JP2877968B2 - 情報記録方法及び情報記録媒体 - Google Patents
情報記録方法及び情報記録媒体Info
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- JP2877968B2 JP2877968B2 JP3008384A JP838491A JP2877968B2 JP 2877968 B2 JP2877968 B2 JP 2877968B2 JP 3008384 A JP3008384 A JP 3008384A JP 838491 A JP838491 A JP 838491A JP 2877968 B2 JP2877968 B2 JP 2877968B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、転写タイプの反射型レ
リーフホログラム、反射型レリーフ回折格子等の微細な
凹凸パターンが記録されている転写箔を基体上に感熱記
録ヘッド等により転写し、その転写部分に更に感熱記録
ヘッド等を用いて転写箔が元来持っていた情報と異なる
情報を記録・表示する情報記録方法とそのような方法に
よって記録された情報記録媒体に関する。
リーフホログラム、反射型レリーフ回折格子等の微細な
凹凸パターンが記録されている転写箔を基体上に感熱記
録ヘッド等により転写し、その転写部分に更に感熱記録
ヘッド等を用いて転写箔が元来持っていた情報と異なる
情報を記録・表示する情報記録方法とそのような方法に
よって記録された情報記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】ホログラムは、一般に光の干渉パターン
を記録したものであり、二次元画像、三次元画像の記
録、表示をはじめ、高密度の情報記録媒体として多方面
に用いられている。この中、レリーフホログラムは、フ
ォトレジスト等にホログラムの干渉縞を凹凸パターンと
して記録した後、この凹凸パターンをメッキ等により型
取りし、この金型を透明な熱可塑性樹脂等又はこのよう
な樹脂表面に金属等からなる反射層を形成したものに型
押しすることにより、大量に複製される。レリーフホロ
グラムの中、レリーフ面に金属層、高屈折率層等の反射
層を設け、この反射層から反射回折された光によって像
を再生するものは、反射層によって入射光をほぼ完全に
反射する場合と、入射光の一部を反射し、透過した背景
にホログラム再生像が重なる場合とがある。本願におい
ては、これら両者を含めて反射型レリーフホログラムと
呼ぶことにする。また、凹凸パターンが単に位相回折格
子模様を適当に並べたパターンの場合もあるが、これも
上記反射型レリーフホログラムに含めて考える。
を記録したものであり、二次元画像、三次元画像の記
録、表示をはじめ、高密度の情報記録媒体として多方面
に用いられている。この中、レリーフホログラムは、フ
ォトレジスト等にホログラムの干渉縞を凹凸パターンと
して記録した後、この凹凸パターンをメッキ等により型
取りし、この金型を透明な熱可塑性樹脂等又はこのよう
な樹脂表面に金属等からなる反射層を形成したものに型
押しすることにより、大量に複製される。レリーフホロ
グラムの中、レリーフ面に金属層、高屈折率層等の反射
層を設け、この反射層から反射回折された光によって像
を再生するものは、反射層によって入射光をほぼ完全に
反射する場合と、入射光の一部を反射し、透過した背景
にホログラム再生像が重なる場合とがある。本願におい
ては、これら両者を含めて反射型レリーフホログラムと
呼ぶことにする。また、凹凸パターンが単に位相回折格
子模様を適当に並べたパターンの場合もあるが、これも
上記反射型レリーフホログラムに含めて考える。
【０００３】反射型レリーフホログラムは、典型的には
図２に示したような断面構造をしており、熱可塑性樹脂
等からなるホログラム層１とその表面の凹凸干渉縞面
（レリーフ面）上に形成された反射層２からなり、反射
層２はアルミニウム、スズ等の蒸着金属膜からなる場合
と硫化亜鉛等の高屈折率透明体膜からなる場合がある。
蒸着金属膜からなる場合は、金属により入射光をほぼ完
全に反射する反射型レリーフホログラムとなるが、高屈
折率透明体膜からなる場合は、ホログラム層１と反射層
２の間の屈折率差に基づくフレネル反射によるため、入
射光の一部を反射し透過した背景にホログラム再生像が
重なるタイプの反射型レリーフホログラムとなる。この
ような反射型レリーフホログラムの製造方法としては、
フォトレジスト等にホログラム情報を凹凸のパターンと
して記録した後、この凹凸パターンをメッキ等により型
取りし、この金型をホログラム層１を形成する透明な樹
脂層に型押しをして複製し、その複製された凹凸模様上
に反射層２を蒸着等により形成することにより製造する
方法と、予めホログラム層１を形成する透明な樹脂層上
に反射層２を形成しておき、その反射層２上に上記のよ
うな凹凸パターンを型取りした金型を加熱加圧して複製
して製造する方法（例えば、特開昭５８−６５４６６号
公報参照）とがある。
図２に示したような断面構造をしており、熱可塑性樹脂
等からなるホログラム層１とその表面の凹凸干渉縞面
（レリーフ面）上に形成された反射層２からなり、反射
層２はアルミニウム、スズ等の蒸着金属膜からなる場合
と硫化亜鉛等の高屈折率透明体膜からなる場合がある。
蒸着金属膜からなる場合は、金属により入射光をほぼ完
全に反射する反射型レリーフホログラムとなるが、高屈
折率透明体膜からなる場合は、ホログラム層１と反射層
２の間の屈折率差に基づくフレネル反射によるため、入
射光の一部を反射し透過した背景にホログラム再生像が
重なるタイプの反射型レリーフホログラムとなる。この
ような反射型レリーフホログラムの製造方法としては、
フォトレジスト等にホログラム情報を凹凸のパターンと
して記録した後、この凹凸パターンをメッキ等により型
