JPH03183139A - ワイヤボンディング方法 - Google Patents
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-
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- H01L2924/01079—Gold [Au]
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- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/14—Integrated circuits
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は基板上に実装された集積回路(IC)や配線パ
ターンが形成されたボード等におけるワイヤボンディン
グ方法に関するものである。
ターンが形成されたボード等におけるワイヤボンディン
グ方法に関するものである。
第17図は、従来のワイヤボンディング方法によって接
続されたICチップ50と基板51の断面図である。同
図において52は接続線となる金ワイヤ(Auワイヤ)
、53はICチップ上の接続電極となるアルミのバンド
、54は基板上の接続電極となるランドである。基板上
のランド54は薄いw4箔上に例えばNi及びAuでメ
ツキされている。
続されたICチップ50と基板51の断面図である。同
図において52は接続線となる金ワイヤ(Auワイヤ)
、53はICチップ上の接続電極となるアルミのバンド
、54は基板上の接続電極となるランドである。基板上
のランド54は薄いw4箔上に例えばNi及びAuでメ
ツキされている。
第17図のワイヤボンディングを行う場合には、先ずI
Cチップ50上のパッド53に1次側としてキャピラリ
(図示せず)の先端でポールボンディングを行った後、
キャピラリを同図右方向へ移動しつつAuワイヤを引き
出し、基板のランド54上に2次ボンディングを行う。
Cチップ50上のパッド53に1次側としてキャピラリ
(図示せず)の先端でポールボンディングを行った後、
キャピラリを同図右方向へ移動しつつAuワイヤを引き
出し、基板のランド54上に2次ボンディングを行う。
このようなワイヤボンディングはグイシングしたICチ
ップをパッケージに搭載する場合の他、静電ブロツクの
記録ヘンドの電極基板上において、電極基板上に形成さ
れた多数の記録用電極に信号を供給するためのICチッ
プを実装する場合においても行われる。
ップをパッケージに搭載する場合の他、静電ブロツクの
記録ヘンドの電極基板上において、電極基板上に形成さ
れた多数の記録用電極に信号を供給するためのICチッ
プを実装する場合においても行われる。
近年のプリント基板のファインパターン化によってプリ
ント基板上の接続電極となるランドの面積が小さくなる
と、それに伴って従来30μm程度あったランドの厚さ
が5μm程度となっている。
ント基板上の接続電極となるランドの面積が小さくなる
と、それに伴って従来30μm程度あったランドの厚さ
が5μm程度となっている。
このように薄くなったランド54に超音波熱圧着法でボ
ンディングしようとすると、ランド54が薄いために超
音波の伝播が悪く確実な2次ボンディングすることがで
きない、したがって、初期段階におけるボンディングの
成功率が低く、諸条件のもとでの加速試験に対する信頼
性も十分ではない。
ンディングしようとすると、ランド54が薄いために超
音波の伝播が悪く確実な2次ボンディングすることがで
きない、したがって、初期段階におけるボンディングの
成功率が低く、諸条件のもとでの加速試験に対する信頼
性も十分ではない。
また、前述の静電プロッタの記録ヘッドにICを実装す
る場合には、約2万本ものワイヤボンディングをおこな
わなければならず、ミスボンディングが生じることは避
けられない、しかし、従来のワイヤボンディング方法で
は、ミスボンドを修正しようとしても、−度ボンディン
グしたところは接続電極の表面の状態が変化しているの
で、再度ボンディングすることはできない。この場合、
ICのバッド53や基板51のランド54の面積を大き
