JPH07140899A - 光回折パターンシールとその使用方法、および光回折パターンシールを用いた証明用媒体 - Google Patents

光回折パターンシールとその使用方法、および光回折パターンシールを用いた証明用媒体

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JPH07140899A
JPH07140899A JP5314373A JP31437393A JPH07140899A JP H07140899 A JPH07140899 A JP H07140899A JP 5314373 A JP5314373 A JP 5314373A JP 31437393 A JP31437393 A JP 31437393A JP H07140899 A JPH07140899 A JP H07140899A
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JP
Japan
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diffraction pattern
layer
light diffraction
adhesive layer
seal
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Application number
JP5314373A
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English (en)
Inventor
Katsunori Hori
桂典 堀
Yoko Yokoi
陽子 横井
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Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 貼付後に剥離することができない光回折パタ
ーンシールを提供する。 【構成】 シール10は、光回折パターン画像が形成さ
れた光回折パターン形成層12(樹脂層12a,反射層
12b)と、光回折パターン形成層12の上部に設けら
れた透明または半透明の支持層14と、支持層14の下
層に設けられ、光回折パターン形成層12と剥離可能に
結合する剥離層13と、光回折パターン形成層12の下
層に設けられ、貼付対象物と粘着する粘着層11とを備
える。貼付対象物に貼付されたシール10を剥離しよう
とすると、粘着層11と貼付対象物とは分離されずに、
剥離層13と光回折パターン形成層12との間で層間剥
離が発生する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、シールに光回折パタ
ーンによる画像を形成した光回折パターンシールとその
使用方法、および光回折パターンシールを用いた証明用
媒体に関するものである。
【0002】
【従来の技術】光回折パターンの1つであるホログラム
は、ホログラフィー技術により光の波動情報を記録した
記録体であり、立体的な3次元画像を再生することがで
きる。このようなホログラム等の光回折パターンの製造
においては、高度な技術と高価な設備が必要とされ、製
造することができるメーカーも限定されているので、一
般には光回折パターン自体の偽造は困難である。従っ
て、光回折パターンは、偽造防止効果を発揮するものと
して広く利用されている。
【0003】例えば、光回折パターンによる画像をシー
ルに形成した光回折パターンシールが知られている。こ
の光回折パターンシールは、証明書,証券等の種々の媒
体に貼付され、その媒体の偽造を防止し、セキュリティ
性を高める役割をはたしている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかし、前述の従来の
光回折パターンシールでは、たとえ粘着強度の高い粘着
材を用いても、その粘着材に熱が加えられたり、あるい
は剥離液等の溶剤がかけられたりすると、その粘着材の
粘着強度が低下してしまう。従って、これらの手段によ
り、外観上の判別ができないほど光回折パターンシール
を巧妙に剥離し、それを他の媒体に貼付して偽造物を作
成することは不可能ではなかった。よって、光回折パタ
ーン自体の偽造の困難性を十分に発揮することができな
いという問題があった。
【0005】本発明は、上述のような課題を解消するた
めになされたものであって、貼付後には剥離することが
できない光回折パターンシールとその使用方法、および
光回折パターンシールを用いた証明用媒体を提供するこ
とを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
め、本発明による光回折パターンシールの第1の解決手
段は、光回折パターンによる画像が形成された光回折パ
ターン形成層(12)と、前記光回折パターン形成層の
上部に設けられた透明または半透明の支持層(14)
と、前記光回折パターン形成層の下層に設けられ、貼付
対象物と粘着する粘着層(11)とを備えることを特徴
とする。
【0007】光回折パターンシールの第2の解決手段
