JP2000047555A

JP2000047555A - 光回折構造を有する物品の製造方法

Info

Publication number: JP2000047555A
Application number: JP21059398A
Authority: JP
Inventors: Takashi Aono; 隆青野
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 1998-07-27
Filing date: 1998-07-27
Publication date: 2000-02-18

Abstract

(57)【要約】【課題】本発明は、光回析構造の光反射層にレーザー
光の照射による絵柄、模様等の表示や、文字、画像等の
記録を施した光回折構造を有する物品を製造する際に、
レーザー光の照射による熱の悪影響を前記物品に及ぼす
ことなく、レーザー光の照射による絵柄、模様等の表示
や、文字、画像等の記録を施すことができる光回折構造
を有する物品の製造方法を提供するものである。【解決手段】本発明の光回折構造を有する物品の製造
方法は、基材上に光回折構造形成層、光反射層が積層さ
れてなる物品の前記光反射層に、レーザー光を照射して
前記光反射層の一部を破壊する手段を有する光回折構造
を有する物品の製造方法において、前記レーザー光にパ
ルスレーザー光を用いたことを特徴とするものである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ホログラムや回折
格子を形成した光回折構造を有する物品の製造方法に関
するものである。特に、前記光回折構造の光反射層にパ
ルスレーザー光を照射して、前記光反射層の一部を破壊
することにより絵柄、模様等の表示や、文字、画像等の
記録を形成する光回折構造を有する物品の製造方法に関
するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来から、クレジットカード、キャッシ
ュカード、商品券、ビデオテープケース、書籍等の物品
の全面あるいは一部に、各種の絵柄、模様等の表示や、
文字、画像等の記録が形成されてなるホログラムや回折
格子等の光回折構造を有する光回折構造を有する物品は
すで種々使用されて知られている。これらの光回折構造
は、一般的に光回折構造形成層と光反射層を積層して形
成した構造である。

【０００３】従来、これらの光回折構造への記録表示を
形成する方法として、例えば、回折格子やホログラムの
干渉縞を表面凹凸のレリーフとして記録する場合には、
回折格子や干渉縞が凹凸の形で記録表示された原版をプ
レス型として用い、支持体シート上に離型性樹脂層、保
護層を順に積層した積層シートの保護層の上に、光回析
構造形成層用樹脂の塗布液をグラビアコート法、ロール
コート法、バーコート法などの手段で塗布して、塗膜を
形成し、その上に前記原版を重ねて加熱ロールなどの適
宜手段により、両者を加熱圧着することにより、原版の
凹凸模様を光回析構造形成層に複製して各種の記録表示
を形成している。このように、表面凹凸のレリーフとし
て回析格子やホログラムの干渉縞を光回析構造層の表面
に記録表示する方法は、量産性があり、コストも低くで
きるものである。

【０００４】しかしながら、上記したような従来の光回
折構造への記録表示では、原版の凹凸模様を光回析構造
形成層に複製して記録表示を形成するため、同一の記録
表示内容を量産する場合には好ましいが、各種の異なる
記録表示を有する光回析構造を多品種作製したい場合
や、可変情報を光回析構造に記録表示したい場合等には
作製しにくく、また生産効率が悪いという欠点がある。

【０００５】そこで、上記したような光回析構造形成層
への凹凸模様記録表示の他にも、光回折構造に新たな記
録表示を行う製造方法として、例えば、既に特公平６−
８５１０２、特公平６−９０５９０において公知となっ
ている方法がある。上記の公知技術では、あらかじめホ
ログラムが転写されたホログラムを有するカードを作製
しておき、このカードのホログラム層に接する反射層上
にレーザー光を照射して、反射層に孔を空けることで、
光反射層に記録表示するものである。