くして一回目と異なる場所ヘボンディングすることも考
えられるが、高密度な実装という観点からは好ましくな
い。
る場合には、約2万本ものワイヤボンディングをおこな
わなければならず、ミスボンディングが生じることは避
けられない、しかし、従来のワイヤボンディング方法で
は、ミスボンドを修正しようとしても、−度ボンディン
グしたところは接続電極の表面の状態が変化しているの
で、再度ボンディングすることはできない。この場合、
ICのバッド53や基板51のランド54の面積を大き
くして一回目と異なる場所ヘボンディングすることも考
えられるが、高密度な実装という観点からは好ましくな
い。
またtC実装後にICの不良が発見され、これを別のI
Cと交換する場合にも、基板51上のランド54にもう
一度2次ボンディングを行なわなければならない、この
場合のボンディングも上記と同様の理由で困難を伴う。
Cと交換する場合にも、基板51上のランド54にもう
一度2次ボンディングを行なわなければならない、この
場合のボンディングも上記と同様の理由で困難を伴う。
本発明は上記事情に基づいてなされたものであり、薄い
銅箔をベースとする基板上のランドに確実に2次ボンデ
ィングができ、更にミスボンディングがあった場合やI
Cの交換時の再ボンディングを容易に行うことのできる
ワイヤボンディング方法を提供することを目的とするも
のである。
銅箔をベースとする基板上のランドに確実に2次ボンデ
ィングができ、更にミスボンディングがあった場合やI
Cの交換時の再ボンディングを容易に行うことのできる
ワイヤボンディング方法を提供することを目的とするも
のである。
前記の目的を達成するために本発明は、二つの接続電極
間を導線で接続するワイヤボンディング方法において、 予め2次側の接続電極に前記導線と同材質のボール状の
バンプを形成し、1次ボンディングを行った後、前記ボ
ール状のバンプ上に2次ボンディングを行うことを特徴
とするものである。
間を導線で接続するワイヤボンディング方法において、 予め2次側の接続電極に前記導線と同材質のボール状の
バンプを形成し、1次ボンディングを行った後、前記ボ
ール状のバンプ上に2次ボンディングを行うことを特徴
とするものである。
一般にワイヤボンディングは、1次側と2次側とで接触
部における導線の形状が異なり、1次側よりも2次側の
ほうが接続しにくい、特に、2次側の接続電極が薄い銅
箔をベースとする場合には、超音波のエネルギーが有効
に伝播しないこともあり、ミスボンディングが多くなる
。
部における導線の形状が異なり、1次側よりも2次側の
ほうが接続しにくい、特に、2次側の接続電極が薄い銅
箔をベースとする場合には、超音波のエネルギーが有効
に伝播しないこともあり、ミスボンディングが多くなる
。
しかし、予め2次側の接続電極に導線と同材質からなる
ボール状のバンプを形成することにより、このボール状
のバンプ上にボンディングを行うと、導線とバンプとの
接触面積が大きくなると共に、印加する超音波のエネル
ギーが有効に伝播するので、その摩擦によってバンプと
導線との接触部が加熱され、2次側の接続電極において
も確実なボンディングが行われる。
ボール状のバンプを形成することにより、このボール状
のバンプ上にボンディングを行うと、導線とバンプとの
接触面積が大きくなると共に、印加する超音波のエネル
ギーが有効に伝播するので、その摩擦によってバンプと
導線との接触部が加熱され、2次側の接続電極において
も確実なボンディングが行われる。
以下に図面を参照しつつ本発明の実施例について説明す
る。
る。
第1図はワイヤボンディングを行う前の基Fi1及びこ
れにグイボンドされたICチップ2の断面図である。基
板1上に接続電極として設けられたランド3は基板1の
ファインパターン化に伴って5μm程度の薄さに形成さ
れ、この上にNi及びAuのメツキが施されている。
れにグイボンドされたICチップ2の断面図である。基
板1上に接続電極として設けられたランド3は基板1の
ファインパターン化に伴って5μm程度の薄さに形成さ
れ、この上にNi及びAuのメツキが施されている。
ワイヤボンディングを行うに際し、先ず第2図に示すよ
