JPH039900A - 転写箔の製造方法 - Google Patents

転写箔の製造方法

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JPH039900A
JPH039900A JP1143515A JP14351589A JPH039900A JP H039900 A JPH039900 A JP H039900A JP 1143515 A JP1143515 A JP 1143515A JP 14351589 A JP14351589 A JP 14351589A JP H039900 A JPH039900 A JP H039900A
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Michiko Fujihira
藤平 美智子
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は転写箔の製造方法に関する。
〔従来の技術 及び発明が解決しようとする課題〕
近年、転写箔を用いて各種物品に艶差のある意匠表面を
付与することが行われている。
この種の転写箔として、基材シートの離型層上にマット
層(艶消層)等を設けて構成し、該マット層の粗面状態
を被転写体表面に転写して艶消し表面を付与するものが
あるが、このような転写箔を製造する方法としては、マ
ット層をメラミン樹脂にて構成し、例えば、約200℃
の熱風乾燥機中を5〜10秒通過させて行う高温焼付処
理を施し、上記樹脂を硬化させて層形成を行う方法(特
開昭62−18298号、特開昭62−44491号公
報等)が知られている。しかし、この製造方法では上記
焼付処理時の高熱により得られる転写箔にゆがみが生じ
易い問題があった。また上記マント層を溶剤可溶タイプ
の熱硬化性樹脂を用いて形成する製造方法も知られてい
るが、このような樹脂材質を使用する製造方法や或いは
汎用熱硬化性樹脂を使用する製造方法の場合は、硬化に
高温(150〜170℃)と加熱時間(10〜30分)
を要するため硬化が不安定であったり、又は加熱硬化時
の熱により転写箔にゆがみが生じる欠点がある。しかも
、上記のような熱硬化性樹脂は10〜30秒で硬化する
必要性のあるコーター等には適用できなかったり、或い
は見掛は上乾燥、硬化しているようでも実際は未反応の
官能基が残存するためマット層が剥離層と密着する等の
不具合があった。更に、マット層と共に離型層をメラミ
ン樹脂にて形成する製造方法もあるが、この場合は特に
得られた転写箔が射出成形同時転写用の転写箔として利
用できないという不具合があった。
また紙、布、網目、粗面化したフィルム、シート、金属
板、木板等の光沢度調整用材料を用いて、被転写体に転
写された後の転写層表面に該材料の表面状態を賦形して
艶消し部を形成して転写層の光沢度を調整する転写箔や
、2種の転写箔を使用して艶や色が相違する複合模様を
被転写体表面に形成するものが提案されているが、これ
らのものは別途光沢度調整用材料が必要となったり或い
は2種の転写箔が必要となり、また艶消し部のみアフタ
ー転写しなければならなかったり、2回の転写作業を要
するなどの不具合があった。
本発明は上記課題に鑑みなされたもので、1回の転写に
より被転写体に艶変化のある優れた意匠表面を付与可能
な転写箔をゆがみ発生の支障がな ゛く、簡便且つ確実
に製造することができる転写箔の製造方法を提供するこ
とを目的とする。
〔発明が解決しようとするL!題〕
即ち本発明は、 (1)  基材シート上に、離型層、部分的に設ける艶
調整層、剥離層、装飾層、接着剤層を順次積層形成する
転写箔の製造方法において、上記離型層を熱硬化型アク
リル系樹脂を用いて形成し、上記艶調整層をアミノアル
キッド樹脂にて構成して層形成時に50〜150℃の温
度範囲で焼付処理を施すことを特徴とする転写箔の製造