取りし、この金型をホログラム層１を形成する透明な樹
脂層に型押しをして複製し、その複製された凹凸模様上
に反射層２を蒸着等により形成することにより製造する
方法と、予めホログラム層１を形成する透明な樹脂層上
に反射層２を形成しておき、その反射層２上に上記のよ
うな凹凸パターンを型取りした金型を加熱加圧して複製
して製造する方法（例えば、特開昭５８−６５４６６号
公報参照）とがある。
【０００４】ところで、このような反射型レリーフホロ
グラムを転写箔に構成することができる（例えば、特開
平１−２８３５８３号公報参照）。図３にその断面を示
す。図２の反射型レリーフホログラムを転写可能にする
ためには、ホログラム層１の反射層２と反対の面にワッ
クス等からなる剥離層３を介してＰＥＴ（ポレエチレン
テレフタレート）等からなるベースフィルム４を設け、
また、反射層２上に塩化ビニル系樹脂等からなる感熱接
着層５を設ける。このような構成の転写箔の所望の輪郭
領域部分内のホログラム層１及び反射層２を、例えば感
熱記録ヘッドを用いて例えば塩化ビニルからなる基体上
に転写するには、図４に示すように、転写される基体６
と感熱記録ヘッド７の間に感熱接着層５が基体６に向
き、ベースフィルム４が感熱記録ヘッド７に対抗するよ
うに転写箔をセットして、感熱記録ヘッド７を駆動すれ
ばよい。
グラムを転写箔に構成することができる（例えば、特開
平１−２８３５８３号公報参照）。図３にその断面を示
す。図２の反射型レリーフホログラムを転写可能にする
ためには、ホログラム層１の反射層２と反対の面にワッ
クス等からなる剥離層３を介してＰＥＴ（ポレエチレン
テレフタレート）等からなるベースフィルム４を設け、
また、反射層２上に塩化ビニル系樹脂等からなる感熱接
着層５を設ける。このような構成の転写箔の所望の輪郭
領域部分内のホログラム層１及び反射層２を、例えば感
熱記録ヘッドを用いて例えば塩化ビニルからなる基体上
に転写するには、図４に示すように、転写される基体６
と感熱記録ヘッド７の間に感熱接着層５が基体６に向
き、ベースフィルム４が感熱記録ヘッド７に対抗するよ
うに転写箔をセットして、感熱記録ヘッド７を駆動すれ
ばよい。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところで、従来は図４
に示すようにして反射型レリーフホログラムをカード等
の基体６上に転写して、カード等にマーク、画像等の可
視情報を表示していたが、転写箔に記録された情報以外
の画像情報、文字情報等を転写領域に記録・表示するこ
とはできなかった。
に示すようにして反射型レリーフホログラムをカード等
の基体６上に転写して、カード等にマーク、画像等の可
視情報を表示していたが、転写箔に記録された情報以外
の画像情報、文字情報等を転写領域に記録・表示するこ
とはできなかった。
【０００６】本発明はこのような状況に鑑みてなされた
ものであり、その目的は、上記のような反射型レリーフ
ホログラムの転写箔から転写されたホログラムに反射型
レリーフホログラムに元来記録されていた情報以外の画
像、文字等の情報を追記する方法及びその方法によって
記録された情報記録媒体を提供することである。
ものであり、その目的は、上記のような反射型レリーフ
ホログラムの転写箔から転写されたホログラムに反射型
レリーフホログラムに元来記録されていた情報以外の画
像、文字等の情報を追記する方法及びその方法によって
記録された情報記録媒体を提供することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成する本発
明の情報記録方法は、少なくとも表面にレリーフホログ
ラム、レリーフ回折格子等の微細な凹凸パターンが形成
された樹脂層とその凹凸面に形成された反射層とからな
る反射型レリーフホログラムの少なくとも一部分を転写
可能領域とした転写箔の前記転写可能領域の所定部分を
被転写体表面に転写し、その転写部分の少なくとも一部
を加熱手段によって加熱することにより反射層を破壊す
ることを特徴とする方法である。
明の情報記録方法は、少なくとも表面にレリーフホログ
ラム、レリーフ回折格子等の微細な凹凸パターンが形成
された樹脂層とその凹凸面に形成された反射層とからな
る反射型レリーフホログラムの少なくとも一部分を転写
可能領域とした転写箔の前記転写可能領域の所定部分を
被転写体表面に転写し、その転写部分の少なくとも一部
を加熱手段によって加熱することにより反射層を破壊す
ることを特徴とする方法である。
【０００８】また、別の方法は、少なくとも表面にレリ
ーフホログラム、レリーフ回折格子等の微細な凹凸パタ
ーンが形成された樹脂層とその凹凸面に形成された反射
層とからなる反射型レリーフホログラムの少なくとも一
部分を転写可能領域とした転写箔の前記転写可能領域の
所定部分を被転写体表面に転写し、その転写部分の少な
くとも一部を加熱手段により加熱することにより樹脂層
表面及び反射層によって形成されている凹凸パターンを
平滑化することを特徴とする方法である。
ーフホログラム、レリーフ回折格子等の微細な凹凸パタ
ーンが形成された樹脂層とその凹凸面に形成された反射
層とからなる反射型レリーフホログラムの少なくとも一
部分を転写可能領域とした転写箔の前記転写可能領域の
所定部分を被転写体表面に転写し、その転写部分の少な
くとも一部を加熱手段により加熱することにより樹脂層
表面及び反射層によって形成されている凹凸パターンを
平滑化することを特徴とする方法である。
【０００９】本発明は、上記の方法によって記録された
情報記録媒体も含む。
情報記録媒体も含む。
【００１０】
【作用】本発明においては、反射型レリーフホログラム
の少なくとも一部分を転写可能領域とした転写箔の前記
転写可能領域の所定部分を被転写体表面に転写し、その
転写部分の少なくとも一部を加熱手段によって加熱する
ことにより反射層を破壊するか、又は、樹脂層表面及び
