ₃ （ｎ＝１．３又は１．
２），ＡｌＦ₃ （ｎ＝１．４），ＣａＦ₂ （ｎ＝１．３
又は１．４），ＮａＦ（ｎ＝１．３）等があげられる。
また、ホログラム層２３より屈折率が大きい透明な強誘
導体も同様に使用でき、ＣｕＣｌ（ｎ＝２．０），Ｃｕ
Ｂｒ（ｎ＝２．２），ＣａＡｓ（ｎ＝３．３〜３．
６），ＧａＰ（ｎ＝３．３〜３．５），Ｎ₄ （ＣＨ₂ ）
₆ （ｎ＝１．６），Ｂｉ₄ （ＧｅＯ₄ ）₃ （ｎ＝２．
１），ＫＨ₂ ＰＯ₄ （ＫＤＰ）（ｎ＝１．５），ＫＤ₂
ＰＯ₅ （ｎ＝１．５），ＮＨ₄ Ｈ₂ ＰＯ₄ （ｎ＝１．
５），ＫＨ₂ ＡｓＯ₄ （ｎ＝１．６），ＲｂＨ₂ ＡｓＯ
₄ （ｎ＝１．６），ＢａＴｉＯ₃ （ｎ＝２．４），ＫＴ
ａ_{0 . 6 5} Ｎｂ_{0 . 3 5} Ｏ₃ （ｎ＝２．３），Ｋ_{0 . 6}
Ｌｉ_{0 . 4}ＮｂＯ₃ （ｎ＝２．３），ＫＳｒ₂ Ｎｂ₅ Ｏ_1
5 （ｎ＝２．３），Ｓｒ_x Ｂａ_{1 - x} Ｎｂ₂ Ｏ₆ （ｎ＝
２．３），Ｂａ₂ ＮａＮｂＯ_{1 5} （ｎ＝２．３），Ｌｉ
ＮｂＯ₃ （ｎ＝２．３），ＬｉＴａＯ₃ （ｎ＝２．
４），ＳｒＴｉＯ₃ （ｎ＝２．４），ＫＴａＯ₃ （ｎ＝
２．２）等があげられる。

【００３５】また、厚みが２００Å以下の場合には、屈
折率は複素屈折率ｎ^* （ｎ^* ＝ｎ−ｉｋ）で表され、光
の透過率がかなり小さいために透明でありながら反射層
として使用しうる。具体的には、Ｂｅ（ｎ＝２．７、ｋ
＝０．９；以下、ｎ、ｋの順で記載），Ｍｇ（０．６、
０．１），Ｃａ（０．３、８．１），Ｓｒ（０．６、
３．２），Ｂａ（０．９、１．７），Ｌａ（１．８、
１．９），Ｃｅ（１．７、１．４），Ｃｒ（３．３、
１．３），Ｍｎ（２．５、１．３），Ｃｕ（０．７、
２．４），Ａｇ（０．１、３．３），Ａｕ（０．３、
２．４），Ａｌ（０．８、５．３），Ｓｂ（３．０、
１．６），Ｐｄ（１．９、１．３），Ｎｉ（１．８、
１．８）、その他には、Ｓｎ，Ｉｎ，Ｔｅ等がある。

【００３６】さらにまた、ホログラム層２３とは屈折率
の異なる透明な合成樹脂の層を透明反射層２４に用いる
こともでき、具体的な合成樹脂として使用できるものは
次のようなものである。ポリテトラフロロエチレン（ｎ
＝１．３５），ウポリクロロトリフロロエチレン（ｎ＝
１．４３），ポリ酢酸ビニル（ｎ＝１．４５〜１．４
７），ポリエチレン（ｎ＝１．５０〜１．５４），ポリ
プロピレン（ｎ＝１．４９），ポリメチルメタクリレー
ト（ｎ＝１．４９），ポリスチレン（ｎ＝１．６０），
ポリ塩化ビニリデン（ｎ＝１．６０〜１．６３），ポリ
ビニルブチラール（ｎ＝１．４８），ポリビニルホルマ
ール（ｎ＝１．５０），ポリ塩化ビニル（ｎ＝１．５２
〜１．５５），ポリエステル（ｎ＝１．５２〜１．５
７）。なお、本発明の実施例では、透明反射層２４は、
ＴｉＯ₂ を真空蒸着法により４５０Åの厚みに蒸着し
た。

【００３７】一方、金属反射層２６は、不透明な反射層
であり、Ｃｒ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ａｇ，Ａｕ，
Ｇｅ，Ａｌ，Ｍｇ，Ｓｂ，Ｐｂ，Ｃｄ，Ｂｉ，Ｓｎ，Ｓ
ｅ，Ｉｎ，Ｇａ，Ｒｂ等の金属及びその酸化物、窒化物
等を単独若しくは２種以上組み合わせて用いて形成され
る。これらの金属のうち、Ａｌ，Ｃｒ，Ｎｉ，Ａｇ，Ａ
ｕ等が特に好ましい。金属反射層２６の形成方法として
は、スパッタリング，イオンブレーティング，ＣＶＤ等
の方法や、めっきによって形成することができ、その厚
みは２００〜１０００Åであることが好ましい。なお、
本発明の実施例では、金属反射層２６は、Ａｌを真空蒸
着法により４５０Åの厚みに蒸着して形成した。この金
属反射層２６が設けられると、ホログラム画像は、不透
明となり銀色を呈する。