【０００６】しかしながら、上記したようなホログラム
を有するカードのホログラム層に対して、レーザー光を
照射する方法では、光反射層以外の部分にも熱が蓄積さ
れ、カード基材の塩化ビニルが焦げて黒くなるなどの危
険性がある。焦げる原因としては、カード基材として使
用されているもの、例えば、紙、プラスチック等には、
着色されているものが多く、この着色のための顔料がレ
ーザー光を吸収し、カード基材の損傷の原因となってい
ることがある。また、カードがＩＳＯに準拠した磁気カ
ードとして使用される場合、厚さ２８０μｍの白色ポリ
塩化ビニル（以下、ＰＶＣ）シートをコアシートとし
て、これを２枚重ね、その両側にそれぞれ厚さ１００μ
ｍの透明ＰＶＣシートをオーバーシートとして重ねて、
熱プレスなどにより積層する４層構成の基材シート（合
計厚さ０．７６ｍｍ）が用いられるが、この基材シート
上にホログラム箔を転写し、その後にレーザー光による
ホログラム箔の加工を行った場合、次のような問題が生
じる。コアシート−オーバーシート間にレーザーを吸収
する顔料（例えばカーボンブラックによる黒色など）の
印刷が施されている場合、その上に転写されているホロ
グラム箔に対してレーザー加工を行うと、レーザーを照
射された部分において表面が凸状に膨らんだ状態とな
る。

【０００７】この現象について厳密な分析、検証を行っ
たわけではないので正確なところはわからないが、外観
及び状況から考えて次のようなことが予想される。レー
ザー加工は金属層を破壊することであり、金属層が破壊
されることでレーザー光は基材に照射される。そのた
め、レーザーは黒色インキ部によって吸収され、インキ
が気化され、体積が膨張しオーバーシート層を押し上げ
る。その結果、カード表面はレーザーが照射された部分
において凸状に膨らむと思われる。また、カード基材の
表面に形成した印刷インキの色が、レーザー光を吸収し
やすい色を使用した場合に特に悪影響があり、例えば、
カーボン黒にシリカやそれらの絵柄と重ね合わせた際の
種々の条件の違いにより、レーザー光に対する影響が異
なり、従って、使用する印刷インキの色の制約もでてく
るという問題がある。

【０００８】また、ホログラムや回折格子等の光回折構
造は、それを各種物品に貼付することで物品の偽造防止
効果を図る目的に使用されることが多いが、これらの光
回折構造を偽造して、本物の物品を真似た模造品に貼る
ことで、体裁上もその模造品を本物であるかの如く整え
て模造品が販売される場合がある。従って、ホログラム
や回折格子等の光回折構造に対する偽造防止対策を図る
必要もある。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】上記したように、あら
かじめ光回折構造を各種物品に設けた状態で、前記光回
折構造の光反射層にレーザー光を照射して、光反射層に
各種の記録表示を施す方法においては、レーザー光の照
射による物品基材への悪影響がある場合があり、レーザ
ー光の照射に際して、物品基材毎にその材質のレーザー
光による影響を考慮したり、物品基材表面における印刷
インキや加工状況によりレーザー光の照射条件を変更す
る等の必要があり、光反射層へのレーザー光による加工
に際して、様々な制約があった。本発明は、レーザー光
の照射による物品への悪影響をできるだけ軽減させ、光
回析構造の光反射層にレーザー光の照射による絵柄、模
様等の表示や、文字、画像等の記録を施した光回折構造
を有する物品を製造することができ、またレーザー光の
照射による表示が偽造防止上にも役立つことのできる光
回折構造を有する物品の製造方法を提供するものであ
る。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、本発明の光回折構造を有する物品の製造方法は、
基材上に光回折構造形成層、光反射層が積層されてなる
物品の前記光反射層にレーザー光を照射して、前記光反
射層を破壊する手段を有する光回折構造を有する物品の
製造方法において、前記レーザー光にパルスレーザー光
を用いて前記光反射層を破壊することを特徴とするもの
である。

【００１１】また、前記光反射層を破壊する手段によ
り、微細構成子の繰り返しパターン模様を形成すること
を特徴とする光回折構造を有する物品の製造方法であ
る。

【００１２】

【発明の実施の形態】以下に本発明の光回折構造を有す
る物品の製造方法について、その材料および製造方法な
ど、発明の実施の形態について詳しく説明する。光回折
構造を有する物品の製造方法として、後述の光回折構造
転写箔に用いて物品上に光回折構造形成層、光反射層を
転写する方法や、光回折構造形成層、光反射層を積層し
たシートを物品に貼付する方法等がある。ここでは光回
折構造転写箔について説明する。

