JPH0436281A - 6―インドリジンカルボキサミド誘導体、その中間体それらの製造法および除草剤 - Google Patents
6―インドリジンカルボキサミド誘導体、その中間体それらの製造法および除草剤Info
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Landscapes
- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
- Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(イ)産業上の利用分野
この発明は6−イントリランカルボキサミド誘導体、そ
の中間体、それらの製造法およびそれを含有する除草剤
に関するものである。
の中間体、それらの製造法およびそれを含有する除草剤
に関するものである。
[式中R1はハロゲン原子、低級アルキル基、)\ロゲ
ン化低級アルキル基および低級アルコキノ基の1〜5個
で置換されてもよいフェニル基、R′は低級アルキル基
、低級アルケニル基またはノ\ロゲン化低級アルキル基
、R3は水素原子またはノ\ロゲン原子]で表わされる
6−イントリランカルボキサミド誘導体またはその塩を
提供するものである。
ン化低級アルキル基および低級アルコキノ基の1〜5個
で置換されてもよいフェニル基、R′は低級アルキル基
、低級アルケニル基またはノ\ロゲン化低級アルキル基
、R3は水素原子またはノ\ロゲン原子]で表わされる
6−イントリランカルボキサミド誘導体またはその塩を
提供するものである。
この発明における化合物の基の定義中のR1゜R″、R
’、R5,R’、R8における低級アルキル基は、同一
または異なってもよく、かつ直鎖または分枝状の1〜6
個の炭素原子を有するアルキル基を意味する。具体的に
は低級アルキル基としては、メチル、エチル、プロピル
、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ペンチル、イソ
ペンチル、ヘキノル基なとか挙げられる。R1における
低級アルコキノ基は、直鎖または分枝状の1〜6の炭素
原子を有するアルコキノ基を意味し、例えばメトキノ、
エトキン、プロポキン、イソプロポキン、ブトキシ基な
どが含まれる。R′における低級アルケニル基は2〜6
個の炭素原子を有するアルケニル基を意味し、具体的に
はビニル、アリル、イソプロペニル、2−ブテニル、1
,3−ブタノエニル、2−ペンテニル、1.4−ペンタ
ジェニル、l−へキセニル基などが挙げられる。この発
明における化合物の定義中のハロゲン原子としては、塩
素、臭素、フッ素およびヨウ素が含まれ、またハロゲン
化アルキル基としては、例えばクロロメチル、ブロモメ
チル、ジフルオロメチル、トルフルオロメチル基などが
含まれる。
’、R5,R’、R8における低級アルキル基は、同一
または異なってもよく、かつ直鎖または分枝状の1〜6
個の炭素原子を有するアルキル基を意味する。具体的に
は低級アルキル基としては、メチル、エチル、プロピル
、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ペンチル、イソ
ペンチル、ヘキノル基なとか挙げられる。R1における
低級アルコキノ基は、直鎖または分枝状の1〜6の炭素
原子を有するアルコキノ基を意味し、例えばメトキノ、
エトキン、プロポキン、イソプロポキン、ブトキシ基な
どが含まれる。R′における低級アルケニル基は2〜6
個の炭素原子を有するアルケニル基を意味し、具体的に
はビニル、アリル、イソプロペニル、2−ブテニル、1
,3−ブタノエニル、2−ペンテニル、1.4−ペンタ
ジェニル、l−へキセニル基などが挙げられる。この発
明における化合物の定義中のハロゲン原子としては、塩
素、臭素、フッ素およびヨウ素が含まれ、またハロゲン
化アルキル基としては、例えばクロロメチル、ブロモメ
チル、ジフルオロメチル、トルフルオロメチル基などが
含まれる。
また、この発明の式(1)の化合物は、公知の方法によ
って、塩酸、リン酸なとの無機酸、メタンスルホン酸、
パラトルエンスルホノ酸、トリフルオロ酢酸、コハク酸
、ノユウ酸、酒石酸なとの有機酸と塩を形成することか
で訴、このよう戸塩も、この発明の範囲に含まれる。
って、塩酸、リン酸なとの無機酸、メタンスルホン酸、
パラトルエンスルホノ酸、トリフルオロ酢酸、コハク酸
、ノユウ酸、酒石酸なとの有機酸と塩を形成することか
で訴、このよう戸塩も、この発明の範囲に含まれる。
この発明の式(1)で表わされる化合物:よ次の方法で
製造することかできる。
製造することかできる。
(以ト糸白、ポロ11;フ←龜くン
「上記の製造工程における各化合物中R1とR2は前記
の定義と同じであり、R4は低級アルキル基またはフェ
ニル基を“Moは金属まfこは金属化合物を意味する。
の定義と同じであり、R4は低級アルキル基またはフェ
ニル基を“Moは金属まfこは金属化合物を意味する。
]
まず式(V)で表われさるβ−ケトエステル誘導体を、
常法により金属または金属化合物を用いて金属塩もしく
は金属エノラートとした後、式(Vl)の化合物を作用
させることにより、式(II)で表わされる化合物が得
られる。用いる金属または金属化合物としては、ナトリ
ウム、マグネシウム、水素化ナトリウム、ブチルリチウ
