JP2832478B2 - 転写箔用剥離性基材シート及びそれを用いた転写箔 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、基材シートと転写層との剥離強度が適性値
を有する転写箔用剥離性基材シート及びそれを用いた転
写箔に関する。

〔従来の技術〕

基材シート上に模様状又は全面ベタ状の離型層を形成
し、この上に転写層を設けた構成の転写箔としては、基
材シートと離型層とが少なくとも転写時に剥離しない程
度の密着性、印刷等の転写層形成工程や転写工程での熱
の印加による離型層と転写層との剥離不良の防止、及び
特に離型層に艶消し剤を添加して艶消し転写層を転写す
る構成の転写箔の場合には転写工程での圧力による艶消
し剤の埋没による艶消し効果の不良の防止の点からは、
比較的架橋密度の高い３次元架橋硬化性樹脂を使用する
のが最も好ましく、又多用される。

又離型層を艶消しとする為には、可視光線を乱反射さ
せる関係上粒径が、大体500nm〜10000nm（0.5〜10μ
ｍ）の炭酸カルシウム等の艶消し剤を添加する事が行わ
れていた。

これら従来技術として例えば特開昭62−18298号、特
開昭62−44491号公報記載の発明が挙げられる。

〔発明の解決しようとする課題〕

この様な転写箔に於いては望ましい転写層と離型層と
の剥離強度として、転写時には確実且つ容易に剥離する
が、転写箔の製造工程及び保管、運搬時には剥離脱落し
ない程度の適性な値が要求される。この適性な値として
は通常６〜24g/cmの範囲である。

ところが上記従来知られている転写箔は、前記密着性
の向上、印刷や転写工程での熱の印加による転写層の剥
離不良の防止、及び転写工程での圧力による艶消し剤の
埋没による艶消し効果の不良の防止の条件を満たす比較
的架橋密度の高い３次元架橋硬化性樹脂を選定すると、
いずれも必然的に剥離強度6g/cm未満となり剥離が軽過
ぎる為、印刷等転写箔の製造工程及び保管、運搬時に剥
離層が離型層から剥離脱落し易いという問題がある。

又前記の様な艶消し剤を添加しても以外な事に投錨効
果による剥離強度の増加は殆ど見出されない。

本発明の課題は上記問題点を解決し、離型層と転写層
とが転写時には確実、容易に剥離し且つ転写箔の製造工
程及び保管、運搬時には剥離脱落しない程度の適性な剥
離強度と、離型層と基材シートとが少なくとも転写時に
剥離しない程度の密着性と、転写箔製造工程での熱によ
る離型層と転写層との剥離不良の防止と、特に離型層中
に艶消し剤を有する場合は転写時の熱、圧による艶消し
効果の低下の防止との３乃至４つの長所を同時にそなえ
た転写箔及びその転写箔に用いる剥離性基材シートを提
供することにある。

〔課題を解決するための手段〕

本発明は、 『（１）基材シート上に、単体での剥離層との剥離強度
6g/cm未満の３次元架橋硬化性樹脂と粒径が5nm以上50nm
以下の粒状シリカを含有する離型層を形成した事を特徴
とする転写箔用剥離性基材シート。

（２）基材シート上に、離型層、少なくとも剥離層を有
する転写層を、この順に有する転写箔に於いて、該離型
層が単体での剥離層との剥離強度6g/cm未満の３次元架
橋硬化性樹脂と粒径が5nm以上50nm以下の粒状シリカを
含有する事を特徴とする転写箔 （３）基材シートと離型層との光沢が異なり、且つ該離
型層が部分的模様状である事を特徴とする請求項（１）
記載の転写箔用剥離性基材シート。

（４）基材シートと離型層との光沢が異なり、且つ該離
型層が部分的模様状である事を特徴とする請求項（２）
記載の転写箔。

（５）該離型層が単体での剥離等との剥離強度6g/cm未
満の３次元架橋硬化性樹脂と粒径が5nm以上50nm以下の
粒状シリカと粒径が500nm以上の艶消し剤を含有する事
を特徴とする請求項（１）及び（３）記載の転写箔用剥
離性基材シート。

（６）該離型層が単体での剥離層との剥離強度6g/cm未
満の３次元架橋硬化性樹脂と粒径が5nm以上50nm以下の
粒状シリカと粒径が500nm以上の艶消し剤を含有する事
を特徴とする請求項（２）及び（４）記載の転写箔。』 である。

