JP3389712B2 - Icチップのバンプ形成方法 - Google Patents
Icチップのバンプ形成方法Info
- Publication number
- JP3389712B2 JP3389712B2 JP30342994A JP30342994A JP3389712B2 JP 3389712 B2 JP3389712 B2 JP 3389712B2 JP 30342994 A JP30342994 A JP 30342994A JP 30342994 A JP30342994 A JP 30342994A JP 3389712 B2 JP3389712 B2 JP 3389712B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- bonding
- bump
- chip
- plating
- pad
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Ceased
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/90—Bond pads, in general
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/01—Manufacture or treatment
- H10W72/012—Manufacture or treatment of bump connectors, dummy bumps or thermal bumps
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/01—Manufacture or treatment
- H10W72/012—Manufacture or treatment of bump connectors, dummy bumps or thermal bumps
- H10W72/01221—Manufacture or treatment of bump connectors, dummy bumps or thermal bumps using local deposition
- H10W72/01225—Manufacture or treatment of bump connectors, dummy bumps or thermal bumps using local deposition in solid form, e.g. by using a powder or by stud bumping
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/01—Manufacture or treatment
- H10W72/012—Manufacture or treatment of bump connectors, dummy bumps or thermal bumps
- H10W72/01251—Changing the shapes of bumps
- H10W72/01255—Changing the shapes of bumps by using masks
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/20—Bump connectors, e.g. solder bumps or copper pillars; Dummy bumps; Thermal bumps
- H10W72/251—Materials
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/20—Bump connectors, e.g. solder bumps or copper pillars; Dummy bumps; Thermal bumps
- H10W72/29—Bond pads specially adapted therefor
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/50—Bond wires
- H10W72/551—Materials of bond wires
- H10W72/552—Materials of bond wires comprising metals or metalloids, e.g. silver
- H10W72/5522—Materials of bond wires comprising metals or metalloids, e.g. silver comprising gold [Au]
Landscapes
- Wire Bonding (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ICチップをTABテ
ープや実装基板等の外部電極とを接続する為の接続部分
に係わり、特にICチップ上に設けられるバンプの形成
方法に関する。 【0002】 【従来の技術】図3〜図6は従来例の説明図である。1
はICチップ、2はパッド、3はめっきバンプ、4はボ
ンディングバンプ、5はTABテープ、6はTABリー
ド、7はボンディングツール、14はキャピラリ、15はワ
イヤ、16はトーチ電極、17は金ボール、18はレジストで
ある。 【0003】従来のICチップ上のバンプの形成方法に
は、先ず、図3に示すような、ワイヤーボンディング技
術を応用してICチップのパッド電極上にバンプ(以下