ム、リチウムジイソプロピルアミド、ナトリウムエトキ
シド、ナトリウムメトキシド、マグネシウムエトキシド
、マグネシウムメトキシドなどβ−ケトエステルの金属
塩もしくは金属エノラートを生成させる金属または金属
化合物か含まれる。ナトリウム、マグネシウム、水素化
ナトリウム、ナトリウムエトキシド、ナトリウムメトキ
シド、マグネシウムエトキシド等が好適に用いられる。
常法により金属または金属化合物を用いて金属塩もしく
は金属エノラートとした後、式(Vl)の化合物を作用
させることにより、式(II)で表わされる化合物が得
られる。用いる金属または金属化合物としては、ナトリ
ウム、マグネシウム、水素化ナトリウム、ブチルリチウ
ム、リチウムジイソプロピルアミド、ナトリウムエトキ
シド、ナトリウムメトキシド、マグネシウムエトキシド
、マグネシウムメトキシドなどβ−ケトエステルの金属
塩もしくは金属エノラートを生成させる金属または金属
化合物か含まれる。ナトリウム、マグネシウム、水素化
ナトリウム、ナトリウムエトキシド、ナトリウムメトキ
シド、マグネシウムエトキシド等が好適に用いられる。
式(Vl)の化合物との反応は100〜200℃の範囲
で05〜5時間行うのか好ましい。溶媒としてはトルエ
ン、キルン、メノチレン、クロルヘアセンなとを用いる
ことがてきる。Roの低級アルキル基としてはメチル、
エチルか特に好ましい。
で05〜5時間行うのか好ましい。溶媒としてはトルエ
ン、キルン、メノチレン、クロルヘアセンなとを用いる
ことがてきる。Roの低級アルキル基としてはメチル、
エチルか特に好ましい。
得られ1こ上記式([1)の化合物は臭素、塩化スルフ
リル、塩素、N−ブロモコハク酸イミド、ヨウ素等のハ
ロゲン化剤を作用させることにより上記式(■′)の化
合物を得ることかできる。
リル、塩素、N−ブロモコハク酸イミド、ヨウ素等のハ
ロゲン化剤を作用させることにより上記式(■′)の化
合物を得ることかできる。
次に式(II)と(■′)の化合物は酸またはアルカリ
によって加水分解し、式(III)の化合物が得られる
。酸としては、硫酸、塩酸など、アルカリとしては、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム等を用いることかでき
る。特に水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウムによる
加水分解が好適である。溶媒としては、水もしくは水を
含むエタノール、メタノールが適している。反応温度は
室温〜100℃で反応時間は10分〜12時間の範囲が
好ましい。
によって加水分解し、式(III)の化合物が得られる
。酸としては、硫酸、塩酸など、アルカリとしては、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム等を用いることかでき
る。特に水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウムによる
加水分解が好適である。溶媒としては、水もしくは水を
含むエタノール、メタノールが適している。反応温度は
室温〜100℃で反応時間は10分〜12時間の範囲が
好ましい。
次に、式([)の化合物を塩化チオニル等のハロゲン化
剤によって酸ハロゲン化物とし1こ後、アニリン誘導体
(IV)を塩基の存在下作用させることにより、式()
)の6−イントリツンカルホキサミト誘導体を得ること
かできる。好ましい溶媒としては、塩化メチレン、ヘン
セン、トルエン、キルレノ、エーテル等が挙げられる。
剤によって酸ハロゲン化物とし1こ後、アニリン誘導体
(IV)を塩基の存在下作用させることにより、式()
)の6−イントリツンカルホキサミト誘導体を得ること
かできる。好ましい溶媒としては、塩化メチレン、ヘン
セン、トルエン、キルレノ、エーテル等が挙げられる。
用いる塩基としてよ、トリエチルアミン、ビリノンなど
が好適である。なお、式([)においてR3か水素原子
である化合物は、臭素、塩化スルフリル、塩素、N−ブ
ロモコハク酸イミド、ヨウ素等のハロゲン化剤を作用さ
せることにより、R3かハロゲン原子である式(1)の
化合物を得ることができる。
が好適である。なお、式([)においてR3か水素原子
である化合物は、臭素、塩化スルフリル、塩素、N−ブ
ロモコハク酸イミド、ヨウ素等のハロゲン化剤を作用さ
せることにより、R3かハロゲン原子である式(1)の
化合物を得ることができる。
かくしてこの発明は式(V)
(式中R’は低級アルキル基、低級アルケニル基または
ハロゲン化低級アルキル基;R4は低級アルキル基また
はフェニル基)で表されるβ−ケトエステル誘導体の金
属塩もしくは金属エノラートに式(VD の化合物を反応させて下記式(■): (式中R2およびR4は前記定義と同一;R3′は水素
原子)で表される化合物を生成させ、また得られた式(
II)の化合物をハロゲン化して下記式(■′)(式中
R1およびR4は前記定義と同一:R″″はハロゲン原
子)で表される化合物を生成−させ、得られた上記式(
n)または式(■′)の化合物を加水分解して、下記式
(■): (式中R′とR3は上記定義と同一)で表される化合物
を生成させ、生成しL式(III)の化合物を式R’N
H!(TV)(式中R′はハロゲン原子、低級アルキル
