JPH04247486A - 反射型レリーフホログラムの転写箔及びそれを用いた反射型レリーフホログラムの選択的転写方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、特定の転写タイプに構
成された反射型レリーフホログラムの転写箔及びそれを
用いた反射型レリーフホログラムの選択的転写方法に関
し、特に、大きな面積に微細なホログラムパターンを容
易に転写できる転写箔と転写方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】ホログラムは、一般に光の干渉パターン
を記録したものであり、二次元画像、三次元画像の記録
、表示をはじめ、高密度の情報記録媒体として多方面に
用いられている。この中、レリーフホログラムは、フォ
トレジスト等にホログラムの干渉縞を凹凸パターンとし
て記録した後、この凹凸パターンをメッキ等により型取
りし、この金型を透明な熱可塑性樹脂等又はこのような
樹脂表面に金属等からなる反射層を形成したものに型押
しすることにより、大量に複製される。レリーフホログ
ラムの中、レリーフ面に金属層、高屈折率層等の反射層
を設け、この反射層から反射回折された光によって像を
再生するものは、反射層によって入射光をほぼ完全に反
射する場合と、入射光の一部を反射し、透過した背景に
ホログラム再生像が重なる場合とがある。本願において
は、これら両者を含めて反射型レリーフホログラムと呼
ぶことにする。また、凹凸パターンが単に位相回折格子
模様を適当に並べたパターンの場合もあるが、これも上
記反射型レリーフホログラムに含めて考える。

【０００３】反射型レリーフホログラムは、典型的には
図４に示したような断面構造をしており、熱可塑性樹脂
等からなるホログラム層１とその表面の凹凸干渉縞面（
レリーフ面）上に形成された反射層２からなり、反射層
２はアルミニウム、スズ等の蒸着金属膜からなる場合と
硫化亜鉛等の高屈折率透明体膜からなる場合がある。 蒸着金属膜からなる場合は、金属により入射光をほぼ完
全に反射する反射型レリーフホログラムとなるが、高屈
折率透明体膜からなる場合は、ホログラム層１と反射層
２の間の屈折率差に基づくフレネル反射によるため、入
射光の一部を反射し透過した背景にホログラム再生像が
重なるタイプの反射型レリーフホログラムとなる。この
ような反射型レリーフホログラムの製造方法としては、
フォトレジスト等にホログラム情報を凹凸のパターンと
して記録した後、この凹凸パターンをメッキ等により型
取りし、この金型をホログラム層１を形成する透明な樹
脂層に型押しをして複製し、その複製された凹凸模様上
に反射層２を蒸着等により形成することにより製造する
方法と、予めホログラム層１を形成する透明な樹脂層上
に反射層２を形成しておき、その反射層２上に上記のよ
うな凹凸パターンを型取りした金型を加熱加圧して複製
して製造する方法（例えば、特開昭５８−６５４６６号
公報参照）とがある。

【０００４】ところで、このような反射型レリーフホロ
グラムを転写箔に構成することができる。図５にその断
面を示す。図４の反射型レリーフホログラムを転写可能
にするためには、ホログラム層１の反射層２と反対の面
にワックス等からなる剥離層３を介してＰＥＴ（ポレエ
チレンテレフタレート）等からなるベースフィルム４を
設け、また、反射層２上に塩化ビニル系樹脂等からなる
感熱接着層５を設ける。このような構成の転写箔の所望
の輪郭領域部分内のホログラム層１及び反射層２を、例
えばホットスタンプ装置を用いて例えば塩化ビニルから
なる基体上に転写するには、図６に示すように、転写さ
れる基体６とホットスタンプ熱型７の間に感熱接着層５
が基体６に向き、ベースフィルム４がホットスタンプ熱
型７に対向するように転写箔をセットして、ホットスタ
ンプ熱型７を加熱加圧すればよい。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ところで、従来は図６
に示すようにしてホットスタンプ装置で反射型レリーフ
ホログラムを基体６上に転写していたが、転写されたホ
ログラムのパターンはホットスタンプの熱型により決定
され、パターンの変更の際は新しい熱型を用意しなけれ
ばならなかった。また、広い面積を転写する時は、熱型
の温度分布や圧力分布が不安定になり、しかも装置が巨
大化してしまうという問題があった。

【０００６】そこで、上記の問題を解決するために、感
熱記録ヘッドを用いた反射型レリーフホログラムの転写
が提案された（特開平１−２８３５８３号公報参照）。

【０００７】しかし、ホットスタンプ装置による転写方
法も感熱記録ヘッドによる転写方法も、ベースフィルム
のホログラム層と反対側の面から転写ホログラムパター
ン部分のみを加熱するため、ベースフィルムにおける熱
分散現象あるいは圧力分散現象が生じ、所望のパターン
の厳密な再現が困難であり、微細なパターンの転写に適
さなかった。

【０００８】本発明はこのような状況に鑑みてなされた
ものであり、その目的は、大きな面積に細かい模様の転
写ホログラムパターンを手軽で容易に形成することがで
きるように構成された反射型レリーフホログラムの転写
箔とそれを用いた反射型レリーフホログラムの選択的転
写方法を提供することである。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成する本発
明の反射型レリーフホログラムの転写箔は、少なくとも
表面にレリーフホログラム、レリーフ回折格子等の微細
な凹凸パターンが形成された樹脂層と、その凹凸面に形
成された反射層と、樹脂層の反射層と反対側の面に積層
された剥離性ベースフィルムとからなることを特徴とす
るものである。