反射層によって形成されている凹凸パターンを平滑化す
ることにより、反射型レリーフホログラムに元来記録さ
れていた情報以外の画像、文字等の情報を追記すること
ができ、ホログラム転写箔の記録形態及び表示形態をよ
り多様化できる。
の少なくとも一部分を転写可能領域とした転写箔の前記
転写可能領域の所定部分を被転写体表面に転写し、その
転写部分の少なくとも一部を加熱手段によって加熱する
ことにより反射層を破壊するか、又は、樹脂層表面及び
反射層によって形成されている凹凸パターンを平滑化す
ることにより、反射型レリーフホログラムに元来記録さ
れていた情報以外の画像、文字等の情報を追記すること
ができ、ホログラム転写箔の記録形態及び表示形態をよ
り多様化できる。
【００１１】
【実施例】次に、図１を参照にして本発明の情報記録方
法について説明する。図１（ａ）に基体６表面に転写さ
れた反射型レリーフホログラム１０を示す。上記したよ
うに、ホログラム層１と反射層２からなる所望の輪郭の
ホログラムは、感熱接着層５によって基体６上に接着さ
れていて、図１（ｂ）の平面図に示すような画像情報等
１１が記録されている。このような転写ホログラム領域
に再度感熱記録ヘッド７を押し当て、加熱素子８のうち
所望のものを駆動すると、その部分に対応するホログラ
ム層１及び反射層２が急激に加熱される。この加熱によ
って、薄い反射層２の金属等は溶融され、その表面張力
等のよって細かく割れて反射性を失い、基体６が透けて
見えることになる。したがって、例えば基体１に色彩を
施しておき、加熱素子８を記録したい情報に基づいて順
に選択駆動することにより、文字、画像等の情報１２を
ホログラムに本来記録されていた情報１１に加えて記録
・表示することができる。
法について説明する。図１（ａ）に基体６表面に転写さ
れた反射型レリーフホログラム１０を示す。上記したよ
うに、ホログラム層１と反射層２からなる所望の輪郭の
ホログラムは、感熱接着層５によって基体６上に接着さ
れていて、図１（ｂ）の平面図に示すような画像情報等
１１が記録されている。このような転写ホログラム領域
に再度感熱記録ヘッド７を押し当て、加熱素子８のうち
所望のものを駆動すると、その部分に対応するホログラ
ム層１及び反射層２が急激に加熱される。この加熱によ
って、薄い反射層２の金属等は溶融され、その表面張力
等のよって細かく割れて反射性を失い、基体６が透けて
見えることになる。したがって、例えば基体１に色彩を
施しておき、加熱素子８を記録したい情報に基づいて順
に選択駆動することにより、文字、画像等の情報１２を
ホログラムに本来記録されていた情報１１に加えて記録
・表示することができる。
【００１２】加熱手段としては、上記のような感熱記録
ヘッドに限らす、他の熱型、レーザー光、赤外光、放電
等でもよい。熱型の場合は、図１の場合と同様、転写ホ
ログラム領域にそれを押し当てて、対応する領域の反射
層２を破壊することによって記録するが、レーザー光、
赤外光等ビームによる場合は、転写ホログラム領域の記
録したい部分にビームを集束するようにすればよい。ま
た、放電の場合は、選択領域に放電を当てればよい。な
お、加熱手段による加熱温度が高い場合、又は、反射層
２の材質、厚さによっては、反射層２は選択的に蒸発さ
れて情報が記録される。また、反射層２が破壊されなく
ても、ホログラム層１及び反射層２の凹凸面が溶融軟化
により平面に戻り、選択された領域のホログラムが消去
されて他の領域とコントラスト、色等が異なることにな
り、同様に情報を記録・表示することができる。
ヘッドに限らす、他の熱型、レーザー光、赤外光、放電
等でもよい。熱型の場合は、図１の場合と同様、転写ホ
ログラム領域にそれを押し当てて、対応する領域の反射
層２を破壊することによって記録するが、レーザー光、
赤外光等ビームによる場合は、転写ホログラム領域の記
録したい部分にビームを集束するようにすればよい。ま
た、放電の場合は、選択領域に放電を当てればよい。な
お、加熱手段による加熱温度が高い場合、又は、反射層
２の材質、厚さによっては、反射層２は選択的に蒸発さ
れて情報が記録される。また、反射層２が破壊されなく
ても、ホログラム層１及び反射層２の凹凸面が溶融軟化
により平面に戻り、選択された領域のホログラムが消去
されて他の領域とコントラスト、色等が異なることにな
り、同様に情報を記録・表示することができる。
【００１３】次に、上記転写箔に構成された反射型レリ
ーフホログラムの各層の材料及びエンボス方法について
説明する。このベースフィルム４は、２軸延伸されたポ
リエチレンテレフタレートフィルムが寸法安定性、耐熱
性、強靭性等から最も好ましいが、これ以外に、ポリ塩
化ビニルフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリエチ
レンフィルム、ポリカーボネートフィルム、セロファ
ン、「ビニロン」（商標）フィルム、アセテートフィル
ム、ナイロンフィルム、ポリビニルアルコールフィル
ム、ポリアミドフィルム、ポリアミドイミドフィルム等
の合成フィルム、及び、コンデンサーペーパー等の紙が
使用可能であり、その厚みは６〜１２μｍ程度が好まし
い。
ーフホログラムの各層の材料及びエンボス方法について
説明する。このベースフィルム４は、２軸延伸されたポ
リエチレンテレフタレートフィルムが寸法安定性、耐熱
性、強靭性等から最も好ましいが、これ以外に、ポリ塩
化ビニルフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリエチ
レンフィルム、ポリカーボネートフィルム、セロファ
ン、「ビニロン」（商標）フィルム、アセテートフィル
ム、ナイロンフィルム、ポリビニルアルコールフィル
ム、ポリアミドフィルム、ポリアミドイミドフィルム等
の合成フィルム、及び、コンデンサーペーパー等の紙が
使用可能であり、その厚みは６〜１２μｍ程度が好まし
い。