以下本発明を図面に基づき説明する。

第１図は本発明の態様のうち離型層が部分的な模様状
に形成されている剥離性基材シートの縦断面図、第２図
は本発明の態様のうち離型層が部分的な模様状に形成さ
れている転写箔の縦断面図、第３図は本発明の態様のう
ち離型層が全面ベタ状に形成されている転写箔の縦断面
図である。

基材シート１としては通常転写紙に用いる物が使用で
きる。材料としては例えば、 ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタ
レート、ポリエチレンテレフタレート／イソフタレート
共重合体等のポリエステル樹脂、ポリエチレン、ポリプ
ロピレン、ポリメチルペンテン等のポリオレフィン樹
脂、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、ポリ４
フッ化エチレン、エチレン−４フッ化エチレン共重合
体、等のポリフッ化エチレン系樹脂、ナイロン６、ナイ
ロン6.6等のポリアミド、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル
／酢酸ビニル共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重合
体、エチレン／ビニルアルコール共重合体、ポリビニル
アルコール、ビニロン等のビニル重合体、三酢酸セルロ
ース、セロファン等のセルロース系樹脂、ポリメタアク
リル酸メチル、ポリメタアクリル酸エチル、ポリアクリ
ル酸エチル、ポリアクリル酸ブチル、等のアクリル系樹
脂、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリアリレー
ト、ポリイミド等の合成樹脂シート、又は上質紙、薄葉
紙、グラシン紙、硫酸紙等の紙、金属箔等の単層体或い
はこれら２層以上の積層体が挙げられる。

これらの中から離型層との密着性、転写工程で要求さ
れる可撓性、耐熱性等各種性能、また該基材シートと剥
離層が直接接する部分を有する場合は剥離層との剥離強
度が６〜24g/cmになる様な物を選定する。又基材シート
１の厚みは12〜200μｍ望ましくは16〜50μｍである。

又必要に応じて、基材シート１の離型層２を形成する
面に、離型層２との密着を向上する為にコロナ放電処理
等の公知の易接着処理を施しても良い。或いは離型層２
を部分的に設け、これを射出成形同時転写に使用する場
合には、基材シートの延展部による基材シートと剥離層
との直接接触部での剥離不良、亀裂、白化の発生防止の
為、アクリル樹脂系等公知の離型層を、離型層２と形成
に先立って設けても良い。但し離型層２を部分的に設け
る場合は基材シート１又は該公知の離型層と剥離層31と
の接着力が６〜24g/cmになる様な物を選定する。

離型層２は、第１図、第２図の様に部分的模様状に設
けても良く、又第３図の様に全面ベタ状に設けても良
い。

特に離型層２を部分的模様状に設けるのは、転写層に
光沢（即ち艶）の異なる複数の領域からなる模様状艶差
を賦形する事が目的である。よって此の場合は、離型層
２と基材シート１との光沢を視認可能な程度に異なる様
にする。具体的には、基材シート１が高光沢の時は離型
剤層に艶消し剤を添加し、基材シート１が低光沢（艶消
し）の時は離型剤層には艶消し剤を添加高光沢とする。
又全面均一な転写適性を出す為、転写層３と離型層２及
び転写層３と基材シート１との剥離強度は少なくとも略
同一で且つ各々６〜24g/inchの範囲になる様後述の方法
で調整する。

なお、此処で離型層とは転写後も基材側に残留し、転
写層との剥離を容易ならしめる層を、また剥離層とは転
写後は被転写体側へ転移し、転写層の表面保護層となる
層をいう。剥離は離型層と剥離層との間で行われる。

離型層２の材質としては、単体での剥離層との剥離強
度が6g/cm以下の３次元架橋硬化性樹脂のバインダーと
粒径が5nm以上50nm以下の粒状充填剤を少なくとも含有
する組成物を硬化させて形成する。

此処で該３次元架橋硬化性樹脂としては電離放射線硬
化性樹脂又は熱硬化性樹脂が用いられる。

電離放射線硬化性樹脂としては、分子中に重合性不飽
和結合又は、エポキシ基を有するプレポリマー、オリゴ
マー、及び／又は単量体を適宜混合した組成物を用い
る。

前記プレポリマー、オリゴマーの例としては、不飽和
ジカルボン酸と多価アルコールの縮合物等の不飽和ポリ
エステル類、ポリエステルメタクリレート、ポリエーテ
ルメタクリレート、ポリオールメタクリレート、メラミ
ンメタクリレート等のメタクリレート類、ポリエステル
アクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンアクリ
レート、ポリエーテルアクリレート、ポリオールアクリ
レート、メラミンアクリレート等のアクリレート類等が
ある。

