JP2011137848A - ホログラムラベルの製造方法及びホログラムラベル - Google Patents
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Abstract
【課題】ホログラムラベルは、被貼着体に貼付後、その被貼着体の真正性を証明するものであるため、不正に剥離されて、真正でない他の被貼着体へ再貼付して使用されることが可能であると、その証明性を維持することができなくなるという課題を有していた。
【解決手段】ホログラムラベルを構成する透明基材の一方の面に表面活性化処理を施し、パターン状に表面不活性化処理を施し、且つ、ホログラム形成層の引張り剥離強度を調整することにより、ホログラムラベルを剥そうとすると、透明基材と所望のパターンのみが容易に剥離して、被貼着体側にその「パターン」が浮き上がるという効果を持つホログラムラベルを開発し、その真正性を維持可能なホログラムラベルとした。
【選択図】 図１
【解決手段】ホログラムラベルを構成する透明基材の一方の面に表面活性化処理を施し、パターン状に表面不活性化処理を施し、且つ、ホログラム形成層の引張り剥離強度を調整することにより、ホログラムラベルを剥そうとすると、透明基材と所望のパターンのみが容易に剥離して、被貼着体側にその「パターン」が浮き上がるという効果を持つホログラムラベルを開発し、その真正性を維持可能なホログラムラベルとした。
【選択図】 図１
Description
本発明は、ホログラムラベルの製造方法及びその製造方法で製造されたホログラムラベルに係り、詳しくは、ホログラムの貼り換えなどによる偽造若しくは改竄を困難とする脆性ホログラムを形成するホログラム脆性ラベルの製造方法及びそのラベルに関するものである。
本明細書において、配合を示す「部」は特に断わらない限り質量基準である。また、 「ホログラム」はホログラムと、回折格子などの光回折性機能を有するものも含む。
本明細書において、配合を示す「部」は特に断わらない限り質量基準である。また、 「ホログラム」はホログラムと、回折格子などの光回折性機能を有するものも含む。
（主なる用途）本発明のホログラムラベルの主なる用途としては、偽造防止分野や意匠用途などに使用されるホログラムラベルであって、具体的には、
（１）製造メーカー純正品等、純正品の認証が意義を持つ種々の商品分野、例えば、電子機器、電気機器、コンピュータ関連製品、及び、それらの構成部品、コンピュータ関連ソフト、純正備品類（用紙やトナーなどのプリンタ消耗品等。）医薬品、医薬部外品もしくは化成品等、
（２）商品そのものが真正品であることを消費者に強く求められる分野、もしくは、ラベルを貼付することで意匠性を高めたり、商品が高価であることを示し、その商品の付加価値を高める分野など、例えば、書籍、文書、講演、演劇、映画、写真、絵画、彫刻、版画、図面、模型等もしくは、それらの編集物、又は記録媒体に記録したもの（ビデオカセット、コンパクトディスク、デジタルビデオディスクなど）等の著作物、所定の設定をされ、変更を防止しているＲＯＭボード（コンピューター機器、ゲーム機、遊技機等に用いられるもの。ＲＯＭとボードに渡る貼付も含む。）、時計、衣類、バッグ、宝石等宝飾品、スポーツ用品、化粧品、及びそれらの高級ブランド品等、
（３）本人確認の手段（ＩＤ証）分野、例えば、パスポート、運転免許証、保険証、会員証、身分証、住民登録証、病院カード、もしくは図書館カード等、
（４）経済秩序を保つ上で真正品であることが求められる分野、例えば、商品券、ギフト券等の金券類、もしくはプリペイドカード、クレジットカード、キャッシュカード等のカード類、
（５）さらには、これらのものを包装し、その包装を封印する分野、例えば、単に保管のため、もしくは郵便物や小荷物として封筒に入れたり、パッケージに入れて配達や配送をする分野、商品をパッケージに入れて販売する分野、単純に包装する分野、それらの封緘シールとして使用する分野、また、それらの説明書や効能書等にその真正性を証明するために貼付する分野等、
などに関し、特に、そのホログラムラベルを巧妙に剥がして、そのものの価値を下げられたり、そのホログラムラベルを再利用されることをに配慮すべき、もしくは配慮している分野に好適である。
（１）製造メーカー純正品等、純正品の認証が意義を持つ種々の商品分野、例えば、電子機器、電気機器、コンピュータ関連製品、及び、それらの構成部品、コンピュータ関連ソフト、純正備品類（用紙やトナーなどのプリンタ消耗品等。）医薬品、医薬部外品もしくは化成品等、
（２）商品そのものが真正品であることを消費者に強く求められる分野、もしくは、ラベルを貼付することで意匠性を高めたり、商品が高価であることを示し、その商品の付加価値を高める分野など、例えば、書籍、文書、講演、演劇、映画、写真、絵画、彫刻、版画、図面、模型等もしくは、それらの編集物、又は記録媒体に記録したもの（ビデオカセット、コンパクトディスク、デジタルビデオディスクなど）等の著作物、所定の設定をされ、変更を防止しているＲＯＭボード（コンピューター機器、ゲーム機、遊技機等に用いられるもの。ＲＯＭとボードに渡る貼付も含む。）、時計、衣類、バッグ、宝石等宝飾品、スポーツ用品、化粧品、及びそれらの高級ブランド品等、
（３）本人確認の手段（ＩＤ証）分野、例えば、パスポート、運転免許証、保険証、会員証、身分証、住民登録証、病院カード、もしくは図書館カード等、
（４）経済秩序を保つ上で真正品であることが求められる分野、例えば、商品券、ギフト券等の金券類、もしくはプリペイドカード、クレジットカード、キャッシュカード等のカード類、
（５）さらには、これらのものを包装し、その包装を封印する分野、例えば、単に保管のため、もしくは郵便物や小荷物として封筒に入れたり、パッケージに入れて配達や配送をする分野、商品をパッケージに入れて販売する分野、単純に包装する分野、それらの封緘シールとして使用する分野、また、それらの説明書や効能書等にその真正性を証明するために貼付する分野等、
などに関し、特に、そのホログラムラベルを巧妙に剥がして、そのものの価値を下げられたり、そのホログラムラベルを再利用されることをに配慮すべき、もしくは配慮している分野に好適である。
（先行技術）近年、光の干渉を用いて立体画像を再生し得るホログラムの開発が進められ、このホログラムは高度な製造技術を要するとともに様々な形態、例えばラベル、シール、箔状に形成可能なことから、これを応用し偽造防止手段として、上記分野を含め、様々なものの一部に貼着して使用されている。このホログラムは、一見して本物か否かが判り、しかも上述したように製造が困難であることから、広く利用されるようになってきた。
そしてこれらは物品に貼付された後に剥がされ、悪用されることがないように支持体とホログラム層、或いはこれらの間に設けられた剥離層と支持体またはホログラム層で剥離するようにし、被着物から故意に剥離させた場合にホログラム全体が破壊されるものがある。特に、実公平５−４８２１０号公報に開示されるホログラム脆性シールのように、支持体とホログラム形成層がパターン状剥離層を介して積層され、ホログラム形成上に反射性金属薄膜層、及び接着剤層を順次積層し、使用に際しては所要の大きさ、形状に切断し、証書や身分証明書のような偽造、変造されたくない被着体、または封書等の封印部に加圧により、必要に応じて加熱をしながら貼りつけるものがある。
このようにして一度被着体に貼りつけられたホログラムラベルは、剥がそうとすると、剥離層部と非剥離層部との境界断面でホログラムが破壊し、支持体上と被着体上にホログラムが分離して残存してしまうのでラベル全体をそつくりそのまま剥がすことができないため、他の物品にホログラムラベルを貼りかえることができず、ホログラム自体の偽造・変造の困難性により、ホログラムラベルが被着体の真正さを保証できる。
そしてこれらは物品に貼付された後に剥がされ、悪用されることがないように支持体とホログラム層、或いはこれらの間に設けられた剥離層と支持体またはホログラム層で剥離するようにし、被着物から故意に剥離させた場合にホログラム全体が破壊されるものがある。特に、実公平５−４８２１０号公報に開示されるホログラム脆性シールのように、支持体とホログラム形成層がパターン状剥離層を介して積層され、ホログラム形成上に反射性金属薄膜層、及び接着剤層を順次積層し、使用に際しては所要の大きさ、形状に切断し、証書や身分証明書のような偽造、変造されたくない被着体、または封書等の封印部に加圧により、必要に応じて加熱をしながら貼りつけるものがある。
このようにして一度被着体に貼りつけられたホログラムラベルは、剥がそうとすると、剥離層部と非剥離層部との境界断面でホログラムが破壊し、支持体上と被着体上にホログラムが分離して残存してしまうのでラベル全体をそつくりそのまま剥がすことができないため、他の物品にホログラムラベルを貼りかえることができず、ホログラム自体の偽造・変造の困難性により、ホログラムラベルが被着体の真正さを保証できる。
従つて、ラベルが貼つてあつた箇所の記載事項や印影写真等を書替えるのには、ラベルの残存部分を除去する必要があり、偽造、変造が困難である。また、支持体上にはパターン状にしかホログラムが残存しない為、ラベルの貼替えは不可能であり、かつ封印部の開封は被着体にパターン状に残存したホログラムにより容易に認識できうる。
従つて、本考案のホログラムラベルは偽造されたくない被着体へ適用は勿論のこと、包装物の封印として適用でき、さらにはホログラムラベルは美麗により装飾物としても使用できる。
しかしながら、前者の全面破壊型のホログラム脆性シールは、剥がし方によってはホログラム層及び反射性薄膜層が破壊されることなく、ホログラムシール全体を完全に剥離させて、その結果再使用できることで悪用されてしまう可能性がある。そのため、ホログラム層や反射性薄膜層自体を破壊する方法として上記、実公平５−４８２１０号公報の方法があるが、この方法ではホログラム脆性シールを貼着された状態で見るとホログラム層の上にパターン状の剥離層が設けられているため、そのパターンの存在を容易に目視により判別でき、ホログラムの再生画像の見え方に影響を与えるだけでなく、偽造防止策の存在が明らかになってしまう問題を有する。
この問題を解決するため、特開平８−１５２８４２号公報には、脆性剥離層を、反射性薄膜層と接着剤層との間に設ける等の方法も提案されているが、いずれも、ホログラム形成層の強度が大きく、基材との接着強度差や、脆性剥離性の存在程度では、ホログラム形成層そのものを破断するに至らないか、部分的に破断され、その目的を十分に達成できなかった。
従つて、本考案のホログラムラベルは偽造されたくない被着体へ適用は勿論のこと、包装物の封印として適用でき、さらにはホログラムラベルは美麗により装飾物としても使用できる。
しかしながら、前者の全面破壊型のホログラム脆性シールは、剥がし方によってはホログラム層及び反射性薄膜層が破壊されることなく、ホログラムシール全体を完全に剥離させて、その結果再使用できることで悪用されてしまう可能性がある。そのため、ホログラム層や反射性薄膜層自体を破壊する方法として上記、実公平５−４８２１０号公報の方法があるが、この方法ではホログラム脆性シールを貼着された状態で見るとホログラム層の上にパターン状の剥離層が設けられているため、そのパターンの存在を容易に目視により判別でき、ホログラムの再生画像の見え方に影響を与えるだけでなく、偽造防止策の存在が明らかになってしまう問題を有する。
この問題を解決するため、特開平８−１５２８４２号公報には、脆性剥離層を、反射性薄膜層と接着剤層との間に設ける等の方法も提案されているが、いずれも、ホログラム形成層の強度が大きく、基材との接着強度差や、脆性剥離性の存在程度では、ホログラム形成層そのものを破断するに至らないか、部分的に破断され、その目的を十分に達成できなかった。
本発明は、ラベルとしてホログラムラベルを被貼着体に貼付（もしくは貼着ともいう。）する際には、問題なく貼付可能であって、その被貼着体からホログラムラベルを不正に剥そうとすると、ラベル基材とともにホログラム形成層と反射性薄膜層とが部分的に付着して剥がれ、その剥した痕跡として、被貼着体側に、部分的に破壊されたホログラム形成層、反射性薄膜層、と、粘着層が残り、且つ、「開封」等の視認可能な明確なメッセージが表示されるホログラムラベルを提供する。