【００１４】剥離層３は、剥離性、箔切れ性を向上させ
る目的で設けられ、ベースフィルム４の種類に応じて既
知の各種の材料が利用できる。例えば、ポリメタクリル
酸エステル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、セルロース樹
脂、シリコーン樹脂、炭化水素を主体とするワックス
類、ポリスチレン樹脂、塩化ゴム、カゼイン、各種界面
活性剤、金属酸化物等の中、１種もしくは２種類以上を
混合した物が用いられ、ベースフィルム４との組み合わ
せによってその剥離力が１〜５ｇ／インチ（９０度剥
離）になるようにすることが可能である。
る目的で設けられ、ベースフィルム４の種類に応じて既
知の各種の材料が利用できる。例えば、ポリメタクリル
酸エステル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、セルロース樹
脂、シリコーン樹脂、炭化水素を主体とするワックス
類、ポリスチレン樹脂、塩化ゴム、カゼイン、各種界面
活性剤、金属酸化物等の中、１種もしくは２種類以上を
混合した物が用いられ、ベースフィルム４との組み合わ
せによってその剥離力が１〜５ｇ／インチ（９０度剥
離）になるようにすることが可能である。
【００１５】これらの剥離層は、インキ化塗布等の公知
の方法により、ベースフィルム４上に薄膜として形成さ
れ、その厚みは、剥離力、箔切れ性を考慮すると、０．
１〜１．０μｍの範囲が望ましい。
の方法により、ベースフィルム４上に薄膜として形成さ
れ、その厚みは、剥離力、箔切れ性を考慮すると、０．
１〜１．０μｍの範囲が望ましい。
【００１６】ホログラム層１は、箔切れ性、転写耐熱性
を考慮して各種樹脂材料が選択可能である。具体的に
は、不飽和ポリエステル樹脂、アクリルウレタン樹脂、
エポキシ変性アクリル樹脂、エポキシ変性不飽和ポリエ
ステル樹脂、アクリル酸エステル樹脂、アクリルアミド
樹脂、ニトロセルローズ樹脂、ポリスチレン樹脂、アル
キッド樹脂、フェノール樹脂等の中、１種ないし２種類
以上を主体とする物を単独、もしくは、各種イソシアネ
ート樹脂や、ナフテン酸コバルト、ナフテン酸鉛等の金
属石鹸、ベンゾイルパーオキサイド、メチルエチルケト
ンパーオキサイド等の過酸化物、ベンゾフェノン、アセ
トフェノン、アントラキノン、ナフトキノン、アゾビス
イソブチルニトリル、ジフェニルスルフィド等の熱ある
いは紫外線硬化剤を適量添加した物を用いることができ
る。
を考慮して各種樹脂材料が選択可能である。具体的に
は、不飽和ポリエステル樹脂、アクリルウレタン樹脂、
エポキシ変性アクリル樹脂、エポキシ変性不飽和ポリエ
ステル樹脂、アクリル酸エステル樹脂、アクリルアミド
樹脂、ニトロセルローズ樹脂、ポリスチレン樹脂、アル
キッド樹脂、フェノール樹脂等の中、１種ないし２種類
以上を主体とする物を単独、もしくは、各種イソシアネ
ート樹脂や、ナフテン酸コバルト、ナフテン酸鉛等の金
属石鹸、ベンゾイルパーオキサイド、メチルエチルケト
ンパーオキサイド等の過酸化物、ベンゾフェノン、アセ
トフェノン、アントラキノン、ナフトキノン、アゾビス
イソブチルニトリル、ジフェニルスルフィド等の熱ある
いは紫外線硬化剤を適量添加した物を用いることができ
る。
【００１７】この配合は、ガラス転移点温度が熱転写時
の温度より高くなるように考慮して調整し、具体的に
は、ガラス転移点温度が１００℃〜２００℃となるよう
にするのが望ましい。
の温度より高くなるように考慮して調整し、具体的に
は、ガラス転移点温度が１００℃〜２００℃となるよう
にするのが望ましい。
【００１８】また、このホログラム樹脂層１は、公知の
方法によりインキ化塗布によって形成することが可能で
あるが、箔切れ性（箔皮膜破断強度）を０．５〜１．０
ｇ／インチにすることを考慮すると、０．５〜２．０μ
ｍの厚さの範囲で形成することが望ましい。
方法によりインキ化塗布によって形成することが可能で
あるが、箔切れ性（箔皮膜破断強度）を０．５〜１．０
ｇ／インチにすることを考慮すると、０．５〜２．０μ
ｍの厚さの範囲で形成することが望ましい。
【００１９】反射層２用の反射性薄膜層は、金属、金属
化合物、ガラス等を蒸着、スパッター、イオンプレーテ
ィング、電解メッキ、無電解メッキ等によりホログラム
樹脂層１の表面上に設けられる。
化合物、ガラス等を蒸着、スパッター、イオンプレーテ
ィング、電解メッキ、無電解メッキ等によりホログラム
樹脂層１の表面上に設けられる。
【００２０】反射性薄膜層２としては、ホログラムを反
射型とする場合には、光を反射する金属薄膜が用いら
れ、また、ホログラムを透明型とする場合には、樹脂層
１と組み合わさってホログラム効果を発現し、しかも、
下層を隠蔽させないホログラム効果薄膜が用いられ、目
的により適宣選択して用いることができる。
射型とする場合には、光を反射する金属薄膜が用いら
れ、また、ホログラムを透明型とする場合には、樹脂層
１と組み合わさってホログラム効果を発現し、しかも、
下層を隠蔽させないホログラム効果薄膜が用いられ、目
的により適宣選択して用いることができる。
【００２１】反射型ホログラムの場合に用いられる金属
薄膜としては、具体的には、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｆｅ、Ｃｏ、
Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｇｅ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓｂ、Ｐ
ｂ、Ｐｄ、Ｃｄ、Ｂｉ、Ｓｎ、Ｓｅ、Ｉｎ、Ｇａ、Ｒｂ
等の金属及びその酸化物、窒化物等を単独もしくは２種
類以上組み合せて用いて形成される薄膜である。上記の
金属の中、Ａｌ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ａｇ、Ａｕ等が特に好ま