【００１３】〔光回折構造転写箔について〕（支持体）本発明における物品を光回折構造転写箔に用
いる場合、その支持体としては、その上に積層する各
層、即ち、離型性樹脂層、保護層、光回折構造形成層、
光反射層、接着層の各層を、順次コーティングなどによ
り形成する際の耐熱性および耐溶剤性、また、形成され
た光回折構造転写層をカードなど物品の基材に転写する
際、熱転写方式を利用する場合には、その耐熱性が必要
であり、これらの性能を備えたプラスチックフィルム、
例えば２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム
（以下、単に、ＰＥＴフィルムと表示する）などを使用
することができる。ＰＥＴフィルムを使用する場合、そ
の厚さは、５〜２５０μｍのものが好ましく、加工適性
や引張強度、熱転写の際の熱効率などを考慮すると２０
〜５０μｍが更に好ましい。

【００１４】（離型性樹脂層）支持体の少なくとも一方
の面に、コーティングなどにより積層する離型性樹脂層
は、支持体にはよく接着し、その上に形成する保護層の
樹脂を比較的容易に剥離でき、且つ、耐熱性、耐溶剤性
などに優れた樹脂で形成することが好ましい。このよう
な樹脂としては、例えば、メラミン系樹脂など架橋性に
優れた各種熱硬化性樹脂が好適に使用できる。このよう
な樹脂は、架橋度合いを制御して用いることにより、転
写の際の剥離力を適宜調整することも可能である。離型
性樹脂層は、リバースロールコーターなどによるコーテ
ィング方式で形成することができ、その厚さは薄くてよ
く０．１〜４μｍ程度で充分である。

【００１５】（保護層）前記離型性樹脂層の上に設ける
保護層は、転写後、カードなどの最外層となって下側の
層を保護するものであり、透明性、耐擦傷性、耐摩耗
性、耐熱性、耐薬品性、耐汚染性などを兼ね備えた樹脂
が適している。このような樹脂としては、例えば、電離
放射線硬化型樹脂が挙げられ、具体的には、ポリウレタ
ンアクリレート、ポリエステルアクリレート、エポキシ
アクリレート、ポリエーテルアクリレートなどが挙げら
れ、これらはそれぞれのプレポリマーに粘度、或いは架
橋密度を調整するために多官能または単官能のモノマー
を添加して用いてもよく、また、必要に応じて公知の光
反応開始剤、増感剤を添加して用いてもよい。このほ
か、ポリエン／チオール系の電離放射線硬化型樹脂など
も耐摩耗性に優れており好ましく使用できる。

【００１６】以上のような保護層用樹脂には、更に必要
に応じて、界面活性剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤など
の添加剤を加えることもできる。また、保護層を設ける
方法は、前記保護層用樹脂組成物で塗布液を作製し、従
来公知の各種ロールコーティング方式やグラビアコーテ
ィング方式で塗布した後、ＵＶ（紫外線）照射、または
ＥＢ（電子線）照射などにより樹脂を硬化させて保護層
を形成することができる。尚、前記塗布液には粘度調整
のため、必要に応じて適当な有機溶剤を添加してもよ
く、その場合には塗布後、先ず有機溶剤を除くための熱
風乾燥を行い、次いでＵＶまたはＥＢの照射により樹脂
の硬化を行えばよい。

【００１７】このような保護層の厚さは、光回折構造転
写層全体の厚さを薄くするために、０．５〜４．０μｍ
の範囲にすることが好ましい。保護層の厚さが０．５μ
ｍ未満の場合は、充分な耐擦傷性、耐摩耗性が得られ
ず、また、４．０μｍを超える厚さは、既に耐摩耗性は
充分にあるため必要性がなく、むしろ、光回折構造転写
層全体の厚さが増し、磁気記録・読み取り特性が低下す
るおそれがあるため好ましくない。