本発明は上記従来の問題点に鑑み為されたものであり、その目的とするところは、不正な剥離行為によるホログラムシールの貼り替えを確実に防止することが可能で、しかも、部分的に脆性破壊する層の存在を発見しにくいホログラム脆性シールを提供することにある。
本発明は上記従来の問題点に鑑み為されたものであり、その目的とするところは、不正な剥離行為によるホログラムシールの貼り替えを確実に防止することが可能で、しかも、部分的に脆性破壊する層の存在を発見しにくいホログラム脆性シールを提供することにある。
上記の課題を解決するために、
本発明のホログララベルの第１の態様は、
透明基材に、表面活性化処理を施した後、パターン状の不活性化処理を行い、その上に、ホログラムレリーフを有するホログラム形成層、反射性薄膜層、粘着層が設けるホログラムラベルの製造方法において、
前記ホログラム形成層は、引張り破断強度が、０．１ＭＰａ以上３ＭＰａ以下である樹脂からなることを特徴とするものである。
上記第１の態様のホログラムラベルによれば、
透明基材に、表面活性化処理を施した後、パターン状の不活性化処理を行い、その上に、ホログラムレリーフを有するホログラム形成層、反射性薄膜層、粘着層が設けるホログラムラベルの製造方法において、
前記ホログラム形成層は、引張り破断強度が、０．１ＭＰａ以上３ＭＰａ以下である樹脂からなることを特徴とするホログラムラベルの製造方法を提供することができる。
本発明のホログラムラベルの第２の態様は、
前記ホログラム形成層の厚さが、０．５μｍ以上２μｍ以下であることを特徴とするものである。
上記第２の態様のホログラムラベルによれば、
前記ホログラム形成層の厚さが、０．５μｍ以上２μｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載のホログラムラベルの製造方法を提供することができる。
本発明のホログラムラベルの第３の態様は、
前記パターンは、微細なパターンの集合により構成されているものであることを特徴とするものである。
上記第３の態様のホログラムラベルによれば、
前記パターンは、微細なパターンの集合により構成されているものであることを特徴とする請求項１または２に記載のホログラムラベルの製造方法を提供することができる。
本発明のホログラムラベルの第４の態様は、
請求項１〜３のホログラムラベルの製造方法において製造されたホログラムラベルであることを特徴とするものである。
上記第４の態様のホログラムラベルによれば、
請求項１〜３のホログラムラベルの製造方法において製造されたホログラムラベルを提供することができる。
本発明のホログララベルの第１の態様は、
透明基材に、表面活性化処理を施した後、パターン状の不活性化処理を行い、その上に、ホログラムレリーフを有するホログラム形成層、反射性薄膜層、粘着層が設けるホログラムラベルの製造方法において、
前記ホログラム形成層は、引張り破断強度が、０．１ＭＰａ以上３ＭＰａ以下である樹脂からなることを特徴とするものである。
上記第１の態様のホログラムラベルによれば、
透明基材に、表面活性化処理を施した後、パターン状の不活性化処理を行い、その上に、ホログラムレリーフを有するホログラム形成層、反射性薄膜層、粘着層が設けるホログラムラベルの製造方法において、
前記ホログラム形成層は、引張り破断強度が、０．１ＭＰａ以上３ＭＰａ以下である樹脂からなることを特徴とするホログラムラベルの製造方法を提供することができる。
本発明のホログラムラベルの第２の態様は、
前記ホログラム形成層の厚さが、０．５μｍ以上２μｍ以下であることを特徴とするものである。
上記第２の態様のホログラムラベルによれば、
前記ホログラム形成層の厚さが、０．５μｍ以上２μｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載のホログラムラベルの製造方法を提供することができる。
本発明のホログラムラベルの第３の態様は、
前記パターンは、微細なパターンの集合により構成されているものであることを特徴とするものである。
上記第３の態様のホログラムラベルによれば、
前記パターンは、微細なパターンの集合により構成されているものであることを特徴とする請求項１または２に記載のホログラムラベルの製造方法を提供することができる。
本発明のホログラムラベルの第４の態様は、
請求項１〜３のホログラムラベルの製造方法において製造されたホログラムラベルであることを特徴とするものである。
上記第４の態様のホログラムラベルによれば、
請求項１〜３のホログラムラベルの製造方法において製造されたホログラムラベルを提供することができる。
すなわち、ホログラムラベルは、透明基材の一方の面に、ホログラムレリーフを有するホログラム形成層、反射性薄膜層、粘着層がこの順序で形成され、上記したホログラムラベルの用途において、所望の被貼着体の一部や、封筒等の封緘部分等に貼着される。
このホログラムラベルを、その被貼着体、もしくは、封緘部分から、貼付した痕跡を残さず、ホログラムラベルも完全な元の状態で剥して、不正に準備した別の被貼着体に貼り替えたり、封筒や箱を開封して内容物を取り替えた後、あたかも、その被貼着体や封筒や箱の内容物が本物であると主張したり、逆に、真正なホログラムラベルを剥したものは、本物でないとして、その価値を低下させるなどの不正を防止するためには、
ホログラムラベルのホログラム形成層そのものが破断することが望ましいが、ホログラムラベルの基材及び、ホログラム形成層の破断強度は、非常に大きく、ラベルとしての粘着力等（ＪＩＳ Ｚ０２３７で規定する１８０°剥離試験にて、０．１〜１．０ｋｇ／２５ｍｍ幅。）では、それらの層を１００％破断させることは困難である。
そのため、透明基材の一方の面を表面活性化して、その上に形成するホログラム形成層との接着性を向上させ、０．５ｋｇ／２５ｍｍ幅以上、３．０ｋｇ／２５ｍｍ幅以下の強度（ＪＩＳ Ｚ０２３７で規定する１８０°剥離試験にて。）とし、その表面活性化面を視認可能な所望のパターン状（文字、図形、記号等、視認可能な表示であればいずれも使用できる。代表的には、ラベルを剥離した証拠を示すという意味で、「開封」等の文字表示をするため、「開封」文字以外の部分を不活性化する。）に、その活性化面を残し、その他の領域について不活性化処理を行い、且つ、ホログラム形成層を形成する樹脂材料塗膜の引張り破断強度を、０．１ＭＰａ以上３ＭＰａ以下とする。
この引張り破断強度は、ＡＳＴＭ Ｄ６３８により測定が可能な試験装置を用い、成型品とした試験片でなく、塗布膜（硬化後を含む。）を同一形状を有する試験片として用いた値である。
従って、上記の引張り破断強度０．１ＭＰａの樹脂で形成されたホログラム形成層は、１μｍ厚さで形成された場合（１ＭＰａ＝１０ｋｇｆ／ｃｍ2である。）、１０ｇｆ／１０ｍｍ幅の引張り破断強度に相当する強さを持っていることを意味する。
表面活性化とは、すなわち、濡れ性を非常に高める処理、表面に官能基を創り出す処理等であって、レーザー照射、エキシマ光照射、酸素増感エキシマ光照射等の光処理、（オープン）プラズマ処理、コロナ処理、電子線照射処理等の物理的処理、酸化剤等薬品による表面処理、プライマー処理、シランカップリング処理等の化学的処理、アルゴンビームエッチング、エッチング液、さらにはサンドブラスト加工等の物理的な租面形成処理等がある。
このホログラムラベルを、その被貼着体、もしくは、封緘部分から、貼付した痕跡を残さず、ホログラムラベルも完全な元の状態で剥して、不正に準備した別の被貼着体に貼り替えたり、封筒や箱を開封して内容物を取り替えた後、あたかも、その被貼着体や封筒や箱の内容物が本物であると主張したり、逆に、真正なホログラムラベルを剥したものは、本物でないとして、その価値を低下させるなどの不正を防止するためには、
ホログラムラベルのホログラム形成層そのものが破断することが望ましいが、ホログラムラベルの基材及び、ホログラム形成層の破断強度は、非常に大きく、ラベルとしての粘着力等（ＪＩＳ Ｚ０２３７で規定する１８０°剥離試験にて、０．１〜１．０ｋｇ／２５ｍｍ幅。）では、それらの層を１００％破断させることは困難である。
そのため、透明基材の一方の面を表面活性化して、その上に形成するホログラム形成層との接着性を向上させ、０．５ｋｇ／２５ｍｍ幅以上、３．０ｋｇ／２５ｍｍ幅以下の強度（ＪＩＳ Ｚ０２３７で規定する１８０°剥離試験にて。）とし、その表面活性化面を視認可能な所望のパターン状（文字、図形、記号等、視認可能な表示であればいずれも使用できる。代表的には、ラベルを剥離した証拠を示すという意味で、「開封」等の文字表示をするため、「開封」文字以外の部分を不活性化する。）に、その活性化面を残し、その他の領域について不活性化処理を行い、且つ、ホログラム形成層を形成する樹脂材料塗膜の引張り破断強度を、０．１ＭＰａ以上３ＭＰａ以下とする。
この引張り破断強度は、ＡＳＴＭ Ｄ６３８により測定が可能な試験装置を用い、成型品とした試験片でなく、塗布膜（硬化後を含む。）を同一形状を有する試験片として用いた値である。
従って、上記の引張り破断強度０．１ＭＰａの樹脂で形成されたホログラム形成層は、１μｍ厚さで形成された場合（１ＭＰａ＝１０ｋｇｆ／ｃｍ2である。）、１０ｇｆ／１０ｍｍ幅の引張り破断強度に相当する強さを持っていることを意味する。
表面活性化とは、すなわち、濡れ性を非常に高める処理、表面に官能基を創り出す処理等であって、レーザー照射、エキシマ光照射、酸素増感エキシマ光照射等の光処理、（オープン）プラズマ処理、コロナ処理、電子線照射処理等の物理的処理、酸化剤等薬品による表面処理、プライマー処理、シランカップリング処理等の化学的処理、アルゴンビームエッチング、エッチング液、さらにはサンドブラスト加工等の物理的な租面形成処理等がある。
このホログラムラベルを剥そうとして、透明基材を剥した際、不活性化処理部分は容易に、その透明基材とホログラム形成層との間で剥離が起こり、残された活性化面の部分、すなわち、例えば、「開封」の文字部分のみ、透明基材とともにホログラム形成層と反射性薄膜層とが部分的に付着して剥がれ、その剥した痕跡として、被貼着体側に、部分的に破壊されたホログラム形成層、反射性薄膜層、と、粘着層が残り、且つ、その剥離後のホログラムラベル上に「開封」の文字が浮き上がって見えるものである。
また、活性化部分より、不活性化部分の領域が大きいことから、この界面での剥離を助長する効果も有する。
ホログラム再生像は非常に冗長性が高いため、この部分剥離（部分的に分断されて、剥がれることを意味し、不活性化領域の幅、例えば「開封」の文字の線幅を意味する。）が、そのホログラムレリーフの干渉縞の周期０．５μｍ〜２μｍの２００倍〜５０００倍、より好適には、５００倍〜２０００倍とする。
この部分剥離が、２００倍未満であると、ホログラムの冗長性からホログラム再生像が強く再現されて部分剥離が弱まり、この部分剥離が５０００倍を超えると、透明基材が剥離しにくくなったり、ホログラムラベル全体が剥離可能となったり、剥離をする際に分断部分が広がり（分断部分と分断部分が繋がる現象等が発生する。）、鮮明な部分剥離を得ることが難しくなる等の不具合が発生する。
透明基材を剥離した際の部分剥離（文字等。）の鮮明さは、５００倍〜２０００倍が最も良好となる。
これに対し、不活性化処理面は、その剥離強度を、０．０１ｋｇ／２５ｍｍ幅以上０．１ｋｇ／２５ｍｍ幅以下として、ホログラムラベルを剥そうとすると、どのように工夫しても、必ず、透明基材が剥がれるものとし、透明基材を剥離した際、ホログラム形成面の最表面がほぼ鏡面となって、その部分からは、その下にあるホログラム再生像を鮮明に視認することができる。
また、活性化部分より、不活性化部分の領域が大きいことから、この界面での剥離を助長する効果も有する。
ホログラム再生像は非常に冗長性が高いため、この部分剥離（部分的に分断されて、剥がれることを意味し、不活性化領域の幅、例えば「開封」の文字の線幅を意味する。）が、そのホログラムレリーフの干渉縞の周期０．５μｍ〜２μｍの２００倍〜５０００倍、より好適には、５００倍〜２０００倍とする。
この部分剥離が、２００倍未満であると、ホログラムの冗長性からホログラム再生像が強く再現されて部分剥離が弱まり、この部分剥離が５０００倍を超えると、透明基材が剥離しにくくなったり、ホログラムラベル全体が剥離可能となったり、剥離をする際に分断部分が広がり（分断部分と分断部分が繋がる現象等が発生する。）、鮮明な部分剥離を得ることが難しくなる等の不具合が発生する。