しく、膜厚は１０〜１０，０００Å、望ましくは２００
〜２，０００Åであることが望ましい。
薄膜としては、具体的には、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｆｅ、Ｃｏ、
Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｇｅ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓｂ、Ｐ
ｂ、Ｐｄ、Ｃｄ、Ｂｉ、Ｓｎ、Ｓｅ、Ｉｎ、Ｇａ、Ｒｂ
等の金属及びその酸化物、窒化物等を単独もしくは２種
類以上組み合せて用いて形成される薄膜である。上記の
金属の中、Ａｌ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ａｇ、Ａｕ等が特に好ま
しく、膜厚は１０〜１０，０００Å、望ましくは２００
〜２，０００Åであることが望ましい。
【００２２】透明型ホログラムの場合に用いられるホロ
グラム効果薄膜は、ホログラム効果を発現できる光透過
性のものであればいかなる材質も使用でき、例えば、前
記樹脂層１とは屈折率の異なる透明材料、厚みが２００
Å以下の反射性金属薄膜層があげられる。前者の場合、
屈折率は前記樹脂層１より大きくても小さくてもよい
が、屈折率の差は０．１以上が好ましく、より好ましく
は０．５以上である。本発明者らの実験によれば、１．
０以上大きいことが最適である。このように屈折率の異
なる透明薄膜層２を設けることにより、ホログラム効果
を発現させると共に、下層を隠蔽させない作用が行われ
る。
グラム効果薄膜は、ホログラム効果を発現できる光透過
性のものであればいかなる材質も使用でき、例えば、前
記樹脂層１とは屈折率の異なる透明材料、厚みが２００
Å以下の反射性金属薄膜層があげられる。前者の場合、
屈折率は前記樹脂層１より大きくても小さくてもよい
が、屈折率の差は０．１以上が好ましく、より好ましく
は０．５以上である。本発明者らの実験によれば、１．
０以上大きいことが最適である。このように屈折率の異
なる透明薄膜層２を設けることにより、ホログラム効果
を発現させると共に、下層を隠蔽させない作用が行われ
る。
【００２３】また、後者の場合は、反射性金属膜層であ
るが厚みが２００Å以下であるため、光波の透過率が大
きく、そのため、ホログラム効果発現作用と共に、透明
非隠蔽作用を発揮する。また、膜厚を２００Å以下とす
ることにより、従来みられた高い輝度の銀灰色による外
観上の違和感も解消する。
るが厚みが２００Å以下であるため、光波の透過率が大
きく、そのため、ホログラム効果発現作用と共に、透明
非隠蔽作用を発揮する。また、膜厚を２００Å以下とす
ることにより、従来みられた高い輝度の銀灰色による外
観上の違和感も解消する。
【００２４】薄膜層２の材質としては、例えば次の
（１）〜（６）の材質のものが使用できる。
（１）〜（６）の材質のものが使用できる。
【００２５】（１）前記樹脂層１より屈折率の大きい透
明連続薄膜 これには、可視領域で透明なものと、赤外又は紫外領域
で透明なものとがあり、前者は第１表に、後者は第２表
にそれぞれ示す。表中、ｎは屈折率を示す（以下、
（２）〜（５）においても同様とする。）。
明連続薄膜 これには、可視領域で透明なものと、赤外又は紫外領域
で透明なものとがあり、前者は第１表に、後者は第２表
にそれぞれ示す。表中、ｎは屈折率を示す（以下、
（２）〜（５）においても同様とする。）。
【００２６】 第１表 可視領域透明体 材質 ｎ 材質 ｎ Ｓｂ2 Ｓ3 ３．０ ＳｉＯ ２．０ Ｆｅ2 Ｏ3 ２．７ ＩｎＯ3 ２．０ ＰｂＯ ２．６ Ｙ2 Ｏ3 １．９ ＺｎＳｅ ２．６ ＴｉＯ １．９ ＣｄＳ ２．６ ＴｈＯ2 １．９ Ｂｉ2 Ｏ3 ２．４ Ｓｉ2 Ｏ3 １．９ ＴｉＯ2 ２．３ ＰｂＦ2 １．８ ＰｂＣｌ2 ２．３ Ｃｄ2 Ｏ3 １．８ Ｃｒ2 Ｏ3 ２．３ ＭｇＯ １．７ ＣｅＯ2 ２．２ Ａｌ2 Ｏ3 １．６ Ｔａ2 Ｏ5 ２．２ ＬａＦ3 １．６ ＺｎＳ ２．２ ＣｅＦ2 １．６ ＺｎＯ ２．１ ＮｄＦ3 １．６ ＣｄＯ ２．１ ＳｉＯ2 １．５ Ｎｄ2 Ｏ3 ２．１ ＳｉＯ3 １．５ Ｓｂ2 Ｏ3 ２．０ 第２表 赤外又は紫外領域透明体 材質 ｎ ＣｄＳｅ ３．５ ＣｄＴｅ ２．６ Ｇｅ ４．０〜４．４ ＨｆＯ2 ２．２ ＰｂＴｅ ５．６ Ｓｉ ３．４ Ｔｅ ４．９ ＴｌＣｌ ２．６ ＺｎＴｅ ２．８ （２）前記樹脂層１よりも屈折率の大きい透明強誘電体
を第３表に示す。
を第３表に示す。
【００２７】 第３表 材質 ｎ ＣｕＣｌ ２．０ ＣｕＢｒ ２．２ ＧａＡｓ ３．３〜３．６ ＧａＰ ３．３〜３．５ Ｎ4 （ＣＨ2 ）6 １．６ Ｂｉ4 （ＧｅＯ4 ）3 ２．１ ＫＨ2 ＰＯ4 （ＫＤＰ） １．５ ＫＤ2 ＰＯ4 １．５ ＮＨ4 Ｈ2 ＰＯ4 １．５ ＫＨ2 ＡｓＯ4 １．６ ＲｂＨ2 ＡｓＯ4 １．６ ＫＴａ0.65Ｎｂ0.35Ｏ3 ２．３ Ｋ0.6 Ｌｉ0.4 ＮｂＯ3 ２．３ ＫＳｒ2 Ｎｂ5 Ｏ15 ２．３ ＳｒX Ｂａ1-X Ｎｂ2 Ｏ6 ２．３ Ｂａ2 ＮａＮｂＯ15 ２．３ ＬｉＮｂＯ3 ２．３ ＬｉＴａＯ3 ２．２ ＢａＴｉＯ3 ２．４ ＳｒＴｉＯ3 ２．４ ＫＴａＯ3 ２．２ （３）前記樹脂層１よりも屈折率の小さい透明連続薄膜
を第４表に示す。
を第４表に示す。
【００２８】 第４表 材質 ｎ ＬｉＦ １．４ ＭｇＦ2 １．４ ３ＮａＦ・ＡｌＦ3 １．４ ＡｌＦ3 １．４ ＮａＦ １．３ ＧａＦ2 １．３ （４）厚さ２００Å以下の反射金属薄膜 反射性金属薄膜は複素屈折率を有し、該複素屈折率：ｎ
＝ｎ−ｉＫで表される。ｎは屈折率、Ｋは吸収係数を示
す。本発明に使用される反射性金属薄膜層の材質を第５
表に示し、同表に併せて上記のｎ及びＫを示す。
＝ｎ−ｉＫで表される。ｎは屈折率、Ｋは吸収係数を示