基、ハロゲン化低級アルキル基および低級アルコキ7基
の1〜5個で置換されてらよいフェニル基)で表される
アニリン誘導体を反応させて式(■)。
ハロゲン化低級アルキル基;R4は低級アルキル基また
はフェニル基)で表されるβ−ケトエステル誘導体の金
属塩もしくは金属エノラートに式(VD の化合物を反応させて下記式(■): (式中R2およびR4は前記定義と同一;R3′は水素
原子)で表される化合物を生成させ、また得られた式(
II)の化合物をハロゲン化して下記式(■′)(式中
R1およびR4は前記定義と同一:R″″はハロゲン原
子)で表される化合物を生成−させ、得られた上記式(
n)または式(■′)の化合物を加水分解して、下記式
(■): (式中R′とR3は上記定義と同一)で表される化合物
を生成させ、生成しL式(III)の化合物を式R’N
H!(TV)(式中R′はハロゲン原子、低級アルキル
基、ハロゲン化低級アルキル基および低級アルコキ7基
の1〜5個で置換されてらよいフェニル基)で表される
アニリン誘導体を反応させて式(■)。
(式中R1、R!およびR3は水素原子またはハロゲン
原子)で表される化合物を生成させ、所望により得られ
た式(I)の化合物を塩に導くことを特徴とする6−イ
ンドリジンカルボキサミド誘導体またはその塩の製造方
法を提供するものである。
原子)で表される化合物を生成させ、所望により得られ
た式(I)の化合物を塩に導くことを特徴とする6−イ
ンドリジンカルボキサミド誘導体またはその塩の製造方
法を提供するものである。
上記製造工程における式(ff)、(■′)および式(
I[I)の化合物らまた新規化合物であって、式(■)
0式中、R’、R’は前記と同してあり、R5は水素原
子、低級アルキル基またはフェニル基を意味する。]と
して表わすことができる。この発明は式(■)の化合物
をし提供するものである。
I[I)の化合物らまた新規化合物であって、式(■)
0式中、R’、R’は前記と同してあり、R5は水素原
子、低級アルキル基またはフェニル基を意味する。]と
して表わすことができる。この発明は式(■)の化合物
をし提供するものである。
この式(■)の化合物は、先に述べf三方法で製造する
ことができる。し1こがってこの発明は(1)式(式中
R′は前記定義と同一、R3′は水素原子R5′は低級
アルキル基またはフェニル基)で表される化合物を生成
させ、 (2)必要により、上記(1)得られ1こ式(II)の
化合物をハロゲン化して式(■″) (式中R′は低級アルキル基、低級アルケニル基または
ハロゲン化低級アルキル基+R’は低級アルキル基また
はフェニル基)で表されるβ−ケトエステル誘導体の金
属塩らしくは金属エノラートに式(VT) (式中R2とR5′は前記定義と同一、R3″はハロゲ
ン原子)で表される化合物を生成させ、(3)かつ必要
により、上記(1)と(2)で得られた化合物を加水分
解して下記式(■ジ (式中R7とR8は水素原子、低級アルキル基またはフ
ェニル基)で表される化合物を反応させて、下記式(■
′) (式中R1は前記定義と同一、R3は水素原子またはハ
ロゲン原子;R5′は水素原子)で表される化合物を生
成させることからなる式(〜・1)は低級アルキル基、
低級アルケニル基またはハロ(式中R2は低級アルキル
基、低級アルケニル基ま1こはハロゲン化低級アルキル
基、R3は水素原子またはハロゲン原子、R5は水素原
子、低級アルキル基またはフェニル基)で表される6−
インドリジンカルボン酸誘導体の製造法を提供するもの
である。
ことができる。し1こがってこの発明は(1)式(式中
R′は前記定義と同一、R3′は水素原子R5′は低級
アルキル基またはフェニル基)で表される化合物を生成
させ、 (2)必要により、上記(1)得られ1こ式(II)の
化合物をハロゲン化して式(■″) (式中R′は低級アルキル基、低級アルケニル基または
ハロゲン化低級アルキル基+R’は低級アルキル基また
はフェニル基)で表されるβ−ケトエステル誘導体の金
属塩らしくは金属エノラートに式(VT) (式中R2とR5′は前記定義と同一、R3″はハロゲ
ン原子)で表される化合物を生成させ、(3)かつ必要
により、上記(1)と(2)で得られた化合物を加水分
解して下記式(■ジ (式中R7とR8は水素原子、低級アルキル基またはフ
ェニル基)で表される化合物を反応させて、下記式(■
′) (式中R1は前記定義と同一、R3は水素原子またはハ
ロゲン原子;R5′は水素原子)で表される化合物を生
成させることからなる式(〜・1)は低級アルキル基、
低級アルケニル基またはハロ(式中R2は低級アルキル
基、低級アルケニル基ま1こはハロゲン化低級アルキル
基、R3は水素原子またはハロゲン原子、R5は水素原
子、低級アルキル基またはフェニル基)で表される6−
インドリジンカルボン酸誘導体の製造法を提供するもの
である。
この発明の化合物は、植物に対して著しい成長抑制作用
を示し、水田、畑地、果樹園、非農耕地などの除草剤と
して使用することができる。
を示し、水田、畑地、果樹園、非農耕地などの除草剤と
して使用することができる。
かくしてこの発明は式(j)
[式中R1はハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲン
化低級アルキル基および低級アルコキン基(7)1〜5
個で置換されてもよいフェニル基、R2ゲン化低吸アル
キル基、R3は水素原子またはハロゲン原子って表わさ
れる6−インドリジンカルボキサミド誘導体ま1こはそ
の塩の少なくとも一種を有効成分として含有することか
らなる除草剤を提供するものである。
化低級アルキル基および低級アルコキン基(7)1〜5
個で置換されてもよいフェニル基、R2ゲン化低吸アル
キル基、R3は水素原子またはハロゲン原子って表わさ
れる6−インドリジンカルボキサミド誘導体ま1こはそ
の塩の少なくとも一種を有効成分として含有することか
らなる除草剤を提供するものである。
この発明の化合物を上記除草剤として使用する場合は、
そのまま使用してもよいが、一般には固体担体、液体担
体、界面活性剤、その他の製剤用補助剤と混合して、水
和剤、粒剤、乳剤などの製剤とする。
そのまま使用してもよいが、一般には固体担体、液体担
体、界面活性剤、その他の製剤用補助剤と混合して、水
和剤、粒剤、乳剤などの製剤とする。
これらの製剤には、この発明の化合物を水和剤では10
〜80%、粒剤では0.1〜20%、乳剤では10〜5
0%(いずれも重量%を示す)を含有することが好まし
い。
〜80%、粒剤では0.1〜20%、乳剤では10〜5
0%(いずれも重量%を示す)を含有することが好まし
い。
製剤に使用される固体担体にはカオリン、ベントナイト
、クレー類、タルク、ケイソウ土、ジ−クライト、ゼオ
ライト、パイロフィライト、合成二酸化ケイ素、炭酸カ
ル7ウムなどの微粉末あるいは粒状物かあり、液体担体
には、キルン、メチルナフタレノなどの芳香族炭化水素
類、エタノル、イソプロパツール、エチレングリコール
、メチルセルノルブなどのアルコール類、アセトン、イ
ソホCン、ノクロヘキサノンなとのケトン類、大豆油、
綿実油などの植物油、ツメチルホルムアミド、ツメチル
スルホキッド、アセトニトリル、水なとがある。
、クレー類、タルク、ケイソウ土、ジ−クライト、ゼオ
ライト、パイロフィライト、合成二酸化ケイ素、炭酸カ
ル7ウムなどの微粉末あるいは粒状物かあり、液体担体
には、キルン、メチルナフタレノなどの芳香族炭化水素
類、エタノル、イソプロパツール、エチレングリコール
、メチルセルノルブなどのアルコール類、アセトン、イ
ソホCン、ノクロヘキサノンなとのケトン類、大豆油、
綿実油などの植物油、ツメチルホルムアミド、ツメチル
スルホキッド、アセトニトリル、水なとがある。
分散、乳化などのために用いられる界面活性剤には、ポ
リオキノエチレンアルキルエーテル、ポリオキノエチレ
ンアルキルアリールエーテル、ポリオキノエチレン脂肪
酸エステル、ソルヒタン脂肪酸エステル、ポリオキノエ
チレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキンエチレン
ポリオキンプロピレンブロツクボリマーなどのノニオン
性界面活性剤、アルキル硫酸エステル塩、アルキルスル
ホン酸塩、アルキルアリールスルホン酸塩、ポリオキノ
エチレンアルキル硫酸エステル塩などのアニオン性界面
活性剤などがある。
リオキノエチレンアルキルエーテル、ポリオキノエチレ
ンアルキルアリールエーテル、ポリオキノエチレン脂肪
酸エステル、ソルヒタン脂肪酸エステル、ポリオキノエ
チレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキンエチレン
ポリオキンプロピレンブロツクボリマーなどのノニオン
性界面活性剤、アルキル硫酸エステル塩、アルキルスル
ホン酸塩、アルキルアリールスルホン酸塩、ポリオキノ
エチレンアルキル硫酸エステル塩などのアニオン性界面
活性剤などがある。
製剤用補助剤には、リグニンスルホン酸塩、アルギン酸
塩、ポリアクリレート類、ポリビニルアルコール、植物
ガム類、カルボキンメチルセルロース(CMC)、ヒド
ロキノエチルセルロース(HEC)などかめる。
塩、ポリアクリレート類、ポリビニルアルコール、植物
ガム類、カルボキンメチルセルロース(CMC)、ヒド
ロキノエチルセルロース(HEC)などかめる。
まに、この発明の化合物は、必要に応して池の殺虫剤、
殺ダニ剤、殺線虫剤、殺菌剤、除草剤、植物成長調節剤
、肥料あるいは土壌改良剤と混合使用することもてきる
。
殺ダニ剤、殺線虫剤、殺菌剤、除草剤、植物成長調節剤
、肥料あるいは土壌改良剤と混合使用することもてきる
。
この発明の化合物を除草剤として使用する場合、その使
用I:よ、使用する場所や方法、植物の種類によって異
なる。しかし、この発明の化合物は、一般に1アール当
り、約0.1〜509用いられる。
用I:よ、使用する場所や方法、植物の種類によって異
なる。しかし、この発明の化合物は、一般に1アール当
り、約0.1〜509用いられる。
(ニ)実施例
次にこの発明を実施例によって説明するが、この発明を
限定するものではない。
限定するものではない。
実施例1
1.2.3.7−テトラヒトローフ−オキソ−5−プロ
ピル−6−インドリツノカルボン酸エチルの製造水素化
ナトリウム0133モルをテトラヒドロフランaOx(
lに@濁さ仕、水冷下ブチリル酢酸エチル21.04g
のテトラヒドロフラン溶液(60Uりを45分かけて滴
下した。室温で15分撹拌した後、化合物(IV)14
.98gおよびメノチレン1001を加え、徐々に温度