【００１０】この場合、反射層の樹脂層と反対側の面に
保護樹脂層を塗布して構成してもよい。

【００１１】また、上記の反射型レリーフホログラムの
転写箔を用いて被転写基体表面の任意の選択パターン上
に反射型レリーフホログラムを選択的に転写する方法に
は、被転写基体表面若しくは転写箔の反射層又は保護樹
脂層表面の選択的パターン領域に接着剤を選択的に塗布
し、転写箔の反射層又は保護樹脂層を被転写基体表面に
向けて重ね合わせ、接着後にベースフィルムを剥離する
ことにより、接着剤塗布領域においてのみ選択的に反射
型レリーフホログラムを転写する方法、被転写基体表面
若しくは転写箔の反射層又は保護樹脂層表面の一方の面
全面に接着剤を塗布し、他方の面の選択パターン領域に
インキを選択的に塗布し、転写箔の反射層又は保護樹脂
層を被転写基体表面に向けて重ね合わせ、接着後にベー
スフィルムを剥離することにより、インキ塗布領域にお
いてのみ選択的に反射型レリーフホログラムを転写する
方法、被転写基体表面若しくは転写箔の反射層又は保護
樹脂層表面の一方の面全面に接着剤を塗布し、その上の
選択パターン領域又は他方の面の選択パターン領域にイ
ンキを選択的に塗布し、転写箔の反射層又は保護樹脂層
を被転写基体表面に向けて重ね合わせ、接着後にベース
フィルムを剥離することにより、インキの塗布されてい
ない領域においてのみ選択的に反射型レリーフホログラ
ムを転写する方法、があり、前記接着剤は、経時接着剤
、感熱接着剤、感圧接着剤、又は、トナーである。さら
に、上記の被転写基体表面若しくは転写箔の反射層又は
保護樹脂層表面の選択的パターン領域に接着剤を選択的
に塗布し、転写箔の反射層又は保護樹脂層を被転写基体
表面に向けて重ね合わせ、接着後にベースフィルムを剥
離することにより、接着剤塗布領域においてのみ選択的
に反射型レリーフホログラムを転写する方法において、
被転写基体表面若しくは転写箔の反射層又は保護樹脂層
表面の選択パターン領域に熱可塑性接着樹脂とぬれ性の
あるインキを選択的に塗布し、インキパターンが乾く前
に熱可塑性接着樹脂からなるパウダーを振りかけ、イン
キパターンに接着していないパウダーを振り落として所
望パターン部分にのみ熱可塑性接着樹脂パウダーを分布
させ、インキが乾いてから転写箔の反射層又は保護樹脂
層を被転写基体表面に向けて重ね合わせるようにするこ
ともできる。

【００１２】さらにまた、上記の反射型レリーフホログ
ラムの転写箔を用いて被転写基体表面の任意の選択パタ
ーン上に反射型レリーフホログラムを選択的に転写する
方法には、被転写基体表面若しくは転写箔の反射層又は
保護樹脂層表面の選択的パターン領域に再湿糊を選択的
に塗布乾燥し、再湿糊用の溶剤又は溶剤を含むインキを
再湿糊塗布面又は他方の面に塗った後、転写箔の反射層
又は保護樹脂層を被転写基体表面に向けて重ね合わせ、
再湿糊が固化した後にベースフィルムを剥離することに
より、再湿糊塗布領域においてのみ選択的に反射型レリ
ーフホログラムを転写する方法、及び、被転写基体表面
若しくは転写箔の反射層又は保護樹脂層表面の一方の面
全面に再湿糊を塗布乾燥し、その上の選択パターン領域
又は他方の面の選択パターン領域に再湿糊用の溶剤又は
溶剤を含むインキを選択的に塗布し、溶剤又はインキが
乾く前に転写箔の反射層又は保護樹脂層を被転写基体表
面に向けて重ね合わせ、再湿糊が固化した後にベースフ
ィルムを剥離することにより、溶剤塗布領域においての
み選択的に反射型レリーフホログラムを転写する方法、
がある。

【００１３】

【作用】本発明においては、反射型レリーフホログラム
の転写箔を、少なくとも表面にレリーフホログラム、レ
リーフ回折格子等の微細な凹凸パターンが形成された樹
脂層と、その凹凸面に形成された反射層と、樹脂層の反
射層と反対側の面に積層された剥離性ベースフィルムと
から構成し、被転写基体表面若しくは転写箔の反射層又
は保護樹脂層表面の選択パターン領域に接着剤等を選択
的に塗布して接着剤等塗布領域においてのみ選択的に反
射型レリーフホログラムを転写する等しているので、大
きな面積に細かい模様の転写ホログラムパターンを手軽
で容易に形成することができる。

【００１４】

【実施例】次に、図１及び図２を参照にして本発明のに
よる反射型レリーフホログラムの転写箔について説明す
る。図１の転写箔１０は、図５の従来の転写箔と比較す
ると、感熱接着層５が設けられていない点においてのみ
相違する。すなわち、熱可塑性透明樹脂等からなるホロ
グラム層１とその表面の凹凸干渉縞面（レリーフ面）上
に形成されたアルミニウム、スズ等の蒸着金属膜又は硫
化亜鉛等の高屈折率透明体膜からなる反射層２とから反
射型レリーフホログラムが構成されており、さらに、ホ
ログラム層１の反射層２と反対側の面にワックス等から
なる剥離層３を介してＰＥＴ（ポレエチレンテレフタレ
ート）等からなるベースフィルム４が設けられている。 この場合、反射層２は露出している。この露出した反射
層２を保護する目的で、図２に示すように、反射層２上
に保護樹脂層８を設けてもよい。