方法。
(2)艶調整層を形成する際に、酸触媒を用いる請求項
1記載の転写箔の製造方法。
(3)離型層を形成する熱硬化型アクリル系樹脂として
、自己架橋性のものを用いる請求項1又は2記載の転写
箔の製造方法。
(4)  自己架橋性熱硬化型アクリル系樹脂として、
プトキシメチルアクリルアミド基を有するメチルメタク
リレート−スチレン−ヒドロキシメチルアクリレート共
重合体を用いる請求項3゛記載の転写箔の製造方法。
を要旨とするものである。
本発明の製造方法は、まず基材シートに離型層を形成し
、しかる後、艶調整層を該離型層上に部分的に形成し、
次いで、その上に剥離層、装飾層及び接着剤層を順次形
成するものである。上記の各層の塗布形成に当たっては
、グラビアコート、ロールコート等のコーティング方法
や、グラビア印刷、スクリーン印刷等の印刷方法が適宜
適用される。
上記基材シートとしては、従来より転写箔に使用されて
いるものであれば原則的に使用することができる。具体
的にはポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレ
フタレート等のポリエステル、ポリプロピレン、ポリア
ミド、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリエーテルサ
ルホン等からなるシートが挙げられ、また必要に応じて
上記シートに他のシートをラミネートしたものが用いら
れる。一般には耐熱性等に優れていることからポリエチ
レンテレフタレートシートが多用される。
基材シートの厚みは12〜200μ′m、好ましくは1
6〜50μmである。
離型層は公知の熱硬化型アクリル系樹脂にて形成され、
これにより乾燥硬化後における印刷適性、耐熱性、耐溶
剤性、可撓性、伸展性等に優れた離型層を得ることがで
きる。上記熱硬化型アクリル系樹脂としては、官能基と
して少なくとも、カルボキシル基、エポキシ基、アミド
基、メチロール化アクリルアミド基、メトキシメチルア
クリルアミド基、プトキシメチルアクリルアミド基或い
は脂肪族二重結合を有する官能基のうちの1種以上を有
する自己架橋性のものが好ましい、またその中でも易硬
化性等の点から、メトキシブチルアクリルアミド基、プ
トキシメチルアクリルアミド基を一分子中に平均4個有
するメチルメタクリレート−スチレン−ヒドロキシルア
クリレート共重合体が最適である。これらの樹脂材質は
単独で使用しても或いは上記官能基を有するポリマーと
混合して使用してもよい、混合使用する場合には上記官
能基を有するポリマーの他に水酸基を有するアクリル樹
脂を使用することも可能である。更に必要に応じて上記
樹脂材質に、ジエボキシド、メラミン樹脂、尿素樹脂及
びこれらの変性したものを混合して使用しても、或いは
上記した官能基や二重結合を少なくとも2つ以上有する
低分子化合物を混合して使用してもよい。
上記樹脂材質は無触媒下でも硬化するが、強酸触媒を使
用することにより硬化速度が増大する上、硬化温度を低
くすることができる。
艶調整層を形成するためのアミノアルキッド樹脂はメチ
ロール化アクリルアミド基を有するアルキド樹脂であり
、具体的にはポリエステル樹脂、好ましくは網状化ポリ
エステルのグリプタル樹脂等のアルキド樹脂を主材とし
て構成され、必要に応じてアルコキシメチルメラミン等
の変性メラミンを混合してなるものである。中でもメチ
ロール化アクリルアミド基を有するアルキド樹脂に、少
なくとも2個以上のメチロール基、アルコキシメチル基
、水酸基又はカルボキシル基を有する低分子化合物を混
合したものが、硬化後の艶調整層が離型層との密着性や
剥離層との剥離性が良好なものとなる。
上記艶調整層及び離型層は50〜150℃の範囲の温度
で焼付硬化させることができる。
また艶調整層を形成する際に酸触媒を使用することによ
り硬化反応を促進し、比較的低温下(約80〜120℃