透明基材を剥離した際の部分剥離（文字等。）の鮮明さは、５００倍〜２０００倍が最も良好となる。
これに対し、不活性化処理面は、その剥離強度を、０．０１ｋｇ／２５ｍｍ幅以上０．１ｋｇ／２５ｍｍ幅以下として、ホログラムラベルを剥そうとすると、どのように工夫しても、必ず、透明基材が剥がれるものとし、透明基材を剥離した際、ホログラム形成面の最表面がほぼ鏡面となって、その部分からは、その下にあるホログラム再生像を鮮明に視認することができる。
不活性化処理としては、上記の活性化処理面の所定の部分のみを精度よく不活性化する必要があり、
透明基材の最表面のみを部分的に溶解する、もしくは、活性化した官能基と反応して官能基の活性を解消する、溶剤類、例えば、ケトン類（メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等。）、アルコール類（メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等、さらにはその水溶液。）、芳香族類（ベンゼン、トルエン、キシレン等。）、エステル類、エーテル類（テトラヒドロフラン等。）等、
又は、これらの透明基材とはそもそも接着し難い、界面張力の小さい樹脂、例えば、シリコーン樹脂、パラフィン系樹脂、フッ素系樹脂や、これらのフッ化炭化水素基、有機珪素基を含む樹脂等を、活版印刷や、インクジェット印刷等により、上記した所望のパターン状に部分形成することで、高い精度でパターン状に不活性化する。
この際、部分形成後に透明基材上に光学的な変化を与えないことが望ましく、溶剤等は揮発することで、また、樹脂等はあくまで表面改質の目的であって乾燥後の形成厚さが光の波長の１／５０〜１／１０程度となることが望ましい。もちろん、これらを併用することも好適である。
従来技術において、透明基材に、遮蔽マスク等を介して、直接パターン状にコロナ処理等の界面活性化処理をする方法があるが、この方法によると、遮蔽マスクと透明基材との隙間や、処理ガスの拡散等により、活性化部分と活性化されていない部分との界面が不鮮明（ギザギザであったり、部分的に染み出すような形となったりして、すっきりした直線状とならない。）となり、ホログラム形成層表面の粗面化が不鮮明となる。粗面化は、ホログラム形成層の最表面を剥す（ホログラム形成層の内部破壊による。）ことにより発現するため、この境界面がすっきりした直線状にないと、破壊領域が不要な部分へと拡大しやすくなって、メッセージそのものが不鮮明となる。これはメッセージが細線や、細かい文字等を含む場合に顕著に現れる。
透明基材の最表面のみを部分的に溶解する、もしくは、活性化した官能基と反応して官能基の活性を解消する、溶剤類、例えば、ケトン類（メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等。）、アルコール類（メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等、さらにはその水溶液。）、芳香族類（ベンゼン、トルエン、キシレン等。）、エステル類、エーテル類（テトラヒドロフラン等。）等、
又は、これらの透明基材とはそもそも接着し難い、界面張力の小さい樹脂、例えば、シリコーン樹脂、パラフィン系樹脂、フッ素系樹脂や、これらのフッ化炭化水素基、有機珪素基を含む樹脂等を、活版印刷や、インクジェット印刷等により、上記した所望のパターン状に部分形成することで、高い精度でパターン状に不活性化する。
この際、部分形成後に透明基材上に光学的な変化を与えないことが望ましく、溶剤等は揮発することで、また、樹脂等はあくまで表面改質の目的であって乾燥後の形成厚さが光の波長の１／５０〜１／１０程度となることが望ましい。もちろん、これらを併用することも好適である。
従来技術において、透明基材に、遮蔽マスク等を介して、直接パターン状にコロナ処理等の界面活性化処理をする方法があるが、この方法によると、遮蔽マスクと透明基材との隙間や、処理ガスの拡散等により、活性化部分と活性化されていない部分との界面が不鮮明（ギザギザであったり、部分的に染み出すような形となったりして、すっきりした直線状とならない。）となり、ホログラム形成層表面の粗面化が不鮮明となる。粗面化は、ホログラム形成層の最表面を剥す（ホログラム形成層の内部破壊による。）ことにより発現するため、この境界面がすっきりした直線状にないと、破壊領域が不要な部分へと拡大しやすくなって、メッセージそのものが不鮮明となる。これはメッセージが細線や、細かい文字等を含む場合に顕著に現れる。
本発明の不活性化処理は、上記した印刷手法を用いるため、非常に鮮明なパターンを形成可能であり、且つ、不活性化処理面と活性化処理面との接着強度差を非常に大きくすることができるため、破壊領域をより明確なものとすることができる。
もちろん、これらの活性化処理及び不活性化処理を用いたパターン状処理は、光学的に透明であって、ホログラムラベルを観察した際、そのパターン境界を視認することができず、レーザー等で照明してもその透明性（その連続性。）を維持している。
表面活性化処理の中でも、レーザー照射等の光処理、又はプラズマ処理等の物理的処理は、透明基材の処理面に凹凸が発生せず、鏡面を維持していること、及び、不活性化処理による不活性化効果が大きいことから、特に望ましく、また光学的透明性にも優れる。
さらに、上記した「パターン」内を均一に不活性化処理することに替えて、その「パターン」内をより「微細なパターン」、例えば、網点状、市松模様状、ランダムパターン状等の微細な領域のみ不活性化する（例えば、網点状に不活性化することにより、「パターン」内の網点以外の部分は、活性化面として残る。）ことで、透明基材を剥離した際の粗面化状態をより複雑化し、光の散乱性を向上することができる。
ホログラムの冗長性を遮断する目的を考慮すると、「パターン」は均一に設けることが望ましいが、ホログラム画像再生時のもう一つの特徴である、「５０μｍ〜３００μｍ幅の微細な光回折性の帯でホログラムを寸断すると、光回折性の帯とホログラムの帯が一対となって縞を構成し、それぞれの帯から回折する光の干渉効果により、ホログラム画像の再生を阻害する効果が発生する」現象を用いて、ホログラム再生を「遮断」するためには、「微細なパターン」の大きさを、５０μｍ〜３００μｍ幅であって、長さも同様とすることが望ましい。本発明の場合は、この微細な光回折性の帯に相当する部分は、光散乱性の帯となる。
例えば、網点の直径、市松模様の一つの正方形の一辺の長さ、さらには、ランダムパターンの個々の領域の幅等を、この大きさとする。
透明基材剥離時、鏡面領域と粗面化領域とが、交互に上記した大きさで形成されることで、１つの鏡面領域とそれに隣接する１つの粗面化領域が上記した微細な「縞」を形成し、この縞が繰り返し存在することで、ホログラム画像の再生を阻害し、単なる虹色の領域として視認されることになる。従って、この場合は、例えば、虹色の「開封」文字が観察される。
ホログラム形成層としては、下記するように、各種の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、もしくは電離放射線硬化性樹脂を用いることができるが、その中で、塗膜として形成した際に（樹脂を適宜な溶剤に溶解・希釈して、コーティングインキとし、適宜な基材にコーティングし、乾燥さらには、加熱等硬化することを意味する。）、ＡＳＴＭ Ｄ６３８対応評価試験装置による引張り破断強度が、０．１ＭＰａ以上３ＭＰａ以下のものを使用する。
もちろん、これらの活性化処理及び不活性化処理を用いたパターン状処理は、光学的に透明であって、ホログラムラベルを観察した際、そのパターン境界を視認することができず、レーザー等で照明してもその透明性（その連続性。）を維持している。
表面活性化処理の中でも、レーザー照射等の光処理、又はプラズマ処理等の物理的処理は、透明基材の処理面に凹凸が発生せず、鏡面を維持していること、及び、不活性化処理による不活性化効果が大きいことから、特に望ましく、また光学的透明性にも優れる。
さらに、上記した「パターン」内を均一に不活性化処理することに替えて、その「パターン」内をより「微細なパターン」、例えば、網点状、市松模様状、ランダムパターン状等の微細な領域のみ不活性化する（例えば、網点状に不活性化することにより、「パターン」内の網点以外の部分は、活性化面として残る。）ことで、透明基材を剥離した際の粗面化状態をより複雑化し、光の散乱性を向上することができる。
ホログラムの冗長性を遮断する目的を考慮すると、「パターン」は均一に設けることが望ましいが、ホログラム画像再生時のもう一つの特徴である、「５０μｍ〜３００μｍ幅の微細な光回折性の帯でホログラムを寸断すると、光回折性の帯とホログラムの帯が一対となって縞を構成し、それぞれの帯から回折する光の干渉効果により、ホログラム画像の再生を阻害する効果が発生する」現象を用いて、ホログラム再生を「遮断」するためには、「微細なパターン」の大きさを、５０μｍ〜３００μｍ幅であって、長さも同様とすることが望ましい。本発明の場合は、この微細な光回折性の帯に相当する部分は、光散乱性の帯となる。
例えば、網点の直径、市松模様の一つの正方形の一辺の長さ、さらには、ランダムパターンの個々の領域の幅等を、この大きさとする。
透明基材剥離時、鏡面領域と粗面化領域とが、交互に上記した大きさで形成されることで、１つの鏡面領域とそれに隣接する１つの粗面化領域が上記した微細な「縞」を形成し、この縞が繰り返し存在することで、ホログラム画像の再生を阻害し、単なる虹色の領域として視認されることになる。従って、この場合は、例えば、虹色の「開封」文字が観察される。
ホログラム形成層としては、下記するように、各種の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、もしくは電離放射線硬化性樹脂を用いることができるが、その中で、塗膜として形成した際に（樹脂を適宜な溶剤に溶解・希釈して、コーティングインキとし、適宜な基材にコーティングし、乾燥さらには、加熱等硬化することを意味する。）、ＡＳＴＭ Ｄ６３８対応評価試験装置による引張り破断強度が、０．１ＭＰａ以上３ＭＰａ以下のものを使用する。
特に、熱可塑性樹脂が望ましく、その中でも非晶性の熱可塑性樹脂が好適であり、熱硬化性樹脂や、電離放射線硬化樹脂を用いる場合には、硬化条件を１００％とせず、３０％〜５０％の硬化条件とする必要がある。但し、ホログラムレリーフ形成面は、十分な硬化が求められるため、ホログラム形成層のホログラムレリーフ最表面を硬化し、ホログラム形成層内部は硬化が進行し難くすることが好適である。このために、熱硬化性の場合は、ホログラムレリーフ面を加熱し、その反対側である透明基材と接する側は、冷却ロール等による冷却を行ったり、電離放射線硬化性の場合は、電離放射線を透明基材側から照射せず、ホログラムレリーフ面からその照射強度を弱めて照射する。また、電離放射線開始剤や官能基の添加分布・配合割合を調整することも好適である。
さらに、ホログラム形成層の厚さを、０．５μｍ以上２μｍ以下とすることで、引張り破断強度を小さく且つ安定したものとすることができる。
ホログラム形成層の厚さは、ホログラムレリーフの凹凸を賦型するため、その凹凸深さ０．１μｍ〜０．５μｍの２倍以上の厚さを持つ必要がある。これは、凹凸の凸部がレリーフ形成層の表面に高い圧力で押し付けられた際、その凸部の最も高い部分がそのレリーフ形成層表面の接触部分を凹ませると同時に、その凹んだ容積分をそのレリーフ形成層内の周辺に移動させる必要があるためであり、この移動はレリーフ形成層の厚さが大きい程、容易に起こるためである。
レリーフ形成層が、凹ませる深さ程度もしくは、それより薄いと、上記した移動を吸収する（発生する歪みを吸収する意味。）領域を確保できないため、いかに高圧で押し付けたとしても凹みが発生することはない。
従って、ホログラム形成層の厚さは、光学的ホログラムの凹凸深さ０．１μｍ〜０．２μｍの２倍以上となる、０．５μｍ以上とする。また、電子線描画法式による凹凸形成の場合は、そのレジスト処理により凹凸深さを０．５μｍ、さらには１μｍ以上とすることが可能であるが、その場合には、対応するホログラムレリーフ厚さは、１μｍ、さらには２μｍ以上とする必要がある。
