JPH0281495A - フレキシブル両面金属箔積層板 - Google Patents
フレキシブル両面金属箔積層板Info
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- JPH0281495A JPH0281495A JP23218788A JP23218788A JPH0281495A JP H0281495 A JPH0281495 A JP H0281495A JP 23218788 A JP23218788 A JP 23218788A JP 23218788 A JP23218788 A JP 23218788A JP H0281495 A JPH0281495 A JP H0281495A
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- 239000011888 foil Substances 0.000 title claims abstract description 38
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 claims abstract description 52
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 claims abstract description 51
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 38
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 38
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 claims abstract description 29
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 claims abstract description 28
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 22
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 claims abstract description 15
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 19
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 19
- 239000004033 plastic Substances 0.000 claims description 14
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 claims description 14
- 235000013405 beer Nutrition 0.000 claims description 10
- 238000005476 soldering Methods 0.000 claims description 9
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 34
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 abstract description 32
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 15
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 13
- 239000002966 varnish Substances 0.000 abstract description 11
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 abstract description 8
- 239000002243 precursor Substances 0.000 abstract description 4
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 abstract 6
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 abstract 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 abstract 4
- 239000002648 laminated material Substances 0.000 description 29
- 229920005575 poly(amic acid) Polymers 0.000 description 21
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 16
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 10
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 9
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 8
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 7
- RTWNYYOXLSILQN-UHFFFAOYSA-N methanediamine Chemical class NCN RTWNYYOXLSILQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 230000032798 delamination Effects 0.000 description 6
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 5