を上昇させなから、テトラヒドロフランを蒸留装置を用
い留去した。残った溶液を2時間緩やかに加熱還流した
。反応液からメノチレンを減圧下に留去し、残渣にIN
塩酸133xQ、次いで塩化メチレン100Rρ加えよ
く振とうした。塩化メチレン層を乾燥、濃縮後、残渣を
カラムクロマトグラフィーに付し、題記化合物を0.8
99得た。
ピル−6−インドリツノカルボン酸エチルの製造水素化
ナトリウム0133モルをテトラヒドロフランaOx(
lに@濁さ仕、水冷下ブチリル酢酸エチル21.04g
のテトラヒドロフラン溶液(60Uりを45分かけて滴
下した。室温で15分撹拌した後、化合物(IV)14
.98gおよびメノチレン1001を加え、徐々に温度
を上昇させなから、テトラヒドロフランを蒸留装置を用
い留去した。残った溶液を2時間緩やかに加熱還流した
。反応液からメノチレンを減圧下に留去し、残渣にIN
塩酸133xQ、次いで塩化メチレン100Rρ加えよ
く振とうした。塩化メチレン層を乾燥、濃縮後、残渣を
カラムクロマトグラフィーに付し、題記化合物を0.8
99得た。
’ HN M R(CDC1a )δ:070〜27.
5(m、9FI)。
5(m、9FI)。
1.33(t、31()、 3.02(t、2H)、
4.07(t、21()、 4.33(q。
4.07(t、21()、 4.33(q。
2H)、 6.23(s、IB)
実施例2
1.2,3,7−チトラヒドロー7−オキソー5−プロ
ピル−6−インドリジンカルボン酸の製造1237−チ
トラヒドロー7−オキソー5−プロピル−6−インドリ
ジンカルポン酸エチル085g、5%水酸化ナトリウム
水溶液274gおよびエタノールLOxQの混合液を7
0°Cで3時間撹拌した。反応液を室温まで冷却後、エ
ーテル、酢酸エチル、塩化メチレンの順で洗浄した水槽
に濃塩酸3.OzR加え、塩化メチレンで抽出した。塩
化メチレン層を乾燥、濃縮した後、残渣をトルエンと塩
化メチレンの混合液から晶析し、題記化合物を360+
9得た。
ピル−6−インドリジンカルボン酸の製造1237−チ
トラヒドロー7−オキソー5−プロピル−6−インドリ
ジンカルポン酸エチル085g、5%水酸化ナトリウム
水溶液274gおよびエタノールLOxQの混合液を7
0°Cで3時間撹拌した。反応液を室温まで冷却後、エ
ーテル、酢酸エチル、塩化メチレンの順で洗浄した水槽
に濃塩酸3.OzR加え、塩化メチレンで抽出した。塩
化メチレン層を乾燥、濃縮した後、残渣をトルエンと塩
化メチレンの混合液から晶析し、題記化合物を360+
9得た。
’HNMR(CDC13)δ: 1.06(t、3H)
、 1.30〜2.00(m、2[+)、 2.00〜
2.65(m、2H)、 3.13(t、2H)。
、 1.30〜2.00(m、2[+)、 2.00〜
2.65(m、2H)、 3.13(t、2H)。
3.30(t、2H)、 4.25(t、2H)、 6
.47(s、LH)、 17.00〜18.50(br
、 IH) 実施例3 N−(2,6−ノエチルフエニル) −1,2,3,7
−チトラヒドロー7−オキソー5−プロピル−6−イン
ドリジンカルボキサミドの製造 1.2J、7−チトラヒドロー7−オキソー5−プロピ
ル−6−インドリジンカルボン酸350gを塩化メチレ
ン10,1に溶かし、これに水冷下端化チオニル013
xI2の塩化メチレン2村の溶液を5分間で滴下し、さ
らに3時間水冷下に撹拌した。これに2.6ノ工チルア
ニリン2B4zg% トリエチルアミン35219およ
び塩化メチレン5!1ρの溶液を水冷下20分かけて滴
下した後、さらに水冷下で3時間室温で一晩撹拌した。
.47(s、LH)、 17.00〜18.50(br
、 IH) 実施例3 N−(2,6−ノエチルフエニル) −1,2,3,7
−チトラヒドロー7−オキソー5−プロピル−6−イン
ドリジンカルボキサミドの製造 1.2J、7−チトラヒドロー7−オキソー5−プロピ
ル−6−インドリジンカルボン酸350gを塩化メチレ
ン10,1に溶かし、これに水冷下端化チオニル013
xI2の塩化メチレン2村の溶液を5分間で滴下し、さ
らに3時間水冷下に撹拌した。これに2.6ノ工チルア
ニリン2B4zg% トリエチルアミン35219およ
び塩化メチレン5!1ρの溶液を水冷下20分かけて滴
下した後、さらに水冷下で3時間室温で一晩撹拌した。
反応液を水、次いで飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗
浄後、乾燥、濃縮し、残渣をカラムクロマトグラフィー
に付した後、酢酸エチルとヘキサンの混合液から晶析し
、題記化合物を330z9得た。
浄後、乾燥、濃縮し、残渣をカラムクロマトグラフィー
に付した後、酢酸エチルとヘキサンの混合液から晶析し
、題記化合物を330z9得た。
融点 135〜136℃
IR(KBr) : 1640.1660cm’ HN
M R(CDCl、)δ: 0.70〜2.00(m
、5H)1.18(t、6H)、 2.24(t、2H
)、 2.65(q、4H)、 3.07(t2H)、
3.30(t、2H)、 4.20(L、2H)
、 6.43(s、LH)7.07(t、3t()、
12.13(br、lH)実施例4 8−ブロモ−N−(2,6−ノエチルフエニル)−12
37−テトラヒトローフ−オキソ−5−プロピル6−イ