【００１５】さて、このような転写箔１０を用いて、任
意の基体６上に所望のパターンで反射型レリーフホログ
ラムを転写するには、図３（ａ）に示すように、まず、
孔版印刷、スクリーン印刷、謄写印刷等任意の印刷方法
又は手書きで所望のパターン部分に無溶剤型の経時接着
剤９を塗布する。そして、接着剤９が硬化する前に、図
１又は図２の転写箔１０の反射層２側をこの印刷面に重
ねて密着させ、接着剤９が硬化してからベースフィルム
４を剥離すると、印刷部分にのみ選択的に反射型レリー
フホログラムが転写される。したがって、転写されるパ
ターンの大きさは接着剤９の印刷パターンによるため、
従来のように感熱記録ヘッドの発熱素子の大きさに依存
することはなくなる。また、接着剤９の印刷は広い面に
容易に行われるため、転写箔１０の大きさが必要なだけ
大きければ、転写可能な領域にも制限がない。

【００１６】また、上記の接着剤９として感熱接着剤９
を用い、上記と同様にして基体６上に塗布し、転写箔１
０をその上に同様に重ねてベースフィルム４側からアイ
ロンのような加熱手段により加熱し、接着剤９が硬化し
てからベースフィルム４を剥離することによっても、同
様に感熱記録ヘッドの発熱素子の大きさに依存すること
はなく、大きな面積に微細なホログラムパターンを転写
することができる。

【００１７】ところで、所望のパターンに感熱接着剤を
分布させるには、上記のように任意の印刷方法又は手書
きで選択的に感熱接着剤を塗布するのではなく、予め基
体６上に熱可塑性接着樹脂とぬれ性のあるインクを所望
パターンに任意の印刷方法又は手書きで塗布し、そのイ
ンクパターンが乾く前に熱可塑性接着樹脂からなるパウ
ダーを振りかけ、インクパターンに接着していないパワ
ダーを振り落として所望パターン部分にのみ熱可塑性接
着樹脂パウダー９を分布させ、インクが乾いてから上記
と同様に転写箔１０をその上に同様に重ねてベースフィ
ルム４側からアイロンのような加熱手段により加熱し、
熱可塑性接着樹脂部分９が硬化してからベースフィルム
４を剥離するようにしてもよい。

【００１８】さらに、図１又は図２の転写箔１０の反射
層２側全面に感熱接着剤を塗布し、一方、基体６には感
熱接着剤と相溶性のあるインキを用いて任意の印刷方法
又は手書きで所望パターンを描き、感熱接着剤を全面に
塗布した転写箔１０をその上に同様に重ねてベースフィ
ルム４側からアイロンのような加熱手段により加熱し、
接着剤９が硬化してからベースフィルム４を剥離するこ
とによっても、同様に大きな面積に微細なホログラムパ
ターンを転写することができる。また、基体６自身が感
熱接着剤と相溶性をもつ場合には、転写箔１０に感熱接
着剤と離型性のあるインキによりネガのパターンを形成
し、基体６上に転写箔１０を重ね合わせ、ベースフィル
ム４側から加熱手段により熱を加えて感熱接着剤が露出
している部分（ポジパターン）のみに反射型レリーフホ
ログラムを転写するようにすることもできる。

【００１９】また、トナー像を普通用紙に転写するタイ
プの電子写真複写機においては、通常感熱定着型のトナ
ーが用いられている。これは、顔料粒子を感熱樹脂中に
分散させたり、顔料粒子を感熱樹脂で被って形成したも
のであるため、普通用紙に転写定着されたトナー像部分
は感熱接着性がある。したがって、感熱定着型トナーの
転写定着によって形成されたパターン上に転写箔１０を
重ねてベースフィルム４側からアイロンのような加熱手
段により加熱すると、パターン領域に反射層２又は保護
樹脂層８が接着するので、感熱樹脂が固まってからベー
スフィルム４を剥離すると、トナーパターン部分にのみ
選択的に反射型レリーフホログラムが転写されることに
なる。この場合は、単にホログラムを転写したいパター
ン領域を黒く塗りつぶした原稿のコピーを電子写真複写
機により作成し、その上に転写箔１０を重ねて転写すれ
ばよく、極めて簡単に反射レリーフホログラムを細かい
パターンの選択領域に転写することができる。

【００２０】以上、無溶剤型経時接着剤、感熱接着剤の
塗布パターン、熱可塑性接着樹脂パウダーの塗布パター
ン、感熱接着剤と相溶性のあるインキの塗布パターン、
及び、感熱定着型トナーの転写定着像を被転写体上に形
成する場合について説明してきたが、これらを転写箔１
０の反射層２又は保護樹脂層８表面に選択的に形成して
も、上記と同様に選択的に反射レリーフホログラムを転
写することができる。