【００１８】（光回折構造形成層）前記保護層の上に
は、光回折構造形成層、即ち、ホログラムまたは回折格
子を形成した層を設ける。光回折構造自体は、平面ホロ
グラム、体積ホログラムともに使用でき、具体例として
は、レリーフホログラム、リップマンホログラム、フル
ネルホログラム、フラウンホーファホログラム、レンズ
レスフーリエ変換ホログラム、レーザー再生ホログラム
（イメージホログラムなど）、白色光再生ホログラム
（レインボーホログラムなど）、カラーホログラム、コ
ンピュータホログラム、ホログラムディスプレイ、マル
チプレックスホログラム、ホログラフィックステレオグ
ラム、ホログラフィック回折格子などが挙げられる。

【００１９】これらの光回析構造を形成する形成層の材
料には、ポリ塩化ビニル、アクリル樹脂（例、ＰＭＭ
Ａ）、ポリスチレン、ポリカーボネートなどの熱可塑性
樹脂、不飽和ポリエステル、メラミン、エポキシ、ポリ
エステル（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アク
リレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエーテ
ル（メタ）アクリレート、ポリオール（メタ）アクリレ
ート、メラミン（メタ）アクリレート、トリアジン系ア
クリレートなどの熱硬化性樹脂をそれぞれ単独、或いは
上記熱可塑性樹脂と熱硬化性樹脂とを混合して使用する
ことができ、更には、ラジカル重合性不飽和基を有する
熱成形性物質、或いは、これらにラジカル重合性不飽和
単量体を加え電離放射線硬化性としたものなどを使用す
ることができる。このほか、銀塩、重クロム酸ゼラチ
ン、サーモプラスチック、ジアゾ系感光材料、フォトレ
ジスト、強誘電体、フォトクロミックス材料、サーモク
ロミックス材料、カルコゲンガラスなどの感光材料など
も使用できる。

【００２０】上記の材料を用いて光回析構造を形成する
方法は、従来既知の方法によって形成することができ、
例えば、回折格子やホログラムの干渉縞を表面凹凸のレ
リーフとして記録する場合には、回折格子や干渉縞が凹
凸の形で記録された原版をプレス型として用い、前記支
持体上に離型性樹脂層、保護層を順に積層した積層シー
トの保護層の上に、前記光回析構造形成層用樹脂の塗布
液をグラビアコート法、ロールコート法、バーコート法
などの手段で塗布して、塗膜を形成し、その上に前記原
版を重ねて加熱ロールなどの適宜手段により、両者を加
熱圧着することにより、原版の凹凸模様を複製すること
ができる。また、フォトポリマーを用いる場合は、前記
積層シートの保護層上に、フォトポリマーを同様にコー
ティングした後、前記原版を重ねてレーザー光を照射す
ることにより複製することができる。このように、表面
凹凸のレリーフとして回析格子やホログラムの干渉縞を
光回析構造層の表面に記録する方法は、量産性があり、
コストも低くできる点で特に好ましい。このような光回
折構造形成層の膜厚は０．１〜６μｍの範囲が好まし
く、０．１〜４μｍの範囲が更に好ましい。

【００２１】（光反射層）前記のように光回折構造形成
層の表面に凹凸のレリーフとして回折格子やホログラム
の干渉縞を記録し、その回析効率を高めるために光反射
層をレリーフ面に形成する。光反射層の材質としては、
アルミニウム（Ａｌ）、亜鉛（Ｚｎ）、インジウム（Ｉ
ｎ）、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、コバルト（Ｃｏ）、ス
ズ（Ｓｎ）、セレン（Ｓｅ）、チタン（Ｔｉ）、鉄（Ｆ
ｅ）、テルル（Ｔｅ）、銅（Ｃｕ）、鉛（Ｐｂ）、ニッ
ケル（Ｎｉ）、パラジウム（Ｐｄ）などの単体金属、も
しくはそれらの合金がある。