は、上記第1の解決手段において、前記支持層の下層に
設けられ、かつ、前記光回折パターン形成層と剥離可能
に結合する剥離層(13)を備えることを特徴とする。
【0008】光回折パターンシールの第3の解決手段
は、上記第1または第2の解決手段において、前記粘着
層(11A)は、部分的に設けられていることを特徴と
する。
【0009】光回折パターンシールの第4の解決手段
は、上記第1〜第3のいずれかの解決手段において、前
記粘着層の前記貼付対象物に粘着されたときの粘着力
は、前記支持層と前記光回折パターン形成層との結合力
より強く設定されていることを特徴とする。
【0010】光回折パターンシールの第5の解決手段
は、上記第3の解決手段において、前記光回折パターン
形成層の下層であって前記粘着層が設けられていない領
域の少なくとも一部に接着層(40)を備えることを特
徴とする。
【0011】光回折パターンシールの第6の解決手段
は、上記第5の解決手段において、前記支持層と前記光
回折パターン形成層との結合力は、前記粘着層の前記貼
付対象物に粘着されたときの粘着力より強く設定されて
おり、前記接着層の前記貼付対象物に接着されたときの
接着力は、前記支持層と前記光回折パターン形成層との
結合力、および前記光回折パターン形成層を破壊する破
壊力より強く設定されていることを特徴とする。
【0012】光回折パターンシールの第7の解決手段
は、上記第1〜第6のいずれかの解決手段において、前
記粘着層上に設けられ、前記粘着層と剥離可能に粘着す
る離型シート(20)を備えることを特徴とする。
【0013】光回折パターンシールの使用方法の解決手
段は、上記第1〜3のいずれかの解決手段に記載の光回
折パターンシールの使用方法であって、前記貼付対象物
および前記粘着層に接着されたときの接着力が、前記粘
着層の前記貼付対象物に粘着されたときの粘着力、およ
び前記支持層と前記光回折パターン形成層との結合力、
および前記光回折パターン形成層を破壊する破壊力より
強く設定された接着層を前記貼付対象物上に設け、前記
接着層を含む領域に前記光回折パターンシールを貼付す
ることにより、その貼付面の領域の一部を前記接着層に
より接着させ、かつ、前記貼付面の他の領域の一部を前
記粘着層により粘着させることを特徴とする。
【0014】光回折パターンシールを用いた証明用媒体
の解決手段は、所定の証明情報が記録された基体と、前
記基体上に貼付された第1〜第6のいずれかの解決手段
に記載の光回折パターンシールとを備えることを特徴と
する。
【0015】
【作用】光回折パターンシールの解決手段においては、
貼付対象物に貼付されたものを剥離しようとすると、支
持層と光回折パターン形成層との間で剥離が発生し、光
回折パターンシールが破壊される。従って、光回折パタ
ーンシールの再利用や転用ができなくなる。また、剥離
層を設けることで、支持層と光回折パターン形成層との
間での剥離を確実にすることができる。
【0016】光回折パターンシールの使用方法の解決手
段においては、粘着層は、貼付対象物への初期接着に寄
与し、また、接着層は、光回折パターンシールを貼付対
象物に剥離不能に接着する。従って、貼付後は、剥離液
等を用いても剥離することができなくなる。
【0017】光回折パターンシールを用いた証明用媒体
の解決手段においては、本発明による光回折パターンシ
ールが、証明用媒体に貼付される。従って、光回折パタ
ーンシールの再利用や転用ができなくなるので、証明用
媒体のセキュリティ性が向上する。
【0018】
【実施例】以下、図面等を参照し、本発明による光回折
パターンシールとその使用方法、および光回折パターン
シールを用いた証明用媒体の一実施例について説明す
る。図1は、本発明による光回折パターンシールの第1
の実施例の構成を示す断面図である。図1の光回折パタ
ーンシール10(以下「シール10」という。)は、順
次積層された粘着層11、光回折パターン形成層12、
剥離層13、支持層14とから構成されている。
【0019】光回折パターン形成層12は、樹脂層12
aおよび反射層12bから構成されている。光回折パタ
ーンとしては、物体光と参照光との光の干渉による干渉
縞の光の強度分布が凹凸模様で記録されたレリーフホロ
グラムやレリーフ回折格子が記録可能であり、フレネル
ホログラム、フラウンホーファホログラム、レンズレス
フーリエ変換ホログラム、イメージホログラム等のレー
ザー再生ホログラム、及びレインボーホログラム等の白
色光再生ホログラム、さらに、それらの原理を利用した
カラーホログラム、コンピュータホログラム、ホログラ
ムディスプレイ、マルチプレックスホログラム、ホログ
ラフィックステレオグラムや、ホログラム記録手段を利
用したホログラフィック回折格子があげられ、その他、
電子線描画装置等を用いて機械的に回折格子を作製する
ことにより、計算に基づいて任意の回折光が得られるホ
ログラムや回折格子等をあげることもでき、これらが単
一若しくは多重に記録されていても良い。
【0020】樹脂層12aを構成する材料としては、樹
脂層12aが着色される場合と、無色透明な場合とで区
別することなく、光回折パターンの微小凹凸形状を付与