【００２１】さらに、接着剤として、感熱接着剤の代わ
りに、感圧接着剤、再湿糊を用いることもできる。感圧
接着剤を用いる場合は、図３（ｂ）において、加熱する
代わりに、その塗布パターン上に転写箔１０を重ね合わ
せ、ベースフィルム４側から加圧手段により圧力を加え
て感圧接着剤が塗布されている部分のみに反射型レリー
フホログラムを転写するようにする。また、感熱接着剤
の場合と同様に、転写箔１０の反射層２側全面に感圧接
着剤を塗布し、この面を感圧接着剤と相溶性のあるイン
キで印刷した基体６の印刷面上に重ね合わせて加圧し、
接着後ベースフィルム４を剥離することによっても、同
様に転写できる。さらに、基体６上に感圧接着剤を均一
に塗布し、その上に所望のパターンを印刷してインキに
よりマスクをし、その上に転写箔１０を重ね合わせ、ベ
ースフィルム４側から加圧手段により圧力を加えて感圧
接着剤が露出している部分のみに反射型レリーフホログ
ラムを転写するようにすることもでき、また、基体６自
身が感圧接着剤と相溶性をもつ場合には、転写箔１０に
感圧接着剤と離型性のあるインキによりネガのパターン
を形成し、基体６上に転写箔１０を重ね合わせ、ベース
フィルム４側から加圧手段により圧力を加えて感圧接着
剤が露出している部分（ポジパターン）のみに反射型レ
リーフホログラムを転写するようにすることもできる。

【００２２】また、再湿糊を用いる場合は、その塗布パ
ターン上に水等の溶液を全面に塗り、その上に転写箔１
０を重ねて、糊が乾いてからベースフィルム４を剥離す
ればよい。また、再湿糊を転写箔１０側全面に塗布して
おき、基体６上に所望のパターンを水溶液又は水溶性イ
ンキで印刷し、印刷部分が乾燥する前に転写箔１０の再
湿糊を塗布した面を重ね合わせ、糊が乾いてからベース
フィルム４を剥離するようにしてもよい。

【００２３】なお、感圧接着剤、再湿糊の場合も、無溶
剤型経時接着剤、感熱接着剤の場合と同様、上記の例に
おいて転写箔１０と基体６の関係を逆にすることができ
る。

【００２４】次に、上記転写箔１０の各層の材料及びエ
ンボス方法について説明する。このベースフィルム４は
、２軸延伸されたポリエチレンテレフタレートフィルム
が寸法安定性、耐熱性、強靭性等から最も好ましいが、
これ以外に、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリプロピレン
フィルム、ポリエチレンフィルム、ポリカーボネートフ
ィルム、セロファン、「ビニロン」（商標）フィルム、
アセテートフィルム、ナイロンフィルム、ポリビニルア
ルコールフィルム、ポリアミドフィルム、ポリアミドイ
ミドフィルム等の合成フィルム、及び、コンデンサーペ
ーパー等の紙が使用可能であり、その厚みは６〜１２μ
ｍ程度が好ましい。

【００２５】剥離層３は、剥離性、箔切れ性を向上させ
る目的で設けられ、ベースフィルム４の種類に応じて既
知の各種の材料が利用できる。例えば、ポリメタクリル
酸エステル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、セルロース樹脂
、シリコーン樹脂、炭化水素を主体とするワックス類、
ポリスチレン樹脂、塩化ゴム、カゼイン、各種界面活性
剤、金属酸化物等の中、１種もしくは２種類以上を混合
した物が用いられ、ベースフィルム４との組み合わせに
よってその剥離力が１〜５ｇ／インチ（９０度剥離）に
なるようにすることが可能である。

【００２６】これらの剥離層は、インキ化塗布等の公知
の方法により、ベースフィルム４上に薄膜として形成さ
れ、その厚みは、剥離力、箔切れ性を考慮すると、０．
１〜１．０μｍの範囲が望ましい。

【００２７】ホログラム層１は、箔切れ性、転写耐熱性
を考慮して各種樹脂材料が選択可能である。具体的には
、不飽和ポリエステル樹脂、アクリルウレタン樹脂、エ
ポキシ変性アクリル樹脂、エポキシ変性不飽和ポリエス
テル樹脂、アクリル酸エステル樹脂、アクリルアミド樹
脂、ニトロセルローズ樹脂、ポリスチレン樹脂、アルキ
ッド樹脂、フェノール樹脂等の中、１種ないし２種類以
上を主体とする物を単独、もしくは、各種イソシアネー
ト樹脂や、ナフテン酸コバルト、ナフテン酸鉛等の金属
石鹸、ベンゾイルパーオキサイド、メチルエチルケトン
パーオキサイド等の過酸化物、ベンゾフェノン、アセト
フェノン、アントラキノン、ナフトキノン、アゾビスイ
ソブチルニトリル、ジフェニルスルフィド等の熱あるい
は紫外線硬化剤を適量添加した物を用いることができる
。

【００２８】また、このホログラム樹脂層１は、公知の
方法によりインキ化塗布によって形成することが可能で
あるが、箔切れ性（箔皮膜破断強度）を０．５〜１．０
ｇ／インチにすることを考慮すると、０．５〜２．０μ
ｍの厚さの範囲で形成することが望ましい。

【００２９】反射層２用の反射性薄膜層は、金属、金属
化合物、ガラス等を蒸着、スパッター、イオンプレーテ
ィング、電解メッキ、無電解メッキ等によりホログラム
樹脂層１の表面上に設けられる。