うに基板lのランド3上に通常の1次ボンディングと同
様にAuボール5をボンディングする。このAuボール
5のボンディング自体は接触部分の面積が大きいことも
あって、ランド3の厚さが薄くても比較的簡単に行うこ
とができる。
うに基板lのランド3上に通常の1次ボンディングと同
様にAuボール5をボンディングする。このAuボール
5のボンディング自体は接触部分の面積が大きいことも
あって、ランド3の厚さが薄くても比較的簡単に行うこ
とができる。
続いてワイヤ6を上方へ引っ張ってAuボール5の先端
部でワイヤ6を切り放し、第3図に示すようにAuボー
ル5のみをランド3上に残す。
部でワイヤ6を切り放し、第3図に示すようにAuボー
ル5のみをランド3上に残す。
次に、第4図に示すように、通常のワイヤボンディング
法と同じ<ICチップ2上のパッド4にAuワイヤ6の
1次ボンドを行い、その後キャピラリ7を右へ移動して
先に形成したAuボール5上に2次ボンドを行う、最後
に、この人uワイヤ6を切り放して第5図に示すように
ワイヤボンディングを終了する。
法と同じ<ICチップ2上のパッド4にAuワイヤ6の
1次ボンドを行い、その後キャピラリ7を右へ移動して
先に形成したAuボール5上に2次ボンドを行う、最後
に、この人uワイヤ6を切り放して第5図に示すように
ワイヤボンディングを終了する。
このように2次側に予めワイヤ6とおなし金属のボール
状のバンプ5を形成しておくと、薄い銅箔に直接ボンデ
ィングを行うのに比べて超音波のエネルギーの伝播がよ
く、確実にボンディングされることが実験的に確かめら
れた。したがって、たとえば数百側のICチップを実装
することによって高密度化し、ランドが5μm程度とな
った最新の静電プロッタの記録ヘッドとこれに搭載され
る各ICチップとのワイヤボンディングを行う場合にも
、そのワイヤボンディングを容易かつ確実に行うことが
できるので、かかる静電プロッタの歩留まりがよくなり
、コストの低減を図ることができる。
状のバンプ5を形成しておくと、薄い銅箔に直接ボンデ
ィングを行うのに比べて超音波のエネルギーの伝播がよ
く、確実にボンディングされることが実験的に確かめら
れた。したがって、たとえば数百側のICチップを実装
することによって高密度化し、ランドが5μm程度とな
った最新の静電プロッタの記録ヘッドとこれに搭載され
る各ICチップとのワイヤボンディングを行う場合にも
、そのワイヤボンディングを容易かつ確実に行うことが
できるので、かかる静電プロッタの歩留まりがよくなり
、コストの低減を図ることができる。
上記実施例の方法でワイヤボンディングをおこなった場
合には、仮にワイヤが不良であったり断線した場合であ
っても、再度のワイヤボンディングを容易に行うことが
できる。すなわち、第6図に示すように1回目のワイヤ
ボンディングでICチップ2のパッド4上にはAuボー
ル8が残り、また基板lのランド3上にはAuボール5
及び1回目のボンディングによるAuワイヤ6の一部が
残っており、これらはいずれもAuワイヤと同じ材質で
ある。したがって、上記実施例と同様にAUボール8上
に1次ボンドを% A uボール5上に2次ボンドを行
うことによって、確実に再度のワイヤボンディングを行
うことができる。
合には、仮にワイヤが不良であったり断線した場合であ
っても、再度のワイヤボンディングを容易に行うことが
できる。すなわち、第6図に示すように1回目のワイヤ
ボンディングでICチップ2のパッド4上にはAuボー
ル8が残り、また基板lのランド3上にはAuボール5
及び1回目のボンディングによるAuワイヤ6の一部が
残っており、これらはいずれもAuワイヤと同じ材質で
ある。したがって、上記実施例と同様にAUボール8上
に1次ボンドを% A uボール5上に2次ボンドを行
うことによって、確実に再度のワイヤボンディングを行
うことができる。
第7図(a)に示すように基板上のバンド3とICチッ
プ2との間に別の配線部分9がある場合、従来のワイヤ
ボンディング方法ではAuワイヤとこの配線部分9とが
接触しやすかった。しかし、上記実施例で示したように
基板1のランド3上に予めAuボールを形成しておくと