できうる合成樹脂が使用できる。この合成樹脂として
は、熱可塑性合成樹脂、例えばポリ塩化ビニル,アクリ
ル樹脂(例えばポリメチルメタクリレート等),ポリカ
ーボネート,若しくはポリスチレン等、又は熱硬化性合
成樹脂、例えば不飽和ポリエステル,メラミン,エポキ
シ,ポリエステル(メタ)アクリレート(本明細書にお
いては、(メタ)アクリレートの語は、アクリレート及
びメタクリレートの双方を包含する意味である。),ウ
レタン(メタ)アクリレート,エポキシ(メタ)アクリ
レート,ポリエーテル(メタ)アクリレート,ポリオー
ル(メタ)アクリレート,メラミン(メタ)アクリレー
ト,若しくはトリアジン系(メタ)アクリレート等があ
げられる。あるいは、上記熱可塑性合成樹脂及び熱硬化
性合成樹脂を混合して使用しても良い。
【0021】さらに合成樹脂としては、特に、熱プレス
より光回折パターンの微小凹凸形状をエンボスでき、エ
ンボス後には、硬化して充分な耐久性を生じるものが良
く、いわゆる紫外線硬化性樹脂,電子線硬化性樹脂,熱
硬化,自然硬化型の反応性の樹脂等が用いられうる。本
発明においては、紫外線若しくは電子線で硬化する樹脂
が適している。具体的には、例えばメチル(メタ)アク
リレート,エチル(メタ)アクリレート,プロピル(メ
タ)アクリレート,ブチル(メタ)アクリレート,イソ
ブチル(メタ)アクリレート,t−ブチル(メタ)アク
リレート,イソアミル(メタ)アクリレート,シクロヘ
キシル(メタ)アクリレート,2−エチルヘキシル(メ
タ)アクリレート,エチレングリコールジ(メタ)アク
リレート,ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレ
ート,ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート,トリ
メチロールプロパントリ(メタ)アクリレート,トリメ
チロールプロパンジ(メタ)アクリレート,ペンタエリ
スリトールテトラ(メタ)アクリレート,ペンタエリス
リトールトリ(メタ)アクリレート,ジペンタエリスリ
トールヘキサ(メタ)アクリレート,エチレングリコー
ルジグリシジルエーテルジ(メタ)アクリレート,ポリ
エチレングリコールジ(メタ)アクリレート,プロピレ
ングリコールジグリシジルエーテルジ(メタ)アクリレ
ート,ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル
ジ(メタ)アクリレート,ソルビトールテトラグリシジ
ルエーテルテトラ(メタ)アクリレート等のラジカル重
合性不飽和基を有する単量体が用いられうる。
【0022】さらに、熱成形性を有する紫外線又は電子
線硬化性樹脂としては、以下の化合物(1)〜(8)を
重合若しくは共重合させた重合体に対し、後述する方法
(イ)〜(ニ)によりラジカル重合性不飽和基を導入し
たものが用いられうる。 (1)水酸基を有する単量体:N−メチロール(メタ)
アクリルアミド,2−ヒドロキシルエチル(メタ)アク
リレート,2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレー
ト,2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート,2−
ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレ
ート等。
【0023】(2)カルボキシル基を有する単量体:
(メタ)アクリル酸,(メタ)アクリロイルオキシエチ
ルモノサクシネート等。 (3)エポキシ基を有する単量体:グリシジル(メタ)
アクリレート等。 (4)アジリジニル基を有する単量体:2−アジリジニ
ルエチル(メタ)アクリレート,2−アジリジニルプロ
ピオン酸アリル等。 (5)アミノ基を有する単量体:(メタ)アクリルアミ
ド,ダイアセトン(メタ)アクリルアミド,ジメチルア
ミノエチル(メタ)アクリレート,ジエチルアミノエチ
ル(メタ)アクリレート等。 (6)スルフォン基を有する単量体:2−(メタ)アク
リルアミド−2−メチルプロパンスルフォン酸等。 (7)イソシアネート基を有する単量体:2,4−トル
エンジイソシアネートと2−ヒドロキシエチル(メタ)
アクリレートの1モル対1モル付加物等のジイソシアネ
ートと活性水素を有するラジカル重合性単量体の付加物
等。
【0024】(8)さらに、上記の共重合体のガラス転
移点を調節したり、硬化膜の物性を調節したりするため
に、上記の化合物と、この化合物と共重合可能な以下の
ような単量体とを共重合させることができる。このよう
な共重合可能な単量体としては、例えばメチル(メタ)
アクリレート,エチル(メタ)アクリレート,プロピル
(メタ)アクリレート,ブチル(メタ)アクリレート,
イソブチル(メタ)アクリレート,t−ブチル(メタ)
アクリレート,イソアミル(メタ)アクリレート,シク
ロヘキシル(メタ)アクリレート,2−エチルヘキシル
(メタ)アクリレート等があげられる。
【0025】次に、上述のようにして得られた重合体を
以下に述べる方法(イ)〜(ニ)により反応させ、ラジ
カル重合性不飽和基を導入することによって、紫外線若