【００２２】光反射層の薄膜の形成方法としては、真空
蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法な
どの薄膜形成法が挙げられる。薄膜は、色調、デザイ
ン、用途等に応じて適切な条件を設定すればよいが、５
０Å〜１μｍの範囲が好ましく、更には１００〜１００
０Åがより好ましい。透明性を有する着色光反射層を設
けたい場合は、膜厚を２００Å以下にするのが好まし
い。また、隠蔽性を有する着色光反射層を設けたい場合
は、膜厚を２００Å以上にするのが望ましい。薄膜は、
上記のように、転写箔の用途、トータルデザインを考慮
し、色調、隠蔽性あるいは透明性等の必要に応じて設定
することができる。

【００２３】（接着層）光回折構造転写箔は、前記光反
射層の上にあらかじめ接着層を設けないで、カード基材
上に光回折構造転写層を転写する際に、接着剤を光反射
層上に塗布してから接着してもよいし、または、あらか
じめ前記光反射層の上に接着層を形成した状態で光回折
構造転写箔を構成しておいてもよく、光回折構造を有す
る物品の製造工程を定める時に選択すればよい。これら
接着層の材質は、光反射層との接着性がよく、且つ転写
に際して、カードなど物品の被転写体に対しても強固に
接着できるものが好ましい。具体的には、塩化ビニル系
樹脂、酢酸ビニル系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重
合体系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポ
リウレタン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ゴム変性物など
が挙げられ、これらの中から適するものを適宜選択して
使用でき、また、これらは単体、もしくは２種以上の混
合系で、更に必要に応じてハードレジンや可塑剤、その
他の添加剤を加えて使用することができる。

【００２４】上記のような材料で形成される接着層は、
通常、上記材料を溶液状の塗布液とし、これをロールコ
ーターなどで塗布、乾燥することによって形成できる。
接着層の厚さは、０．５〜５μｍの範囲が好ましく、
１．５〜３μｍの範囲が更に好ましい。以上のようにし
て、支持体の離型性樹脂層の上に、光回折構造転写層と
して、保護層、光回析構造形成層、光反射層、接着層が
順に積層された光回折構造転写箔が製造できる。但し、
前記の接着層は、上記したようにあらかじめ光反射層上
に積層しておいてもよいし、また接着層を光反射層上に
積層しない状態としておき、光回折構造転写層を転写す
る際に接着剤を塗布するようにしてもよい。この場合、
あらかじめ光反射層上に接着層を設けた場合には、接着
剤を広幅で塗布して製造することができるので、生産効
率が良い。上記の工程において作製された光回折構造転
写箔の接着層を、カードなどの物品の被転写体の表面に
合せて重ね、熱プレス装置、またはホットスタンピング
装置などにより加熱、圧着することにより、接着層が溶
融または軟化し被転写体表面に接着する。その後、光回
折構造転写箔の支持体を引き剥がすことにより、剥離性
樹脂層と保護層との界面で容易に剥離し、保護層を最外
層とする光回折構造転写箔が被転写体に転写される。

【００２５】上記の被転写体に転写された光回折構造転
写層に対して、前記光反射層にパルスレーザー光を用い
て、施したい絵柄、模様等の表示や、文字、画像等の記
録の部分にパルスレーザー光を照射することで、パルス
レーザー光が照射された光反射層の部分を破壊して、絵
柄、模様、文字、記録等を前記光反射層に形成すること
で光回折構造を有する物品を製造する。

【００２６】また、前記光反射層に照射するパルスレー
ザー光は、ごくわずかな時間の間のみ高出力を有する光
であるため、熱が基材などに蓄積しないため、その部分
での変形、変質等のダメージを起こさずにデザイン加
工、文字の描写等を行うことができるものである。その
結果、パルスレーザー光の出力など安定にレーザー加工
を行うことが可能な条件を広く設定することができるの
で、パルスレーザー光の出力変動などの影響を受けずに
安定した加工を行うことができる。これに対して、連続
光のレーザー光は、一定時間の間、常に同じ出力を保っ
ている光であるために、熱が基材などに蓄積し、その部
分での変形、変質等のダメージを起こす危険性がある。