前記単量体の例としては、スチレン、α−メチルスチ
レン等のスチレン系単量体、アクリル酸メチル、アクリ
ル酸−２−エチルエキシル、アクリル酸メトキシエチ
ル、アクリル酸ブトキシエチル、アクリル酸ブチル、ア
クリル酸メトキシブチル、アクリル酸フェニル等のアク
リル酸エステル類、メタクリル酸メチル、メタクリル酸
エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸メトキシ
エチル、メタクリル酸エトキシメチル、メタクリル酸フ
ェニル、メタクリル酸ラウリル等のメタクリル酸エステ
ル類、アクリル酸−２−（Ｎ、Ｎ−ジエチルアミノ）エ
チル、メタクリル酸−２−（Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノ）
エチル、アクリル酸−２−（Ｎ、Ｎ−ジベンジルアミ
ノ）エチル、メタクリル酸（Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノ）
メチル、アクリル酸−２−（Ｎ、Ｎ−ジジエチルアミ
ノ）プロピル等の不飽和酸の置換アミノアルコールエス
テル類、アクリルアミド、メタクリルアミド等の不飽和
カルボン酸アミド、エチレングリコールジアクリレー
ト、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチ
ルグリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオール
ジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレー
ト、トリエチレングリコールジアクリレート等の化合
物、ジプロピレングリコールジアクリレート、エレング
リコールアクリレート、プロピレングリコールジメタク
リレート、ジエチレングリコールジメタクリレート等の
多官能性化合物、及び／又は、分子中に２個以上のチオ
ール基を有するポリチオール化合物、例えば、トリメチ
ロールプロパントリチオグリコレート、トリメチロール
プロパントリチオプロピレート、ペンタエリスリトール
テトラチオグリコール等がある。

以上の化合物を必要に応じ１種もしくは２種以上混合
して用いるが、樹脂組成物に通常の塗工適性を付与する
ために、前記プレポリマー又はオリゴマーを５重量％以
上、前記単量体及び／又はポリチオールを95重量％以下
とすることが好ましい。

単量体の選定に際しては、硬化物の可撓性が要求され
る場合は塗工適性上また前記転写箔としての要求性能上
支障の無い範囲で単量体の量を少なめにしたり、１官能
又は２官能アクリレート単量体を用い比較的低架橋密度
の構造とする。又、硬化物の耐熱性、硬度、耐溶剤性等
を要求される場合には塗工適性等上支障の無い範囲で単
量体の量を多めにしたり、３官能以上のアクリレート系
単量体を用い高架橋密度の構造とするのが好ましい。
１、２官能単量体と３官能以上の単量体を混合し塗工適
性と硬化物の物性とを調整することも出来る。

以上の様な１官能アクリレート系単量体としては、２
−ヒドロシアクリレート、２−ヘキシルアクリレート、
フェノキシエチルアクリレート等が挙げられる。

２官能アクリレート系単量体としては、エチレングリ
コールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアク
リレート等が、３官能以上のアクリレート系単量体とし
てはトリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタ
エリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリ
トールヘキサアクリレート等が挙げられる。

特に紫外線で硬化硬化させる場合には前記電離放射線
硬化性樹脂組成物に光重合開始剤として、アセトフェノ
ン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエ
ート、α−アミロキシムエステル、テトラメチルメウラ
ムモノサルファイド、チオキサントン類、及び／又は光
増感剤としてｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ト
リ−ｎ−ブチルホスフィン等を混合して用いることもで
きる。

尚、此処で電離放射線とは電磁波又は荷電粒子線のう
ち分子を重合、架橋し得るエネルギー量子を有するもの
を意味し、通常紫外線、電子線が用いられる。

紫外線源としては超高圧水銀燈、高圧水銀燈、低圧水
銀燈、カーボンアーク、ブラックライトランプ、メタル
ハライドランプ等の光源を用いる。

電子線源としてはコックロフトワルトン型、バンデグ
ラフ型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、或いは直線
型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器
を用い。100〜1000keV好ましくは100〜300keVのエネル
ギーを持つ電子を照射する。

熱硬化性樹脂としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、
ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹
脂、不飽和ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、
エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン／尿素
共縮合樹脂、ポリシロキサン樹脂等の珪素樹脂、等があ
り、これらに必要に応じて、架橋剤、重合開始剤等の硬
化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤、等を添加する。