、第7図(b)に示すように2次ボンディングの位置は
ランド3よりも高くなるので、配線部分9と接触しにく
くなるという利点もある。
プ2との間に別の配線部分9がある場合、従来のワイヤ
ボンディング方法ではAuワイヤとこの配線部分9とが
接触しやすかった。しかし、上記実施例で示したように
基板1のランド3上に予めAuボールを形成しておくと
、第7図(b)に示すように2次ボンディングの位置は
ランド3よりも高くなるので、配線部分9と接触しにく
くなるという利点もある。
上記の方法によれば、ワイヤボンディングした後にIC
の不良が発見され、これを交換する場合にも再度のワイ
ヤボンディングを容易に行うことができる。また、第8
図に示すようにICチップ2を交換した後にランド3の
別の位置にAuボール10を新たに形成し、この上に2
次ボンディングを行うようにしてもよい、このように本
実施例によればワイヤボンディング後のICの交換も容
易に行うことができる。
の不良が発見され、これを交換する場合にも再度のワイ
ヤボンディングを容易に行うことができる。また、第8
図に示すようにICチップ2を交換した後にランド3の
別の位置にAuボール10を新たに形成し、この上に2
次ボンディングを行うようにしてもよい、このように本
実施例によればワイヤボンディング後のICの交換も容
易に行うことができる。
以上の説明では、基板lのランド3上にAuボールを予
め形成する場合について説明したが、第9図に示すよう
にAuボール11を基板上ではなくICチップ2のパッ
ド4上に形成することもできる。したがってこの場合に
は第10図に示すように基板1のランド3上に1次ボン
ディングを行い、ICチップ2のパッド4上に2次ボン
ディングを行うことによって第11図のようなワイヤボ
ンディングが可能となる。
め形成する場合について説明したが、第9図に示すよう
にAuボール11を基板上ではなくICチップ2のパッ
ド4上に形成することもできる。したがってこの場合に
は第10図に示すように基板1のランド3上に1次ボン
ディングを行い、ICチップ2のパッド4上に2次ボン
ディングを行うことによって第11図のようなワイヤボ
ンディングが可能となる。
このように、IO2側にAuボールを形成する方法によ
っても、ミスボンディングがあった場合には、第12図
に示すように再ボンディングが可能であり、またICを
交換する場合にも第13図に示すように再ボンディング
を容易に行うことができる。さらに、AuボールをIO
2側に形成すると第11図に示すように2次ボンディン
グの位置がバッド4よりも高くなるので、ボンディング
後のAuワイヤ5がICチップ2のコーナー2aに接触
する危険が少なくなる。
っても、ミスボンディングがあった場合には、第12図
に示すように再ボンディングが可能であり、またICを
交換する場合にも第13図に示すように再ボンディング
を容易に行うことができる。さらに、AuボールをIO
2側に形成すると第11図に示すように2次ボンディン
グの位置がバッド4よりも高くなるので、ボンディング
後のAuワイヤ5がICチップ2のコーナー2aに接触
する危険が少なくなる。
第14図及び第15図は本発明をプリント基板型静電記
録ヘッドの電極パターンと駆動ICの接続に用いた場合
の説明図である。
録ヘッドの電極パターンと駆動ICの接続に用いた場合
の説明図である。
第14図及び第15図に示すようにプリント基板1上に
は微小間隔で電極パターン17が形成されている。プリ
ント基板1にはICチ7ブ2が搭載され、本発明のワイ
ヤボンディング方法によってICチップ2のパッド4と
プリント基板lのランド3がAuワイヤによって接続さ
れている。−本の静電記録ヘッド18には、36インチ
400DPIの製品では14336本の電極パターンが
形成されており、64本づつICチップ2に接続されて
いる。プリント基板l上のICチップ2は第14図に示
すようにレジン等によってモールドされた後、注形型中
でモールド樹脂19によってモールド底形された後、電
極面2oに該当する端部が研磨され、ヘッドとなる。
は微小間隔で電極パターン17が形成されている。プリ
ント基板1にはICチ7ブ2が搭載され、本発明のワイ