しくは電子線硬化性樹脂が得られる。 (イ)水酸基を有する単量体の重合体又は共重合体の場
合には、(メタ)アクリル酸等のカルボキシル基を有す
る単量体等を縮合反応させる。 (ロ)カルボキシル基,スルフォン基を有する単量体の
重合体又は共重合体の場合には、前述の水酸基を有する
単量体を縮合反応させる。 (ハ)エポキシ基,イソシアネート基あるいはアジリジ
ニル基を有する単量体の重合体又は共重合体の場合に
は、前述の水酸基を有する単量体若しくはカルボキシル
基を有する単量体を付加反応させる。 (ニ)水酸基あるいはカルボキシル基を有する単量体の
重合体又は共重合体の場合には、エポキシ基を有する単
量体あるいはアジリジニル基を有する単量体あるいはジ
イソシアネート化合物と水酸基含有アクリル酸エステル
単量体の1モル対1モルの付加物を付加反応させても良
い。またさらに、前述の単量体と、上記の熱成形性の紫
外線又は電子線硬化性樹脂とを混合して用いることもで
きる。
【0026】また、上記のものは、電子線照射により十
分に硬化可能であるが、紫外線照射で硬化させる場合に
は、増感剤として、ベンゾキノン,ベンゾイン,ベンゾ
インメチルエーテル等のベンゾインエーテル類,ハロゲ
ン化アセトフェノン類等の紫外線照射によりラジカルを
発生するものも用いることができる。
【0027】上記の合成樹脂より構成される着色された
又は無色透明な樹脂層12aは、グラビアコート法,ダ
イコート法,ナイフコート法,ロールコート法等の慣用
のコーティング方法、及びオフセット印刷法,シルク印
刷法,活版印刷法等の一般の印刷法により、厚さ0.1
〜100μm望ましくは0.5〜50μmに塗布形成さ
れる。
【0028】反射層12bは、光回折パターン画像に反
射性を与えるためのものである。この反射層12bとし
ては、第1に、反射透明性を有する反射層があげられ、
その材質としては、樹脂層12aとは屈折率の異なる物
質の連続薄膜や、金属薄膜等があげられる。
【0029】連続薄膜は、その屈折率が樹脂層12aよ
り大きくても小さくても良いが、屈折率の差が0.3以
上あることが好ましく、差が0.5以上さらには1.0
以上あることがより好ましい。連続薄膜の膜厚は、薄膜
を形成する材料の透明領域であれば良いが、通常は10
0〜10000オングストロームが好ましい。連続薄膜
を樹脂層12aのレリーフ形成面に形成する方法として
は、真空蒸着法,スパッタリング法,イオンブレーティ
ング法等の薄膜形成方法があげられる。
【0030】樹脂層12aより屈折率が大きいものとし
ては(以下、材質名の右にカッコ書きで屈折率:nを付
記する。)、Sb23 (n=3.0),Fe23
(n=2.7),TiO2 (n=2.6),CdS(n
=2.6),CeO2 (n=2.3),ZnS(n=
2.3),PbCl2 (n=2.3),CdO(n=
2.2),Sb23 (n=2.0),WO3 (n=
2.0),SiO(n=2.0),Bi23 (n=
2.5),In23 (n=2.0),PbO(n=
2.6),Ta25 (n=2.4),ZnO(n=
2.1),ZrO2 (n=2.0),Cd23 (n=
1.8),Al23 (n=1.6),CaO・SiO
2 (n=1.8)等があげられる。
【0031】樹脂層12aの屈折率よりも小さい連続薄
膜としては、LiF(n=1.4),MgF2 (n=
1.4),3NaF・AlF3 (n=1.3又は1.
2),AlF3 (n=1.4),CaF2 (n=1.3
又は1.4),NaF(n=1.3)等があげられる。
また、樹脂層12aより屈折率が大きい透明な強誘導体
も同様に使用でき、CuCl(n=2.0),CuBr
(n=2.2),CaAs(n=3.3〜3.6),G
aP(n=3.3〜3.5),N4 (CH26 (n=
1.6),Bi4 (GeO43 (n=2.1),KH
2 PO4 (KDP)(n=1.5),KD2 PO5 (n
=1.5),NH42 PO4 (n=1.5),KH2
AsO4(n=1.6),RbH2 AsO4 (n=1.
6),BaTiO3 (n=2.4),KTa0 . 6 5
0 . 3 53 (n=2.3),K0 . 6 Li0 . 4
bO3 (n=2.3),KSr2 Nb51 5 (n=
2.3),Srx Ba1 - xNb26 (n=2.
3),Ba2 NaNbO1 5 (n=2.3),LiNb
3 (n=2.3),LiTaO3 (n=2.4),S
rTiO3 (n=2.4),KTaO3 (n=2.2)
等があげられる。
【0032】また、厚みが200オングストローム以下
の場合には、その屈折率は複素屈折率n* (n* =n−
ik)で表され、光の透過率がかなり小さいために透明
でありながら反射層として使用しうる。具体的には、B
e(n=2.7、k=0.9;以下、n、kの順で記
載),Mg(0.6、0.1),Ca(0.3、8.
1),Sr(0.6、3.2),Ba(0.9、1.
7),La(1.8、1.9),Ce(1.7、1.
4),Cr(3.3、1.3),Mn(2.5、1.
3),Cu(0.7、2.4),Ag(0.1、3.
3),Au(0.3、2.4),Al(0.8、5.