硬化剤として通常、イソシアネートが不飽和ポリエス
テル系樹脂、ポリウレタン系樹脂に、アミンがエポキシ
樹脂に、メチルエチルケトンパーオキサイド、等の過酸
化物、アゾビスイソブチロニトリル等のラジカル開始剤
が不飽和ポリエステル系樹脂に良く使用される。

イソシアネートとしては、２価以上の脂肪族又は芳香
族イソシアネートを使用出来るが、熱変色防止、耐候性
の点から脂肪族イソシアネートが望ましい。具体例とし
ては、トリレンジイソシアネート、キシレンジイソシア
ネート、4,4−ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘ
キサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネー
ト等が挙げられる。

これらの中で本発明の課題を達成する上で最も好まし
い樹脂は、剥離層31の樹脂系としてアクリル酸、メタア
クリル酸、アクリル酸誘導体、メタアクリル酸誘導体、
の単独重合体又は共重合体、或いはそれらと塩化ゴムと
の混合物を用いた場合には、メチロール化アクリルアミ
ド基を有するアミトアルキッド樹脂である。具体的には
ポリエシテル樹脂、好ましくは網状化ポリエステルのグ
リプタル樹脂等のアルキド樹脂を主材として構成され、
必要に応じてアルコキシメチルメラミン等の変性メラミ
ンを混合してなる物である。中でもメチロール化アクリ
ルアミド基を有するアルキド樹脂に、少なくとも２個以
上のメチロール基、アルコキシメチル基、水酸基又はカ
ルボキシル基を有する低分子化合物を混合したものが、
硬化後の基材シートとの密着性や剥離層との剥離性が良
好となる。

其他好ましい樹脂としては熱硬化型アクリル系樹脂の
中で官能基として少なくとも、カルボキシル基、エポキ
シ基、アミド基、メチロール化アクリルアミド基、メト
キシメチルアクリルアミド基、ブトキシメチルアクリル
アミド基或いは脂肪族２重結合を有する官能基のうちの
１種以上を有する自己架橋性の物がある。特に易硬化性
の点から、メトキシメチルアクリルアミド基、ブトキシ
メチルアクリルアミド基を１分子中に平均４個有するメ
チルメタクリレート−スチレン−ヒドロシアクリレート
共重合体が最適であるこれらの樹脂材料は単独で使用し
ても或いは上記官能基を有するポリマーと混合して使用
しても良い。混合の場合は上記官能基を有するポリマー
の他に水酸基を有するアクリル樹脂を使用することが可
能である。更に必要に応じて上記樹脂材質に、ジエポキ
シド、メラミン樹脂、尿素樹脂及びこれらの変性した物
を混合しても、或いは上記官能基を２以上有する低分子
化合物を混合使用しても良い。

上記アミノアルキッド樹脂、熱硬化型アクリル系樹脂
よりなる離型層は、50〜150℃の温度にて架橋硬化させ
る事ができる。又酸触媒の使用により硬化反応を促進し
約30〜120℃の比較的低温下で架橋硬化が可能である。
これら酸触媒としてはパラトルエンスルホン酸、塩酸等
の強酸が好ましい。

艶消し材としては、可視光線を乱反射させる関係上粒
径が大体500nm〜10000nm（0.5〜10μｍ）、より好まし
くは1000〜7000nm（１〜７μｍ）の粒状固体を用いる。
材料としてはシリカが好ましいが、その他、炭酸カルシ
ウム、硫酸バリウム、水酸化アルミニウム等の無機化合
物、ポリエチレン等の有機化合物を１〜25重量％、より
好ましくは５〜20重量％添加する。

離型層２に添加する粒径が5nm以上50nm以下の粒状充
填剤としては、本発明の課題達成上シリカが最も好まし
いが、その他炭酸カルシウム、硫酸バリウム、水酸化ア
ルミニウム等公知の物質が使用できる。

本発明に於ける粒状充填剤添加の目的は、離型層表面
の光沢を変えずに基材シート剥離層との剥離強度のみを
増大させ、６〜24g/cmの範囲とする為であるが、剥離層
との剥離強度に寄与するのは専ら粒状充填剤添加の粒径
でありこれが、５〜50nm更に好ましくは10〜30nmの物を
適量添加する事により、３次元架橋硬化性樹脂よりなる
離型層の該剥離強度を樹脂本来の6g/cm未満から６〜24g
/cmに調節する事が可能となる。