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 5
- VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2-dichlorophosphoryloxybenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1OP(Cl)(Cl)=O VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 4
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- -1 aromatic tetracarboxylic acid Chemical class 0.000 description 3
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 3
- 239000005022 packaging material Substances 0.000 description 3
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 description 3
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 2
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- HIOSIQSHOMBNDE-UHFFFAOYSA-N 3-[1-(3-aminophenoxy)-4-phenylcyclohexa-2,4-dien-1-yl]oxyaniline Chemical group NC1=CC=CC(OC2(C=CC(=CC2)C=2C=CC=CC=2)OC=2C=C(N)C=CC=2)=C1 HIOSIQSHOMBNDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKKYOQYISDAQER-UHFFFAOYSA-N 3-[3-(3-aminophenoxy)phenoxy]aniline Chemical compound NC1=CC=CC(OC=2C=C(OC=3C=C(N)C=CC=3)C=CC=2)=C1 DKKYOQYISDAQER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 229920006332 epoxy adhesive Polymers 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 229920002457 flexible plastic Polymers 0.000 description 1
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 1
- 229940110366 glister Drugs 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- ZHDTXTDHBRADLM-UHFFFAOYSA-N hydron;2,3,4,5-tetrahydropyridin-6-amine;chloride Chemical compound Cl.NC1=NCCCC1 ZHDTXTDHBRADLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000009527 percussion Methods 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 230000003449 preventive effect Effects 0.000 description 1
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000008054 signal transmission Effects 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
- Shielding Devices Or Components To Electric Or Magnetic Fields (AREA)
- Structure Of Printed Boards (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野]
、この発明は、プラスチックフィルム中の溶剤含有率が
低く、接着強度が高く、耐熱性、機械的特性および電気
的特性に優れた新規なフレキシブル両面金属箔積層板(
Flexible Metal Double ℃、a
dLaminate、以下、略記 両面FMCL)に関
するものであり、フレキシブルプリント回路用基板、電
磁波シールドフィルム、包装用材料などに使用される。
低く、接着強度が高く、耐熱性、機械的特性および電気
的特性に優れた新規なフレキシブル両面金属箔積層板(
Flexible Metal Double ℃、a
dLaminate、以下、略記 両面FMCL)に関
するものであり、フレキシブルプリント回路用基板、電
磁波シールドフィルム、包装用材料などに使用される。
両面FMCLは、フレキシブルプリント回路基板、電磁
波シールドフィルム、包装材料などとして、金属とプラ
スチックの両者の特徴が総合的に活用される素材として
使用されている。
波シールドフィルム、包装材料などとして、金属とプラ
スチックの両者の特徴が総合的に活用される素材として
使用されている。
このような両面型のFMCLは、従来、例えば特開昭5
1−136173 、同55−91895、同62−1
83592に開示されているように、プラスチックフィ
ルムと金属箔を、接着剤または接着シートによって貼り
合わせた後、プラスチックフィルムの反対面に金属箔を
同様に接着剤または接着シートにより貼り合わせるか、
接着剤を塗布した金属箔の間にプラスチックフィルムを
挟んで貼り合わせるか、金属箔とプラスチックフィルム