3),Sb(3.0、1.6),Pd(1.9、1.
3),Ni(1.8、1.8)、その他には、Sn,I
n,Te等がある。
【0033】さらにまた、樹脂層12aとは屈折率の異
なる透明な合成樹脂の層を反射層12bに用いることも
でき、具体的な合成樹脂として使用できるものは次のよ
うなものである。ポリテトラフロロエチレン(n=1.
35),ウポリクロロトリフロロエチレン(n=1.4
3),ポリ酢酸ビニル(n=1.45〜1.47),ポ
リエチレン(n=1.50〜1.54),ポリプロピレ
ン(n=1.49),ポリメチルメタクリレート(n=
1.49),ポリスチレン(n=1.60),ポリ塩化
ビニリデン(n=1.60〜1.63),ポリビニルブ
チラール(n=1.48),ポリビニルホルマール(n
=1.50),ポリ塩化ビニル(n=1.52〜1.5
5),ポリエステル(n=1.52〜1.57)。
【0034】また、反射層12bとして、第2に、不透
明な反射層があげられ、Cr,Fe,Co,Ni,C
u,Ag,Au,Ge,Al,Mg,Sb,Pb,C
d,Bi,Sn,Se,In,Ga,Rb等の金属及び
その酸化物、窒化物等を単独若しくは2種以上組み合わ
せて用いて形成される。これらの金属のうち、Al,C
r,Ni,Ag,Au等が特に好ましい。この反射層1
2bの形成方法としては、スパッタリング,イオンブレ
ーティング,CVD等の方法や、めっきによって形成す
ることができ、その厚みは200〜1000オングスト
ロームであることが好ましい。この不透明な反射層12
bが設けられると、光回折パターン層12の画像は、不
透明となり銀色を呈する。なお、この光回折パターン形
成層12は、比較的弱い力で破壊されるように形成され
ている。
【0035】支持層14としては、合成樹脂を塗布、溶
融塗布、もしくはラミネート等の積層手段により積層
し、その後光回折パターンを賦型するか、あるいは積層
と共に光回折パターンを賦型することにより、例えばレ
リーフホログラムの形成が可能であり、シールとして使
用する際には光回折パターン形成層12の保護層となり
うるものであれば何でも良いが、通常はプラスチックフ
ィルムの透明なものを用いるのが良く、例えばポリエチ
レン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、
ポリ塩化ビニル、塩化ビニル/酢酸ビニル共重合体、ポ
リ塩化ビニリデン、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチ
レン、ポリビニルブチラール、ポリカーボネート、ポリ
アミド、セルロース系樹脂、ナイロン、アクリル系樹
脂、ふっ素樹脂、等の重合体フィルムも用いられうる。
とりわけ、抗張力、耐熱性を有するポリエチレンテレフ
タレートフィルムが好ましい。又、厚さは1〜200μ
m程度であり、特に10〜50μm程度が好ましい。
【0036】剥離層13は、支持層14と光回折パター
ン形成層12との剥離を確実にするために必要に応じて
設けられ、光回折パターン形成層12又は支持層14と
の接着性が弱い材質の樹脂が用いられ、具体的には、
(1)ポリメチルメタクリレート樹脂と他の熱可塑性樹
脂、例えば塩化ビニル/酢酸ビニル共重合体、ニトロセ
ルロース樹脂、及びポリエチレンワックスとの混合物、
又は、(2)酢酸セルロース樹脂と熱硬化型アクリル樹
脂、メラミン樹脂との混合物等があげられる。
【0037】これらの樹脂を支持層14にグラビア印刷
等で厚さ0.1〜2μm程度に塗布する。なお、必要に
応じてパターン状に塗布し、パターン状剥離層を形成す
ることにより、光回折パターン形成層12の破壊を確実
にすることもできる。ここでパターン状とは、ストライ
プ状、スポット状、地紋、絵柄模様等の支持層14上に
塗膜が不連続に形成されている状態をいう。
【0038】粘着剤層11は、光回折パターンシール1
0を貼付対象物30に貼り付けるためのものであり、種
々のタイプの接着剤がこの層を形成する目的で使用で
き、次のような接着剤が例示される。フェノール系樹
脂、フラン系樹脂、尿素系樹脂、メラミン系樹脂、ポリ
エステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂
若しくはその他の熱硬化性樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、
ポリビニルアルコール樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ
ビニルブチラール樹脂、ポリ(メタ)アクリル系樹脂、
ニトロセルロース、ポリアミド若しくはその他の熱可塑
性樹脂、ブタジエン−アクリロニトリルゴム、ネオプレ
ンゴム若しくはその他のゴム、又は、ニカワ、天然樹
脂、カゼイン、ケイ酸ナトリウム、デキストリン、でん
ぷん、アラビアゴム等のうち1種又は2種以上を主成分
とする接着剤を使用することができる。また、これら接
着剤は、溶液型、エマルジョン型、粉末型又はフィルム