ボンディングバンプと呼ぶ)を形成する方法(特開昭6
0−194543)がある。 【0004】即ち、図3(a)に示すように、ICチッ
プ1上に形成されたAl等のパッド2の上に金のワイヤ15
を繰り出すキャピラリ14を位置決めし、ワイヤ15をトー
チ電極16で加熱する。 【0005】すると、図3(b)に示すように、ワイヤ
15の先端が融解して、金ボール17となる。続いて、図3
(c)に示すように、この金ボール17をキャピラリ14の
先端でパッド2上に熱圧着により押し付ける。 【0006】そして、図3(d)に示すように、キャピ
ラリ14によりワイヤ15を引っ張り上げると、ワイヤ15が
切れて、パッド2上には金ボール17がややつぶれた形の
ボンディングバンプ4が形成される。 【0007】次に、図4に示すような、ICチップのパ
ッド電極上に、電解めっきでバンプ(以下めっきバンプ
と呼ぶ。)を形成する場合には、図4(a)に示すよう
に、ICチップ1を構成するウェーハの上にレジスト18
を塗布し、図4(b)に示すように、フォトリソグラフ
ィによりめっきをつけるパッド2の上のみレジスト18を
除去する。 【0008】次に、図4(c)に示すように、レジスト
18が除去された所のみ、めっきを行い、めっきバンプ3
を形成する。そして、めっき終了後にレジスト18を全面
除去すると、図4(d)に示すように、ICチップ1の
パッド2上には、めっきバンプ3のみが残る。 【0009】 【発明が解決しようとする課題】図3に示すような従来
の方法では、高純度の金のワイヤ15からボンディングバ
ンプ4を形成するために、ボンディングバンプ4が軟ら
かく、図5(a)に示すように、ボンディングバンプ4
上にTABテープ5上のTABリード6を位置合わせ
し、ボンディングツール7によりTABリード6をボン
ディングバンプ4に加圧により接合すると、ボンディン
グバンプ4が図5(b)に示すように潰れてしまいやす
い。 【0010】即ち、このボンディングバンプはTABテ
ープ5や実装基板等の外部電極と接続しようとすると、
接続した時のボンディング圧力でボンディングバンプが
潰れてしまい、図5(b)に示すように、ICチップ1
が少しでも傾いていると、片側のボンディングバンプ4
が潰れすぎてしまうため、ICチップ1のトップエッジ
がTABテープ5のTABリード6や実装基板のフット
パターンと接触してしまい、電気的にショート(接触)
を起こしてしまうという問題があった。 【0011】又、これを防止しようとして、金のワイヤ
15に種々の金属ドーパントを入れて硬くすると、パッド
2上にボンディングバンプ4を付ける時、パッド2下に
ダメージが入り、パッド2下からリーク電流が流れてし
まうといった問題が発生していた。 【0012】更に、めっきバンプ3の場合には、図6
(a)に示すように、めっきバンプ3に高さのバラツキ
がある場合には、図6(b)に示すように、低いバンプ
3とTABリード6は接触出来ず、加圧されないため
に、隙間が出来て接合ができなくなるという問題があ
る。 【0013】以上の問題点に鑑み、本発明は、ICチッ
プのパッドとバンプの高い信頼性のあるボンディング方
法を得ることを目的とする。 【0014】 【課題を解決するための手段】図1は本発明の原理説明
図である。図において、1はICチップ、2はパッド、
3はめっきバンプ、4はボンディングバンプ、5はTA
Bテープ、6はTABリード、7はボンディングツー
ル、8は実装基板、9は外部電極である。 【0015】上記の問題点を解決する手段として、図1
(a)に示すように、ICチップ1のパッド2の部分に
チップエッジでの電気的ショートを防止出来る程度の厚
さのめっきバンプ3を最初に施し、その上にボンディン
グバンプ4を付ける。 【0016】すなわち、本発明の目的は、図1に示すよ
うに、TABテープ5、或いは実装基板8上にICチッ
プ1を接合するバンプの形成方法であって、ICチップ
1のパッド2上に選択的にめっきバンプ3を形成し、続
いて該めっきバンプ3上にボンディングワイヤのボール
からなるボンディングバンプ4を形成することにより達
成される。 【0017】 【作用】本発明においては、図1(b)に示すような、
バンプを形成した時の高さのバラツキや、ICチップ自
体の反りや、厚さのバラツキによるバンプ上面の高さの
不揃いをボンディングバンプ部分が軟らかい為、図1
(c)に示すように、ボンディング圧力でボンディング
バンプが潰れる事で、バンプ上面の高さが均一になり、
安定したボンディングが可能となる。又、ボンディング
バンプの下に施されためっきバンプは、ボンディング圧
力にはほとんど潰れる事がない為、ICチップのエッジ
とTABテープのリードとの隙間を確保して、電気的シ
ョートの発生を防止する。 【0018】そして、実装基板等の外部電極と接続しよ
うとする時も、図1(d)に示すように同様の効果が得
られる。又、TABテープや実装基板の熱膨張や外部圧
力等により、ICチップとの間に歪が生じた場合、IC
チップとの接続部分に変形しやすい金のボンディングバ
ンプを使用する事により、ICチップとTABテープ及
びICチップと実装基板等の間に発生した歪を金のボン
ディングバンプが変形して吸収する事が可能になる。こ
の事により、高い信頼性のあるボンディングを行える。 【0019】 【実施例】図2は本発明の実施例の説明図である。図に
おいて、1はICチップ、2はパッド、3はめっきバン
プ、4はボンディングバンプ、10はカメラ、11はボンデ
ィング機構である。 【0020】本実施例では、図2(a)に示すように、
