JPH0434902Y2 - - Google Patents

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JPH0434902Y2
JPH0434902Y2 JP1987003026U JP302687U JPH0434902Y2 JP H0434902 Y2 JPH0434902 Y2 JP H0434902Y2 JP 1987003026 U JP1987003026 U JP 1987003026U JP 302687 U JP302687 U JP 302687U JP H0434902 Y2 JPH0434902 Y2 JP H0434902Y2
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cup
cups
liquid
waste liquid
rotary table
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Description

【考案の詳細な説明】 〔概要〕 リソグラフイ工程の現像液、エツチング液、洗
浄液等の処理後の廃液を、廃液ラインを別にして
純度よく回収できる廃液用カツプを有するスピン
処理装置を提起し、廃液の再使用をはかるように
する。
〔産業上の利用分野〕
本考案はリソグラフイ工程等の処理液を有効利
用する廃液用カツプを有するスピン処理装置に関
する。
〔従来の技術〕
従来は処理液の現像液、エツチング液、洗浄液
は混合して排出していたため、廃液は廃棄してい
た。
第４図は従来例による処理装置の廃液用カツプ
を説明する断面図である。
図において、カツプ４１内で、被処理基板４は
台５に保持されモータ８により回転され、ノズル
６より各処理液がスプレイされる。
この際、スプレイの飛沫を防ぐため被処理基板
４をカバー４２で覆つている。
〔考案が解決しようとする問題点〕
このように、各廃液は混合して排出していたた
め、廃棄していた。
半導体ウエハプロセス、マスク製造プロセス等
のリソグラフイ工程における処理の消費は、量産
化にともない莫大な量となり、各廃液の有効利用
が問題である。
〔問題点を解決するための手段〕
上記問題点の解決は、互いに間隔をあけて重ね
合わせるように設けられた、大きさの異なる複数
のカツプと、該カツプ内で被処理基板を保持して
回転する回転台と、該カツプのそれぞれに設けら
れた排出口と、異なつた処理液がそれぞれのカツ
プに流出するように該回転台を上下する機構、ま
たは該カツプ間の仕切り部を上下する機構を有す
るスピン処理装置により達成される。
〔作用〕 本考案は互いに間隔をあけて重ね合わせるよう
に設けられた、大きさの異なる複数のカツプの各
に廃液が流出するように、例えば、被処理基板を
載せる台の高さを変えて処理液をスプレイするよ
うにしたものである。
〔実施例〕
第１図１，２は本考案の第１の実施例を説明す
る断面図である。
この例は３液用の廃液用カツプである。
第１図１において、第１のカツプ１の外側に順
次間隔をあけて重ね合わせるように第２のカツプ
２、第３のカツプ３が設けられる。
被処理基板４は台５に保持され、モータ８によ
り回転され、ノズル６より処理液がスプレイされ
る。
この際、上下機構９により回転台５を上下し
て、例えば、現像液は図示のａの位置、エツチン
グ液はｂの位置、リンス液はｃの位置で処理を行
うようにする。
また、各カツプにはそれぞれ廃液のガイド板１
Ｂ，２Ｂ，３Ｂが設けられ、現像液、エツチング
液、リンス液の廃液が各カツプに別々に流入する
ようになつている。
さらに、各カツプにはそれぞれ排出口１Ａ，２
Ａ，３Ａが設けられ、それぞれ現像液、エツチン
グ液、リンス液の回収ラインとする。
第１図２は上下機構の説明図である。
図において、回転台５に直結したモータ８は上
下装置９１に固定され、上下装置９１はエアシリ
ンダ９２により上下する。
上下装置９１の位置制御はセンサ９３とコント
ローラ９４により行い、回転台５が第１図１の
ａ，ｂ，ｃの位置に止まるように調整する。
第２図は本考案の第２の実施例を説明する断面
図である。
この例は２液用の廃液用カツプであり、被処理
基板の処理位置は固定となつている。
図において、第１のカツプ１の外側に間隔をあ
けて重ね合わせるように第２のカツプ２が設けら
れる。
被処理基板４は回転台５に保持され、モータ８
により回転され、ノズル６より処理液がスプレイ
される。
この際、例えば、現像液は図示の仕切り部７を
下に移動して両カツプの間〓を閉じて処理して廃
液を第１のカツプ１に流入させ、エツチング液は
仕切り部７を上に移動して両カツプの間〓を開け
て、廃液を第２のカツプ２に流入させる。
また、各カツプにはそれぞれ廃液のガイド板１
Ｂ，２Ｂが設けられ、現像液、エツチング液が各
カツプに別々に流入するようになつている。
さらに、各カツプにはそれぞれ排出口１Ａ，２
Ａ、が設けられ、それぞれ現像液、エツチング液
の回収ラインとする。
以上で本考案の実施例の説明を終わるが、比較
のために、廃液の分離回収をするために通常考え
られる３方弁利用の場合をつぎに説明する。
第３図は従来のカツプに３方弁を利用した回収
ラインを説明する断面図である。
図は従来のカツプに３方弁を利用して回収ライ
ンを現像液、エツチング液、リンス液用に分けて
別々に回収する場合を示す。
この場合は、カツプが３液に共通となるため、
カツプ内で各廃液の混合があり、本考案のものよ
り回収液の純度が落ちる。
〔考案の効果〕
以上説明したように本考案によれば、各処理液
を別々に純度よく回収することができる。
【図面の簡単な説明】
第１図は本考案の第１の実施例を説明する断面
図、第２図は本考案の第２の実施例を説明する断
面図、第３図は従来のカツプに３方弁を利用した
回収ラインを説明する断面図、第４図は従来例に
よる処理装置の廃液用カツプを説明する断面図で
ある。 図において、１は第１のカツプ、２は第２のカ
ツプ、３は第３のカツプ、１Ａ，２Ａ，３Ａは排
出口、１Ｂ，２Ｂ，３Ｂは廃液のガイド板、４は
被処理基板、５は回転台、６はノズル、７は仕切
り部、８はモータ、９は上下機構である。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 互いに間隔をあけて重ね合わせるように設けら
    れた、大きさの異なる複数のカツプと、該カツプ
    内で被処理基板を保持して回転する回転台と、該
    カツプのそれぞれに設けられた排出口と、異なつ
    た処理液がそれぞれのカツプに流出するように該
    回転台を上下する機構、または該カツプ間の仕切
    り部を上下する機構を有することを特徴とするス
    ピン処理装置。
JP1987003026U 1987-01-13 1987-01-13 Expired JPH0434902Y2 (ja)

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JP1987003026U JPH0434902Y2 (ja) 1987-01-13 1987-01-13

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JP1987003026U JPH0434902Y2 (ja) 1987-01-13 1987-01-13

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JPS63111960U JPS63111960U (ja) 1988-07-19
JPH0434902Y2 true JPH0434902Y2 (ja) 1992-08-19

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