型等のいずれのものでもよく、さらには、常温固化型、
溶剤揮発固化型、融解固化型等のいずれのものでもよ
い。
【0039】さらに、本発明において粘着層11を構成
する材料として、アクリル樹脂、アクリル酸エステル樹
脂、又は、これらの共重合体、スチレンブタジエン共重
合体、天然ゴム、カゼイン、ゼラチン、ロジンエステ
ル、テルペン樹脂、フェノール系樹脂、スチレン系樹
脂、クロマンインデン樹脂、キシレン、脂肪族系炭化水
素、ポリビニルアルコール、ポリエチレンオキシド、ポ
リメチレンオキシド、ポリエチレンスルホン酸等が用い
られうる。さらにまた、加熱により接着性が付与される
感熱接着剤(言い換えればヒートシール剤)を用いるこ
ともできる。感熱接着剤を構成する材料としては、ポリ
エチレン、ポリ酢酸ビニル、又はこれらの共重合体、ア
クリル樹脂又はエチレン−アクリル酸共重合体、ポリビ
ニルブチラール、ポリアミド、ポリエステル、可塑化ク
ロロプレン、ポリプロピレン、ポリビニルアルコール、
ポリカーボネート、ポリビニルエーテル、ポリウレタ
ン、セルロース系樹脂、ワックス類、パラフィン類、ロ
ジン類、アスファルト類等の熱可塑性樹脂、エポキシ樹
脂、フェノール樹脂等の未硬化の熱硬化樹脂があげられ
る。この粘着層11は、光回折パターン形成層12上に
シルク印刷で塗布すること等により設けられ、4〜40
μm程度の厚みに形成される。
【0040】図1のように、シール10は、所定の貼付
対象物30に貼付する前には、離型シート(セパレー
タ)20上に容易に剥離することができるように仮貼付
されている。シール10を離型シート20から剥離する
ときには、シール10が損傷することはない。
【0041】図2は、貼付対象物30上に貼付されたシ
ール10が剥離されるときの様子を示す断面図である。
この貼付対象物30と粘着層11との粘着力は、剥離層
13と光回折パターン形成層12との結合力より強く設
定されている。従って、剥離されるときには、貼付対象
物30と粘着層11とは分離されず、剥離層13と光回
折パターン形成層12との間で層間剥離が発生する。す
なわち、一旦貼付されたシール10を剥離しようとする
と、シール10が破壊され、光回折パターン画像(光回
折パターン形成層12)は貼付対象物30に残る。これ
により、シール10の再利用(張り替え)はできない。
【0042】図3は、本発明による光回折パターンシー
ルの第2の実施例とその使用方法の一実施例を示す断面
図である。図3の光回折パターンシール10A(以下
「シール10A」という。)は、シール10と比較し
て、以下の点が異なる。第1に、粘着層11Aの形状が
異なる。粘着層11Aは、光回折パターン形成層12の
下層に部分的に形成されている。すなわち、光回折パタ
ーン形成層12の下面には、粘着層11Aが設けられた
領域と設けられていない領域とがある。第2に、剥離層
13と光回折パターン形成層12との結合力は、貼付対
象物30と粘着層11との粘着力より強く設定されてい
る。
【0043】次に、シール10Aの使用方法について説
明する。先ず、貼付対象物30上のシール10Aの貼付
予定領域には、接着層40が設けられている。この接着
層40は、従来より公知の接着剤から構成され、この接
着層40と貼付対象物30および粘着層11Aとの接着
力は、剥離層13と光回折パターン形成層12との結合
力、および光回折パターン形成層12を破壊する破壊力
より強く設定されている。
【0044】図4は、シール10Aが貼付対象物30に
貼付されたときの様子を示す断面図である。図4のよう
に、シール10Aが貼付対象物30に貼付されると、接
着層40は粘着層11Aが形成されていない部分に入り
込み、シール10Aの一部の領域は粘着層11Aにより
貼付対象物30に粘着され、一部の領域は接着層40に
より貼付対象物30に接着される。従って、接着層40
が硬化するまではある程度の時間を必要とするが、その
接着層40が硬化するまでは粘着層11Aが貼付対象物
30への初期接着に寄与する。接着層40が硬化する
と、熱を与えたり、剥離液等を用いても、その接着力は
低下しにくくなる。
【0045】貼付対象物30に貼付されたシール10A
が剥離されるときには、最も力の弱い粘着層11Aと貼
付対象物30とが分離される。さらに、シール10Aの
剥離が行われて接着層40の有する位置まで剥離される
と、上述のように、接着層40と貼付対象物30および
粘着層11Aとの接着強度は、剥離層13と光回折パタ
ーン形成層12との結合力、および光回折パターン形成
層12を破壊する破壊力より強く設定されているので、
接着層40と貼付対象物30および粘着層11Aとは分
離されずに、光回折パターン形成層12が破壊され、さ
らには剥離層13と光回折パターン形成層12との間で
層間剥離が発生する。図5は、このときの様子を示す断
面図である。このように、シール10Aを剥離しようと
すると、シール10Aが破壊されてしまい、貼付対象物
30からシール10Aを分離することができない。
【0046】上述のシール10,10Aは、例えば証