ヤボンディング方法によってICチップ2のパッド4と
プリント基板lのランド3がAuワイヤによって接続さ
れている。−本の静電記録ヘッド18には、36インチ
400DPIの製品では14336本の電極パターンが
形成されており、64本づつICチップ2に接続されて
いる。プリント基板l上のICチップ2は第14図に示
すようにレジン等によってモールドされた後、注形型中
でモールド樹脂19によってモールド底形された後、電
極面2oに該当する端部が研磨され、ヘッドとなる。
このように、静電記録ヘッド18では一本のヘッドを製
造するために電極用の14336回のボンディングと配
線パターン用の数百回のボンディングを行わなければな
らず、これを全てミスボンディング無しに行うことは通
常能しい、静電記録ヘンド18では1個の電極パターン
17が駆動されなくても印刷物に白抜け(白線が描かれ
る)を生じてしまい使い物に或らなくなってしまう、し
かし、本発明のボンディング方法によれば、ミスボンデ
ィングが生じても再ボンディングが容易であり、静電記
録ヘッドの製造歩留りを極めて高くできる。
造するために電極用の14336回のボンディングと配
線パターン用の数百回のボンディングを行わなければな
らず、これを全てミスボンディング無しに行うことは通
常能しい、静電記録ヘンド18では1個の電極パターン
17が駆動されなくても印刷物に白抜け(白線が描かれ
る)を生じてしまい使い物に或らなくなってしまう、し
かし、本発明のボンディング方法によれば、ミスボンデ
ィングが生じても再ボンディングが容易であり、静電記
録ヘッドの製造歩留りを極めて高くできる。
これまではICチップを基板上にグイボンドした場合に
ついて説明したが、例えばトランジスタ、ダイオードな
ど全てのデバイスにも適用できることは言うまでもない
、更に、静電ブロックの記録ヘッドなどのように、配線
の都合上電極基板の上にさらに別の基板を搭載しボンデ
ィングしなければならない場合にも本発明を適用するこ
とができる。
ついて説明したが、例えばトランジスタ、ダイオードな
ど全てのデバイスにも適用できることは言うまでもない
、更に、静電ブロックの記録ヘッドなどのように、配線
の都合上電極基板の上にさらに別の基板を搭載しボンデ
ィングしなければならない場合にも本発明を適用するこ
とができる。
第16図はこの例を示すもので、横に延びる多数の配線
パターン15とICチップ2とを直接ワイヤボンディン
グすることは困難なので、ダミーの基板16を設けて間
接的に配線パターン15とICチップ2とを接続する。
パターン15とICチップ2とを直接ワイヤボンディン
グすることは困難なので、ダミーの基板16を設けて間
接的に配線パターン15とICチップ2とを接続する。
このときダミー基板16とICチップ2、及びダミー基
板16と配線パターン15の接続にも本発明のワイヤボ
ンディング方法を適用することができる。
板16と配線パターン15の接続にも本発明のワイヤボ
ンディング方法を適用することができる。
この他にも例えばリードフレーム、液晶パネルのCOG
(チップ・オン・グラス〉などにも本発明方法が適用
できる。
(チップ・オン・グラス〉などにも本発明方法が適用
できる。
以上説明したように本発明によれば、予め2次側の接続
電極にボール状のバンプを形成することにより、薄いw
4箔の接続電極を有する基板とICチップなどの半導体
素子との間のワイヤボンディングを確実に行なうことが
できるので、歩留まりの向上を図ることができ、またミ
スボンディングがあった場合の再ボンディング、及び不
良が発見されたICチップの交換後のボンディングを容
易に行うことができる°ワイヤボンディング方法を提供
することができる。また、2次側の接続電極の近傍に別
の配線部分があったとしても、2次ボンディングの位置
は高くできるので別の配線と接触しにくくなる効果もあ
る。
電極にボール状のバンプを形成することにより、薄いw
4箔の接続電極を有する基板とICチップなどの半導体
素子との間のワイヤボンディングを確実に行なうことが
できるので、歩留まりの向上を図ることができ、またミ
スボンディングがあった場合の再ボンディング、及び不
良が発見されたICチップの交換後のボンディングを容