ICチップ1上に形成されたAl電極からなるパッド2上
にレジストピーリング法によりめっきバンプ3を最初に
施した後、ボンディングバンプ4を付けて、TABテー
プのリードや実装基板等に接続する場合である。 【0021】本発明に用いたボンディングバンプ4の大
きさは30μm径の金線を用い、厚さ25μmで100
μm径である。形成方法は、図2(b)に示すように、
通常のワイヤボンディングと同じ様に相対する2カ所の
ICチップ1のコーナーをテレビ用のカメラ10で認識さ
せ、続いて、図2(c)に示すように、ICチップ1の
位置を確認し、あらかじめボンディング機構部11に入力
しておいたパッド座標を用いてボンディングバンプ4を
形成する。 【0022】通常めっきバンプ3は金メッキでできてお
り、ICチップ1のパッド2はAlで出来ているため、め
っきバンプ3にボンディングバンプ4を付ける時は、Al
のパッド2に付けるよりも温度や超音波の出力が低くて
すみ、ICチップ1にダメージを与えることが少ない。
すなわち、Alパッド2上にボンディングバンプ4を付け
る時は250℃で超音波を掛けるが、めっきバンプ3上
にボンディングバンプ4を付ける時には200℃で超音
波の出力も2割減ですむ。 【0023】 【発明の効果】以上説明したように、本発明を用いる事
で、ICチップを一括して安定してTABテープや実装
基板にボンディングする事が可能になり、歩留りが向上
する。 【0024】又、熱膨張等のストレスに対しても強くな
る為に、接続部分の信頼性も向上するため、低コストで
信頼性の高いICチップの高密度実装が可能になる。更
に、めっきバンプ上にバンプを重ねてインナーリードボ
ンディングを行う場合、通常のめっきバンプの厚さ25
μmを15μm程度まで低くすることが出来、この事に
よりめっきバンプをチップのパッド上に形成する時間を
減らす事が可能となり、生産能力の増大に結びつく。
又、使用する金の量を減らせるため、製造コストの減少
にも寄与する。
ープや実装基板等の外部電極とを接続する為の接続部分
に係わり、特にICチップ上に設けられるバンプの形成
方法に関する。 【0002】 【従来の技術】図3〜図6は従来例の説明図である。1
はICチップ、2はパッド、3はめっきバンプ、4はボ
ンディングバンプ、5はTABテープ、6はTABリー
ド、7はボンディングツール、14はキャピラリ、15はワ
イヤ、16はトーチ電極、17は金ボール、18はレジストで
ある。 【0003】従来のICチップ上のバンプの形成方法に
は、先ず、図3に示すような、ワイヤーボンディング技
術を応用してICチップのパッド電極上にバンプ(以下
ボンディングバンプと呼ぶ)を形成する方法(特開昭6
0−194543)がある。 【0004】即ち、図3(a)に示すように、ICチッ
プ1上に形成されたAl等のパッド2の上に金のワイヤ15
を繰り出すキャピラリ14を位置決めし、ワイヤ15をトー
チ電極16で加熱する。 【0005】すると、図3(b)に示すように、ワイヤ
15の先端が融解して、金ボール17となる。続いて、図3
(c)に示すように、この金ボール17をキャピラリ14の
先端でパッド2上に熱圧着により押し付ける。 【0006】そして、図3(d)に示すように、キャピ
ラリ14によりワイヤ15を引っ張り上げると、ワイヤ15が
切れて、パッド2上には金ボール17がややつぶれた形の
ボンディングバンプ4が形成される。 【0007】次に、図4に示すような、ICチップのパ
ッド電極上に、電解めっきでバンプ(以下めっきバンプ
と呼ぶ。)を形成する場合には、図4(a)に示すよう
に、ICチップ1を構成するウェーハの上にレジスト18
を塗布し、図4(b)に示すように、フォトリソグラフ
ィによりめっきをつけるパッド2の上のみレジスト18を
除去する。 【0008】次に、図4(c)に示すように、レジスト
18が除去された所のみ、めっきを行い、めっきバンプ3
を形成する。そして、めっき終了後にレジスト18を全面
除去すると、図4(d)に示すように、ICチップ1の
パッド2上には、めっきバンプ3のみが残る。 【0009】 【発明が解決しようとする課題】図3に示すような従来
の方法では、高純度の金のワイヤ15からボンディングバ
ンプ4を形成するために、ボンディングバンプ4が軟ら
かく、図5(a)に示すように、ボンディングバンプ4
上にTABテープ5上のTABリード6を位置合わせ
し、ボンディングツール7によりTABリード6をボン
ディングバンプ4に加圧により接合すると、ボンディン
グバンプ4が図5(b)に示すように潰れてしまいやす
い。 【0010】即ち、このボンディングバンプはTABテ
ープ5や実装基板等の外部電極と接続しようとすると、
接続した時のボンディング圧力でボンディングバンプが
潰れてしまい、図5(b)に示すように、ICチップ1
が少しでも傾いていると、片側のボンディングバンプ4
が潰れすぎてしまうため、ICチップ1のトップエッジ
がTABテープ5のTABリード6や実装基板のフット
パターンと接触してしまい、電気的にショート(接触)
を起こしてしまうという問題があった。 【0011】又、これを防止しようとして、金のワイヤ
15に種々の金属ドーパントを入れて硬くすると、パッド
2上にボンディングバンプ4を付ける時、パッド2下に
ダメージが入り、パッド2下からリーク電流が流れてし
まうといった問題が発生していた。 【0012】更に、めっきバンプ3の場合には、図6
(a)に示すように、めっきバンプ3に高さのバラツキ
がある場合には、図6(b)に示すように、低いバンプ