粒状充填剤の添加量は、使用する３次元架橋硬化性樹
脂のバインダーと剥離層のバインダーとの組合せ、粒状
充填剤の粒径によって適宜加減するが、特に３次元架橋
硬化性樹脂として前記アミノアルキッド樹脂、粒状充填
剤として前記粒径のシリカを使用した場合は樹脂に対し
て0.2〜10重量％、更に好ましくは0.5〜５重量％が最適
である。一般に添加量を増やすと剥離強度は大きくな
る。

基材シート１上に離型層２を形成する事により第１図
の如き本発明の剥離性基材シートを得る。更に離型層２
上に転写層３を形成する事により本発明の転写箔を得
る。

此処で転写層３は第２図の通り離型層２に近い方か
ら、剥離層32、装飾層32、接着剤層33からなる。このう
ち全面均一安定した剥離性を得る事、又転写後の転写層
表面強度を得る事のの為剥離層32が必須となる。他層は
必要に応じ適宜設ける。

剥離層32は公知の各種樹脂の中から選定したバインダ
ーを主成分とする。選定に当たっては離型層との剥離強
度が６〜24g/cmとなり、且つ転写層表面の転写後の耐摩
耗性等の物性、意匠外観等を考慮する。

使用する樹脂は、熱可塑性樹脂としては、エチルセル
ロース、硝酸セルロース、酢酸セルロース、エチルヒド
ロキシルセルロース、セルロースアセテートプロピオネ
ート等のセルロース誘導体、ポリスチレン、ポリα−メ
チルスチレン等のスチレン樹脂又はスチレン共重合体、
ポリメタクリル酸メチル、ポリメタクリル酸エチル、ポ
リアクリル酸エチル、ポリアクリル酸ブチル等のアクリ
ル樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル
／酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール等のビニ
ル重合体、ロジン、ロジン変性マレイン酸樹脂、ロジン
変性フェノール樹脂、重合ロジン等のロジンエステル樹
脂、クマロン樹脂、ビニルトルエン樹脂、ポリアミド樹
脂等の単独重合体又は共重合体が挙げられる。

その他熱硬化性樹脂及び電離放射線硬化性樹脂として
は、前記離型層のバインダー樹脂で列挙した物等が挙げ
られる。

又膜厚も所望の物性等により選定するが、通常0.1〜1
0μｍである。

装飾層32としては絵柄模様層、金属薄膜層等が用いら
れる。

絵柄模様としては、木目、石目、布目等の天然物を模
写したもの、図形、記号、文字、罫線、全面べた等から
適宜選択し、インキも公知の物を適宜選定し印刷法等に
より形成する。

印刷法としては、グラビア、グラビアオフセット等の
凹版印刷、活版、フレキソ、等の凸版印刷、平版オフセ
ット等の平版印刷、シルクスクリーン等の孔版印刷、ダ
イリソ印刷、静電印刷、インキジェットプリント等が挙
げられる。金属薄膜層はアルミニウム、クロム、ニッケ
ル、銅、銀、金等の金属の薄膜を真空蒸着、スパッタリ
ング、無電解鍍金等公知の方法で設ける。又必要に応
じ、公知の方法により該金属薄膜層を部分的模様上に形
成しても良い。

接着剤層33は、転写層を被転写体に転移、接着させる
為の層で、感熱接着剤、溶剤活性型接着剤、電離放射線
硬化性接着剤等の中から用途に応じて選定する。なお、
絵柄層、剥離層等接着剤層以外の転写層自身が十分な接
着性を有する時は接着剤層を省略することもできる。

感熱接着剤は加熱によって接着性が発現するものであ
り、通常熱可塑性樹脂、アイオノマー等が用いられる、
樹脂としては例えば、エチルセルロース、酢酸セルロー
ス、酢酸セルロース、エチルヒドロキシエチルセルロー
ス、セルロースアセテートプロピネート等のセルロース
誘導体、ポリスチレン、ポリα−メチルスチレン等のス
チレン樹脂又はスチレン共重合体、ポリメタクリル酸メ
チル、ポリメタクリル酸エチル、ポリアクリル酸エチ
ル、ポリアクリル酸ブチル等のアクリル樹脂、ポリ塩化
ビニル、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル／酢酸ビニル共重
合体、エチレン／ビニルアルコール共重合体、ポリビニ
ルブチラール等のビニル重合体、ロジン、ロジン変性マ
イレン酸樹脂、ロジン変性フェノール樹脂、重合ロジン
等のロジンエステル樹脂、ポリイソプレンゴム、ポリイ
ソブチルゴム、スチレンブタジェンゴム、ブタジェンア
クリロニトリルゴム等のゴム系樹脂、クマロン樹脂、ビ
ニルトルエン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリ塩素化オレフ
ィン等の天然又は合成樹脂、各種アイオノマー等が挙げ
られる。