但し、ホログラム形成層の引張り破断強度は、ホログラム形成層の確実な（可能な限り１００％。）部分剥離を生じさせるために、小さい方が望ましく、ホログラム形成層の厚さは可能な限り薄くし、ホログラムレリーフの凹凸深さの２倍程度とし、厚くとも２μｍ以下とする。
ホログラム形成層に適宜なホログラムレリーフを形成した後、反射性薄膜を形成し、さらにその上に粘着層を形成して、本発明のホログラムラベルを作製することができる。
このホログラムラベルを所望の被貼着体上の適宜な位置に貼付した後、このホログラムラベルを剥そうとすると、透明基材とともにホログラム形成層と反射性薄膜層とが部分的に付着して剥がれ、その剥した痕跡として、被貼着体側に、部分的に破壊されたホログラム形成層、反射性薄膜層、と、粘着層が残り、且つ、その剥離後のホログラムラベル上に「開封」の文字が浮き上がって見え、不正なホログラムラベルの剥し行為が行われたことを明示する。
さらに、ホログラム形成層の厚さを、０．５μｍ以上２μｍ以下とすることで、引張り破断強度を小さく且つ安定したものとすることができる。
ホログラム形成層の厚さは、ホログラムレリーフの凹凸を賦型するため、その凹凸深さ０．１μｍ〜０．５μｍの２倍以上の厚さを持つ必要がある。これは、凹凸の凸部がレリーフ形成層の表面に高い圧力で押し付けられた際、その凸部の最も高い部分がそのレリーフ形成層表面の接触部分を凹ませると同時に、その凹んだ容積分をそのレリーフ形成層内の周辺に移動させる必要があるためであり、この移動はレリーフ形成層の厚さが大きい程、容易に起こるためである。
レリーフ形成層が、凹ませる深さ程度もしくは、それより薄いと、上記した移動を吸収する（発生する歪みを吸収する意味。）領域を確保できないため、いかに高圧で押し付けたとしても凹みが発生することはない。
従って、ホログラム形成層の厚さは、光学的ホログラムの凹凸深さ０．１μｍ〜０．２μｍの２倍以上となる、０．５μｍ以上とする。また、電子線描画法式による凹凸形成の場合は、そのレジスト処理により凹凸深さを０．５μｍ、さらには１μｍ以上とすることが可能であるが、その場合には、対応するホログラムレリーフ厚さは、１μｍ、さらには２μｍ以上とする必要がある。
但し、ホログラム形成層の引張り破断強度は、ホログラム形成層の確実な（可能な限り１００％。）部分剥離を生じさせるために、小さい方が望ましく、ホログラム形成層の厚さは可能な限り薄くし、ホログラムレリーフの凹凸深さの２倍程度とし、厚くとも２μｍ以下とする。
ホログラム形成層に適宜なホログラムレリーフを形成した後、反射性薄膜を形成し、さらにその上に粘着層を形成して、本発明のホログラムラベルを作製することができる。
このホログラムラベルを所望の被貼着体上の適宜な位置に貼付した後、このホログラムラベルを剥そうとすると、透明基材とともにホログラム形成層と反射性薄膜層とが部分的に付着して剥がれ、その剥した痕跡として、被貼着体側に、部分的に破壊されたホログラム形成層、反射性薄膜層、と、粘着層が残り、且つ、その剥離後のホログラムラベル上に「開封」の文字が浮き上がって見え、不正なホログラムラベルの剥し行為が行われたことを明示する。
本発明によれば、透明基材に、表面活性化処理を施した後、パターン状の不活性化処理を行い、その上に、ホログラムレリーフを有するホログラム形成層、反射性薄膜層、粘着層が設けられていることを特徴とするホログラムラベルの製造方法及びその製造方法で製造したホログラムラベルを提供することができ、このホログラムラベルを、所望の被貼着体に貼着後、本来剥すことのないそのホログラムラベルを不正な目的のために剥そうとすると、その透明基材とホログラム形成層との界面で優先して剥離が発生し、その剥離した後には、不正行為であるという鮮明なメッセージを表出することができ、不正が行われたことを、容易に視認することができる。
以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら、詳細に説明する。
本発明の１実施例を示すホログラムラベルＡの断面図である。
本発明の１実施例を示すホログラムラベルＡを剥した状態を示す図である。
（透明基材）
本発明のホログラムラベルで使用される透明基材１は、厚みを薄くすることが可能であって、機械的強度や、ホログラムラベルＡを製造する際の処理や加工に適した耐溶剤性および耐熱性を有するものが好ましい。使用目的にもよるので、限定されるものではないが、フィルム状もしくはシート状のプラスチックが好ましい。
例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリスルホン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリアリレート、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ジアセチルセルロース、ポリエチレン／ビニルアルコール等の各種のプラスチックフィルムを例示することができる。
透明基材の一方の面に、表面活性化処理を全面に施し、その後、所望のパターン状に不活性化処理を行うが、これらの処理において、活性化処理面と不活性化処理面のホログラム形成層との密着性、すなわち、剥離強度の差が大きくなるものが望ましい。
透明基材１の厚さは、通常５〜２５０μｍであるが、ラベルとしての取り扱い適正から２５〜１００μｍとすることが望ましい。
また、透明基材の一方の面に、透明な樹脂をコーティングして、この透明な樹脂に上記処理を行い、上記した効果を持たせても良い。この透明な樹脂には、上記した樹脂群に加え、下記するホログラム形成層に用いられる樹脂を使用することができる。
本発明のホログラムラベルで使用される透明基材１は、厚みを薄くすることが可能であって、機械的強度や、ホログラムラベルＡを製造する際の処理や加工に適した耐溶剤性および耐熱性を有するものが好ましい。使用目的にもよるので、限定されるものではないが、フィルム状もしくはシート状のプラスチックが好ましい。
例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリスルホン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリアリレート、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ジアセチルセルロース、ポリエチレン／ビニルアルコール等の各種のプラスチックフィルムを例示することができる。
透明基材の一方の面に、表面活性化処理を全面に施し、その後、所望のパターン状に不活性化処理を行うが、これらの処理において、活性化処理面と不活性化処理面のホログラム形成層との密着性、すなわち、剥離強度の差が大きくなるものが望ましい。
透明基材１の厚さは、通常５〜２５０μｍであるが、ラベルとしての取り扱い適正から２５〜１００μｍとすることが望ましい。
また、透明基材の一方の面に、透明な樹脂をコーティングして、この透明な樹脂に上記処理を行い、上記した効果を持たせても良い。この透明な樹脂には、上記した樹脂群に加え、下記するホログラム形成層に用いられる樹脂を使用することができる。
さらに、活性化処理面と不活性化処理面との剥離強度の差を拡大する目的で、ホログラム形成層上に保護層として形成され、透明基材との剥離性を有する透明な樹脂を設けてもよい。この場合も、透明な樹脂としては、上記した樹脂群に加え、下記するホログラム形成層に用いられる樹脂を、適宜、使用することができる。
もちろん、環境影響を配慮して、透明な生分解性を有するプラスチックフィルム又はシートを使用することもでき、化学合成系として、ラクトン系樹脂：εーカプロラクトン、４−メチルカプロラクトン、3,5,5−トリメチルカプロラクトン、3,3,5−トリメチルカプロラクトン、βープロピオラクトン、γーブチロラクトン、δーバレロラクトン、エナントラクトンの単独重合体またはこれら2種以上のモノマーの共重合体、これらの混合物、ポリカプロラクトン、もしくは、ポリブチレンサクシネート系樹脂：ポリブチレンサクシネート・アジペート、ポリブチレンサクシネートとポリカプロラクトンとの混合物、ポリブチレンサクシネートとポリブチレンサクシネート・アジペートとの混合物、ポリブチレンサクシネート・アジペートとポリ乳酸との混合物、もしくは、ポリ乳酸、ポリ乳酸とＤ−乳酸との混合物など、もしくは、低分子量脂肪族ジカルボン酸と低分子量脂肪族ジオールより合成したポリエステル樹脂、例えばコハク酸とブタンジオール、エチレングリコールとの組み合わせや、シュウ酸とネオペンチルグリコール、ブタンジオール、エチレングリコールとの組み合わせなど、変性ポリビニルアルコールと脂肪族ポリエステル樹脂と澱粉の混合物、低分子量脂肪族ポリエステルに脂肪族イソシアネートを添加して重合させたものが好適である。
また、天然物系として、ゼラチンなどの動物性天然物質、セルロースなどの植物性天然物質など：澱粉脂肪酸エステル、澱粉キトナン・セルロースなど、微生物生産系として、ポリヒドロキシブチレートや、ポリエステル系：炭素源として３−ヒドロキシプロピオン酸、４−ヒドロキシ酪酸、γ―ブチロラクトンをベースとするＰ（３ＨＢ−ＣＯ―４ＨＢ）、炭素源としてプロピオン酸、吉草酸をベースとしたＰ（３ＨＢ−ＣＯ―３ＨＶ）などが好適である。
もちろん、環境影響を配慮して、透明な生分解性を有するプラスチックフィルム又はシートを使用することもでき、化学合成系として、ラクトン系樹脂：εーカプロラクトン、４−メチルカプロラクトン、3,5,5−トリメチルカプロラクトン、3,3,5−トリメチルカプロラクトン、βープロピオラクトン、γーブチロラクトン、δーバレロラクトン、エナントラクトンの単独重合体またはこれら2種以上のモノマーの共重合体、これらの混合物、ポリカプロラクトン、もしくは、ポリブチレンサクシネート系樹脂：ポリブチレンサクシネート・アジペート、ポリブチレンサクシネートとポリカプロラクトンとの混合物、ポリブチレンサクシネートとポリブチレンサクシネート・アジペートとの混合物、ポリブチレンサクシネート・アジペートとポリ乳酸との混合物、もしくは、ポリ乳酸、ポリ乳酸とＤ−乳酸との混合物など、もしくは、低分子量脂肪族ジカルボン酸と低分子量脂肪族ジオールより合成したポリエステル樹脂、例えばコハク酸とブタンジオール、エチレングリコールとの組み合わせや、シュウ酸とネオペンチルグリコール、ブタンジオール、エチレングリコールとの組み合わせなど、変性ポリビニルアルコールと脂肪族ポリエステル樹脂と澱粉の混合物、低分子量脂肪族ポリエステルに脂肪族イソシアネートを添加して重合させたものが好適である。
また、天然物系として、ゼラチンなどの動物性天然物質、セルロースなどの植物性天然物質など：澱粉脂肪酸エステル、澱粉キトナン・セルロースなど、微生物生産系として、ポリヒドロキシブチレートや、ポリエステル系：炭素源として３−ヒドロキシプロピオン酸、４−ヒドロキシ酪酸、γ―ブチロラクトンをベースとするＰ（３ＨＢ−ＣＯ―４ＨＢ）、炭素源としてプロピオン酸、吉草酸をベースとしたＰ（３ＨＢ−ＣＯ―３ＨＶ）などが好適である。
（表面活性化処理）
透明基材１の一方の面に対する表面活性化処理には、炭酸ガスレーザー照射、遠赤外線炭酸ガスレーザー照射、１７２ｎｍ真空紫外線（ＶＵＶ、エキシマ光）照射、酸素増感エキシマ光照射、プラズマ処理、オープンプラズマ処理、コロナ処理、電子線照射処理等の透明基材最表面の化学結合エネルギーよりも大きいフォトンエネルギー（７．２ｅＶ）、放電エネルギー、電子線エネルギー等により、透明基材最表面の化学結合を切断し、又は、に、１７２ｎｍの真空紫外線等のように、大気中の酸素に吸収されてオゾンまたは直接励起酸素を発生し、この接触により官能基を生成する等の物理的処理や、、
過マンガン酸塩、過酸化物等の酸化剤を塗布することによる透明基材表面の酸化処理、プライマーコーティング処理、ビニル・エポキシ・メタクリキシ・アミノ・メルカプト・アクリロキシ・イソシアネート・スチリル・アルコキシオリゴマータイプシランカップリング剤を用いた処理等の化学的処理、真空処理であるアルゴンビームエッチング処理、透明基材を部分的に溶解するエッチング液処理、さらには機械的に透明基材表面を削り取るサンドブラスト加工等の物理的な租面形成処理等を用いる。（図示せず。）