ンドリジンカルボキサミドの製造N−(2,6−ノエチ
ルフエニル) −1,2,3,7−テトラヒトローフ−
オキソ−5−プロピル−6−インドリジンカルボキサミ
ド0289、炭酸ナトリウム05gおよび塩化メチレン
472Qの混合物に室温下、臭素0.OUCの塩化メチ
レン溶液(3,2miりを25分かけて滴下し、さらに
3時間15分撹拌した。
M R(CDCl、)δ: 0.70〜2.00(m
、5H)1.18(t、6H)、 2.24(t、2H
)、 2.65(q、4H)、 3.07(t2H)、
3.30(t、2H)、 4.20(L、2H)
、 6.43(s、LH)7.07(t、3t()、
12.13(br、lH)実施例4 8−ブロモ−N−(2,6−ノエチルフエニル)−12
37−テトラヒトローフ−オキソ−5−プロピル6−イ
ンドリジンカルボキサミドの製造N−(2,6−ノエチ
ルフエニル) −1,2,3,7−テトラヒトローフ−
オキソ−5−プロピル−6−インドリジンカルボキサミ
ド0289、炭酸ナトリウム05gおよび塩化メチレン
472Qの混合物に室温下、臭素0.OUCの塩化メチ
レン溶液(3,2miりを25分かけて滴下し、さらに
3時間15分撹拌した。
不純物を濾過後、濾液を濃縮し、結晶性残渣をメタノー
ルから再結晶し題記化合物を0.219得fこ。
ルから再結晶し題記化合物を0.219得fこ。
融点、216〜217℃
IR(KBr) : 1623.1657cm−’’
HN M R(CDCl3 )δ: 1.00(t、3
H)、 1.17(t61()、 1.68(six
、21()、 2.24(L、2H)、 2.63
(q、4H)。
HN M R(CDCl3 )δ: 1.00(t、3
H)、 1.17(t61()、 1.68(six
、21()、 2.24(L、2H)、 2.63
(q、4H)。
3.18(t、4t()、 4.3Q(t、2H)、
7.1)7(s、3)1)、 11.67(br。
7.1)7(s、3)1)、 11.67(br。
1[()
試験例
(植物生理活性試験)
タルク(50重量部)、ベントナイト(25重量部)、
ツルポール−9047(東邦化学制、2重量部)、ソル
ボ−ルー5039 (同前、3重量部)を混合しキャリ
アーを調製した。試験化合物それぞれ501!部と前記
キャリアー200重量部とを混合し、20%永和剤を作
った。この水和剤を純水に分散させ所定濃度の水和剤分
散液を得た。別にイネ、ノヒエ、二十日ダイコン種子を
催芽させたシャーレを用意し、上記水和剤分散液を添加
し、25℃の照明付き低温庫で7日間育苗して成長程度
を、以下の基準に従って評価し、その結果を表1に示す
。
ツルポール−9047(東邦化学制、2重量部)、ソル
ボ−ルー5039 (同前、3重量部)を混合しキャリ
アーを調製した。試験化合物それぞれ501!部と前記
キャリアー200重量部とを混合し、20%永和剤を作
った。この水和剤を純水に分散させ所定濃度の水和剤分
散液を得た。別にイネ、ノヒエ、二十日ダイコン種子を
催芽させたシャーレを用意し、上記水和剤分散液を添加
し、25℃の照明付き低温庫で7日間育苗して成長程度
を、以下の基準に従って評価し、その結果を表1に示す
。
(以下余白)
25%成長抑制
50%成長抑制
75%成長抑制
完全枯死
表 1
なお、実施例に示した化合物の他に、この発明に含まれ
る化合物の具体名としては次のものがあげられる。
る化合物の具体名としては次のものがあげられる。
8−ブロモ−1,2,3,7−チトラヒドロー7−オキ
ソー5−プロピル−6−インドリジンカルボン酸エチル
、 1.2,3゜7−テトラヒドロ〜7−オキソー5−プロ
ピル−6−インドリジンカルポン酸メチル、8−ブロモ
−1,2,3,7−チトラヒドロー7−オキノー5−プ
ロピル−6−インドリジンカルポン酸メチル、 5−ブチル−1,2,3,7−テトラヒトローフ−オキ
ノー6−インドリノノカルポン酸エチル、8−ブロモ−
5−ブチル−1,2,3,7−チトラヒドロー7−オキ
ソー6−イントリノンカルボン酸エチル、 N−(4−ブロモ−2,6−ジエチルフェニル)−12
、3,7−チトラヒドロー7−オキソー5−プロピル6
−インドリジンカルボキサミド、 8−ブロモーN−(4−ブロモ−2,6−ジエチルフェ
ニル) 1.2.3.7−チトラヒドロー7−オキソー
5プロピル−6−インドリジンカルボキサミド、8−ブ
ロモ−5−ブチル−N−(2,6−ジエチルフェニル)
−1,2,3,7−チトラヒドロー7−オキソー6イン
ドリジンカルボキサミド、 8−ブ0モーN−(2,8−ジエチルフェニル)−5ト
リフルオロメチル−1,2,37−テトラヒドロフ−オ
キソ−6−インドリジンカルボキサミド、8−クロロ−
N (2,6−ジエチル−4−メトキンフェニル)
−1,2,37−テトラヒトローフ−オキソ5〜プロピ
ル−6−インドリジンカルボキサミド、8−ブロモ−N
−(4−クロロ−26−ノエチルフエニル)−1,2,
3,7−テトラヒトローフ−オキソ−5−プロピル−6
−インドリジンカルボキサミドおよび 8−ブロモ−!l−(2,6−ジエチル−4−トリフル
オロメチルフェニル)−1,2,3,7−チトラヒドロ
ー7−オキノー5−プロピル−6−インドリジンカルボ
キサミド。
ソー5−プロピル−6−インドリジンカルボン酸エチル