)で硬化層を形成せしめられる。
上記酸触媒としてはパラトルエンスルホン酸、塩酸等の
強酸触媒が好ましい、特に上記のアルキド樹脂に低分子
化合物を混合したものに塩酸を添加した場合、室温〜1
20℃の温度域での加熱処理により充分に硬化した艶調
整層が得られる。
尚、艶調整層は転写時の基材シートの剥離により離型層
に密着して基材シートと共に剥離され、その結果、この
調整層に相応する剥離層表面を艶のない部分(即ち、粗
面状態)とさせたり、或いは逆に調整層に相応する剥離
層表面を艶のある部分とさせる機能を有するものである
。特に艶消し状態を相手側に付与する場合、艶調整層は
上記樹脂材質に、シリカ、無機添加物等のマット剤を添
加して構成される。
剥離層は、転写により被転写体側に移行して被転写体の
表面保護層として機能する。この剥離層の材賞としては
、ポリメチルメタクリレート、ポリブチルメタクリレー
ト、ポリエチルメタクリレート、塩化ビニル−酢酸ビニ
ル共重合体、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、セルロース
樹脂等が挙げられ、これらは単独或いは混合して使用さ
れる。
装飾層は、艶調整層と適宜対応させて被転写体に意匠性
を付与するためのものであり、例えば絵柄層、金属薄膜
層が挙げられる。この装飾層は単層であっても或いは2
種以上のものを組み合わせて積層したものでもよい0例
えば、絵柄模様を現出できる絵柄層と金属光沢を現出で
きる金属薄膜層とを同時に設けることができ、この場合
には特に金属薄膜層を絵柄層と接着剤層との間或いは剥
離層と絵柄層との間に設けると、より一層高意匠な転写
箔を得ることができる。
絵柄層としては通常の印刷インキ、例えば上記剥離層と
同等の樹脂をビヒクルとしたインキを用いて印刷形成さ
れるものである。また金属薄膜層としてはアルミニウム
、クロム、ニッケル、銅、亜鉛錫、銀、銅等の金属材料
を真空蒸着法、スパッタリング法、イオンブレーティン
グ法等により形成されるものである。金属薄膜層は部分
的に形成してもよく、その部分金属薄膜層の形成には従
来公知の方法を適用することができる0例えば、■金属
薄膜層が不要な部分に水溶性樹脂(ポリビニルアルコー
ル、セルロース系樹脂、デンプン等)からなる除去層を
設けたておき、しかる後、全面的に金属薄膜層を設け、
水洗により不要な金属薄・膜層部分を除去する方法や、
■全面的に金属薄膜層を設けた後、蒸着層が必要な箇所
に保護層を設け、酸或いはアルカリ水溶液に浸漬して不
要な金属薄膜層部分を溶解除去する方法が挙げられる。
接着剤層の材質としては、アクリル樹脂、塩化ビニル樹
脂、酢酸ビニル樹脂、ゴム系樹脂、オレフィン系樹脂、
エポキシ樹脂、ウレタン樹脂等からなる接着剤が使用さ
れる。
本発明製造方法により得られる転写箔は、転写箔を成形
品、フィルム及びシート状物等の被転写体に接着剤層が
接するように重ね合わせ、ロール転写法等により加圧密
着させた後、基材シートを剥離することにより、剥離層
までが被転写体に転写されるという一般の転写方法に適
用できる他、特に離型層が熱硬化型アクリル系樹脂にて
構成され耐熱性、可撓性に優れていることから射出成形
同時転写にも使用できる。いずれの転写方法によっても
最終的に基材シートを剥離すると、艶調整層と相応する
位置の剥離層表面には所定度合いの艶状態となった部分
が形成され、それ以外の剥綿層表面の艶状態とは異なっ
た艶外観を出現させることができる。
〔実施例〕
以下、具体的実施例を挙げて本発明を更に詳細に説明す
る。
1隻例工 厚さ38μmのポリエチレンテレフタレートシート(東
し製ニルミラー)に、プトキシメチルアクリルアミド基
を一分子中に6個有するメタルメタクリレート/スチレ
ン/ヒドロキシメチルアクリート共重合体(50/30
/20)をパラトルエンスルホン酸(5%)存在下で、