【００３８】絵柄層２５は、透明反射層２４の下層の一
部に形成され、文字，図形，記号，模様，絵柄若しくは
これらの結合又はこれらと色彩との結合による所定の情
報を表示した層である。絵柄層２５は、透明反射層２４
との密着性に優れるバインダーを使用しており透明着色
性あるいは金属反射層２６に対する隠ぺい性を考慮した
インキを使用し適宜なインキ厚さで形成されている。こ
こで、バインダーとしてはエポキシ系樹脂，ウレタン系
樹脂，ポリエステル系樹脂，酢酸ビニル系樹脂など大き
な極性を持ち優れた接着性のあるものが好ましい。

【００３９】絵柄層２５の形成方法としては、シルク印
刷，オフセット印刷，活版印刷等により、透明反射層２
４の表面に印刷する方法や、絵柄転写シートを用い、絵
柄をホログラム層２３の表面に転写する方法等があげら
れる。本発明の実施例での絵柄層２５の組成物とその重
量％は、ウレタン系樹脂１００，イソシアネート（硬化
剤）４，溶剤（トルエン４０，ＭＥＫ４０，ＩＰＡ２
０）とした。また、形成方法は、６色の色料でのシルク
印刷を用いた。

【００４０】接着剤層２７は、光回折パターン記録体２
０を所定の接着対象物に接着するためのものであり、用
途に合わせて従来より公知の感熱接着剤や粘着剤が用い
られる。感熱接着剤としては、アクリル系樹脂，ビニル
系樹脂，ポリエステル系樹脂，ウレタン系樹脂，アミド
系樹脂，エポキシ系樹脂等があげられ、又、粘着剤とし
ては、アクリル系，ゴム系ものがあげられる。本発明の
実施例では、アクリル系樹脂からなる感熱接着剤を用
い、コーティングにより形成した。

【００４１】図２は、接着対象物４０に接着された光回
折パターン記録体２０を示す断面図である。図１におい
て、基材３０の上側から、光回折パターン記録体２０を
加熱圧接することにより、基材３０と剥離層２１との間
で剥離が発生し、光回折パターン記録体２０が接着対象
物４０に接着される。接着対象物４０の材質としては、
ポリ塩化ビニル，ポリエチレンテレフタレート，ポリイ
ミド，ポリスチレン，ポリビニルブチラール，ポリカー
ボネート，紙，合成紙，金属シート等があげられる。ま
た、接着対象物４０は、上記の材料単体で構成されてい
ても良いが、上記材料の積層体として構成されていても
良い。

【００４２】以上の光回折パターン記録体２０におい
て、ホログラム層２３のホログラム画像と、絵柄層２５
の画像は、接着対象物４０のデザインに合わせて、任意
の色調や模様とすることができる。絵柄層２５の上部の
領域のホログラム層２３は、透明反射層２４により透明
反射性を有する。従って、その領域上では、透明反射層
２４の光の反射率が高くなる角度範囲内でのみホログラ
ム画像が視認され、上記角度の範囲外では、ホログラム
層２３は透明体として見え、その下層の絵柄層２５の画
像が視認される。すなわち、絵柄層２５上のホログラム
画像は、すかし効果を発揮する。また、絵柄層２５の上
部以外の領域（絵柄層２５の周囲部）では、ホログラム
層２３と金属反射層２６とにより不透明タイプのホログ
ラム画像が視認される。従って、ホログラム画像は、絵
柄層２５の制約を受けることなく視認される。

【００４３】このように、絵柄層２５の画像と不透明タ
イプのホログラム画像とを同時に視認することができ、
さらに、絵柄層２５の上部には見る角度によって透明タ
イプのホログラム画像を視認することができるので、極
めて装飾性の高いものとなる。また、この光回折パター
ン記録体２０の改ざんや製造が困難であることから、偽
造防止効果が高くなる。これにより、この光回折パター
ン記録体２０をクレジットカードやバンクカードに適用
する場合に、利用者の登録番号等の個別情報を絵柄層２
５により表示すれば、これらのカードを照合，確認する
際に、ホログラム画像と個別情報の画像とを同時に視認
することができるので、上記カードのセキュリティ性を
高めることができる。

【００４４】図３は、本発明による光回折パターン記録
体の第２の実施例の構成を示す断面図である。図３の光
回折パターン記録体２０Ａは、図２のものと同様に、接
着対象物４０に接着されたものを示している。この第２
の実施例において、第１の実施例と同一のものには同一
符号を付している。