の間に接着シートを挾んで貼り合わせることなどにより
製造されており、アクリル系、あるいはエポキシ系など
の低耐熱性の接着層が介在することが特徴である。
1−136173 、同55−91895、同62−1
83592に開示されているように、プラスチックフィ
ルムと金属箔を、接着剤または接着シートによって貼り
合わせた後、プラスチックフィルムの反対面に金属箔を
同様に接着剤または接着シートにより貼り合わせるか、
接着剤を塗布した金属箔の間にプラスチックフィルムを
挟んで貼り合わせるか、金属箔とプラスチックフィルム
の間に接着シートを挾んで貼り合わせることなどにより
製造されており、アクリル系、あるいはエポキシ系など
の低耐熱性の接着層が介在することが特徴である。
しかるに近年、両面FMCLにおいても、薄型化、軽量
化、耐熱性の向上などによる高性能化および高生産性に
対する要望が強くなってきている。
化、耐熱性の向上などによる高性能化および高生産性に
対する要望が強くなってきている。
特に、フレキシブルプリント回路基板においては、回路
の高密度化、ワイヤーボンドを伴う表面実装方法、製品
の小型化、および高生産性化などが進められているので
あり、これに対応して耐熱性1機械的特性、電気的特性
に優れた両面型のFMCLの提供が切望されている。
の高密度化、ワイヤーボンドを伴う表面実装方法、製品
の小型化、および高生産性化などが進められているので
あり、これに対応して耐熱性1機械的特性、電気的特性
に優れた両面型のFMCLの提供が切望されている。
しかし、前記の従来品の両面FMCLは、本質的には不
要の接着層があり、かつ接着層が通常はアクリル系、エ
ポキシ系の接着剤であるため高温時の接着強度および耐
熱劣化性などの所謂、耐熱性が低く高温半田に耐え得ず
、高温の使用条件においては電気絶縁特性が低下し、更
には接着強度の低下を招いて、実用上、問題を生じてい
る。
要の接着層があり、かつ接着層が通常はアクリル系、エ
ポキシ系の接着剤であるため高温時の接着強度および耐
熱劣化性などの所謂、耐熱性が低く高温半田に耐え得ず
、高温の使用条件においては電気絶縁特性が低下し、更
には接着強度の低下を招いて、実用上、問題を生じてい
る。
このような接着層がある積層板の問題は、通常の片面型
のフレキシブル金属箔積層板(FMCL=Flexib
le Metal C1ad Lam1nate)にお
いても生じているのであり、片面型FMCLにおいては
例えば、特開昭52−35281、同56−23791
などにより示されるように、金属箔上に耐熱プラスチッ
クフエスをTダイか、各種のコーターを使用して流延塗
布し、これを乾燥固化させる、所謂、流延法によって接
着Mを介在させることがない片面型FMCLの製造方法
が提案されている。
のフレキシブル金属箔積層板(FMCL=Flexib
le Metal C1ad Lam1nate)にお
いても生じているのであり、片面型FMCLにおいては
例えば、特開昭52−35281、同56−23791
などにより示されるように、金属箔上に耐熱プラスチッ
クフエスをTダイか、各種のコーターを使用して流延塗
布し、これを乾燥固化させる、所謂、流延法によって接
着Mを介在させることがない片面型FMCLの製造方法
が提案されている。
これらの片面型FMCLの製法は、製法自体が簡潔であ
り、しかも接着層が設けられないために得られる片面F
MCLの緒特性は、プラスチックの緒特性が直接反映さ
れるようになるのであって特に高温時においても、金属
箔との接着カの低下が殆どないのであり、耐熱性に優れ
るという利点を有している。
り、しかも接着層が設けられないために得られる片面F
MCLの緒特性は、プラスチックの緒特性が直接反映さ
れるようになるのであって特に高温時においても、金属
箔との接着カの低下が殆どないのであり、耐熱性に優れ
るという利点を有している。
しかし、両面FMCLにおいては、その積層の構成上、
片面型FMCLに利用されている上記の流延法の適用は
不適当である。
片面型FMCLに利用されている上記の流延法の適用は
不適当である。
このために流延法によって接着剤を介在させることなく
金属箔上に直接にプラスチックフィルムを形成させた二
枚の片面FMCLのプラスチック面を対面させて貼り合
わせて、接@層を含まない両面FMCLを製造する方法
が特開昭56−139953に提案されている。
金属箔上に直接にプラスチックフィルムを形成させた二
枚の片面FMCLのプラスチック面を対面させて貼り合
わせて、接@層を含まない両面FMCLを製造する方法
が特開昭56−139953に提案されている。
しかし、この方法では、プラスチックフィルム中に揮発
分が5〜50%も含有されているために、260℃以上
の半田浴中、あるいは製品となった後200°C以上の
高温下の使用中に空隙部分が生じること、あるいは、プ
ラスチックフィルムの収縮によって変形が生じることな
どにより実際上の使用に当っては問題が生じる。
分が5〜50%も含有されているために、260℃以上
の半田浴中、あるいは製品となった後200°C以上の
高温下の使用中に空隙部分が生じること、あるいは、プ
ラスチックフィルムの収縮によって変形が生じることな
どにより実際上の使用に当っては問題が生じる。
この発明の目的は、金属箔二枚がプラスチックフィルム
の両面に接着層を存在させることなく直接的に固着し、
プラスチックフィルム中の溶剤含有率は低く、接着強度
は高く、耐熱性、機械的特性および電気的特性に優れた
両面型のFMCLを提供することである。
の両面に接着層を存在させることなく直接的に固着し、
プラスチックフィルム中の溶剤含有率は低く、接着強度
は高く、耐熱性、機械的特性および電気的特性に優れた
両面型のFMCLを提供することである。
【問題点を解決するための手段]
耐熱性、機械的特性および電気的特性に優れる高性能化
された両面FMCL、の創出には、プラスチックフィル
ムの緒特性、プラスチックフィルム中に残留している溶
剤量、プラスチックフィルムと金属箔との常温および高
fAi出おける90度ビール強度などの最適化が必要で
あるものと発明者らは推測して、試作と試験を反復した
結果として、(イ)プラスチックフィルムと金属箔とは
接着層を介在させることなく直接に接着していること。