す。本発明に使用される反射性金属薄膜層の材質を第５
表に示し、同表に併せて上記のｎ及びＫを示す。
【００２９】 第５表 材質 ｎ Ｋ Ｂｅ ２．７ ０．９ Ｍｇ ０．６ ６．１ Ｃａ ０．３ ８．１ Ｃｒ ３．３ １．３ Ｍｎ ２．５ １．３ Ｃｕ ０．７ ２．４ Ａｇ ０．１ ３．３ Ａｌ ０．８ ５．３ Ｓｂ ３．０ １．６ Ｐｄ １．９ １．３ Ｎｉ １．８ １．８ Ｓｒ ０．６ ３．２ Ｂａ ０．９ １．７ Ｌａ １．８ １．９ Ｃｅ １．７ １．４ Ａｕ ０．３ ２．４ その他の材質として、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｔｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、
Ｚｎ、Ｇｅ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ｂｉ、Ｓｅ、Ｇａ、Ｒｂ等の
使用が可能である。また、上記にあげた金属の酸化物、
窒化物等は単独で用いられる他に、それぞれを２種以上
組み合わせて用いることができる。
Ｚｎ、Ｇｅ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ｂｉ、Ｓｅ、Ｇａ、Ｒｂ等の
使用が可能である。また、上記にあげた金属の酸化物、
窒化物等は単独で用いられる他に、それぞれを２種以上
組み合わせて用いることができる。
【００３０】（５）前記樹脂層１と屈折率の異なる樹脂 前記樹脂層１に対して屈折率が大きいものでも小さいも
のでもよい。これらの例を第６表に示す。
のでもよい。これらの例を第６表に示す。
【００３１】 第６表 樹脂 ｎ ポリテトラフルオロエチレン １．３５ ポリクロルトリフルオロエチレン １．４３ 酢酸ビニル樹脂 １．４６ ポリエチレン １．５２ ポリプロピレン １．４９ メチルメタクリレート １．４９ ナイロン １．５３ ポリスチレン １．６０ ポリ塩化ビニリデン １．６２ ビニルブチラール樹脂 １．４８ ビニルホルマール樹脂 １．５０ ポリ塩化ビニル １．５３ ポリエステル樹脂 １．５５ 石炭酸ホルマリン樹脂 １．６０ 上記の他、一般的な合成樹脂が使用可能であるが、特
に、前記樹脂層１との屈折率差の大きい樹脂が好まし
い。
に、前記樹脂層１との屈折率差の大きい樹脂が好まし
い。
【００３２】（６）上記（１）〜（５）の材質を適宣組
み合わせてなる積層体 上記（１）〜（５）の材質の組み合わせは任意であり、
また、層構成における各層の上下位置関係は任意に選択
される。
み合わせてなる積層体 上記（１）〜（５）の材質の組み合わせは任意であり、
また、層構成における各層の上下位置関係は任意に選択
される。
【００３３】上記した（１）〜（６）の薄膜層の中、
（４）の薄膜層の厚みは２００Å以下であるが、（１）
〜（３）及び（５）、（６）の薄膜層の厚みは薄膜を形
成する材質の透明領域であればよく、一般的には、１０
〜１００００Åが好ましく、より好ましくは１００〜５
０００Åである。
（４）の薄膜層の厚みは２００Å以下であるが、（１）
〜（３）及び（５）、（６）の薄膜層の厚みは薄膜を形
成する材質の透明領域であればよく、一般的には、１０
〜１００００Åが好ましく、より好ましくは１００〜５
０００Åである。
【００３４】上記ホログラム効果層２を樹脂層１上の形
成する方法として、薄膜層２が上記（１）〜（４）の材
質である場合は、真空蒸着法、スパッタリング法、反応
性スパッタリング法、イオンプレーティング法、電気メ
ッキ法等の一般的な薄膜形成手段を用いることができ、
また、薄膜層２が上記（５）の材質である場合は、一般
的コーティング方法等が用いることができる。薄膜層２
が上記（６）の材質である場合は、上記した各手段、方
法を適宣組み合わせて用いられる。
成する方法として、薄膜層２が上記（１）〜（４）の材
質である場合は、真空蒸着法、スパッタリング法、反応
性スパッタリング法、イオンプレーティング法、電気メ
ッキ法等の一般的な薄膜形成手段を用いることができ、
また、薄膜層２が上記（５）の材質である場合は、一般
的コーティング方法等が用いることができる。薄膜層２
が上記（６）の材質である場合は、上記した各手段、方
法を適宣組み合わせて用いられる。
【００３５】なお、本発明の場合、一般的にはホログラ
ム樹脂層２の厚さは１００〜６００Åが望ましい。１０
０Å以下であると、反射効果が乏しく、６００Å以上で
あるとエンボス性が著しく低下する。
ム樹脂層２の厚さは１００〜６００Åが望ましい。１０
０Å以下であると、反射効果が乏しく、６００Å以上で
あるとエンボス性が著しく低下する。
【００３６】このような転写箔をエンボスする金型は従
来公知の方法にて作製することができるが、強圧力に耐
え、また、表面の微細な凹凸を完全に相手の基材に押し
込む必要があるため、十分な硬度と引っ張り強度が必要
であり、電解Ｎｉメッキ法によって得られたものが最適
である。
来公知の方法にて作製することができるが、強圧力に耐
え、また、表面の微細な凹凸を完全に相手の基材に押し
込む必要があるため、十分な硬度と引っ張り強度が必要
であり、電解Ｎｉメッキ法によって得られたものが最適
である。
【００３７】このようにして得られたエンボス基材（ベ
ースフィルム４＋剥離層３＋ホログラム層１＋反射層
２）と金型を基材フィルムの反射層２と金型の凹凸面が
接するように重ね合わせ、ヒートプレスすることによ
り、凹凸パターンを反射層２及び樹脂層１に転写して、
反射層２上に塩化ビニル系樹脂等からなる感熱接着層５
を設けて転写箔が完成する。
ースフィルム４＋剥離層３＋ホログラム層１＋反射層
２）と金型を基材フィルムの反射層２と金型の凹凸面が
接するように重ね合わせ、ヒートプレスすることによ
り、凹凸パターンを反射層２及び樹脂層１に転写して、
反射層２上に塩化ビニル系樹脂等からなる感熱接着層５