券,証明書,通帳,保証書のような証明用媒体に適用す
ることができる。すなわち、シール10,10Aを剥離
して再利用や転用することができないので、シール1
0,10Aの真偽を判別することにより、その証明用媒
体の真偽を判別することができるようになる。
【0047】以下、具体的実施例を挙げて本発明を更に
詳細に説明する。 (実施例1)支持層14として厚み50μmのポリエス
テルフィルムを用い、このフィルムの片面に下記
(1)、(2)、(3)、(4)の各組成物を用い、剥
離層13(厚さ0.5μm)、光回折パターン形成層1
2(厚さ2.5μm)をグラビアコートによる塗布で、
反射層12b(厚さ500オングストローム)を蒸着
で、粘着層11(厚さ20μ)をシルク印刷で順次形成
し、積層した。 (1)剥離層13用組成物 メチルメタクリレート・・・・・5重量部 メタノール・・・・・・・・・25重量部 MEK・・・・・・・・・・・45重量部 トルエン・・・・・・・・・・25重量部 (2)光回折パターン形成層12用組成物 アクリル樹脂・・・・・・・・40重量部 メラミン樹脂・・・・・・・・10重量部 アノン・・・・・・・・・・・50重量部 MEK・・・・・・・・・・・50重量部 (3)反射層12b用材料 アルミニウム (4)粘着層11用組成物 アクリル系粘着剤・・・・・・100重量部 (日本カーバイド工業(株)、ニッセツPE−118、
40%トルエン/酢酸エチル溶液) ポリイソシアネート系架橋剤・・・固形分換算で1重量
部 (日本ポリウレタン(株)、コロネートL) トルエン・・・・・・・・・・50重量部 酢酸エチル・・・・・・・・・50重量部 得られた光回折パターンシールを、手貼りにて証書の記
載欄上に貼り付け、この貼り付けられた光回折パターン
シールを注意深く剥がそうとしても破壊してしまい、そ
っくりそのままの形で剥がすことは不可能であった。
【0048】(実施例2)実施例1におけるアルミニウ
ムからなる反射層12bのかわりに、ZnSを600オ
ングストロームの厚さに真空蒸着したところ同様の効果
が得られた。
【0049】(実施例3)実施例2と同様に、Tiを酸
素雰囲気中で500オングストロームの厚さに蒸着して
反射層12bを形成し、実施例1と同じ粘着層11用組
成物を40μmの厚さで、シルク印刷によりパターン状
に形成した。得られた光回折パターンシールを、手貼り
にて部分的に接着層40が形成されているカードの表面
に貼り付け、この貼り付けられた光回析パターンシール
を注意深く剥がそうとしても、接着層40の部分に相当
する光回析パターン層12がカードに残ってしまい、そ
っくりそのままの形で剥がすことはできなかった。
【0050】以上、本発明の実施例について説明した
が、本発明は、上述した実施例に限定されることなく、
その要旨を逸脱しない範囲内で種々の変形が可能であ
る。例えば、図3において、接着層40は、シール10
Aに設けずに貼付対象物30上に設けたが、これに限ら
ず、シール10Aの光回折パターン形成層12の下層の
粘着層11Aが設けられていない領域に設けることもで
きる。このときには、貼付対象物30には接着層40の
形成は不要である。
【0051】また、剥離層13を設けた場合の支持層1
4と光回折パターン形成層12との剥離は、前述のよう
に剥離層13と光回折パターン形成層12との間での剥
離以外に、剥離層13と支持層14との間でも良く、ま
た、剥離層13自体が2つに分かれるようにしても良
い。
【0052】
【発明の効果】本発明による光回折パターンシールによ
れば、熱を与えたり剥離液を用いても貼付された光回折
パターンシールを剥離することができず、剥離しようと
すると光回折パターンシールが破壊されてしまうように
したので、光回折パターンシールの再利用や転用ができ
なくなる。これにより、光回折パターンが有する偽造の
困難性を十分に発揮させることができる。また、粘着層
を部分的に設けることにより、曲面にも容易に貼付する
ことができるようになる。さらに、粘着層と接着層とを
用いて光回折パターンシールを貼付することにより、こ
の粘着層が貼付対象物への初期接着に寄与するようにな
り、貼付作業の容易化を図ることができる。さらにま
た、離型シートに仮貼着しておくことにより、光回折パ
ターンシールの個数管理等が簡便になる。
【0053】本発明による光回折パターンシールの使用
方法によれば、予め光回折パターンシールに接着層を設
けなくとも、剥離が不可能に貼付対象物に貼付すること
ができるようになる。また、偽造を防止する貼付対象物
に対してのみ、その貼付対象物上に接着層を設ければ良
いので、偽造防止の有無にかかわらず、光回折パターン
シールの共通化を図ることができる。
【0054】本発明による光回折パターンシールを用い
た証明用媒体によれば、上述の光回折パターンシールを
証明用媒体に貼付するようにしたので、その証明用媒体
の偽造ができなくなり、セキュリティ性の向上を図るこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明における光回折パターンシールの第1の