易に行うことができる°ワイヤボンディング方法を提供
することができる。また、2次側の接続電極の近傍に別
の配線部分があったとしても、2次ボンディングの位置
は高くできるので別の配線と接触しにくくなる効果もあ
る。
第1図は基板にICチップが実装された状態を示す断面
図、第2図及び第3図はAuボールを形成する過程を示
す断面図、第4図及び第1O図はワイヤボンディング中
の状態を示す断面図、第5図、第7図及び第11図はワ
イヤボンディング後の状態を示す断面図、第6図及び第
12図は再ボンディングした後の状態を示す断面図、第
srgJ及び第13図は交換したICチップにワイヤボ
ンディングした状態を示す断面図、第9図にICチップ
上にAuボールを形成した状態を示す断面図、第14図
及び第15図は本発明をプリント基板型静電記録ヘッド
の電極パターンと駆動rcの接続に用いた場合の説明図
、第16図は基板上に更に基板を搭載してワイヤボンデ
ィングを行った状態を示す平面図、第17図は従来方法
によってワイヤボンディングした状態を示す断面図であ
る。 l・・・基板、 2・・・ ICチップ、 3・・・ランド、 4・・・パッドへ・ 5.8.10,11−・−Auボール、6・・・Auワ
イヤ、 7・・・キャピラリ、 15・・・配線パターン、 16・・・ダミー基板。
図、第2図及び第3図はAuボールを形成する過程を示
す断面図、第4図及び第1O図はワイヤボンディング中
の状態を示す断面図、第5図、第7図及び第11図はワ
イヤボンディング後の状態を示す断面図、第6図及び第
12図は再ボンディングした後の状態を示す断面図、第
srgJ及び第13図は交換したICチップにワイヤボ
ンディングした状態を示す断面図、第9図にICチップ
上にAuボールを形成した状態を示す断面図、第14図
及び第15図は本発明をプリント基板型静電記録ヘッド
の電極パターンと駆動rcの接続に用いた場合の説明図
、第16図は基板上に更に基板を搭載してワイヤボンデ
ィングを行った状態を示す平面図、第17図は従来方法
によってワイヤボンディングした状態を示す断面図であ
る。 l・・・基板、 2・・・ ICチップ、 3・・・ランド、 4・・・パッドへ・ 5.8.10,11−・−Auボール、6・・・Auワ
イヤ、 7・・・キャピラリ、 15・・・配線パターン、 16・・・ダミー基板。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 二つの接続電極間を導線で接続するワイヤボンディング
方法において、 予め2次側の接続電極に前記導線と同材質のボール状の
バンプを形成し、1次ボンディングを行った後、前記ボ
ール状のバンプ上に2次ボンディングを行うことを特徴
とするワイヤボンディング方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1322061A JPH03183139A (ja) | 1989-12-12 | 1989-12-12 | ワイヤボンディング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1322061A JPH03183139A (ja) | 1989-12-12 | 1989-12-12 | ワイヤボンディング方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03183139A true JPH03183139A (ja) | 1991-08-09 |
Family
ID=18139479
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1322061A Pending JPH03183139A (ja) | 1989-12-12 | 1989-12-12 | ワイヤボンディング方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03183139A (ja) |
Cited By (17)
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