グラビアロールにて塗布量0.5g/rdになるようコ
ーティングし、135℃で20秒間加熱処理した。
次いで、アミノアルキッド/ブチル化メラミン/シリカ
(70/1515)からなるマッドインキ(昭和インク
工業製)と塩酸(20%)メタノール溶液を100:5
の割合で混合したものをグラビアロールにて部分的にコ
ーティングし、100℃で5秒間の条件で加熱処理を施
した。
次いで、その上にハクリニス(昭和インク工業製:46
−7)を全面に塗布し、次に通常の印刷インキにて絵柄
層を印刷形成した後、感熱接着剤(昭和インク工業製:
、ES −3)を塗布して、転写箔を得た。
得られた転写箔は何ら歪みのない良好なもので゛あった
0次いで、この転写箔を射出成形金型内に設置し、AS
樹脂を溶融注入して射出成形を行った4、尚“、転写箔
は接着剤層が射出樹脂と接するように設置した。成形後
に脱型して基材シートを剥離したところ、艶変化の′あ
る意匠性に優れた射出成形品を得ることができた。
実施U 厚さ38μmのポリエチレンテレフタレートシート(東
し製ニルミラー)に、アクリル樹脂とメラミン樹脂の混
合樹脂をグラビアロールに″′C塗布して離型層を形成
した。
次いで、実施例1と同様の艶調整層、剥離層、絵柄層、
接着剤層を同様の方法にて順次設け、転写箔を得た。
この転写箔は何らゆがみがなく、しかも実施例1で得ら
れた転写箔と同様゛に射出成形同時転写に適用すること
ができた。
実差貫」一 実施例2と同様にして絵柄層まで形成した後、該絵柄層
上にACN118−8シルク(昭和インク工業製)から
なる蒸着保護層を全面に塗布形成し、次いで水溶性樹脂
(昭和インク工業製:Nα4A2シルク)からなる除去
層を部分的に形成した。
次いでアルミニウムを全面に蒸着した後、水洗して゛不
要な蒸着層を除去し、全面に実施例1と同様に接着剤層
を形成し、転写箔を得た。
この転写箔は何らゆがみがなく、しかも射出成形同時転
写に供することもできた。特にこの転写により得ら”れ
た射出成形品は金属光沢が部分的に見られる意匠性に優
れたもので゛あった。
〔発明の効果〕
以上説明したように、本発明の製造方法によればaim
整層や離型層の形成時に従来技術の如き高温加熱処理が
不要となり、50〜150℃という比較的低温域の加熱
処理で樹脂硬化を可能にしているため、加熱処理の影響
によるゆがみがない良質な転写箔を得ることができる。
また上記層の形成時に酸触媒を使用することにより、更
に加熱処理を低温域で行うことができ、高熱による転写
箔のゆがみ発生をより確実に防止することができる。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)基材シート上に、離型層、部分的に設ける艶調整
    層、剥離層、装飾層、接着剤層を順次積層形成する転写
    箔の製造方法において、上記離型層を熱硬化型アクリル
    系樹脂を用いて形成し、上記艶調整層をアミノアルキッ
    ド樹脂にて構成して層形成時に50〜150℃の温度範
    囲で焼付処理を施すことを特徴とする転写箔の製造方法
  2. (2)艶調整層を形成する際に、酸触媒を用いる請求項
    1記載の転写箔の製造方法。
  3. (3)離型層を形成する熱硬化型アクリル系樹脂として
    、自己架橋性のものを用いる請求項1又は2記載の転写
    箔の製造方法。
  4. (4)自己架橋性熱硬化型アクリル系樹脂として、プト
    キシメチルアクリルアミド基を有するメチルメタクリレ
    ート−スチレン−ヒドロキシメチルアクリレート共重合
    体を用いる請求項3記載の転写箔の製造方法。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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