【００３０】反射性薄膜層２としては、ホログラムを反
射型とする場合には、光を反射する金属薄膜が用いられ
、また、ホログラムを透明型とする場合には、樹脂層１
と組み合わさってホログラム効果を発現し、しかも、下
層を隠蔽させないホログラム効果薄膜が用いられ、目的
により適宣選択して用いることができる。

【００３１】反射型ホログラムの場合に用いられる金属
薄膜としては、具体的には、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｆｅ、Ｃｏ、
Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｇｅ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓｂ、Ｐ
ｂ、Ｐｄ、Ｃｄ、Ｂｉ、Ｓｎ、Ｓｅ、Ｉｎ、Ｇａ、Ｒｂ
等の金属及びその酸化物、窒化物等を単独もしくは２種
類以上組み合せて用いて形成される薄膜である。上記の
金属の中、Ａｌ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ａｇ、Ａｕ等が特に好ま
しく、膜厚は１０〜１０，０００Å、望ましくは２００
〜２，０００Åであることが望ましい。

【００３２】透明型ホログラムの場合に用いられるホロ
グラム効果薄膜は、ホログラム効果を発現できる光透過
性のものであればいかなる材質も使用でき、例えば、前
記樹脂層１とは屈折率の異なる透明材料、厚みが２００
Å以下の反射性金属薄膜層があげられる。前者の場合、
屈折率は前記樹脂層１より大きくても小さくてもよいが
、屈折率の差は０．１以上が好ましく、より好ましくは
０．５以上である。本発明者らの実験によれば、１．０
以上大きいことが最適である。このように屈折率の異な
る透明薄膜層２を設けることにより、ホログラム効果を
発現させると共に、下層を隠蔽させない作用が行われる
。

【００３３】また、後者の場合は、反射性金属膜層であ
るが厚みが２００Å以下であるため、光波の透過率が大
きく、そのため、ホログラム効果発現作用と共に、透明
非隠蔽作用を発揮する。また、膜厚を２００Å以下とす
ることにより、従来みられた高い輝度の銀灰色による外
観上の違和感も解消する。

【００３４】薄膜層２の材質としては、例えば次の（１
）〜（６）の材質のものが使用できる。

【００３５】（１）前記樹脂層１より屈折率の大きい透
明連続薄膜 これには、可視領域で透明なものと、赤外又は紫外領域
で透明なものとがあり、前者は第１表に、後者は第２表
にそれぞれ示す。表中、ｎは屈折率を示す（以下、（２
）〜（５）においても同様とする。）。

【００３６】第１表　　可視領域透明体　　材質　　　
　　　　　　　　　　　ｎ　　　　　　　　　　　　　
　材質　　　　　　　　　　　　　　ｎ　　Ｓｂ２　Ｓ
３　　　　　　　３．０　　　　　　　　　　　　Ｓｉ
Ｏ　　　　　　　　　　２．０　　Ｆｅ２　Ｏ３　　　
　　　　２．７　　　　　　　　　　　　ＩｎＯ３　　
　　　　　　　２．０　　ＰｂＯ　　　　　　　　　　
２．６　　　　　　　　　　　　Ｙ２　Ｏ３　　　　　
　　　　１．９　　ＺｎＳｅ　　　　　　　　２．６　
　　　　　　　　　　　ＴｉＯ　　　　　　　　　　１
．９　　ＣｄＳ　　　　　　　　　　２．６　　　　　
　　　　　　　ＴｈＯ２　　　　　　　　　１．９　　
Ｂｉ２　Ｏ３　　　　　　　２．４　　　　　　　　　
　　　Ｓｉ２　Ｏ３　　　　　　　１．９　　ＴｉＯ２
　　　　　　　　　２．３　　　　　　　　　　　　Ｐ
ｂＦ２　　　　　　　　　１．８　　ＰｂＣｌ２　　　
　　　　２．３　　　　　　　　　　　　Ｃｄ２　Ｏ３
　　　　　　　１．８　　Ｃｒ２　Ｏ３　　　　　　　
２．３　　　　　　　　　　　　ＭｇＯ　　　　　　　
　　　１．７　　ＣｅＯ２　　　　　　　　　２．２　
　　　　　　　　　　　Ａｌ２　Ｏ３　　　　　　　１
．６　　Ｔａ２　Ｏ５　　　　　　　２．２　　　　　
　　　　　　　ＬａＦ３　　　　　　　　　１．６　　
ＺｎＳ　　　　　　　　　　２．２　　　　　　　　　
　　　ＣｅＦ２　　　　　　　　　１．６　　ＺｎＯ　
　　　　　　　　　２．１　　　　　　　　　　　　Ｎ
ｄＦ３　　　　　　　　　１．６　　ＣｄＯ　　　　　
　　　　　２．１　　　　　　　　　　　　ＳｉＯ２　
　　　　　　　　１．５　　Ｎｄ２　Ｏ３　　　　　　
　２．１　　　　　　　　　　　　ＳｉＯ３　　　　　
　　　　１．５　　Ｓｂ２　Ｏ３　　　　　　　２．０
第２表　　赤外又は紫外領域透明体 材質　　　　　　　　　　　　　　ｎ ＣｄＳｅ　　　　　　　　３．５ ＣｄＴｅ　　　　　　　　２．６ Ｇｅ　　　　　　　　　　　　４．０〜４．４ＨｆＯ２
　　　　　　　　　２．２ ＰｂＴｅ　　　　　　　　５．６ Ｓｉ　　　　　　　　　　　　３．４ Ｔｅ　　　　　　　　　　　　４．９ ＴｌＣｌ　　　　　　　　２．６ ＺｎＴｅ　　　　　　　　２．８ （２）前記樹脂層１よりも屈折率の大きい透明強誘電体
を第３表に示す。