3とTABリード6は接触出来ず、加圧されないため
に、隙間が出来て接合ができなくなるという問題があ
る。 【0013】以上の問題点に鑑み、本発明は、ICチッ
プのパッドとバンプの高い信頼性のあるボンディング方
法を得ることを目的とする。 【0014】 【課題を解決するための手段】図1は本発明の原理説明
図である。図において、1はICチップ、2はパッド、
3はめっきバンプ、4はボンディングバンプ、5はTA
Bテープ、6はTABリード、7はボンディングツー
ル、8は実装基板、9は外部電極である。 【0015】上記の問題点を解決する手段として、図1
(a)に示すように、ICチップ1のパッド2の部分に
チップエッジでの電気的ショートを防止出来る程度の厚
さのめっきバンプ3を最初に施し、その上にボンディン
グバンプ4を付ける。 【0016】すなわち、本発明の目的は、図1に示すよ
うに、TABテープ5、或いは実装基板8上にICチッ
プ1を接合するバンプの形成方法であって、ICチップ
1のパッド2上に選択的にめっきバンプ3を形成し、続
いて該めっきバンプ3上にボンディングワイヤのボール
からなるボンディングバンプ4を形成することにより達
成される。 【0017】 【作用】本発明においては、図1(b)に示すような、
バンプを形成した時の高さのバラツキや、ICチップ自
体の反りや、厚さのバラツキによるバンプ上面の高さの
不揃いをボンディングバンプ部分が軟らかい為、図1
(c)に示すように、ボンディング圧力でボンディング
バンプが潰れる事で、バンプ上面の高さが均一になり、
安定したボンディングが可能となる。又、ボンディング
バンプの下に施されためっきバンプは、ボンディング圧
力にはほとんど潰れる事がない為、ICチップのエッジ
とTABテープのリードとの隙間を確保して、電気的シ
ョートの発生を防止する。 【0018】そして、実装基板等の外部電極と接続しよ
うとする時も、図1(d)に示すように同様の効果が得
られる。又、TABテープや実装基板の熱膨張や外部圧
力等により、ICチップとの間に歪が生じた場合、IC
チップとの接続部分に変形しやすい金のボンディングバ
ンプを使用する事により、ICチップとTABテープ及
びICチップと実装基板等の間に発生した歪を金のボン
ディングバンプが変形して吸収する事が可能になる。こ
の事により、高い信頼性のあるボンディングを行える。 【0019】 【実施例】図2は本発明の実施例の説明図である。図に
おいて、1はICチップ、2はパッド、3はめっきバン
プ、4はボンディングバンプ、10はカメラ、11はボンデ
ィング機構である。 【0020】本実施例では、図2(a)に示すように、
ICチップ1上に形成されたAl電極からなるパッド2上
にレジストピーリング法によりめっきバンプ3を最初に
施した後、ボンディングバンプ4を付けて、TABテー
プのリードや実装基板等に接続する場合である。 【0021】本発明に用いたボンディングバンプ4の大
きさは30μm径の金線を用い、厚さ25μmで100
μm径である。形成方法は、図2(b)に示すように、
通常のワイヤボンディングと同じ様に相対する2カ所の
ICチップ1のコーナーをテレビ用のカメラ10で認識さ
せ、続いて、図2(c)に示すように、ICチップ1の
位置を確認し、あらかじめボンディング機構部11に入力
しておいたパッド座標を用いてボンディングバンプ4を
形成する。 【0022】通常めっきバンプ3は金メッキでできてお
り、ICチップ1のパッド2はAlで出来ているため、め
っきバンプ3にボンディングバンプ4を付ける時は、Al
のパッド2に付けるよりも温度や超音波の出力が低くて
すみ、ICチップ1にダメージを与えることが少ない。
すなわち、Alパッド2上にボンディングバンプ4を付け
る時は250℃で超音波を掛けるが、めっきバンプ3上
にボンディングバンプ4を付ける時には200℃で超音
波の出力も2割減ですむ。 【0023】 【発明の効果】以上説明したように、本発明を用いる事
で、ICチップを一括して安定してTABテープや実装
基板にボンディングする事が可能になり、歩留りが向上
する。 【0024】又、熱膨張等のストレスに対しても強くな
る為に、接続部分の信頼性も向上するため、低コストで
信頼性の高いICチップの高密度実装が可能になる。更
に、めっきバンプ上にバンプを重ねてインナーリードボ
ンディングを行う場合、通常のめっきバンプの厚さ25
μmを15μm程度まで低くすることが出来、この事に
よりめっきバンプをチップのパッド上に形成する時間を
減らす事が可能となり、生産能力の増大に結びつく。
又、使用する金の量を減らせるため、製造コストの減少
にも寄与する。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の原理説明図
【図2】 本発明の実施例の説明図
【図3】 従来例の説明図(その1)
【図4】 従来例の説明図(その2)
【図5】 従来例の説明図(その3)
【図6】 従来例の説明図(その4)
【符号の説明】
図において
1 ICチップ
2 パッド
3 めっきバンプ
4 ボンディングバンプ
5 TABテープ
6 TABリード
7 ボンディングツール
8 実装基板
9 外部電極
10 カメラ
11 ボンディング機構部
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名)
H01L 21/60
H01L 21/92
Claims (1)
- (57)【特許請求の範囲】 【請求項1】 TABテープ或いは基板上にICチップ