この透明基材１の表面化活性化処理によって、透明基材１との接着性の弱い、すなわち、剥離強度の小さい樹脂に対しても、大きな剥離強度を得ることができる。
透明基材１の一方の面に対する表面活性化処理には、炭酸ガスレーザー照射、遠赤外線炭酸ガスレーザー照射、１７２ｎｍ真空紫外線（ＶＵＶ、エキシマ光）照射、酸素増感エキシマ光照射、プラズマ処理、オープンプラズマ処理、コロナ処理、電子線照射処理等の透明基材最表面の化学結合エネルギーよりも大きいフォトンエネルギー（７．２ｅＶ）、放電エネルギー、電子線エネルギー等により、透明基材最表面の化学結合を切断し、又は、に、１７２ｎｍの真空紫外線等のように、大気中の酸素に吸収されてオゾンまたは直接励起酸素を発生し、この接触により官能基を生成する等の物理的処理や、、
過マンガン酸塩、過酸化物等の酸化剤を塗布することによる透明基材表面の酸化処理、プライマーコーティング処理、ビニル・エポキシ・メタクリキシ・アミノ・メルカプト・アクリロキシ・イソシアネート・スチリル・アルコキシオリゴマータイプシランカップリング剤を用いた処理等の化学的処理、真空処理であるアルゴンビームエッチング処理、透明基材を部分的に溶解するエッチング液処理、さらには機械的に透明基材表面を削り取るサンドブラスト加工等の物理的な租面形成処理等を用いる。（図示せず。）
この透明基材１の表面化活性化処理によって、透明基材１との接着性の弱い、すなわち、剥離強度の小さい樹脂に対しても、大きな剥離強度を得ることができる。
以上の表面活性化処理を用いて、透明基材の界面張力もしくは表面エネルギーを増大させる。ホログラム形成層に用いる樹脂や、その形成方法によってその剥離強度は決まるため、界面張力値を一義的には指定できないが、その目安としては、６０〜８０ｍＮ／ｍが好適である。（ポリエチレンテレフタレート樹脂では、３６ｍＮ／ｍが、６０ｍＮ／ｍに増大し、ホログラム形成層としてのメラミン樹脂との剥離強度が０．４ｋｇ／２５ｍｍ幅から２．１ｋｇ／２５ｍｍ幅へと大きくなっている。）
そのため、透明基材の一方の面を表面活性化して、その上に形成するホログラム形成層との接着性を向上させ、０．５ｋｇ／２５ｍｍ幅以上、３．０ｋｇ／２５ｍｍ幅以下の強度（ＪＩＳ Ｚ０２３７で規定する１８０°剥離試験にて。）とし、その表面活性化面を視認可能な所望のパターン状（文字、図形、記号等、視認可能な表示であればいずれも使用できる。代表的には、ラベルを剥離した証拠を示すという意味で、「開封」等の文字表示をするため、「開封」文字以外の部分を不活性化する。）に、その活性化面を残し、その他の領域について不活性化処理を行う。
表面活性化処理の中でも、レーザー照射等の光処理、又はプラズマ処理等の物理的処理は、透明基材の処理面に凹凸が発生せず、鏡面を維持していること、及び、不活性化処理による不活性化効果が大きいことから、特に望ましく、また光学的透明性にも優れる。
さらに、上記した「パターン」内を均一に不活性化処理することに替えて、その「パターン」内をより「微細なパターン」、例えば、網点状、市松模様状、ランダムパターン状等の微細な領域のみ不活性化する（例えば、網点状に不活性化することにより、「パターン」内の網点以外の部分は、活性化面として残る。）ことで、透明基材を剥離した際の粗面化状態をより複雑化し、光の散乱性を向上することができる。
そのため、透明基材の一方の面を表面活性化して、その上に形成するホログラム形成層との接着性を向上させ、０．５ｋｇ／２５ｍｍ幅以上、３．０ｋｇ／２５ｍｍ幅以下の強度（ＪＩＳ Ｚ０２３７で規定する１８０°剥離試験にて。）とし、その表面活性化面を視認可能な所望のパターン状（文字、図形、記号等、視認可能な表示であればいずれも使用できる。代表的には、ラベルを剥離した証拠を示すという意味で、「開封」等の文字表示をするため、「開封」文字以外の部分を不活性化する。）に、その活性化面を残し、その他の領域について不活性化処理を行う。
表面活性化処理の中でも、レーザー照射等の光処理、又はプラズマ処理等の物理的処理は、透明基材の処理面に凹凸が発生せず、鏡面を維持していること、及び、不活性化処理による不活性化効果が大きいことから、特に望ましく、また光学的透明性にも優れる。
さらに、上記した「パターン」内を均一に不活性化処理することに替えて、その「パターン」内をより「微細なパターン」、例えば、網点状、市松模様状、ランダムパターン状等の微細な領域のみ不活性化する（例えば、網点状に不活性化することにより、「パターン」内の網点以外の部分は、活性化面として残る。）ことで、透明基材を剥離した際の粗面化状態をより複雑化し、光の散乱性を向上することができる。
（表面不活性化処理）
透明基材１の一方の面を表面活性化処理後に、パターン状に不活性化処理された部分２を形成するためには、
透明基材の最表面のみを部分的に溶解する、もしくは、活性化した官能基と反応して官能基の活性を解消する、溶剤類、例えば、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、イソホロン、ジイソブチルケトン、等。）、アルコール類（メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、イソブチルアルコール、ｎ−ブチルアルコール等、さらにはその水溶液。）、芳香族類（ベンゼン、トルエン、キシレン、ソルベッソＮｏ．１００、ソルベッソＮｏ．１５０、カクタスＰ−１８０等。）、環状炭化水素類（シクロヘキサン等）、エステル類（酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、酢酸セルソルブ、エチルー３−エトキシプロピオネート等。）、エーテル類（テトラヒドロフラン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ｔ−ブチルセロソルブ等。）等をパターン状に活版印刷方式やインクジェット方式を用いて、表面活性化面への接触を避けてパターン形成し、透明基材の活性化された最表面のみと反応して、その部分のみを不活性化させる。
このとき、溶剤が瞬時に揮発せず、所定時間、透明基材表面に留まる必要があるため、その沸点は、６０度以上２００度以下、好適には、１００度以上１６０度に調整する。
この方法は、透明基材の表面粗さに悪影響をほとんど与えず、その性質のみを変化させるという意味で特に好適である。
透明基材１の一方の面を表面活性化処理後に、パターン状に不活性化処理された部分２を形成するためには、
透明基材の最表面のみを部分的に溶解する、もしくは、活性化した官能基と反応して官能基の活性を解消する、溶剤類、例えば、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、イソホロン、ジイソブチルケトン、等。）、アルコール類（メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、イソブチルアルコール、ｎ−ブチルアルコール等、さらにはその水溶液。）、芳香族類（ベンゼン、トルエン、キシレン、ソルベッソＮｏ．１００、ソルベッソＮｏ．１５０、カクタスＰ−１８０等。）、環状炭化水素類（シクロヘキサン等）、エステル類（酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、酢酸セルソルブ、エチルー３−エトキシプロピオネート等。）、エーテル類（テトラヒドロフラン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ｔ−ブチルセロソルブ等。）等をパターン状に活版印刷方式やインクジェット方式を用いて、表面活性化面への接触を避けてパターン形成し、透明基材の活性化された最表面のみと反応して、その部分のみを不活性化させる。
このとき、溶剤が瞬時に揮発せず、所定時間、透明基材表面に留まる必要があるため、その沸点は、６０度以上２００度以下、好適には、１００度以上１６０度に調整する。
この方法は、透明基材の表面粗さに悪影響をほとんど与えず、その性質のみを変化させるという意味で特に好適である。
又は、透明基材１とはそもそも接着し難い、界面張力の小さい樹脂、例えば、シリコーン樹脂、パラフィン系樹脂、フッ素系樹脂や、これらのフッ化炭化水素基、有機珪素基を含む樹脂や、不揮発油（リンシードオイル、ポピーオイル、ウォルナッツオイル等の乾性油、オリーブオイルや落花生油等の不乾性油、ゴマ油、ナタネ油等の半乾性油）等を、活版印刷や、インクジェット印刷等により、上記した所望のパターン状に部分形成することで、高い精度でパターン状に不活性化する。
この際、部分形成後に透明基材上に光学的な変化を与えないことが望ましく、溶剤等は揮発することで、また、樹脂等はあくまで表面改質の目的であって乾燥後の形成厚さが光の波長の１／５０〜１／１０程度となることが望ましい。もちろん、これらを併用することも好適である。
この不活性化処理により、その不活性化処理面は、透明基材とホログラム形成層との剥離強度を、０．０１ｋｇ／２５ｍｍ幅以上０．１ｋｇ／２５ｍｍ幅以下とでき、ホログラムラベルを剥そうとすると、どのように工夫しても、必ず、透明基材とホログラム形成層間に空隙が発生し、透明基材のみ剥がれる。
この際、部分形成後に透明基材上に光学的な変化を与えないことが望ましく、溶剤等は揮発することで、また、樹脂等はあくまで表面改質の目的であって乾燥後の形成厚さが光の波長の１／５０〜１／１０程度となることが望ましい。もちろん、これらを併用することも好適である。
この不活性化処理により、その不活性化処理面は、透明基材とホログラム形成層との剥離強度を、０．０１ｋｇ／２５ｍｍ幅以上０．１ｋｇ／２５ｍｍ幅以下とでき、ホログラムラベルを剥そうとすると、どのように工夫しても、必ず、透明基材とホログラム形成層間に空隙が発生し、透明基材のみ剥がれる。
そして、透明基材を完全に剥離すると、不活性化処理面にあたるホログラム形成面の最表面がほぼ鏡面となって、その部分からは、その下にあるホログラム再生像を鮮明に視認することができ、活性化処理面にあたるホログラム形成面の最表面は粗面となって、光を散乱し、その部分を通してはホログラム再生像を視認することができなくなっているものである。
さらに、上記した「パターン」内をより「微細なパターン」、すなわち、網点状、市松模様状、ランダムパターン状等の微細な領域のみ不活性化することで、透明基材を剥離した際の粗面化状態をより複雑化し（租面化した面の凹凸変動を大きくするという意味。）、光の散乱性を向上することができる。
「微細なパターン」の個々の大きさは、最小の大きさとしては、高精度な印刷方式を用いて１０μｍ程度で、且つ、１０μｍ周期で設けることもでき、最大では、その「パターン」を構成する線幅まで広げることもできる。このような「微細なパターン」の大きさで設ける場合には、もはや従来方式であるマスクを用いた直接活性化方式を用いることが不可能であることは明らかである。
好適には、５０μｍ〜３００μｍの大きさの網点（網点率は、３０％〜７０％が好適。）や、市松模様状（正方形や、長方形、その他形状。）に一つ飛ばしに不活性化処理したもの、さらには、規則的な処理が不要な回折現象を発生させることを回避するため、網点やその正方形や長方形の大きさを５０μｍ〜３００μｍの間で、ランダムに変化させたものを用いる。
さらに、上記した「パターン」内をより「微細なパターン」、すなわち、網点状、市松模様状、ランダムパターン状等の微細な領域のみ不活性化することで、透明基材を剥離した際の粗面化状態をより複雑化し（租面化した面の凹凸変動を大きくするという意味。）、光の散乱性を向上することができる。
「微細なパターン」の個々の大きさは、最小の大きさとしては、高精度な印刷方式を用いて１０μｍ程度で、且つ、１０μｍ周期で設けることもでき、最大では、その「パターン」を構成する線幅まで広げることもできる。このような「微細なパターン」の大きさで設ける場合には、もはや従来方式であるマスクを用いた直接活性化方式を用いることが不可能であることは明らかである。
好適には、５０μｍ〜３００μｍの大きさの網点（網点率は、３０％〜７０％が好適。）や、市松模様状（正方形や、長方形、その他形状。）に一つ飛ばしに不活性化処理したもの、さらには、規則的な処理が不要な回折現象を発生させることを回避するため、網点やその正方形や長方形の大きさを５０μｍ〜３００μｍの間で、ランダムに変化させたものを用いる。