【００３７】第３表 材質　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　ｎＣｕＣｌ　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　２．０ＣｕＢｒ　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　２．２ＧａＡｓ　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　３．３〜３．６ＧａＰ　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　３．３〜３．５Ｎ４　（
ＣＨ２　）６　　　　　　　　　　　　　１．６Ｂｉ４
　（ＧｅＯ４　）３　　　　　　　　　２．１ＫＨ２　
ＰＯ４　（ＫＤＰ）　　　　　　１．５ＫＤ２　ＰＯ４
　　　　　　　　　　　　　　　　　１．５ＮＨ４　Ｈ
２　ＰＯ４　　　　　　　　　　　　　１．５ＫＨ２　
ＡｓＯ４　　　　　　　　　　　　　　　１．６ＲｂＨ
２　ＡｓＯ４　　　　　　　　　　　　　１．６ＫＴａ
０．６５Ｎｂ０．３５Ｏ３　　　　　　　２．３Ｋ０．
６　Ｌｉ０．４　ＮｂＯ３　　　　　　　２．３ＫＳｒ
２　Ｎｂ５　Ｏ１５　　　　　　　　　　２．３ＳｒＸ
　Ｂａ１−Ｘ　Ｎｂ２　Ｏ６　　　　　２．３Ｂａ２　
ＮａＮｂＯ１５　　　　　　　　　　２．３ＬｉＮｂＯ
３　　　　　　　　　　　　　　　　　２．３ＬｉＴａ
Ｏ３　　　　　　　　　　　　　　　　　２．２ＢａＴ
ｉＯ３　　　　　　　　　　　　　　　　　２．４Ｓｒ
ＴｉＯ３　　　　　　　　　　　　　　　　　２．４Ｋ
ＴａＯ３　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２．
２（３）前記樹脂層１よりも屈折率の小さい透明連続薄
膜を第４表に示す。

【００３８】第４表 材質　　　　　　　　　　　　　　　　　　ｎＬｉＦ　
　　　　　　　　　　　　　１．４ＭｇＦ２　　　　　
　　　　　　　　１．４３ＮａＦ・ＡｌＦ３　　　１．
４ ＡｌＦ３　　　　　　　　　　　　　１．４ＮａＦ　　
　　　　　　　　　　　　１．３ＧａＦ２　　　　　　
　　　　　　　１．３（４）厚さ２００Å以下の反射金
属薄膜反射性金属薄膜は複素屈折率を有し、該複素屈折
率：ｎ＝ｎ−ｉＫで表される。ｎは屈折率、Ｋは吸収係
数を示す。本発明に使用される反射性金属薄膜層の材質
を第５表に示し、同表に併せて上記のｎ及びＫを示す。

【００３９】第５表 材質　　　　　　　　　　　　　　ｎ　　　　　　　　
　　ＫＢｅ　　　　　　　　　　　　２．７　　　　　
　０．９Ｍｇ　　　　　　　　　　　　０．６　　　　
　　６．１Ｃａ　　　　　　　　　　　　０．３　　　
　　　８．１Ｃｒ　　　　　　　　　　　　３．３　　
　　　　１．３Ｍｎ　　　　　　　　　　　　２．５　
　　　　　１．３Ｃｕ　　　　　　　　　　　　０．７
　　　　　　２．４Ａｇ　　　　　　　　　　　　０．
１　　　　　　３．３Ａｌ　　　　　　　　　　　　０
．８　　　　　　５．３Ｓｂ　　　　　　　　　　　　
３．０　　　　　　１．６Ｐｄ　　　　　　　　　　　
　１．９　　　　　　１．３Ｎｉ　　　　　　　　　　
　　１．８　　　　　　１．８Ｓｒ　　　　　　　　　
　　　０．６　　　　　　３．２Ｂａ　　　　　　　　
　　　　０．９　　　　　　１．７Ｌａ　　　　　　　
　　　　　１．８　　　　　　１．９Ｃｅ　　　　　　
　　　　　　１．７　　　　　　１．４Ａｕ　　　　　
　　　　　　　０．３　　　　　　２．４その他の材質
として、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｔｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｚｎ、Ｇｅ、
Ｐｂ、Ｃｄ、Ｂｉ、Ｓｅ、Ｇａ、Ｒｂ等の使用が可能で
ある。また、上記にあげた金属及びその酸化物、窒化物
等は単独で用いられる他に、それぞれを２種以上組み合
わせて用いることができる。