を接合するバンプの形成方法であって、 該ICチップのパッド上に選択的にめっきバンプを形成
し、続いて該めっきバンプ上にボンディングワイヤのボ
ールからなるボンディングバンプを形成することを特徴
とするICチップのバンプ形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30342994A JP3389712B2 (ja) | 1994-12-07 | 1994-12-07 | Icチップのバンプ形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30342994A JP3389712B2 (ja) | 1994-12-07 | 1994-12-07 | Icチップのバンプ形成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08162491A JPH08162491A (ja) | 1996-06-21 |
| JP3389712B2 true JP3389712B2 (ja) | 2003-03-24 |
Family
ID=17920908
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30342994A Ceased JP3389712B2 (ja) | 1994-12-07 | 1994-12-07 | Icチップのバンプ形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3389712B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4318893B2 (ja) | 2002-06-03 | 2009-08-26 | 新光電気工業株式会社 | 半導体装置及び半導体装置の製造方法 |
-
1994
- 1994-12-07 JP JP30342994A patent/JP3389712B2/ja not_active Ceased
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH08162491A (ja) | 1996-06-21 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4903966B2 (ja) | フリップチップ接合構造及びフリップチップ接合構造を形成する方法 | |
| JP3297254B2 (ja) | 半導体パッケージおよびその製造方法 | |
| CN100423258C (zh) | 半导体器件及其制造方法 | |
| US6518649B1 (en) | Tape carrier type semiconductor device with gold/gold bonding of leads to bumps | |
| JP3509507B2 (ja) | バンプ付電子部品の実装構造および実装方法 | |
| JP2753696B2 (ja) | 半導体パッケージのテープ自動結合構造 | |
| JP3389712B2 (ja) | Icチップのバンプ形成方法 | |
| KR940027134A (ko) | 반도체집적회로장치의 제조방법 | |
| JP2001345418A (ja) | 両面実装構造体の製造方法及びその両面実装構造体 | |
| JP2004247621A (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
| JPH07153796A (ja) | 半導体実装装置およびその製造方法 | |
| JP2551370B2 (ja) | 半導体チップの実装方法 | |
| JP2001127102A (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
| US7176580B1 (en) | Structures and methods for wire bonding over active, brittle and low K dielectric areas of an IC chip | |
| JP2821777B2 (ja) | フリップチップ用ic及びその製造方法 | |
| JPH0236556A (ja) | ピングリッドアレイおよび半導体素子塔載方法 | |
| JPH09199631A (ja) | 半導体装置の構造と製造方法 | |
| JP2986661B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
| JPH0744018Y2 (ja) | 突起電極部構造 | |
| JP2780375B2 (ja) | Tabテープと半導体チップを接続する方法およびそれに用いるバンプシート | |
| KR100791575B1 (ko) | 테이프캐리어형 반도체 장치 | |
| JP2551243B2 (ja) | 半導体装置 | |
| JP2005150441A (ja) | チップ積層型半導体装置およびその製造方法 | |
| JP3598058B2 (ja) | 回路基板 | |
| JP3550946B2 (ja) | Tab型半導体装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20021217 |
|
| RVOP | Cancellation by post-grant opposition |