以上の離型層２、剥離層31、接着剤層33を形成する方
法としては、塗工法例えばグラビアコート、グラビアリ
バースコート、グラビアオフセットコート、スピンナー
コート、ロールコート、リバースロールコート、ナイフ
コート、キスコート、ホイラーコート、ディイプコー
ト、シルクスクリーンによるベタコート、ワイアーバー
コート、フローコート、コンマコート、かけ流しコー
ト、刷毛塗り、スプレーコート等を用いる。特に離型層
２を部分的模様状に形成する場合は前記公知の印刷方法
を用いる。

本発明で得られる転写箔は第２図の様に被転写体４と
転写層とを対向させ、ホットスタンプ、射出成形同時転
写等の熱転写、溶剤活性転写等公知の各種転写方法を用
いて転写印刷を行う事ができる。

〔作用〕

本発明に於いて、剥離層と離型層との剥離強度を調整
できる理由、即ち粒径が5nm以上50nm以下の粒状シリカ
を添加することにより、３次元架橋硬化性樹脂よりなる
離型層の該剥離強度を樹脂本来の6g/cm未満から６〜24g
/cmに高められる理由は不明であるが、推測するに粒径5
00〜10000nmの艶消し剤を添加しても、該艶消し剤粒子
の表面が、低剥離強度の３次元架橋硬化性樹脂に被覆さ
れて化学的な密着は期待できない上、表面積、曲率とも
比較的小さく物理的な投錨効果も殆ど期待できない。よ
って予想に反して艶消し剤を添加しても期待する剥離強
度の増加は得られない。一方粒径が5nm以上50nm以下の
粒状シリカを添加した場合は、３次元架橋硬化性樹脂の
表面に低曲率の微小突起が多数でき、表面積、表面曲率
とも増大する。その為投錨効果が大きく作用する。よっ
て意外にも有効に該剥離強度を増加させる事が可能とな
る。

〔効果〕

本発明は以下の効果を奏するものである。即ち、 請求項（１）記載の転写箔用剥離性基材シートはその
上に剥離層等転写層を形成した転写箔とした場合に、
基材シートと離型層との少なくとも転写時に剥離しない
程度の密着性、印刷等の転写層形成工程や転写工程で
の熱の印加による離型層と転写層との剥離不良の防止、
転写層と離型層との剥離強度として、転写時には確実
且つ容易に剥離するが、転写箔の製造工程及び保管、運
搬時には剥離脱落しない程度の適性な値即ち、６〜24g/
cmを有する。の従来同時には成り立たなかった３つの性
能が鼎立するという固有の効果を奏する。

請求項（２）記載の転写箔は基材シートと離型層と
の少なくとも転写時に剥離しない程度の密着性、印刷
等の転写層形成工程や転写工程での熱の印加による離型
層と転写層との剥離不良の防止、転写層と離型層との
剥離強度として、転写時には確実且つ容易に剥離する
が、転写箔の製造工程及び保管、運搬時には剥離脱落し
ない程度の適性な値即ち、６〜24g/cmを有する。この従
来同時には成り立たなかった３つの性能が鼎立するとい
う固有の効果を奏する。請求項（３）記載の転写箔用剥
離性基材シートは前記請求項（１）記載の発明の効果に
加え、その上に転写層を形成して転写箔とした場合、転
写層表面に部分的模様状の光沢差を賦形する事ができる
という効果を奏する。

請求項（４）記載の転写箔は前記請求項（２）記載の
発明の効果に加え、被転写体上へ転写層の他転写層表面
上に賦形された部分的模様状の光沢差を同時に転写でき
るという効果を奏する。

請求項（５）記載の転写箔用剥離性基材シート及び請
求項（６）記載の転写箔は、前記請求項（１）乃至
（４）記載の発明の効果に加え、転写層表面に艶消し光
沢を賦形転写するのに際し、基材シートと剥離層との剥
離強度を最適値６〜24g/cmに調整できる事、及び艶消し
転写層を転写する際転写圧力で艶消し剤が埋没して艶消
し効果が低減するのを防止できる事の効果を各々奏す
る。