【００４０】（５）前記樹脂層１と屈折率の異なる樹脂
前記樹脂層１に対して屈折率が大きいものでも小さいも
のでもよい。これらの例を第６表に示す。

【００４１】第６表 樹脂　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　ｎポリテトラフルオロエチ
レン　　　　　　　　　　　　１．３５ポリクロルトリ
フルオロエチレン　　　　　　　　１．４３酢酸ビニル
樹脂　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　１．４６ポリエチレン　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　１．５２ポリプロピレン　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１．４
９メチルメタクリレート　　　　　　　　　　　　　　
　　　　１．４９ナイロン　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　１．５３ポリスチ
レン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　１．６０ポリ塩化ビニリデン　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　１．６２ビニルブチラール樹脂
　　　　　　　　　　　　　　　　　　１．４８ビニル
ホルマール樹脂　　　　　　　　　　　　　　　　　　
１．５０ポリ塩化ビニル　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　１．５３ポリエステル樹脂　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１．５５石炭
酸ホルマリン樹脂　　　　　　　　　　　　　　　　　
　１．６０上記の他、一般的な合成樹脂が使用可能であ
るが、特に、前記樹脂層１との屈折率差の大きい樹脂が
好ましい。

【００４２】（６）上記（１）〜（５）の材質を適宣組
み合わせてなる積層体上記（１）〜（５）の材質の組み
合わせは任意であり、また、層構成における各層の上下
位置関係は任意に選択される。

【００４３】上記した（１）〜（６）の薄膜層の中、（
４）の薄膜層の厚みは２００Å以下であるが、（１）〜
（３）及び（５）、（６）の薄膜層の厚みは薄膜を形成
する材質の透明領域であればよく、一般的には、１０〜
１００００Åが好ましく、より好ましくは１００〜５０
００Åである。

【００４４】上記ホログラム効果層２を樹脂層１上の形
成する方法として、薄膜層２が上記（１）〜（４）の材
質である場合は、真空蒸着法、スパッタリング法、反応
性スパッタリング法、イオンプレーティング法、電気メ
ッキ法等の一般的な薄膜形成手段を用いることができ、
また、薄膜層２が上記（５）の材質である場合は、一般
的コーティング方法等が用いることができる。薄膜層２
が上記（６）の材質である場合は、上記した各手段、方
法を適宣組み合わせて用いられる。

【００４５】なお、本発明の場合、一般的にはホログラ
ム樹脂層２の厚さは１００〜６００Åが望ましい。１０
０Å以下であると、反射効果が乏しく、６００Å以上で
あるとエンボス性が著しく低下する。

【００４６】このような転写箔１０をエンボスする金型
は従来公知の方法にて作製することができるが、強圧力
に耐え、また、表面の微細な凹凸を完全に相手の基材に
押し込む必要があるため、十分な硬度と引っ張り強度が
必要であり、電解Ｎｉメッキ法によって得られたものが
最適である。

【００４７】このようにして得られたエンボス基材（ベ
ースフィルム４＋剥離層３＋ホログラム層１＋反射層２
）と金型を基材フィルムの反射層２と金型の凹凸面が接
するように重ね合わせ、ヒートプレスすることにより、
凹凸パターンを反射層２及び樹脂層１に転写して、転写
箔１０が完成する。

【００４８】実施例１ １２μｍの厚さのＰＥＴからなるベースフィルムの表面
に０．５μｍの厚さで剥離力５ｇ／インチのワックスか
らなる剥離層を設け、さらにその上に１．０μｍの厚さ
のアクリルウレタン樹脂からなるホログラム層を塗布し
、その上に３００Åのアルミニウムを蒸着して、複製前
の多層体を得た。この反射層側に、ニッケルメッキによ
って作成したレリーフホログラムの金型を加熱、加圧し
てレリーフホログラムの複製を作成して、反射型レリー
フホログラムの転写箔を作成した。

【００４９】この転写箔を通常の感熱定着型トナーを用
いる電子写真複写機によるコピー上に重ね合わせ、転写
箔側から家庭用アイロンで均一に加熱して、ベースフィ
ルムを剥離したところ、コピーの細かい模様上にも反射
型レリーフホログラムが途切れなく綺麗に転写されてい
た。

【００５０】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の反射型レ
リーフホログラムの転写箔及びそれを用いた反射型レリ
ーフホログラムの選択的転写方法によると、反射型レリ
ーフホログラムの転写箔を、少なくとも表面にレリーフ
ホログラム、レリーフ回折格子等の微細な凹凸パターン
が形成された樹脂層と、その凹凸面に形成された反射層
と、樹脂層の反射層と反対側の面に積層された剥離性ベ
ースフィルムとから構成し、被転写基体表面若しくは転
写箔の反射層又は保護樹脂層表面の選択パターン領域に
接着剤等を選択的に塗布して接着剤等塗布領域において
のみ選択的に反射型レリーフホログラムを転写する等し
ているので、大きな面積に細かい模様の転写ホログラム
パターンを手軽で容易に形成することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による反射型レリーフホログラムの転写
箔の１実施例の断面図である。

