JPH0465115A - 不要レジスト除去装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野コ 本発明は、例えば基板上にフォトレジストを塗付する工
程に利用できる不要レジスト除去装置に関する。

［従来の技術］ 半導体装置の製造プロセスにおいては、フォトリソグラ
フィ技術によって基板表面に電極や絶縁膜、アモルファ
スシリコン半導体層等のパターニング（選択エツチング
）を行なうため、フォトレジスト塗付工程が設けられて
いる。このフォトレジスト塗付工程には、一般にスピン
ナと呼ばれる第３図に示すような回転式フォトレジスト
塗付装置が使用される。

第３図の装置では、垂直に支持された回転軸ｌの上端に
角形の回転テーブル２が水平に固定され、この回転テー
ブル２の周囲を囲繞するように処理槽３が配置されてい
る。上記処理槽３は土壁に開口部３ａを有しており、上
記回転軸１は処理槽３の底壁を貫通して下方へ突出し、
その下端部がスピンモータ４に接続されている。

また、上記回転軸１には、上記回転テーブル２と適当な
間隔をおき、かつ上記処理槽３内に位置するように排気
フード５が固定されているとともに、処理槽３内には上
記回転テーブル２および排気フード５の外側に位置する
よう円筒状の廃液カバー６が配置され、この廃液カバー
６の下方には円環状の廃液受皿７が配置されている。こ
の廃液受皿７の底壁の一部には、上記処理槽３の底壁を
貫通するドレインロアａが設けられているとともに、処
理槽３の底壁には上記排気フード５に対向する位置に数
個（図面には２個）の排気口８が形成されている。

なお、上記回転テーブル２の中心上方にはレジスト供給
用ノズル９が垂下されている。

次に、上記フォトレジスト塗付装置によるガラス基板へ
のフォトレジストの塗付の手順を説明する。

先ず、回転テーブル２上にガラス基板ａを載置し、図示
しない真空吸着手段により回転テーブル２上にガラス基
板ａを吸着させた状態でスピンモータ４を駆動して回転
テーブル２を回転させる。

そして、上方のノズル９からガラス基板ａ上にフォトレ
ジストを滴下させる。すると、フォトレジストは遠心力
で基板の表面全体に広がっていき、表面に薄いレジスト
膜が被着されるとともに、大部分は遠心力で外側へ飛ば
されて廃液カバー６にぶつかり、その内壁に沿って流下
して廃液受皿７内に溜まり、ドレインロアａより排出さ
れる。

また回転テーブル２が回転する際には、処理槽３内の空
気が排気口８を通して順次排出される。

［発明が解決しようとする課題］ ところが、上記フォトレジスト塗付装置においては、回
転テーブル２の表面にフォトレジストが塗付されないよ
うにするため、ガラス基板ａよりもひと回り小さな回転
テーブルの上に基板を載せて回転させるようにしている
ので、角形の基板ａの周縁が回転テーブル２の外周側に
突出したまま回転される。そのため、テーブル２の回転
に伴って基板ａの周縁、角部が空気を切りながら回転し
、その後に渦流を生じさせる。これにより、処理槽１の
内部の空気に複雑な乱流が発生し、この乱流の影響で基
板ａの端面や裏面にフォトレジストが回り込んで付着し
、この結果、露光工程で位置ずれを起こしてフォトレジ
ストのパターニングの際の寸法精度を低下させたり、搬
送工程や露光工程において剥離したレジストが異物とな
って歩留りを低下させるという問題点があった。

本発明は上記のような問題点に鑑みてなされたもので、
その目的とするところは、基板の端面（エツジ）や裏面
に回り込んだフォトレジストによるパターニングの際の
精度の低下を防止し、歩留りを向上させることにある。

上記目的を達成するためこの発明は、回転式レジスト塗
付装置によってレジストを塗付した基板を、該基板を固
定するための基台と、該基台に保持された基板の端面に
接触可能な摺動部材と、この摺動部材を基板の端面接線
方向に沿って移動させる駆動手段とを備えた不要レジス
ト除去装置によって処理するようにしたものである。

［作用］ 上記した手段によれば、回転式レジスト塗付装置により
塗付された基板の周縁の不要レジストを確実に除去する
ことができ、これによって露光工程での位置ずれをなく
してパターニングの際の精度を向上させ、またフォトレ
ジスト塗付工程後の搬送工程や露光工程における不要レ
ジストの剥離によって生じる残留物による歩留りの低下
を防止することができる。

［実施例コ 第１図には本発明に係る不要レジスト除去装置の一実施
例の平面図が示されている。

同図において、１１は中央に基板ａよりも−回り小さな
基台としての固定テーブル１２を有する処理槽で、処理
槽１１の各側壁には、基板ａの端面の接線延長線上にシ
リンダ２０がそれぞれビン１３を支点として水平面内回
転可能に取り付けられている。そして、上記各エアシリ
ンダ２０のピストンロッド２０ａの先端には、第２図に
拡大して示すようなＬ字形断面を有するパッド２１ａと
、これを保持するベース２１ｂとからなるクリーニング
ヘッド２１が、基板の側面から底面にかけて接触可能な
状態で装着されている。上記パッド２１ａは、例えばブ
チルゴムなどの高分子材からなるスポンジゴムのような
弾力性のある材料により構成されている。