〔実施例〕

実施例１ 基材シートとして厚さ26μｍのコロナ放電処理を施し
たポリエチレンテレフタレートのシート（東レ（株）
製、ルミラーX45）を用意、次いでコロナ放電処理面
に、離型層としてアミノアルキッド樹脂／ブチル化メラ
ミン／艶消し用シリカ（粒径2000nm）／剥離強度調整用
シリカ（粒径15nm）＝87.5/12.5/6.25/6.25（重量比）
の組成のインキ（昭和インク工業所（株）製）100重量
比に対し、塩酸の20重量％メタノール溶液を５重量比混
合した物を用いて、膜厚５μｍの部分的模様をグラビア
印刷し、次いで100℃雰囲気中で５秒間加熱処理し架橋
硬化させて艶消し離型層を部分的模様状に形成し、本発
明の転写箔用剥離性基材シートを得た。

実施例２ 実施例１で製造した剥離性基材シートの離型層面に剥
離層としてアクリル樹脂と塩化ゴムの混合体系のインキ
（昭和インク工業所（株）製）を全面に塗工し、次いて
装飾層として塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体とアクリ
ル樹脂との混合体系のインキ（昭和インク工業所（株）
製）にて模様をグラビア印刷し、次いで感熱型接着剤層
としてアクリル樹脂系のインキ（昭和インク工業所
（株）製、HSES−３）を塗工して本発明の転写箔を得
た。

得られた転写箔は剥離層と基材シートとの剥離強度が
20g/cmであり、印刷工程から転写工程迄の間剥離層が自
然に浮き上がったり脱落したり等の問題がなく、又此の
転写箔をホットスタンプの機械により、表面温度200℃
のゴムロールにてポリスチレン板の被転写体へ熱転写し
た。転写工程で基材シートを剥離する時も転写層の基材
シートへの残留もなく全面安定して剥離することができ
た。

得られた転写製品は被転写体表面に印刷模様と、模様
状の艶有り部と艶消し部を有した綺麗な外観の物であっ
た。

実施例３ 基材シートとして厚さ50μｍのポリエチレンテレフタ
レートのシート（ダイヤホイル（株）製DHHインライン
コロナPET）を用意、次いで離型層としてアミノアルキ
ッド樹脂／ブチル化メラミン／艶消し剤用シリカ（粒径
4000nm）／剥離強度調整用シリカ（粒径10nm）＝88.5/1
1.5/9.2/5.8（重量比）の組成のインキ（昭和インク工
業所（株）製）100重量比に対し、パラトルエンスルホ
ン酸の20重量％メタノール溶液を10重量比混合した物を
用いて、グラビアコータにて膜厚５μｍの全面ベタ塗工
し、次いで90℃雰囲気中で５秒間加熱処理し架橋硬化さ
せて艶消し離型層を全面に形成した。次いで実施例２と
同様にして装飾層、感熱接着剤層を形成し本発明の転写
箔を得た。

この転写箔を実施例２と同様のホットスタンプ転写方
にてポリスチレン板の被転写体へ熱転写し、実施例２と
同様良好な転写適性が得られた。

得られた転写製品は被転写体表面に印刷模様と全面艶
消し表面を有した綺麗な外観の物であった。

実施例４ 基材シートとして厚さ38μｍのポリエチレンテレフタ
レートにアクリル樹脂系の成形離型層コートを施したシ
ート（ダイヤホイル（株）製、GH38）を用意、次いで該
成形離型層の上に離型層としてアミノアルキッド樹脂／
ブチル化メラミン／艶消し剤用シリカ（粒径4000nm）／
剥離強度調整用シリカ（粒径10nm）＝88.5/11.5/9.2/5.
8（重量比）の組成のインキ（昭和インク工業所（株）
製）100重量比に対し、パラトルエンスルホン酸の20重
量％メタノール溶液を10重量比混合した物を用いて、グ
ラビア印刷にて部分的模様状に印刷し、次いで90℃雰囲
気中で５秒間加熱処理し架橋硬化させて艶消し離型層を
部分的模様状に形成した。次いで実施例２と同様にして
装飾層、感熱接着剤層を形成し本発明の転写箔を得た。

この転写箔を射出成形の雌金型内面形状に沿わせ、且
つ転写層がキャビティ側を向く様に予備成形した。次い
で雌雄金型を閉じ型締めし、雄型側の注湯孔より熔融し
たアクリロニトリルスチレン樹脂を注湯し射出成形を行
い、転写層をアクリロニトリルスチレ樹脂成形体表面に
熱転写した。