を設けて転写箔が完成する。
【００３８】実施例１ １２μｍの厚さのＰＥＴからなるベースフィルムの表面
に０．５μｍの厚さで剥離力５ｇ／インチのワックスか
らなる剥離層を設け、更にその上に１．０μｍの厚さの
アクリルウレタンからなるホログラム層を塗布し、その
上に３００Åのアルミニウムを蒸着して、複製前の多層
体を得た。この反射層側に、ニッケルメッキによって作
成したレリーフホログラムの金型を加熱、加圧してレリ
ーフホログラムの複製を作成し、その複製面に塩酢ビ系
樹脂からなる感熱接着層を３μｍ塗布して乾燥すること
により、反射型レリーフホログラムの転写箔を作成し
た。
に０．５μｍの厚さで剥離力５ｇ／インチのワックスか
らなる剥離層を設け、更にその上に１．０μｍの厚さの
アクリルウレタンからなるホログラム層を塗布し、その
上に３００Åのアルミニウムを蒸着して、複製前の多層
体を得た。この反射層側に、ニッケルメッキによって作
成したレリーフホログラムの金型を加熱、加圧してレリ
ーフホログラムの複製を作成し、その複製面に塩酢ビ系
樹脂からなる感熱接着層を３μｍ塗布して乾燥すること
により、反射型レリーフホログラムの転写箔を作成し
た。
【００３９】このようにして得られたホログラム転写箔
を表面に塩酢ビ樹脂をコートしたＰＥＴフィルム（１８
８μｍ）に重ね、薄膜型サーマルヘッド（８ドット／ｍ
ｍ）を用い、０．６ｍＪ／ｄｏｔで熱転写を行った。
を表面に塩酢ビ樹脂をコートしたＰＥＴフィルム（１８
８μｍ）に重ね、薄膜型サーマルヘッド（８ドット／ｍ
ｍ）を用い、０．６ｍＪ／ｄｏｔで熱転写を行った。
【００４０】このようにして得られた転写印字部は箔切
れ性、接着性等良好であり、各ドット全てが解像した。
れ性、接着性等良好であり、各ドット全てが解像した。
【００４１】上記内容の転写印字部に再度サーマルヘッ
ドにより１．０ｍＪ／ｄｏｔで加熱を行ったところ、再
加熱部分の剥離層、樹脂層、反射層が溶融破壊され、再
加熱したパターンで反射層が消失した。
ドにより１．０ｍＪ／ｄｏｔで加熱を行ったところ、再
加熱部分の剥離層、樹脂層、反射層が溶融破壊され、再
加熱したパターンで反射層が消失した。
【００４２】また、この再加熱時の印字エネルギーを
０．２ｍＪ／ｄｏｔで行ったところ、反射層は溶融せ
ず、ホログラムパターンのみが消失した。
０．２ｍＪ／ｄｏｔで行ったところ、反射層は溶融せ
ず、ホログラムパターンのみが消失した。
【００４３】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の情報記録
方法及び情報記録媒体によると、反射型レリーフホログ
ラムの少なくとも一部分を転写可能領域とした転写箔の
前記転写可能領域の所定部分を被転写体表面に転写し、
その転写部分の少なくとも一部を加熱手段によって加熱
することにより反射層を破壊するか、又は、樹脂層表面
及び反射層によって形成されている凹凸パターンを平滑
化することにより、反射型レリーフホログラムに元来記
録されていた情報以外の画像、文字等の情報を追記する
ことができ、ホログラム転写箔の記録形態及び表示形態
をより多様化できる。
方法及び情報記録媒体によると、反射型レリーフホログ
ラムの少なくとも一部分を転写可能領域とした転写箔の
前記転写可能領域の所定部分を被転写体表面に転写し、
その転写部分の少なくとも一部を加熱手段によって加熱
することにより反射層を破壊するか、又は、樹脂層表面
及び反射層によって形成されている凹凸パターンを平滑
化することにより、反射型レリーフホログラムに元来記
録されていた情報以外の画像、文字等の情報を追記する
ことができ、ホログラム転写箔の記録形態及び表示形態
をより多様化できる。
【図１】本発明の情報記録方法について説明するための
図である。
図である。
【図２】典型的な反射型レリーフホログラムの断面構造
を示すための図である。
を示すための図である。
【図３】図２の反射型レリーフホログラムを転写箔に構
成した場合の断面構造を示すための図である。
成した場合の断面構造を示すための図である。
【図４】図３の転写箔を感熱記録ヘッドを用いて転写す
る様子を説明するための図である。
る様子を説明するための図である。
１…ホログラム層 ２…反射層 ３…剥離層 ４…ベースフィルム ５…感熱接着層 ６…基体 ７…感熱記録ヘッド ８…加熱素子 １０…転写された反射型レリーフホログラム １１…ホログラムに記録されている情報 １２…追記された情報
Claims (3)
- 【請求項１】 少なくとも表面にレリーフホログラム、
レリーフ回折格子等の微細な凹凸パターンが形成された
樹脂層とその凹凸面に形成された反射層とからなる反射
型レリーフホログラムの少なくとも一部分を転写可能領
域とした転写箔の前記転写可能領域の所定部分を被転写
体表面に転写し、その転写部分の少なくとも一部を加熱
手段によって加熱することにより反射層を破壊すること
を特徴とする情報記録方法。 - 【請求項２】 少なくとも表面にレリーフホログラム、
レリーフ回折格子等の微細な凹凸パターンが形成された
樹脂層とその凹凸面に形成された反射層とからなる反射
型レリーフホログラムの少なくとも一部分を転写可能領
域とした転写箔の前記転写可能領域の所定部分を被転写
体表面に転写し、その転写部分の少なくとも一部を加熱
手段により加熱することにより樹脂層表面及び反射層に
よって形成されている凹凸パターンを平滑化することを
特徴とする情報記録方法。 - 【請求項３】 請求項１又は２の方法によって記録され
たことを特徴とする情報記録媒体。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3008384A JP2877968B2 (ja) | 1991-01-28 | 1991-01-28 | 情報記録方法及び情報記録媒体 |