【００２７】また、本発明による光回折構造を有する物
品の製造方法は、物品上に光回折構造形成層、光反射層
が積層されてなる光回折構造層に、パルスレーザー光を
照射して、前記光反射層の一部を破壊することにより絵
柄、模様等の表示や、文字、画像等の記録を前記光反射
層に形成するものであるため、パルスレーザー光の照射
をコントロールすることで、様々な種類の異なる絵柄、
模様等のデザイン表示や、顔写真等の画像情報表示、そ
して物品毎に異なる機械読み取り可能な情報、例えばバ
ーコード、ＯＣＲ文字、ＯＭＲ等の記録表示を光反射層
の破壊により形成できるので、記録表示の選択の幅が広
く選べ、各種の用途に適応することができる。

【００２８】〔光回折構造を有する物品について〕前記
光回折構造転写箔は、各種の物品上に、その光回析構造
転写層を転写するものであり、主たる転写対象物である
物品は、特にセキュリティー性を持たせる必要がある情
報媒体、例えばクレジットカード、キャッシュカード、
ＩＤカード等のカード類、商品券、株券等の金券類、身
分証明書、パスポート、運転免許証等が挙げられ、これ
らのものに光回折構造を付けることにより偽造、変造防
止および真偽判定の判断に役立つ効果があるものであ
る。また、セキュリティー性を持たせる必要がない媒体
においても、パルスレーザー光を照射して、前記光反射
層の一部を破壊することにより絵柄、模様等のデザイン
表示を施すことで、意匠性にすぐれたデザイン効果が期
待できるので、時計、鞄、装身具、容器、化粧品、電化
製品等の様々な物品に光回折構造を付けてもよく光回折
構造転写層の表面が耐摩耗性など物性に優れていること
から、各種の物品全般に広く使用できるものである。

【００２９】また、本発明に使用するパルスレーザー光
としては、ＣＷのレーザー光を外部変調器でその出力を
制御する方法、また、Ｑスイッチをレーザー共振器内に
挿入しＱスイッチのスイッチングによってレーザー媒質
に蓄積されたエネルギーを瞬時に出力させる方法があ
る。前者のレーザーの具体例としてアルゴンレーザーや
Ｈｅ−Ｎｅレーザー、ＹＡＧレーザー、半導体レーザー
などがあり、外部変調器としてメカニカルシャッター、
Ａ／Ｏ変調素子、Ｅ／Ｏ変調素子などをＱスイッチとし
て挿入し、共振器のＱ値をコントロールすることにより
数十ナノから数百ナノ秒の時間幅のパルス光を発生させ
ることができる。

【００３０】

【実施例】以下に、本発明の光回折構造を有する物品の
製造方法の具体的な実施例として、被転写体にカード媒
体を用いた、光回折構造を有するのカード媒体を製造す
る場合を例に挙げて詳細に説明する。旦し、本発明はこ
れらの図面および実施例に限定されるものではない。

【００３１】図１は、光回折構造転写箔の一実施例の構
成を説明する模式断面図である。図１において、光回折
構造転写箔２０は、支持体１の一方の面に離型性樹脂層
２を設け、更にその離型性樹脂層２の上に、光回折構造
転写層７として、保護層３、光回折構造形成層４、光反
射層５、接着層６を順に積層して構成されると共に、前
記保護層３には、厚さ０．５〜４．０μｍの電離放射線
硬化型樹脂を用いて、被転写体に転写後の光回析構造転
写層７の耐摩耗性がテーバー形アブレーザーによる耐摩
耗試験で１００回以上の耐久性を有するように構成され
ている。また、光回折構造形成層４には、ホログラムレ
リーフ８が形成されている。

【００３２】そして、カードの基材シート１４に光回折
構造転写層７を転写する際には、例えば、光回折構造転
写箔２０の接着層６面を基材シート１４に合わせて重
ね、熱プレス装置、またはホットスタンピング装置など
により支持体１側から加熱、圧着することにより、接着
層６が溶融または軟化し被転写体表面に接着する。その
後、支持体１を引き剥がすことにより、離型性樹脂層２
と保護層３との界面で容易に剥離し、保護層３を最外層
とする光回折構造転写層７が被転写体であるカードに転
写される。