（ホログラム形成層）
本発明のホログラム形成層３を構成するための透明な樹脂材料としては、各種の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、もしくは電離放射線硬化性樹脂を用いることができる。熱可塑性樹脂としてはアクリル酸エステル樹脂、アクリルアミド樹脂、ニトロセルロース樹脂、もしくはポリスチレン樹脂等が、また、熱硬化性樹脂としては、不飽和ポリエステル樹脂、アクリルウレタン樹脂、エポキシ変性アクリル樹脂、エポキシ変性不飽和ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、もしくはフェノール樹脂等が挙げられる。
これらの熱可塑性樹脂および熱硬化性樹脂は、１種もしくは２種以上を使用することができる。これらの樹脂の１種もしくは２種以上は、各種イソシアネート樹脂を用いて架橋させてもよいし、あるいは、各種の硬化触媒、例えば、ナフテン酸コバルト、もしくはナフテン酸亜鉛等の金属石鹸を配合するか、または、熱もしくは紫外線で重合を開始させるためのベンゾイルパーオキサイド、メチルエチルケトンパーオキサイド等の過酸化物、ベンゾフェノン、アセトフェノン、アントラキノン、ナフトキノン、アゾビスイソブチロニトリル、もしくはジフェニルスルフィド等を配合しても良い。
また、電離放射線硬化性樹脂としては、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、アクリル変性ポリエステル等を挙げることができ、このような電離放射線硬化性樹脂に架橋構造を導入するか、もしくは粘度を調整する目的で、単官能モノマーもしくは多官能モノマー、またはオリゴマー等を配合して用いてもよい。
これらの樹脂を用いて、０．５μｍ〜２μｍ厚さのホログラム形成層３を形成する方法は、種々のコーティング方式や印刷方式を適宜、用い得るが、厚さ精度を確保するには、これらの樹脂を適宜な溶剤で希釈したインキを用いたコーティング方式が望ましい。
本発明のホログラム形成層３を構成するための透明な樹脂材料としては、各種の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、もしくは電離放射線硬化性樹脂を用いることができる。熱可塑性樹脂としてはアクリル酸エステル樹脂、アクリルアミド樹脂、ニトロセルロース樹脂、もしくはポリスチレン樹脂等が、また、熱硬化性樹脂としては、不飽和ポリエステル樹脂、アクリルウレタン樹脂、エポキシ変性アクリル樹脂、エポキシ変性不飽和ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、もしくはフェノール樹脂等が挙げられる。
これらの熱可塑性樹脂および熱硬化性樹脂は、１種もしくは２種以上を使用することができる。これらの樹脂の１種もしくは２種以上は、各種イソシアネート樹脂を用いて架橋させてもよいし、あるいは、各種の硬化触媒、例えば、ナフテン酸コバルト、もしくはナフテン酸亜鉛等の金属石鹸を配合するか、または、熱もしくは紫外線で重合を開始させるためのベンゾイルパーオキサイド、メチルエチルケトンパーオキサイド等の過酸化物、ベンゾフェノン、アセトフェノン、アントラキノン、ナフトキノン、アゾビスイソブチロニトリル、もしくはジフェニルスルフィド等を配合しても良い。
また、電離放射線硬化性樹脂としては、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、アクリル変性ポリエステル等を挙げることができ、このような電離放射線硬化性樹脂に架橋構造を導入するか、もしくは粘度を調整する目的で、単官能モノマーもしくは多官能モノマー、またはオリゴマー等を配合して用いてもよい。
これらの樹脂を用いて、０．５μｍ〜２μｍ厚さのホログラム形成層３を形成する方法は、種々のコーティング方式や印刷方式を適宜、用い得るが、厚さ精度を確保するには、これらの樹脂を適宜な溶剤で希釈したインキを用いたコーティング方式が望ましい。
さらに、０．５μｍ程度の非常に薄い電離放射線硬化樹脂層を、溶剤希釈を用いずに形成するには、下記する凹凸形状面を持つプレス型のその凹凸面に直接、電離放射線硬化樹脂を供給し、その上に透明基材１を重ねて、下記するような回転式の複製方式を用いて、高圧ロールで高い線圧を掛けながら複製することで、すなわち、プレス型の凹凸面からあふれる樹脂をその圧力で掻き出させつつ、電離放射線による硬化をする方式が好適である。この方式では、上記した歪みが発生せず、その歪みを吸収する容積も不要であるため、凹凸の深さに無関係にホログラム形成層３の厚さを薄くすることができる。
また、上記の樹脂材料を用いてホログラム形成層３を形成するには、感光性樹脂材料にホログラムの干渉露光を行なって現像することによって直接的に形成することもできるが、予め作成したレリーフホログラムもしくはその複製物、またはそれらのメッキ型等を複製用型として用い、その型面を上記の樹脂材料の層に押し付けることにより、賦型を行なうのがよい。
熱硬化性樹脂や電離放射線硬化性樹脂を用いる場合には、型面に未硬化の樹脂を密着させたまま、加熱もしくは電離放射線照射により、硬化を行わせ、硬化後に剥離することによって、硬化した透明な樹脂材料からなる層の片面にレリーフホログラムの微細凹凸を形成することができる。なお、同様な方法によりパターン状に形成して模様状とした回折格子を有する回折格子形成層も光回折構造として使用できる。
ホログラムは物体光と参照光との光の干渉による干渉縞を凹凸のレリーフ形状で記録されたもので、例えば、フレネルホログラムなどのレーザ再生ホログラム、及びレインボーホログラムなどの白色光再生ホログラム、さらに、それらの原理を利用したカラーホログラム、コンピュータジェネレーティッドホログラム（ＣＧＨ）、ホログラフィック回折格子などがある。また、マシンリーダブルホログラムのように、その再生光を受光部でデータに変換し所定の情報として伝達したり、真偽判定を行うものであってもよい。
また、上記の樹脂材料を用いてホログラム形成層３を形成するには、感光性樹脂材料にホログラムの干渉露光を行なって現像することによって直接的に形成することもできるが、予め作成したレリーフホログラムもしくはその複製物、またはそれらのメッキ型等を複製用型として用い、その型面を上記の樹脂材料の層に押し付けることにより、賦型を行なうのがよい。
熱硬化性樹脂や電離放射線硬化性樹脂を用いる場合には、型面に未硬化の樹脂を密着させたまま、加熱もしくは電離放射線照射により、硬化を行わせ、硬化後に剥離することによって、硬化した透明な樹脂材料からなる層の片面にレリーフホログラムの微細凹凸を形成することができる。なお、同様な方法によりパターン状に形成して模様状とした回折格子を有する回折格子形成層も光回折構造として使用できる。
ホログラムは物体光と参照光との光の干渉による干渉縞を凹凸のレリーフ形状で記録されたもので、例えば、フレネルホログラムなどのレーザ再生ホログラム、及びレインボーホログラムなどの白色光再生ホログラム、さらに、それらの原理を利用したカラーホログラム、コンピュータジェネレーティッドホログラム（ＣＧＨ）、ホログラフィック回折格子などがある。また、マシンリーダブルホログラムのように、その再生光を受光部でデータに変換し所定の情報として伝達したり、真偽判定を行うものであってもよい。
微細な凹凸を精密に作成するため、光学的な方法だけでなく、電子線描画装置を用いて、精密に設計されたレリーフ構造を作り出し、より精密で複雑な再生光を作り出すものであってもよい。このレリーフ形状は、ホログラムを再現もしくは再生する光もしくは光源の波長（域）と、再現もしくは再生する方向、及び強度によってその凹凸のピッチや、深さ、もしくは特定の周期的形状が設計される。凹凸のピッチ（周期）は再現もしくは再生角度に依存するが、通常０．１μｍ〜数μｍであり、凹凸の深さは、再現もしくは再生強度に大きな影響を与える要素であるが、通常０．１μｍ〜１μｍである。
単一回折格子のように、全く同一形状の凹凸の繰り返しであるものは、隣り合う凹凸が同じ形状であればある程、反射する光の干渉度合いが増しその強度が強くなり、最大値へと収束する。回折方向のぶれも最小となる。立体像のように、画像の個々の点が焦点に収束するものは、その焦点への収束精度が向上し、再現もしくは再生画像が鮮明となる。
さらに、透明金属化合物薄膜の場合は、その薄膜の上下の面が、同一レリーフ形状であり且つ、その面と面の距離（すなわち膜厚さ）が均一であればあるほど、再現もしくは再生強度が大きくなる。また、レリーフ面にホログラム画像の凹凸とは異なる周期、形状の凹凸が存在すると、それはホログラムもしくは回折格子の再現もしくは再生時のノイズとなり、画像を不鮮明にする要因となる。
単一回折格子のように、全く同一形状の凹凸の繰り返しであるものは、隣り合う凹凸が同じ形状であればある程、反射する光の干渉度合いが増しその強度が強くなり、最大値へと収束する。回折方向のぶれも最小となる。立体像のように、画像の個々の点が焦点に収束するものは、その焦点への収束精度が向上し、再現もしくは再生画像が鮮明となる。
さらに、透明金属化合物薄膜の場合は、その薄膜の上下の面が、同一レリーフ形状であり且つ、その面と面の距離（すなわち膜厚さ）が均一であればあるほど、再現もしくは再生強度が大きくなる。また、レリーフ面にホログラム画像の凹凸とは異なる周期、形状の凹凸が存在すると、それはホログラムもしくは回折格子の再現もしくは再生時のノイズとなり、画像を不鮮明にする要因となる。
レリーフ形状を賦形（複製ともいう）する方法は、回折格子や干渉縞が凹凸の形で記録された原版をプレス型（スタンパという）として用い、上記ホログラム形成層３上に、もしくは、下記する反射性薄膜層４上に、前記原版を重ねて加熱ロールなどの適宜手段により、両者を加熱圧着することにより、原版の凹凸模様を複製することができる。形成するホログラムパターンは単独でも、複数でもよい。
上記の極微細な形状を精密に再現するため、また、複製後の熱収縮などの歪みや変形を最小とするため、原版は金属を使用し、低温・高圧下で複製を行う。
原版は、Ｎｉなどの硬度の高い金属を用いる。光学的撮影もしくは、電子線描画などにより形成したガラスマスターなどの表面にＣｒ、Ｎｉ薄膜を真空蒸着法、スパッタリングなどにより５〜５０ｎｍ形成後、Ｎｉなどを電着法（電気めっき、無電解めっき、さらには複合めっきなど）により５０〜１０００μｍ形成した後、金属を剥離することで作ることができる。
高圧回転式の複製に用いるためには、このＮｉ層の厚み精度を高くする必要があり、通常±１０μｍ、好ましくは、±１μｍとする。このため、裏面の研磨や、平坦化方法を用いてもよい。
上記の極微細な形状を精密に再現するため、また、複製後の熱収縮などの歪みや変形を最小とするため、原版は金属を使用し、低温・高圧下で複製を行う。
原版は、Ｎｉなどの硬度の高い金属を用いる。光学的撮影もしくは、電子線描画などにより形成したガラスマスターなどの表面にＣｒ、Ｎｉ薄膜を真空蒸着法、スパッタリングなどにより５〜５０ｎｍ形成後、Ｎｉなどを電着法（電気めっき、無電解めっき、さらには複合めっきなど）により５０〜１０００μｍ形成した後、金属を剥離することで作ることができる。
高圧回転式の複製に用いるためには、このＮｉ層の厚み精度を高くする必要があり、通常±１０μｍ、好ましくは、±１μｍとする。このため、裏面の研磨や、平坦化方法を用いてもよい。
複製方式は、高圧とするため、平板式でなく、回転式を用い、線圧０．１トン／ｍ〜１０トン／ｍ、好ましくは、５トン／ｍ以上とする。複製用シリンダーは、その直径が小さいとレリーフの再現性が低下するため、複製シリンダー直径は大きい方が好ましく、通常、直径０．１ｍ〜２．０ｍ、好ましくは、１．０ｍ以上の弧を使用する。
透明基材１上のホログラム形成層３をこの複製用シリンダーに沿って押し当て、裏面より金属製シリンダーにより上記圧力にて複製を実施する。複製後の熱収縮などの歪みや変形を最小限とするためには、透明な基材１全体を加熱するのではなく、ホログラム形成層３面側の一部のみを加熱する方法が望ましい。通常６０℃〜１１０℃に加熱する。さらには、裏面の金属製シリンダーを常温に保つ、もしくは冷却することで、さらにその精度を向上させることができる。