【００４５】光回折パターン記録体２０Ａは、光回折パ
ターン記録体２０と比較して、透明反射層２４と絵柄層
２５との間にアンカー層２８が設けられている点が異な
る。このアンカー層２８は、透明反射層２４と絵柄層２
５との密着性を高めるために、絵柄層２５の形成前に透
明反射層２４に形成するものである。アンカー層２８の
材質としては、透明反射層２４の材質にもよるが、ポリ
エステル系樹脂等が用いられる。また、形成方法として
は、ロールコート法，グラビアコート法のようなコーテ
ィング法等が用いられる。なお、このようにアンカー層
２８を形成する場合には、上述したように、絵柄層２５
には、必ずしも透明反射層２４との密着性に優れるバイ
ンダーを使用する必要はない。

【００４６】以上、本発明の一実施例について説明した
が、本発明は、上述した実施例に限定されることなく、
その要旨を逸脱しない範囲内で種々の変形が可能であ
る。実施例では、ホログラム層２３の上層に、剥離層２
１及び保護層２２を設けたが、ホログラム層２３が剥離
層２１及び保護層２２の機能を果たすものであれば、必
ずしも設ける必要はない。また、光回折パターン記録体
２０，２０Ａを接着対象物４０に設ける場合に、転写等
の方法によらないときには、基材３０に光回折パターン
記録体２０，２０Ａを設ける必要はなく、さらにこのと
きには、剥離層２１は設ける必要はない。また、アンカ
ー層２８は、絵柄層２５に用いるインキが透明反射層２
４への密着性が悪い場合にのみ設ければ良い。接着剤層
２７は、接着対象物４０側が接着性を有するものである
場合や、他の接着剤を用いる場合等には、設ける必要は
ない。

【００４７】

【発明の効果】請求項１に記載の光回折パターン記録体
によれば、情報表示層の上部の領域の光回折パターン層
は、透明反射層により透明反射性を有するので、その領
域上では、透明反射層の光の反射率が高くなる角度範囲
内でのみ光回折パターンの画像が視認され、上記角度の
範囲外では、光回折パターン層は透明体として見え、そ
の下層の情報表示層の画像が視認される。すなわち、情
報表示層上の光回折パターンの画像は、すかし効果を発
揮する。また、情報表示層の上部以外の領域では、光回
折パターン層と金属反射層とにより不透明タイプの光回
折パターンの画像が視認される。従って、光回折パター
ンの画像は、情報表示層の制約を受けることなく視認さ
れる。 このように、情報表示層の画像と、透明タイプ及
び不透明タイプの光回折パターンの画像とを同調させた
ので、光回折パターン記録体の装飾性を高め、かつ偽造
防止効果を高めることができる。これにより、この光回
折パターン記録体をクレジットカードやバンクカードに
設けることにより、そのカードのセキュリティ性を向上
することができる。

【００４８】請求項２に記載の光回折パターン記録体に
よれば、光回折パターン記録体に接着剤層を設けたの
で、接着対象物の接着予定領域上に粘着剤等を設けるこ
となく、光回折パターン記録体を設けることができる。

【００４９】請求項３に記載の光回折パターン記録体に
よれば、光回折パターン記録体に基材層を設けたので、
光回折パターン記録体を転写可能な転写シートとして用
いることができる。これにより、例えば多数のカード等
に光回折パターン記録体を設ける場合に、形成の効率を
高めることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明における光回折パターン記録体の第１の
実施例の構成を示す断面図である。

【図２】接着対象物４０に接着された光回折パターン記
録体２０を示す断面図である。

【図３】本発明における光回折パターン記録体の第２の
実施例の構成を示す断面図である。

【図４】従来のホログラムの一例の構成を示す断面図で
ある。

【符号の説明】

２０，２０Ａ 光回折パターン記録体 ２１ 剥離層 ２２ 保護層 ２３ ホログラム層 ２４ 透明反射層 ２５ 絵柄層 ２６ 金属反射層 ２７ 接着剤層 ２８ アンカー層 ３０ 基材 ４０ 接着対象物

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下面に表面凹凸模様で表現される光回折
   パターンを記録した光回折パターン層と、 前記光回折パターン層の下層に形成された反射透明性を
   有する透明反射層と、 前記透明反射層の下層の一部に形成され、文字，図形，
   記号，模様，絵柄若しくはこれらの結合又はこれらと色
   彩との結合による所定の情報を表示した情報表示層と、 前記透明反射層及び前記情報表示層の下層に形成された
   反射性を有する不透明な不透明反射層とを備えることを
   特徴とする光回折パターン記録体。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の光回折パターン記録体
   において、 前記不透明反射層の下層には、前記光回折パターン記録
   体を接着対象物に接着する接着剤層を備えることを特徴
   とする光回折パターン記録体。
3. 【請求項３】 請求項１または２に記載の光回折パター
   ン記録体において、 前記光回折パターン形成層の上層には、前記光回折パタ
   ーン記録体を支持する基材層を備えることを特徴とする
   光回折パターン記録体。