| US07/826,063 US5300169A (en) | 1991-01-28 | 1992-01-24 | Transfer foil having reflecting layer with fine dimple pattern recorded thereon |
| EP92300716A EP0497555B1 (en) | 1991-01-28 | 1992-01-28 | Use of patterned reflective transfer foils recording materials |
| EP95201359A EP0677400B1 (en) | 1991-01-28 | 1992-01-28 | Transfer foil having reflecting layer with surface relief pattern recorded thereon |
| DE69232995T DE69232995T2 (de) | 1991-01-28 | 1992-01-28 | Transferfolie mit gemusterten reliefartigen Oberfläche aufweisenden reflektierender Schicht |
| DE69220686T DE69220686T2 (de) | 1991-01-28 | 1992-01-28 | Verwendung von gemusterten reflektierenden Transferfolien als Aufzeichnungsmaterialien |
| US08/368,595 US5744219A (en) | 1991-01-28 | 1995-01-04 | Transfer foil having reflecting layer with surface relief pattern recorded thereon |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3008384A JP2877968B2 (ja) | 1991-01-28 | 1991-01-28 | 情報記録方法及び情報記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04250487A JPH04250487A (ja) | 1992-09-07 |
| JP2877968B2 true JP2877968B2 (ja) | 1999-04-05 |
Family
ID=11691724
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3008384A Expired - Fee Related JP2877968B2 (ja) | 1991-01-28 | 1991-01-28 | 情報記録方法及び情報記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2877968B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008139719A (ja) * | 2006-12-05 | 2008-06-19 | Dainippon Printing Co Ltd | ホログラムラベル |
| JP2008139714A (ja) * | 2006-12-05 | 2008-06-19 | Dainippon Printing Co Ltd | ホログラムラベル |
| KR101482811B1 (ko) * | 2007-07-03 | 2015-01-14 | 도요세이칸 그룹 홀딩스 가부시키가이샤 | 홀로그램 패턴 형성 방법, 홀로그램 패턴이 구비된 필름 제조 방법, 적층 필름 및 용기 |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10293521A (ja) * | 1997-04-21 | 1998-11-04 | Toppan Printing Co Ltd | レリーフ画像の複製方法 |
| JP4765189B2 (ja) * | 2001-04-11 | 2011-09-07 | 凸版印刷株式会社 | 偽造防止画像形成体およびその製造方法 |
| JP4826142B2 (ja) * | 2005-06-03 | 2011-11-30 | 大日本印刷株式会社 | 熱転写シートの製造方法及び熱転写方法 |
| JP4669545B2 (ja) * | 2008-12-08 | 2011-04-13 | 大日本印刷株式会社 | 真正性識別体並びに真正性識別方法及び真正性識別体の製造方法 |
-
1991
- 1991-01-28 JP JP3008384A patent/JP2877968B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008139719A (ja) * | 2006-12-05 | 2008-06-19 | Dainippon Printing Co Ltd | ホログラムラベル |
| JP2008139714A (ja) * | 2006-12-05 | 2008-06-19 | Dainippon Printing Co Ltd | ホログラムラベル |
| KR101482811B1 (ko) * | 2007-07-03 | 2015-01-14 | 도요세이칸 그룹 홀딩스 가부시키가이샤 | 홀로그램 패턴 형성 방법, 홀로그램 패턴이 구비된 필름 제조 방법, 적층 필름 및 용기 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04250487A (ja) | 1992-09-07 |
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