透明基材１上のホログラム形成層３をこの複製用シリンダーに沿って押し当て、裏面より金属製シリンダーにより上記圧力にて複製を実施する。複製後の熱収縮などの歪みや変形を最小限とするためには、透明な基材１全体を加熱するのではなく、ホログラム形成層３面側の一部のみを加熱する方法が望ましい。通常６０℃〜１１０℃に加熱する。さらには、裏面の金属製シリンダーを常温に保つ、もしくは冷却することで、さらにその精度を向上させることができる。
（反射性薄膜）
本発明のホログラムラベルでは、ホログラム形成層３の上に形成されているホログラムレリーフに接して、且つ、追従するように反射性薄膜層４を形成する。この薄膜は、入射した光を反射する必要があるため、透明基材１よりも高い屈折率を有する薄膜であれば、特に限定されない。
反射性薄膜層４としては、真空薄膜法などにより形成される金属薄膜などの金属光沢反射層、又は透明反射層のいずれでもよいが、金属光沢反射層を部分的に設けたり、透明反射層を設けた場合は、ラベル貼着後にそのラベルに覆われた被貼着体上の画像などがホログラムを通して観察できるので好ましい。
透明反射層としては、ほぼ無色透明な色相で、その光学的な屈折率がホログラム形成層のそれとは異なることにより、金属光沢が無いにもかかわらず、ホログラムなどの光輝性を視認できることから、透明なホログラムを作製することができる。例えば、ホログラム形成層３よりも光屈折率の高い薄膜、例として、ＺｎＳ、ＴｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｓ3、ＳｉＯ、ＳｎＯ2、ＩＴＯなどがある。好ましくは、金属酸化物又は窒化物であり、具体的には、Ｂｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｌ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｔｅ、Ｔｉ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｚｎ、Ｇｅ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ｂｉ、Ｓｅ、Ｇａ、Ｒｂ、Ｓｂ、Ｐｂ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｌａ、Ｃｅ、Ａｕなどの酸化物又は窒化物他はそれらを２種以上を混合したものなどが例示できる。またアルミニウムなどの一般的な光反射性の金属薄膜も、厚みが２０ｎｍ以下になると、透明性が出て使用できる。
本発明のホログラムラベルでは、ホログラム形成層３の上に形成されているホログラムレリーフに接して、且つ、追従するように反射性薄膜層４を形成する。この薄膜は、入射した光を反射する必要があるため、透明基材１よりも高い屈折率を有する薄膜であれば、特に限定されない。
反射性薄膜層４としては、真空薄膜法などにより形成される金属薄膜などの金属光沢反射層、又は透明反射層のいずれでもよいが、金属光沢反射層を部分的に設けたり、透明反射層を設けた場合は、ラベル貼着後にそのラベルに覆われた被貼着体上の画像などがホログラムを通して観察できるので好ましい。
透明反射層としては、ほぼ無色透明な色相で、その光学的な屈折率がホログラム形成層のそれとは異なることにより、金属光沢が無いにもかかわらず、ホログラムなどの光輝性を視認できることから、透明なホログラムを作製することができる。例えば、ホログラム形成層３よりも光屈折率の高い薄膜、例として、ＺｎＳ、ＴｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｓ3、ＳｉＯ、ＳｎＯ2、ＩＴＯなどがある。好ましくは、金属酸化物又は窒化物であり、具体的には、Ｂｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｌ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｔｅ、Ｔｉ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｚｎ、Ｇｅ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ｂｉ、Ｓｅ、Ｇａ、Ｒｂ、Ｓｂ、Ｐｂ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｌａ、Ｃｅ、Ａｕなどの酸化物又は窒化物他はそれらを２種以上を混合したものなどが例示できる。またアルミニウムなどの一般的な光反射性の金属薄膜も、厚みが２０ｎｍ以下になると、透明性が出て使用できる。
透明金属化合物の形成は、金属の薄膜と同様、透明な生分解性を有するプラスチックフィルム又はシート１の一方面に、１０〜２０００ｎｍ程度、好ましくは２０〜１０００ｎｍの厚さになるよう、蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング、ＣＶＤ（化学蒸着法）などの真空薄膜法などにより設ければよい。特にＣＶＤ法はホログラム形成層３への熱的ダメージが少ない。また、他の薄膜形成法を用いても、形成する薄膜層を薄くしておくと、その熱的ダメージを少なくすることができる。例えば、ＡＬ蒸着層であれば、形成条件によるが、ほぼ２０ｎｍが透明性が無くなり全反射性を出現する臨界点である。この厚さは薄膜材料、形成方法、金属加熱温度・真空度等の形成条件により異なる。
（粘着層）
粘着層５としては、従来公知の溶剤系及び水系のいずれの粘着剤、例えば、酢酸ビニル樹脂、アクリル樹脂、酢酸ビニル−アクリル共重合体、酢酸ビニル−塩化ビニル共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリウレタン樹脂や、天然ゴム、クロロプレンゴムなどのゴム系樹脂などが挙げられる。自然にやさしい材料構成とするために、特に、天然ゴムを主成分とするラテックス、それを変性したもの、特に天然ゴムにスチレン特にメタクリルさんメチルとをグラフト重合させて得た天然ゴムラテックス等の天然素材から作製されたものを用いても良い。
粘着層５としては、従来公知の溶剤系及び水系のいずれの粘着剤、例えば、酢酸ビニル樹脂、アクリル樹脂、酢酸ビニル−アクリル共重合体、酢酸ビニル−塩化ビニル共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリウレタン樹脂や、天然ゴム、クロロプレンゴムなどのゴム系樹脂などが挙げられる。自然にやさしい材料構成とするために、特に、天然ゴムを主成分とするラテックス、それを変性したもの、特に天然ゴムにスチレン特にメタクリルさんメチルとをグラフト重合させて得た天然ゴムラテックス等の天然素材から作製されたものを用いても良い。
粘着層５の塗工量は、約８〜３０ｇ／ｍ2（固形分）が一般的であり、従来公知の方法、すなわち、グラビアコート、ロールコート、コンマコートなどの方法で、塗布し乾燥して粘着層５を形成する。また、粘着層５の粘着力は、反射性薄膜層４と粘着層５との剥離強度で、ＪＩＳ Ｚ０２３７準拠の１８０°による剥離方法において、０．１〜１ｋｇ程度の範囲にすることが望ましい。もちろん、それ以上の剥離強度を有していても、本発明の目的には適合している。
以上の如き粘着剤の種類や、塗工量は、透明基材１、ホログラム形成層３及び反射性薄膜層４上に粘着剤層５を形成する際に、その剥離強度が前記範囲になるように、選択して使用することが好ましい。
以上の如き粘着剤の種類や、塗工量は、透明基材１、ホログラム形成層３及び反射性薄膜層４上に粘着剤層５を形成する際に、その剥離強度が前記範囲になるように、選択して使用することが好ましい。
以下、実施例及び比較例により、本発明を更に詳細に説明するが、これに限定されるものではない。なお、溶媒を除き、各層の各組成物は固形分換算の質量部である。
（実施例１）透明基材１として、３８μｍのポリエチレンテレフタレート樹脂フィルム を用い、その一方の面を、エキシマ社製エキシマＵＶ０３改質装置を用いて、波長１７２ｎ
ｍのエキシマ光を照射して表面活性化処理したフィルムに、下記不活性化処理用溶剤組成 物を用いて、活版方式にて、タテ・ヨコ１０ｍｍ×１０ｍｍサイズで「開」「封」の文字 を縦横連続して塗布厚さ５μｍで形成した（線幅は、１０００μｍ。）。これを乾燥温度 ８０度にて乾燥し、「パターン状に不活性化処理された部分２」を形成した。
〈不活性化処理用溶剤組成物〉
メチルエチルケトン（沸点８０度） １５部
トルエン（沸点１００度） ２５部
メチルイソブチルケトン（沸点１１５度） ３０部
シクロヘキサノン（沸点１５６度） ３０部
その上に、下記組成のホログラム形成層用組成物をグラビアリバースコーティングにより、塗布後、乾燥し、厚さ５μｍのホログラム形成層３を得た。
〈ホログラム形成層用組成物：塗膜の引張り破断強度３．０ＭＰａ〉
非晶性ポリメチルメタクリレート ２０部
低密度ポリプロピレン １０部
トルエン ３０部
酢酸エチル ４０部
（透明基材１と、ホログラム形成層３との剥離強度：不活性化処理部分８０ｇ／２５ｍｍ幅、活性化処理面１．２ｋｇ／２５ｍｍ幅に相当。）
次に、レーザ光学系を用いて撮影した意匠性の高いホログラム（ホログラムレリーフの凹凸：最大０．３μｍ。）を備えたＮｉ原版を用意し、上記したホログラム形成層３に、そのＮｉ原版のレリーフ面を合わせて、回転式レリーフホログラム形成装置（原版シリンダー径１．０ｍ・原版面温度１００℃、加圧シリンダー径０．３ｍ水冷式、圧力２トン／ｍ、複製速度１０ｍ／分）にてホログラムレリーフをホログラム形成層３上に形成した。
次に、アルバック社製真空蒸着機にて、そのホログラムレリーフ面に接して、且つ、追従
するように２００ｎｍ厚さのＡＬ薄膜からなる反射性薄膜層４を形成した。
（実施例１）透明基材１として、３８μｍのポリエチレンテレフタレート樹脂フィルム を用い、その一方の面を、エキシマ社製エキシマＵＶ０３改質装置を用いて、波長１７２ｎ
ｍのエキシマ光を照射して表面活性化処理したフィルムに、下記不活性化処理用溶剤組成 物を用いて、活版方式にて、タテ・ヨコ１０ｍｍ×１０ｍｍサイズで「開」「封」の文字 を縦横連続して塗布厚さ５μｍで形成した（線幅は、１０００μｍ。）。これを乾燥温度 ８０度にて乾燥し、「パターン状に不活性化処理された部分２」を形成した。
〈不活性化処理用溶剤組成物〉
メチルエチルケトン（沸点８０度） １５部
トルエン（沸点１００度） ２５部
メチルイソブチルケトン（沸点１１５度） ３０部
シクロヘキサノン（沸点１５６度） ３０部
その上に、下記組成のホログラム形成層用組成物をグラビアリバースコーティングにより、塗布後、乾燥し、厚さ５μｍのホログラム形成層３を得た。
〈ホログラム形成層用組成物：塗膜の引張り破断強度３．０ＭＰａ〉
非晶性ポリメチルメタクリレート ２０部
低密度ポリプロピレン １０部
トルエン ３０部
酢酸エチル ４０部
（透明基材１と、ホログラム形成層３との剥離強度：不活性化処理部分８０ｇ／２５ｍｍ幅、活性化処理面１．２ｋｇ／２５ｍｍ幅に相当。）
次に、レーザ光学系を用いて撮影した意匠性の高いホログラム（ホログラムレリーフの凹凸：最大０．３μｍ。）を備えたＮｉ原版を用意し、上記したホログラム形成層３に、そのＮｉ原版のレリーフ面を合わせて、回転式レリーフホログラム形成装置（原版シリンダー径１．０ｍ・原版面温度１００℃、加圧シリンダー径０．３ｍ水冷式、圧力２トン／ｍ、複製速度１０ｍ／分）にてホログラムレリーフをホログラム形成層３上に形成した。
次に、アルバック社製真空蒸着機にて、そのホログラムレリーフ面に接して、且つ、追従
するように２００ｎｍ厚さのＡＬ薄膜からなる反射性薄膜層４を形成した。
このＡＬ薄膜形成面に、次の組成物をグラビアコーターで乾燥後の塗布量が２０μｍになるように、塗工し７０℃で乾燥させて、粘着層５を形成し、２０ｍｍ×４０ｍｍのサイズにカットし、実施例１のホログラムラベルＡを得た。
・＜粘着剤組成物＞
酢酸ビニル−アクリル共重合体 ３０質量部
トルエン ４０質量部
酢酸ビニル ４０質量部
このホログラムラベルを、重要書類を入れた封筒の封緘用に所定の圧力をかけて貼付し、２４時間放置した後、目視にて観察したところ、表面活性化処理部分と表面不活性化処理部分に光学的な差は認識できず、「パターン状」の文字があることは確認できなかった。