された両面FMCL、の創出には、プラスチックフィル
ムの緒特性、プラスチックフィルム中に残留している溶
剤量、プラスチックフィルムと金属箔との常温および高
fAi出おける90度ビール強度などの最適化が必要で
あるものと発明者らは推測して、試作と試験を反復した
結果として、(イ)プラスチックフィルムと金属箔とは
接着層を介在させることなく直接に接着していること。
(ロ)プラスチックフィルムと金属箔の90度ビール強
度は常温にて0.7kgf/am以上、200℃にて0
.4kgf/am以上であること。
度は常温にて0.7kgf/am以上、200℃にて0
.4kgf/am以上であること。
(ハ)プラスチック中の溶剤含有量が重量基準にて1%
以下であること。
以下であること。
(ニ)両面FMCLの半田耐熱性が300℃、30秒間
以上であること。
以上であること。
以上の (イ)〜(ニ)の条件が全て満足させられる必
要があることを発明者らは見出し、これを確認して、こ
の発明を完成し得た。
要があることを発明者らは見出し、これを確認して、こ
の発明を完成し得た。
即ち、この発明のFMCLは、プラスチックフィルムと
金属箔が接着層を介在させることなく直接的に固着して
いることなどにより、接着層の介在に起因する耐熱性低
下、機械的性能の低下、電気的特性の低下を避は得たも
のである。
金属箔が接着層を介在させることなく直接的に固着して
いることなどにより、接着層の介在に起因する耐熱性低
下、機械的性能の低下、電気的特性の低下を避は得たも
のである。
また、この発明の両面型のFMCLにおいてはプラスチ
ックフィルム金属箔間の90度ビール強度が、常温にて
0.7kgf/cm以上であり、200℃にて0、4k
gf/cm以上であることによって、優れた接着強度、
耐熱性、機械的性質を保有することが可能となっている
のであるが、これ以下の低いビール強度のものである場
合には加工中にプラスチックフィルム金属箔間に剥離が
生じて、満足できる高性能化された両面FMCLとはな
り得ない。
ックフィルム金属箔間の90度ビール強度が、常温にて
0.7kgf/cm以上であり、200℃にて0、4k
gf/cm以上であることによって、優れた接着強度、
耐熱性、機械的性質を保有することが可能となっている
のであるが、これ以下の低いビール強度のものである場
合には加工中にプラスチックフィルム金属箔間に剥離が
生じて、満足できる高性能化された両面FMCLとはな
り得ない。
また、この発明の両面型のFMCLにおいてはプラスチ
ックフィルム中の溶剤含有量力(1%以下好ましくは0
.1%以下、更に好ましくは0.02%以下であること
により、プラスチックフィルムと金属箔との間の高温に
おける接着力の低下がなくプラスチックフィルムの寸法
変化も少なく良好な耐熱性を保有することとなったので
あるが、溶剤含有量力(1%を越える場合には、高温で
の使用時に溶剤の蒸気圧に起因して発生する膨張、溶剤
の蒸発による寸法変化、接着強度低下などが生じ、耐熱
性両面FMCLとはなり得す、特に耐熱性を必要とする
プリント回路基板としては使用不能である。
ックフィルム中の溶剤含有量力(1%以下好ましくは0
.1%以下、更に好ましくは0.02%以下であること
により、プラスチックフィルムと金属箔との間の高温に
おける接着力の低下がなくプラスチックフィルムの寸法
変化も少なく良好な耐熱性を保有することとなったので
あるが、溶剤含有量力(1%を越える場合には、高温で
の使用時に溶剤の蒸気圧に起因して発生する膨張、溶剤
の蒸発による寸法変化、接着強度低下などが生じ、耐熱
性両面FMCLとはなり得す、特に耐熱性を必要とする
プリント回路基板としては使用不能である。
更に、半田耐熱性が300℃、30秒間以上であること
による高密度化回路への半田工程の汎用と半田工程の高
速化が可能となり、優れた両面FMCLが出現すること
となった。
による高密度化回路への半田工程の汎用と半田工程の高
速化が可能となり、優れた両面FMCLが出現すること
となった。
発明者らは、更に検討を重ねた結果として、基材である
プラスチックフィルムが、前記条件に併せて、 (ホ)室温における引張弾性率が100〜800kgf
/mm”であり、かつ伸び率が30〜200%であるこ
と。
プラスチックフィルムが、前記条件に併せて、 (ホ)室温における引張弾性率が100〜800kgf
/mm”であり、かつ伸び率が30〜200%であるこ
と。
(へ)IKHzで3.5以下の誘電率を有すること。
更に、
(ト)ガラス転移点温度280℃以上の網目状プラスチ
ックまたは/およびガラス転移点温度150℃以上の線
状プラスチックからなること。
ックまたは/およびガラス転移点温度150℃以上の線
状プラスチックからなること。
の条件を満たす場合には耐熱性、機械特性および電気的
特性が、更に優れて、高性能化された両面FMCLとな
ることも見出して、この発明を完成するに至った。
特性が、更に優れて、高性能化された両面FMCLとな
ることも見出して、この発明を完成するに至った。
即ち、その基材であるプラスチックフィルムの引張弾性
率が100〜800 k g f / c m 2、伸
び率が30〜200%であることによって、両面FMC
Lとして優れた機械的性質を示し得ることとなるのであ
るが、引張弾性率カ月00kgf/mm”より小か、あ
るいは伸び率が200%を越える場合には、両面FMC
Lとしては柔らか過ぎるのであって、引張弾性率が80
0kgf/mm2より大か、あるいは伸び率が30%よ
りも小である場合には、硬きに過ぎるのであっていずれ
の場合においても機械的性質の優れた両面FMCLとは
なり得ない。
率が100〜800 k g f / c m 2、伸
び率が30〜200%であることによって、両面FMC
Lとして優れた機械的性質を示し得ることとなるのであ
るが、引張弾性率カ月00kgf/mm”より小か、あ
るいは伸び率が200%を越える場合には、両面FMC
Lとしては柔らか過ぎるのであって、引張弾性率が80
0kgf/mm2より大か、あるいは伸び率が30%よ
りも小である場合には、硬きに過ぎるのであっていずれ
の場合においても機械的性質の優れた両面FMCLとは
なり得ない。
また、プラスチックフィルムの誘電率が1にHzで3.