また、各パッド２１ａを保持するベース２１ｂの上面に
は複数のノズル２３ａを有するパイプ２３が配設されて
おり、各ノズル２３ａはパッド２１ａの上面に、アセト
ンようなレジスト除去液を供給できるように先端が下向
きに形成されている。

なお、上記パイプ２３の先端は閉塞されているとともに
、パイプ２３の始端にはフレキシブルなチューブ２４が
接続されており、図示しないポンプからレジスト除去液
が輸送されるようになっている。

さらに、上記各エアシリンダ２０のシリンダ部と処理槽
１１の側壁との間には、上記ピン１３を支点としてエア
シリンダ２ｏを回動させるための第２のエアシリンダ３
０がそれぞれ介挿されている。

次に、上記不要レジスト除去装置の動作を説明する。

第３図に示すレジスト塗付装置により表面にフォトレジ
ストが塗付されたガラス基板ａは、第１図に２点鎖線Ａ
−Ｄで示すように、全エアシリンダ２０を外側に回転さ
せた状態で不要レジスト除去装置の固定テーブル１２上
に載置され、図示しない真空吸着手段により固定される
。次に、第２のエアシリンダ３０を作動させて４つのエ
アシリンダ２０を第１図に実線で示されるような位置ま
で回動させる。それから、パイプ２３に設けられたノズ
ル２３ａよりレジスト除去液を滴下させながら、エアシ
リンダ２０に圧縮空気を送ってシリンダロッド２０ａを
往復動させる。すると、パッド２２ａが基板ａの側面か
ら底面にかけて接触したままこすられるように移動する
ため、基板ａの側面から底面にかけて付着した不要なレ
ジストがパッド２２ａによってこすりとられて脱落し、
基板の周縁が清浄化される。

レジスト除去後、第２のエアシリンダ３０が作動されて
エアシリンダ２３が基板から遠ざかる方向へ回動され、
２点鎖線Ａ−Ｄの位置まで待避する。

その後、真空吸着手段を解除して基板ａを開放し、図示
しない搬送手段により固定テーブル１２上から基板を持
ち上げ、処理槽１１から外部へ搬出してベーキング装置
（図示省略）へ送ってレジストを焼成して、一連のフォ
トレジスト塗付工程が終了する。そして、続いて露光、
現象、エツチング、フォトレジスト除去の各工程が行な
われる。

以上説明したように上記実施例においては、レジストが
表面に塗付された基板を固定するための基台としての固
定テーブルと、該固定テーブルに保持された基板の端面
に接触可能なりリーニングヘッドと、このクリーニング
ヘッドを基板の端面接線方向に沿って移動させるヘッド
駆動手段としてのエアシリンダとにより不要レジスト除
去装置を構成したので、回転式レジスト塗付装置により
塗付された基板の周縁の不要レジストを確実に除去する
ことができ、これによって露光工程での位置ずれをなく
してパターニングの際の精度を向上させ、またフォトレ
ジスト塗付工程後の搬送工程や露光工程において不要レ
ジストの剥離によって生じる残留物による歩留りの低下
を防止することができるという効果がある。

なお、上記実施例では、基板の周縁に接触して不要レジ
ストを除去するヘッドを往復移動させる駆動手段や基板
に向かって接近・離反させる駆動手段としてエアシリン
ダを用いているが、駆動手段はこれに限定されるもので
なく、油圧シリンダやモータ等を用いてもよいことはい
うまでもない。

また、上記実施例ではレジスト除去液を供給するパイプ
２３とノズル２３ａをクリーニングヘッド２１と一体に
設けたが、パイプとノズルは予め基板の周縁上方に固定
しておいたり、別の駆動機構によって接近・離反させる
ようにしてもよい。

さらに、上記実施例では角形のガラス基板に塗付された
不要レジストの除去装置について説明したが、本発明は
円形の半導体ウェーハ等の不要レジスト除去にも利用す
ることができる。その場合、ウェーハ端面に接触するパ
ッドを円形とし、これを所定角度の範囲で往復回転させ
るように駆動機構を構成するとよい。

［発明の効果］ この発明は、回転式レジスト塗付装置により塗付された
基板の周縁の不要レジストを確実に除去することができ
、これによって露光工程での位置ずれをなくしてパター
ニングの際の精度を向上させ、またフォトレジスト塗付
工程後の搬送工程や露光工程にお肩で不要レジストの剥
離によって生じる残留物にける歩留りの低下を防止する
ことができるという効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係る不要レジスト除去装置の一実施例
を示す平面図、 第２図はそのクリーニングヘッドの詳細を示す斜視図、 第３図（Ａ）、（Ｂ）は回転式レジスト塗付装置の一例
を示す平面図および断面正面図である。 １１・・・・処理槽、１２・・・・基台（固定テーブル
）２０・・・・ヘッド駆動手段（エアシリンダ）、２１
・・・・摺動部材（クリーニングヘッド）、２１ａ・・
・・パッド、２３ａ・・・・レジスト除去液滴下用ノズ
ル。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）レジストが表面に塗付された基板を固定するため
   の基台と、該基台に保持された基板の端面に接触可能な
   摺動部材と、この摺動部材を基板の端面接線方向に沿っ
   て移動させる駆動手段とを備えてなることを特徴とする
   不要レジスト除去装置。