実施例の構成を示す断面図である。
【図2】貼付対象物30に貼付されたシール10が剥離
されるときの様子を示す断面図である。
【図3】本発明における光回折パターンシールの第2の
実施例とその使用方法の一実施例を示す断面図である。
【図4】シール10Aが貼付対象物30に貼付されたと
きの様子を示す断面図である。
【図5】シール10Aが貼付対象物30から剥離される
ときの様子を示す断面図である。
【符号の説明】
10,10A 光回折パターンシール 11,11A 粘着層 12 光回折パターン形成層 12a 樹脂層 12b 反射層 13 剥離層 14 支持層 20 離型シート 30 貼付対象物 40 接着層

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光回折パターンによる画像が形成された
    光回折パターン形成層と、 前記光回折パターン形成層の上部に設けられた透明また
    は半透明の支持層と、 前記光回折パターン形成層の下層に設けられ、貼付対象
    物と粘着する粘着層とを備えることを特徴とする光回折
    パターンシール。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載の光回折パターンシール
    において、 前記支持層の下層に設けられ、かつ、前記光回折パター
    ン形成層と剥離可能に結合する剥離層を備えることを特
    徴とする光回折パターンシール。
  3. 【請求項3】 請求項1または2に記載の光回折パター
    ンシールにおいて、 前記粘着層は、部分的に設けられていることを特徴とす
    る光回折パターンシール。
  4. 【請求項4】 請求項1〜3のいずれか1項に記載の光
    回折パターンシールにおいて、 前記粘着層の前記貼付対象物に粘着されたときの粘着力
    は、前記支持層と前記光回折パターン形成層との結合力
    より強く設定されていることを特徴とする光回折パター
    ンシール。
  5. 【請求項5】 請求項3に記載の光回折パターンシール
    において、 前記光回折パターン形成層の下層であって前記粘着層が
    設けられていない領域の少なくとも一部に接着層を備え
    ることを特徴とする光回折パターンシール。
  6. 【請求項6】 請求項5に記載の光回折パターンシール
    において、 前記支持層と前記光回折パターン形成層との結合力は、
    前記粘着層の前記貼付対象物に粘着されたときの粘着力
    より強く設定されており、 前記接着層の前記貼付対象物に接着されたときの接着力
    は、前記支持層と前記光回折パターン形成層との結合
    力、および前記光回折パターン形成層を破壊する破壊力
    より強く設定されていることを特徴とする光回折パター
    ンシール。
  7. 【請求項7】 請求項1〜6のいずれか1項に記載の光
    回折パターンシールにおいて、 前記粘着層上に設けられ、前記粘着層と剥離可能に粘着
    する離型シートを備えることを特徴とする光回折パター
    ンシール。
  8. 【請求項8】 請求項1〜3のいずれか1項に記載の光
    回折パターンシールの使用方法であって、 前記貼付対象物および前記粘着層に接着されたときの接
    着力が、前記粘着層の前記貼付対象物に粘着されたとき
    の粘着力、および前記支持層と前記光回折パターン形成
    層との結合力、および前記光回折パターン形成層を破壊
    する破壊力より強く設定された接着層を前記貼付対象物
    上に設け、 前記接着層を含む領域に前記光回折パターンシールを貼
    付することにより、その貼付面の領域の一部を前記接着
    層により接着させ、かつ、前記貼付面の他の領域の一部
    を前記粘着層により粘着させることを特徴とする光回折
    パターンシールの使用方法。
  9. 【請求項9】 所定の証明情報が記録された基体と、 前記基体上に貼付された請求項1〜6のいずれか1項に
    記載の光回折パターンシールとを備えることを特徴とす
    る光回折パターンシールを用いた証明用媒体。
JP5314373A 1993-11-19 1993-11-19 光回折パターンシールとその使用方法、および光回折パターンシールを用いた証明用媒体 Pending JPH07140899A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2011137847A (ja) * 2009-12-25 2011-07-14 Dainippon Printing Co Ltd ホログラムラベル
JP2012247626A (ja) * 2011-05-27 2012-12-13 Toppan Printing Co Ltd 貼り替え防止ラベル

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