【００３３】本発明における光回折構造を有する物品
を、カード媒体に適応する場合の基材シート１４として
は、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、ポリカーボネー
ト、ポリアミド、ポリイミド、セルロースジアセテー
ト、セルローストリアセテート、ポリスチレン系樹脂、
アクリル樹脂、ポリプロピレン、ポリエチレンなどの樹
脂のほか、アルミニウム、銅などの金属、紙、そして、
樹脂またはラテックス等の含浸紙などの単独、或いは複
合体シートなどを用いることができる。

【００３４】このような基材シート１４の厚さは、材質
によっても異なるが、通常、１０μｍ〜５ｍｍ程度の範
囲である。特に磁気カードの場合、基材シート１４をＩ
ＳＯ規格に準拠したものとする場合には、その厚さは
０．７６ｍｍである。そして、基材シート１４をポリ塩
化ビニル（以下、ＰＶＣ）で形成する場合、通常、厚さ
２８０μｍの白色ＰＶＣシートをコアシートとして、こ
れを２枚重ね、その両側にそれぞれ厚さ１００μｍの透
明ＰＶＣシートをオーバーシートとして重ねて、熱プレ
スなどにより積層する４層構成の基材シート１４（合計
厚さ０．７６ｍｍ）が用いられている。この場合、磁気
記録層は、前記透明ＰＶＣシート（オーバーシート）の
表面にテープ状または全面状に予め設けておくことによ
り、熱プレスなどによる積層時に、テープ状であっても
基材シート１４に押し込まれ、表面平滑に一体化され積
層される。

【００３５】以下に具体的な実施例を挙げて説明する。〔実施例１〕（光回折構造転写箔の作製）図１に示すように支持体１
として、厚さ２５μｍの２軸延伸透明ＰＥＴフィルム
（片面コロナ放電処理）を用い、そのコロナ放電処理面
に、下記組成の離型性樹脂層用塗布液をグラビアリバー
スコート法により、乾燥時の厚さが０．５μｍとなるよ
うに塗布して、離型性樹脂層２が積層された支持体１を
作製した。離型性樹脂層用塗布液の組成メラミン系樹脂５重量部溶剤メチルアルコール２５重量部溶剤エチルアルコール４５重量部酢酸セルロース樹脂１重量部パラトルエンスルフォン酸０．０５重量部

【００３６】次に、前記離型性樹脂層２の上に、下記組
成の保護層用塗布液をグラビアリバースコート法によ
り、硬化後の厚さが０．５μｍとなるように塗布し、紫
外線照射装置（出力１６０Ｗ／ｃｍの高圧水銀ランプ２
灯式）により、紫外線を照射量５００ｍＪ／ｃｍ²で照
射して塗膜の硬化を行い、保護層３を形成した。保護層用塗布液の組成ポリウレタンアクリレート（プレポリマー）２０重量部ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート１００重量部２−ヒドロキシエチルアクリレート５重量部光重合開始剤１重量部増感剤１重量部

【００３７】次に、前記保護層３の上に、下記組成の光
回折構造形成層用塗布液をグラビアリバーズコート法に
より、乾燥時の厚さが２μｍとなるように塗布し、１０
０℃、１分間の条件で乾燥させて光回折構造を形成する
ための樹脂層を形成した。光回折構造形成層用塗布液の組成アクリル樹脂４０重量部メラミン樹脂１０重量部溶剤シクロヘキサノン５０重量部溶剤メチルエチルケトン２５重量部

【００３８】前記光回折構造を形成するための樹脂層の
上に、ホログラム原版を載置し、１５０℃、５０ｋｇ／
ｃｍ²、１分間の条件で加熱圧着してホログラムレリー
フ８を型付けした後、ホログラム原版を剥離してホログ
ラムレリーフ８を備えた光回析構造形成層４を形成し
た。

【００３９】次に、前記光回析構造形成層４のホログラ
ムレリーフ形成面に、マグネトロンスパッタリング方式
によりアルミニウム（Ａｌ）を用いて、膜厚５００Åの
薄膜層を形成して光反射層５とした。