実施例２と同様良好な転写適性が得られた。得られた
転写製品は被転写体表面に印刷模様と部分的模様状の艶
消し表面とを有した綺麗な外観の物であった。

実施例５ 実施例２と同様にして模様印刷層迄を形成し、次いで
その上に、蒸着用アンカーコート剤、蒸着AC8−８（昭
和インク工業所（株）製）を塗工し、次いで蒸着除去層
として水溶性樹脂（昭和インク工業所（株）製、水洗プ
ライマーNo4）を部分的模様状に印刷した。次いでその
上にアルミニウムを全面に蒸着し、次いで水で洗滌し水
溶性樹脂部上のアルミニウム層のみ除去し、次いでその
上に全面に実施例２と同じ感熱接着剤層を形成し本発明
の転写箔を得た。

この転写箔を用いて実施例２と同様の転写を行ったと
ころ、実施例２と同様の良好な転写適性を得た。

実施例６ 基材シートとして厚さ26μｍのコロナ放電処理を施し
た艶消し表面ポリエチレンテレフタレートのシート（東
レ（株）製、ルミラーX42）を用意、次いでコロナ放電
処理面に、離型層としてアミノアルキッド樹脂／ブチル
化メラミン／剥離強度調整用シリカ（粒径15nm）＝66.7
/33.3/10.0（重量比）の組成のインキ（昭和インク工業
所（株）製）100重量比に対し、パラトルエンスルホン
酸の20重量％メタノール溶液を10重量比混合した物を用
いて、膜厚４μｍの部分的模様をグラビア印刷し、次い
で105℃雰囲気中で５秒間加熱処理し架橋硬化させて艶
有り離型層を部分的模様状に形成し、艶消し部分が該部
分的模様の陰画パターン状に形成された本発明の転写箔
用剥離性基材シートを得た。

その後、実施例２と同様に各転写層を形成して得られ
た転写箔は離型層及び基材シートと剥離層との剥離強度
が15g/cmと云う良好な値を有し、実施例２と同様良好な
転写適性を有するものであった。

又得られた転写製品は表面に印刷模様と部分的模様状
の艶有り部と艶消し部とを有する物であった。

比較例 実施例２に於いて離型層をアミノアルキッド樹脂／ブ
チル化メラミン／艶消し用シリカ（粒径2000nm）／＝8
7.5/12.5/6.25（重量比）の組成のインキ（昭和インク
工業所（株）製）に置換したものを用い、その他は実施
例２と同様の転写箔を作った。

得られた転写箔は、基材シートと剥離層との剥離強度
が4g/cmと小さく、印刷工程から転写工程迄の間に剥離
層が自然に浮き上がったり、脱落したり等の問題が生じ
た。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の態様のうち離型層が部分的な模様状に
形成されている剥離性基材シートの縦断面図、第２図は
本発明の態様のうち離型層が部分的な模様状に形成され
ている転写箔の縦断面図、第３図は本発明の態様のうち
離型層が全面ベタ状に形成されている転写箔の縦断面図
である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) B44C 1/165 - 1/17 B32B 15/08 B32B 7/06

Claims (6)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】基材シート上に、単体での剥離層との剥離
   強度6g/cm未満の３次元架橋硬化性樹脂と粒径が5nm以上
   50nm以下の粒状シリカを含有する離型層を形成した事を
   特徴とする転写箔用剥離性基材シート。
2. 【請求項２】基材シート上に、離型層、少なくとも剥離
   層を有する転写層を、この順に有する転写箔に於いて、
   該離型層が単体での剥離層との剥離強度6g/cm未満の３
   次元架橋硬化性樹脂と粒径が5nm以上50nm以下の粒状シ
   リカを含有する事を特徴とする転写箔
3. 【請求項３】基材シートと離型層との光沢が異なり、且
   つ該離型層が部分的模様状である事を特徴とする請求項
   （１）記載の転写箔用剥離性基材シート。
4. 【請求項４】基材シートと離型層との光沢が異なり、且
   つ該離型層が部分的模様状である事を特徴とする請求項
   （２）記載の転写箔。
5. 【請求項５】該離型層が単体での剥離層との剥離強度6g
   /cm未満の３次元架橋硬化性樹脂と粒径が5nm以上50nm以
   下の粒状シリカと粒径が500nm以上の艶消し剤を含有す
   る事を特徴とする請求項（１）及び（３）記載の転写箔
   用剥離性基材シート。
6. 【請求項６】該離型層が単体での剥離層との剥離強度6g
   /cm未満の３次元架橋硬化性樹脂と粒径が5nm以上50nm以
   下の粒状シリカと粒径が500nm以上の艶消し剤を含有す
   る事を特徴とする請求項（２）及び（４）記載の転写
   箔。