、 1.2,3゜7−テトラヒドロ〜7−オキソー5−プロ
ピル−6−インドリジンカルポン酸メチル、8−ブロモ
−1,2,3,7−チトラヒドロー7−オキノー5−プ
ロピル−6−インドリジンカルポン酸メチル、 5−ブチル−1,2,3,7−テトラヒトローフ−オキ
ノー6−インドリノノカルポン酸エチル、8−ブロモ−
5−ブチル−1,2,3,7−チトラヒドロー7−オキ
ソー6−イントリノンカルボン酸エチル、 N−(4−ブロモ−2,6−ジエチルフェニル)−12
、3,7−チトラヒドロー7−オキソー5−プロピル6
−インドリジンカルボキサミド、 8−ブロモーN−(4−ブロモ−2,6−ジエチルフェ
ニル) 1.2.3.7−チトラヒドロー7−オキソー
5プロピル−6−インドリジンカルボキサミド、8−ブ
ロモ−5−ブチル−N−(2,6−ジエチルフェニル)
−1,2,3,7−チトラヒドロー7−オキソー6イン
ドリジンカルボキサミド、 8−ブ0モーN−(2,8−ジエチルフェニル)−5ト
リフルオロメチル−1,2,37−テトラヒドロフ−オ
キソ−6−インドリジンカルボキサミド、8−クロロ−
N (2,6−ジエチル−4−メトキンフェニル)
−1,2,37−テトラヒトローフ−オキソ5〜プロピ
ル−6−インドリジンカルボキサミド、8−ブロモ−N
−(4−クロロ−26−ノエチルフエニル)−1,2,
3,7−テトラヒトローフ−オキソ−5−プロピル−6
−インドリジンカルボキサミドおよび 8−ブロモ−!l−(2,6−ジエチル−4−トリフル
オロメチルフェニル)−1,2,3,7−チトラヒドロ
ー7−オキノー5−プロピル−6−インドリジンカルボ
キサミド。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、式( I ): ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) [式中R^1はハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲ
ン化低級アルキル基および低級アルコキシ基の1〜5個
で置換されてもよいフェニル基;R^2は低級アルキル
基、低級アルケニル基またはハロゲン化低級アルキル基
;R^3は水素原子またはハロゲン原子]で表わされる
6−インドリジンカルボキサミド誘導体またはその塩。 2、R^1が2,6−ジエチルフェニル基である請求項
1記載の化合物。 3、R^2が低級アルキル基である請求項1記載の化合
物。 4、N−(2,6−ジエチルフェニル)−1,2,3,
7−テトラヒドロ−7−オキソ−5−プロピル−6−イ
ンドリジンカルボキサミドまたは8−ブロモ−N−(2
,6−ジエチルフェニル)−1,2,3,7−テトラヒ
ドロ−7−オキソ−5−プロピル−6−インドリジンカ
ルボキサミドである請求項1記載の化合物。 5、式(V): ▲数式、化学式、表等があります▼(V) (式中R^2は低級アルキル基、低級アルケニル基また
はハロゲン化低級アルキル基;R^4は低級アルキル基
またはフェニル基)で表されるβ−ケトエステル誘導体
の金属塩もしくは金属エノラートに式(VI): ▲数式、化学式、表等があります▼(VI) の化合物を反応させて下記式(II): ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中R^2およびR^4は前記定義と同一;R^3′
は水素原子)で表される化合物を生成させ、また得られ
た式(II)の化合物をハロゲン化して下記式(II′)▲
数式、化学式、表等があります▼(II′) (式中R^2およびR^4は前記定義と同一;R^3″
はハロゲン原子)で表される化合物を生成させ、得られ
た上記式(II)または式(II′)の化合物を加水分解し
て、下記式(III): ▲数式、化学式、表等があります▼(III) (式中R^2とR^3は上記定義と同一)で表される化
合物を生成させ、生成した式(III)の化合物を式R^
1NH_2(IV)(式中R^1はハロゲン原子、低級ア
ルキル基、ハロゲン化低級アルキル基および低級アルコ
キシ基の1〜5で置換されてもよいフェニル基)で表さ
れるアニリン誘導体を反応させて式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中R^1、R^2およびR^3は水素原子またはハ
ロゲン原子)で表される化合物を生成させ、所望により
得られた式( I )の化合物を塩に導くことを特徴とす
る6−インドリジンカルボキサミド誘導体またはその塩
の製造方法。 6、式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) [式中R^1はハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲ
ン化低級アルキル基および低級アルコキシ基の1〜5個
で置換されてもよいフェニル基;R^2は低級アルキル
基、低級アルケニル基またはハロゲン化低級アルキル基
;R^3は水素原子またはハロゲン原子]で表わされる
6−インドリジンカルボキサミド誘導体またはその塩の
少なくとも一種を有効成分として含有することからなる
除草剤。 7、式(II″) ▲数式、化学式、表等があります▼(VII) (式中R^2は低級アルキル基、低級アルケニル基また