【００４０】前記光反射層５の上に、下記組成の接着層
用塗布液をグラビアリバースコート法により、乾燥時の
厚さが２μｍとなるように塗布、乾燥して接着層６を形
成し、実施例１の光回析構造転写箔を作製した。接着層用塗布液の組成塩化ビニルー酢酸ビニル共重合体２０重量部アクリル樹脂１０重量部溶剤酢酸エチル２０重量部溶剤トルエン５０重量部以上のように作製した実施例１の光回折構造転写箔２０
の各層の厚さ構成は下記の通りである。支持体シート
（２５μｍ）／離型性樹脂層（０．５μｍ）／保護層
（０．５μｍ）／光回折構造形成層（２μｍ）／光反射
層（５００Å）／接着層（２μｍ）

【００４１】次に、図２に示すように、厚さ０．７６ｍ
ｍのポリ塩化ビニルシート（白色コアシート２枚、透明
オーバーシート２枚の４層積層構成）からなる被転写体
の基材シート１４に対して、ホットスタンブ装置によ
り、１５０℃、１０ｋｇ／ｃｍ ²、１秒間の条件で基材
シート１４の表面に、光回折構造転写箔２０の光回折構
造転写層７を加熱圧着して転写した後、離型性樹脂層２
と支持体シート１を剥離し、光回折構造を有するカード
３０を作製した。

【００４２】次に、ＹＡＧレーザー発振器を用いて、レ
ーザー光光源９からピーク出力１０ｋＷ／時間幅０．２
μＳ、ビーム径１００μｍに絞り込んだパルス光を対物
レンズ１１により、保護層側から光反射層５に集光させ
ることで、パルスレーザー光１０により光反射層５の一
部を連続的に破壊することで破壊部１２による顔画像１
３及び微細構成子の繰り返しパターン模様１５を形成し
て、実施例１の光回折構造を有するカード３０を作製し
た。

【００４３】

【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明の
光回折構造を有する物品の製造方法は、光回折構造を有
する状態の物品や、また光回折構造転写箔等における光
反射層に対して、レーザー光を照射して、前記光反射層
の一部を破壊することにより絵柄、模様等の表示や、文
字、画像等の記録を形成する際に、パルスレーザー光を
用いているので、パルスレーザー光の照射による物品へ
の悪影響、つまり、レーザー光の熱の影響による物品の
変色、変形、損傷などの心配がない。従って、従来熱の
影響を受けやすい素材を用いた物品に対しても、光反射
層に絵柄、模様等の表示や、文字、画像等の記録を形成
することが可能となり、幅広い製品への展開ができるよ
うになった。また、パルスレーザー光により光反射層の
一部を、万線や網点等の微細構成子の繰り返しパターン
模様になるように破壊して形成したので、ホログラムに
より表示した画像と微細構成子の繰り返しパターン模様
とが重なった状態の画像が形成されるので、容易に光回
折構造の模造品を作製することができず偽造防止におけ
る効果があるものである。

【００４４】

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る光回折構造転写箔の実施例を示す
断面図である。

【図２】本発明に係る光回折構造を有するカードに、パ
ルスレーザー光を照射した状態の実施例を示す断面図で
ある。

【図３】本発明に係る光回折構造を有する物品の実施例
を示す断面図である。

【図４】本発明に係る光回折構造を有する物品の実施例
を示す平面図である。

【符号の説明】

１支持体２離型性樹脂層３保護層４光回折構造形成層５光反射層６接着層７光回折構造転写層８ホログラムレリーフ９レーザー光光源１０パルスレーザー光１１対物レンズ１２穿孔部１３顔画像１４基材シート１５微細構成子の繰り返しパターン模様２０光回折構造転写箔３０光回折構造を有する物品

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基材（１４）上に光回折構造形成層
（４）、光反射層（５）が積層されてなる物品の前記光
反射層（５）に対して、レーザー光（１０）を照射して
前記光反射層（５）を破壊する手段を有する光回折構造
を有する物品の製造方法において、前記レーザー光（１
０）にパルスレーザー光を用いて前記光反射層（５）を
破壊することを特徴とする光回折構造を有する物品の製
造方法。
【請求項２】前記光反射層（５）を破壊する手段によ
り、微細構成子の繰り返しパターン模様（８）を形成す
ることを特徴とする請求項１記載の光回折構造を有する
物品の製造方法。