そのホログラムラベルを剥そうとしたところ、透明基材１のみが容易に剥離し、その剥離後のホログラム形成層３は、その「パターン状に表面不活性化処理された部分２」、すなわち、縦横に連続した、「開」「封」の文字状に（部分的に）剥されており、その「開」「封」の文字を鮮明に視認することができ、剥離した透明基材１側にその部分が付着していた。且つ、この剥離部分は、不活性化パターンを忠実に再現していた。
このことから、ホログラムラベルＡは、高い意匠性と開封防止効果を有するものと思われた。
・＜粘着剤組成物＞
酢酸ビニル−アクリル共重合体 ３０質量部
トルエン ４０質量部
酢酸ビニル ４０質量部
このホログラムラベルを、重要書類を入れた封筒の封緘用に所定の圧力をかけて貼付し、２４時間放置した後、目視にて観察したところ、表面活性化処理部分と表面不活性化処理部分に光学的な差は認識できず、「パターン状」の文字があることは確認できなかった。
そのホログラムラベルを剥そうとしたところ、透明基材１のみが容易に剥離し、その剥離後のホログラム形成層３は、その「パターン状に表面不活性化処理された部分２」、すなわち、縦横に連続した、「開」「封」の文字状に（部分的に）剥されており、その「開」「封」の文字を鮮明に視認することができ、剥離した透明基材１側にその部分が付着していた。且つ、この剥離部分は、不活性化パターンを忠実に再現していた。
このことから、ホログラムラベルＡは、高い意匠性と開封防止効果を有するものと思われた。
（実施例２）アルバック社製電子線加熱方式真空蒸着機を用いて、ＴｉＯｘ薄膜層４０ｎ
ｍを形成すること、及び、封緘する封筒にデザインが印刷されていること以外は全て実施例１と同一とし、実施例２のホログラムラベルＡ（透明なホログラムラベル）を得た。
実施例１と同様に評価したところ、透明なホログラムラベルの中の「パターン状」の文字部分と、それ以外の部分において、光学的な差はなく、透明なホログラムラベルを通してて、封筒のデザインが鮮明に確認できたことに加えて、実施例１と同様の効果が得られた。
（実施例３）透明基材１として、３８μｍのポリエチレンテレフタレート樹脂フィルムを用い、その一方の面を、ナビタス社製ポリダイン低周波コロナ処理システムによってコロナ処
理方式にて表面活性化処理し、下記組成の不活性化処理用溶剤組成物をインクジェト方式にて、厚さ１μｍで形成し、且つ、ホログラム形成層３を、１．０μｍとした以外は、実施例１と同様にして、実施例３のホログラムラベルＡを得た。
〈不活性化処理用溶剤組成物〉
メチルエチルケトン（沸点８０度） ４０部
トルエン（沸点１００度） ３０部
メチルイソブチルケトン（沸点１１５度） ２９部
リンシードオイル １部
実施例１と同様に評価したところ、透明基材１が非常に容易に剥がれ、且つ、不活性化パターンの非常に細かいところまで剥離分断されていたこと以外は、実施例１と同様の効果が得られた。
（実施例４）ホログラム形成層用組成物として、下記組成のもの用い、複製後に紫外線硬化処理をした以外は、実施例１と同様にして、実施例４のホログラムラベルＡを得た。
〈ホログラム形成層用組成物２層：塗膜の引張り破断強度０．５ＭＰａ〉
１層目（１．０μｍ）
紫外線硬化型メチルメタクリレート ４０部
ベンゾフェノン ０．０５部
トルエン ９．９５部
メチルエチルケトン ５０部
２層目（０．１μｍ）
紫外線硬化型メチルメタクリレート ５部
ベンゾフェノン ０．０５部
トルエン ９．９５部
酢酸エチル ５０部
イソプロピルアルコール ３５部
実施例１と同様に評価したところ、不活性化パターンの非常に細かいところまで剥離分断されていたこと以外は、実施例１と同様の効果が得られた。
（実施例５）ホログラム形成層用組成物として、下記組成のものを、ホログラムレリーフの複製型に直接塗布し、回転方式で複製した以外は、実施例１と同様にして、実施例５
〈ホログラム形成層用組成物：塗膜の引張り破断強度２．０ＭＰａ〉
紫外線硬化型メチルメタクリレート ９０部
トルエン １０部
のホログラムラベルＡを得た。
実施例１と同様に評価したところ、実施例１と同様の効果が得られた。
（実施例６）「微細なパターン」、すなわち、５０μｍ×１００μｍの長方形とし、この基本形を市松模様として、一つ飛ばしに表面不活性化処理を施して、上記した「開」と「封」のパターンを形成したこと以外は、実施例２と同様にして、実施例６のホログラムラベルＡを得た。
実施例２と同様に評価したところ、微細なパターンの一つ一つが剥離分断されていたことに加えて、実施例２と同様の効果が得られ、透明基材１の剥離後のパターンがより鮮明に視認できた。
ｍを形成すること、及び、封緘する封筒にデザインが印刷されていること以外は全て実施例１と同一とし、実施例２のホログラムラベルＡ（透明なホログラムラベル）を得た。
実施例１と同様に評価したところ、透明なホログラムラベルの中の「パターン状」の文字部分と、それ以外の部分において、光学的な差はなく、透明なホログラムラベルを通してて、封筒のデザインが鮮明に確認できたことに加えて、実施例１と同様の効果が得られた。
（実施例３）透明基材１として、３８μｍのポリエチレンテレフタレート樹脂フィルムを用い、その一方の面を、ナビタス社製ポリダイン低周波コロナ処理システムによってコロナ処
理方式にて表面活性化処理し、下記組成の不活性化処理用溶剤組成物をインクジェト方式にて、厚さ１μｍで形成し、且つ、ホログラム形成層３を、１．０μｍとした以外は、実施例１と同様にして、実施例３のホログラムラベルＡを得た。
〈不活性化処理用溶剤組成物〉
メチルエチルケトン（沸点８０度） ４０部
トルエン（沸点１００度） ３０部
メチルイソブチルケトン（沸点１１５度） ２９部
リンシードオイル １部
実施例１と同様に評価したところ、透明基材１が非常に容易に剥がれ、且つ、不活性化パターンの非常に細かいところまで剥離分断されていたこと以外は、実施例１と同様の効果が得られた。
（実施例４）ホログラム形成層用組成物として、下記組成のもの用い、複製後に紫外線硬化処理をした以外は、実施例１と同様にして、実施例４のホログラムラベルＡを得た。
〈ホログラム形成層用組成物２層：塗膜の引張り破断強度０．５ＭＰａ〉
１層目（１．０μｍ）
紫外線硬化型メチルメタクリレート ４０部
ベンゾフェノン ０．０５部
トルエン ９．９５部
メチルエチルケトン ５０部
２層目（０．１μｍ）
紫外線硬化型メチルメタクリレート ５部
ベンゾフェノン ０．０５部
トルエン ９．９５部
酢酸エチル ５０部
イソプロピルアルコール ３５部
実施例１と同様に評価したところ、不活性化パターンの非常に細かいところまで剥離分断されていたこと以外は、実施例１と同様の効果が得られた。
（実施例５）ホログラム形成層用組成物として、下記組成のものを、ホログラムレリーフの複製型に直接塗布し、回転方式で複製した以外は、実施例１と同様にして、実施例５
〈ホログラム形成層用組成物：塗膜の引張り破断強度２．０ＭＰａ〉
紫外線硬化型メチルメタクリレート ９０部
トルエン １０部
のホログラムラベルＡを得た。
実施例１と同様に評価したところ、実施例１と同様の効果が得られた。
（実施例６）「微細なパターン」、すなわち、５０μｍ×１００μｍの長方形とし、この基本形を市松模様として、一つ飛ばしに表面不活性化処理を施して、上記した「開」と「封」のパターンを形成したこと以外は、実施例２と同様にして、実施例６のホログラムラベルＡを得た。
実施例２と同様に評価したところ、微細なパターンの一つ一つが剥離分断されていたことに加えて、実施例２と同様の効果が得られ、透明基材１の剥離後のパターンがより鮮明に視認できた。
(比較例)
（比較例１）ホログラム形成層３として、引張り破断強度１０ＭＰaのメラミン樹脂を使用しこと以外は、実施例１と同様にし、比較例１のホログラムラベルを得た。
このホログラムラベルを実施例１と同様に評価したところ、透明基材１は容易には剥がれたものの、ホログラム形成層３がパターン状には破断せず、ほとんど被貼着体側に残った。
従って、このホログラムを丁寧に剥がせば、不正に剥すことも可能であると思われた。
（比較例１）ホログラム形成層３として、引張り破断強度１０ＭＰaのメラミン樹脂を使用しこと以外は、実施例１と同様にし、比較例１のホログラムラベルを得た。
このホログラムラベルを実施例１と同様に評価したところ、透明基材１は容易には剥がれたものの、ホログラム形成層３がパターン状には破断せず、ほとんど被貼着体側に残った。
従って、このホログラムを丁寧に剥がせば、不正に剥すことも可能であると思われた。
Ａ ホログラムラベル
１ 透明基材
２ 透明基材の一方の面を表面活性化処理後に、パターン状に表面不活性化処理された 部分（表面不活性化処理された部分ともいう。）
３ ホログラム形成層
４ 反射性薄膜層
５ 粘着層
６ ホログラムラベルを剥離した際の透明基材側の部分
７ ホログラムラベルを剥離した際の被着体側に残ったホログラムラベルの部分
１ 透明基材
２ 透明基材の一方の面を表面活性化処理後に、パターン状に表面不活性化処理された 部分（表面不活性化処理された部分ともいう。）
３ ホログラム形成層
４ 反射性薄膜層
５ 粘着層
６ ホログラムラベルを剥離した際の透明基材側の部分
７ ホログラムラベルを剥離した際の被着体側に残ったホログラムラベルの部分
Claims (4)
- 透明基材に、表面活性化処理を施した後、パターン状の不活性化処理を行い、その上に、ホログラムレリーフを有するホログラム形成層、反射性薄膜層、粘着層が設けるホログラムラベルの製造方法において、
前記ホログラム形成層は、引張り破断強度が、０．１ＭＰａ以上３ＭＰａ以下である樹脂からなることを特徴とするホログラムラベルの製造方法。
- 前記ホログラム形成層の厚さが、０．５μｍ以上２μｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載のホログラムラベルの製造方法。
- 前記パターンは、微細なパターンの集合により構成されているものであることを特徴とする請求項１または２に記載のホログラムラベルの製造方法。
- 請求項１〜３のホログラムラベルの製造方法において製造されたホログラムラベル。
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013025277A (ja) * | 2011-07-26 | 2013-02-04 | Dainippon Printing Co Ltd | 開封防止ラベル |
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| JPH09244519A (ja) * | 1996-03-08 | 1997-09-19 | Toppan Printing Co Ltd | ホログラム脆性シール |
| JPH1185028A (ja) * | 1997-09-12 | 1999-03-30 | Dainippon Printing Co Ltd | 体積ホログラム積層体、および体積ホログラム積層体作製用ラベル |
| JP2002082593A (ja) * | 2000-06-27 | 2002-03-22 | Dainippon Printing Co Ltd | 体積ホログラム積層体、および体積ホログラム積層体作製用ラベル |
| JP2002090276A (ja) * | 2000-09-18 | 2002-03-27 | Dainippon Printing Co Ltd | 転写箔シート及びその剥離性・破断性の評価方法 |
| JP2008139719A (ja) * | 2006-12-05 | 2008-06-19 | Dainippon Printing Co Ltd | ホログラムラベル |
-
2009
- 2009-12-25 JP JP2009295758A patent/JP5532911B2/ja active Active
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| Publication number | Publication date |
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