はハロゲン化低級アルキル基;R^3は水素原子または
ハロゲン原子;R^5は水素原子、低級アルキル基また
はフェニル基)で表される6−インドリジンカルボン酸
誘導体。 8、(1)式(V): ▲数式、化学式、表等があります▼(V) (式中R^2は低級アルキル基、低級アルケニル基また
はハロゲン化低級アルキル基;R^4は低級アルキル基
またはフェニル基)で表されるβ−ケトエステル誘導体
の金属塩もしくは金属エノラートに式(VI): ▲数式、化学式、表等があります▼(VI) (式中R^7とR^8は水素原子、低級アルキル基また
はフェニル基)で表される化合物を反応させて、下記式
(VII′): ▲数式、化学式、表等があります▼(VII′) (式中R^2は前記定義と同一;R^3′は水素原子;
R^5′は低級アルキル基またはフェニル基)で表され
る化合物を生成させ、 (2)必要により、上記(1)得られた式(II)の化合
物をハロゲン化して式(VII″) ▲数式、化学式、表等があります▼(VII″) (式中R^2とR^5′は前記定義と同一;R^3″は
ハロゲン原子)で表される化合物を生成させ、 (3)かつ必要により、上記(1)と(2)で得られた
化合物を加水分解して下記式(VII′″): ▲数式、化学式、表等があります▼(VII′″) (式中R^2は前記定義と同一;R^3は水素原子また
はハロゲン原子、R^5″は水素原子)で表される化合
物を生成させることからなる式(VII):▲数式、化学
式、表等があります▼(VII) (式中R^2は低級アルキル基、低級アルケニル基また
はハロゲン化低級アルキル基;R^3は水素原子または
ハロゲン原子;R^5は水素原子、低級アルキル基また
はフェニル基)で表される6−インドリジンカルボン酸
誘導体の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2145053A JP2809483B2 (ja) | 1990-05-31 | 1990-05-31 | 6―インドリジンカルボキサミド誘導体、その中間体それらの製造法および除草剤 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2145053A JP2809483B2 (ja) | 1990-05-31 | 1990-05-31 | 6―インドリジンカルボキサミド誘導体、その中間体それらの製造法および除草剤 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0436281A true JPH0436281A (ja) | 1992-02-06 |
JP2809483B2 JP2809483B2 (ja) | 1998-10-08 |
Family
ID=15376294
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2145053A Expired - Lifetime JP2809483B2 (ja) | 1990-05-31 | 1990-05-31 | 6―インドリジンカルボキサミド誘導体、その中間体それらの製造法および除草剤 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2809483B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5378679A (en) * | 1992-08-21 | 1995-01-03 | Basf Aktiengesellschaft | Heteroaromatically condensed hydroxypyridonecarboxamides, their preparation and use |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01193267A (ja) * | 1987-10-16 | 1989-08-03 | Daicel Chem Ind Ltd | 縮合複素環化合物とその製法および除草剤 |
-
1990
- 1990-05-31 JP JP2145053A patent/JP2809483B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01193267A (ja) * | 1987-10-16 | 1989-08-03 | Daicel Chem Ind Ltd | 縮合複素環化合物とその製法および除草剤 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5378679A (en) * | 1992-08-21 | 1995-01-03 | Basf Aktiengesellschaft | Heteroaromatically condensed hydroxypyridonecarboxamides, their preparation and use |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2809483B2 (ja) | 1998-10-08 |
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