【図２】本発明による他の実施例の転写箔の断面図であ
る。

【図３】本発明による反射型レリーフホログラムの選択
的転写方法の１実施例について説明するための図である
。

【図４】典型的な反射型レリーフホログラムの断面構造
を示すための図である。

【図５】図４の反射型レリーフホログラムを転写箔に構
成した従来例の断面構造を示すための図である。

【図６】図５の転写箔をホットスタンプの熱型を用いて
転写する様子を説明するための図である。

【符号の説明】

１…ホログラム層 ２…反射層 ３…剥離層 ４…ベースフィルム ６…基体 ８…保護樹脂層 ９…感熱接着剤

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　少なくとも表面にレリーフホログラム
   、レリーフ回折格子等の微細な凹凸パターンが形成され
   た樹脂層と、その凹凸面に形成された反射層と、樹脂層
   の反射層と反対側の面に積層された剥離性ベースフィル
   ムとからなることを特徴とする反射型レリーフホログラ
   ムの転写箔。
2. 【請求項２】　　反射層の樹脂層と反対側の面に保護樹
   脂層が塗布されていることを特徴とする請求項１記載の
   反射型レリーフホログラムの転写箔。
3. 【請求項３】　　請求項１又は２記載の反射型レリーフ
   ホログラムの転写箔を用いて被転写基体表面の任意の選
   択パターン上に反射型レリーフホログラムを選択的に転
   写する方法において、被転写基体表面若しくは転写箔の
   反射層又は保護樹脂層表面の選択的パターン領域に接着
   剤を選択的に塗布し、転写箔の反射層又は保護樹脂層を
   被転写基体表面に向けて重ね合わせ、接着後にベースフ
   ィルムを剥離することにより、接着剤塗布領域において
   のみ選択的に反射型レリーフホログラムを転写すること
   を特徴とする反射型レリーフホログラムの選択的転写方
   法。
4. 【請求項４】　　請求項１又は２記載の反射型レリーフ
   ホログラムの転写箔を用いて被転写基体表面の任意の選
   択パターン上に反射型レリーフホログラムを選択的に転
   写する方法において、被転写基体表面若しくは転写箔の
   反射層又は保護樹脂層表面の一方の面全面に接着剤を塗
   布し、他方の面の選択パターン領域にインキを選択的に
   塗布し、転写箔の反射層又は保護樹脂層を被転写基体表
   面に向けて重ね合わせ、接着後にベースフィルムを剥離
   することにより、インキ塗布領域においてのみ選択的に
   反射型レリーフホログラムを転写することを特徴とする
   反射型レリーフホログラムの選択的転写方法。
5. 【請求項５】　　請求項１又は２記載の反射型レリーフ
   ホログラムの転写箔を用いて被転写基体表面の任意の選
   択パターン上に反射型レリーフホログラムを選択的に転
   写する方法において、被転写基体表面若しくは転写箔の
   反射層又は保護樹脂層表面の一方の面全面に接着剤を塗
   布し、その上の選択パターン領域又は他方の面の選択パ
   ターン領域にインキを選択的に塗布し、転写箔の反射層
   又は保護樹脂層を被転写基体表面に向けて重ね合わせ、
   接着後にベースフィルムを剥離することにより、インキ
   の塗布されていない領域においてのみ選択的に反射型レ
   リーフホログラムを転写することを特徴とする反射型レ
   リーフホログラムの選択的転写方法。
6. 【請求項６】　　前記接着剤が、経時接着剤、感熱接着
   剤、感圧接着剤、又は、トナーであることを特徴とする
   請求項３から５の何れか１項記載の反射型レリーフホロ
   グラムの選択的転写方法。
7. 【請求項７】　　被転写基体表面若しくは転写箔の反射
   層又は保護樹脂層表面の選択パターン領域に熱可塑性接
   着樹脂とぬれ性のあるインキを選択的に塗布し、インキ
   パターンが乾く前に熱可塑性接着樹脂からなるパウダー
   を振りかけ、インキパターンに接着していないパウダー
   を振り落として所望パターン部分にのみ熱可塑性接着樹
   脂パウダーを分布させ、インキが乾いてから転写箔の反
   射層又は保護樹脂層を被転写基体表面に向けて重ね合わ
   せることを特徴とする請求項３記載の反射型レリーフホ
   ログラムの選択的転写方法。
8. 【請求項８】　　請求項１又は２記載の反射型レリーフ
   ホログラムの転写箔を用いて被転写基体表面の任意の選
   択パターン上に反射型レリーフホログラムを選択的に転
   写する方法において、被転写基体表面若しくは転写箔の
   反射層又は保護樹脂層表面の選択的パターン領域に再湿
   糊を選択的に塗布乾燥し、再湿糊用の溶剤又は溶剤を含
   むインキを再湿糊塗布面又は他方の面に塗った後、転写
   箔の反射層又は保護樹脂層を被転写基体表面に向けて重
   ね合わせ、再湿糊が固化した後にベースフィルムを剥離
   することにより、再湿糊塗布領域においてのみ選択的に
   反射型レリーフホログラムを転写することを特徴とする
   反射型レリーフホログラムの選択的転写方法。
9. 【請求項９】　　請求項１又は２記載の反射型レリーフ
   ホログラムの転写箔を用いて被転写基体表面の任意の選
   択パターン上に反射型レリーフホログラムを選択的に転
   写する方法において、被転写基体表面若しくは転写箔の
   反射層又は保護樹脂層表面の一方の面全面に再湿糊を塗
   布乾燥し、その上の選択パターン領域又は他方の面の選
   択パターン領域に再湿糊用の溶剤又は溶剤を含むインキ
   を選択的に塗布し、溶剤又はインキが乾く前に転写箔の
   反射層又は保護樹脂層を被転写基体表面に向けて重ね合
   わせ、再湿糊が固化した後にベースフィルムを剥離する
   ことにより、溶剤塗布領域においてのみ選択的に反射型
   レリーフホログラムを転写することを特徴とする反射型
   レリーフホログラムの選択的転写方法。