5以下であることにより、両面型のFMCLとして優れ
た電気的性質を示すことができるのであるが、この値を
越えた場合には、両面FMCLとして電気的性質が不良
であり、特に高密度化されたプリント回路基板として使
用する場合に、信号伝達速度の低下などの問題が生じる
。
5以下であることにより、両面型のFMCLとして優れ
た電気的性質を示すことができるのであるが、この値を
越えた場合には、両面FMCLとして電気的性質が不良
であり、特に高密度化されたプリント回路基板として使
用する場合に、信号伝達速度の低下などの問題が生じる
。
更に、この発明の両面型のFMCLが、ガラス転移点温
度280℃以上である網目状プラスチックまたは/およ
びガラス転移点温度が150℃以上の線状プラスチック
からなることにより、高温での連続使用が可能になるこ
と、あるいは高温半田が可能となることなど、両面型の
FMCLとして優れた耐熱性を示すが、これらの特定温
度以下のものの場合は、基材自体の耐熱性が低いために
耐熱性の優れた両面FMCLとはなり得ない。
度280℃以上である網目状プラスチックまたは/およ
びガラス転移点温度が150℃以上の線状プラスチック
からなることにより、高温での連続使用が可能になるこ
と、あるいは高温半田が可能となることなど、両面型の
FMCLとして優れた耐熱性を示すが、これらの特定温
度以下のものの場合は、基材自体の耐熱性が低いために
耐熱性の優れた両面FMCLとはなり得ない。
前記 (イ)〜(ト)の条件を満足させるために鋭意検
討した結果、プラスチックフィルムの素材には特願昭6
1−66049に開示されているような、(1)対称型
芳香族メタ置換第1級ジアミンと対称型芳香族パラ置換
第1級ジアミンを、当量比0〜+00 : 100〜
0の範囲内にて含有する物質が調成された後、芳香族テ
トラカルボン酸無水物と反応させられて生成するポリイ
ミド、 (2)対称型芳香族メタ置換第1級ジアミンと芳香族テ
トラカルボン酸無水物が反応させられて生成するポリア
ミド酸(A)と、対称型芳香族パラ置換第1級ジアミン
と芳香族テトラカルボン酸無水物が反応させられて生成
するポリアミド酸 (B)を当量比0〜100・100
〜0の範囲内にて含有する物質が調製された後、調製物
中の反応が更に進行して生成するポリイミド、 などが適当しており、 (3)上記の(1)および(2)において対称型芳香族
メタ置換第1級ジアミンが、次式(タタシ、上記の式中
のxは、o 、 SO2、co、CL 、C(CLL
、C(CFs)aまたは直結を表示、)であるポリイミ
ドが特に適当であるが、これらに特に限定されるもので
はなく、プラスチックと金属箔との密着性、溶剤含有量
、引張弾性率、伸び率、誘電率、およびガラス転移点温
度が前記の範囲内にあるものであればよい。
討した結果、プラスチックフィルムの素材には特願昭6
1−66049に開示されているような、(1)対称型
芳香族メタ置換第1級ジアミンと対称型芳香族パラ置換
第1級ジアミンを、当量比0〜+00 : 100〜
0の範囲内にて含有する物質が調成された後、芳香族テ
トラカルボン酸無水物と反応させられて生成するポリイ
ミド、 (2)対称型芳香族メタ置換第1級ジアミンと芳香族テ
トラカルボン酸無水物が反応させられて生成するポリア
ミド酸(A)と、対称型芳香族パラ置換第1級ジアミン
と芳香族テトラカルボン酸無水物が反応させられて生成
するポリアミド酸 (B)を当量比0〜100・100
〜0の範囲内にて含有する物質が調製された後、調製物
中の反応が更に進行して生成するポリイミド、 などが適当しており、 (3)上記の(1)および(2)において対称型芳香族
メタ置換第1級ジアミンが、次式(タタシ、上記の式中
のxは、o 、 SO2、co、CL 、C(CLL
、C(CFs)aまたは直結を表示、)であるポリイミ
ドが特に適当であるが、これらに特に限定されるもので
はなく、プラスチックと金属箔との密着性、溶剤含有量
、引張弾性率、伸び率、誘電率、およびガラス転移点温
度が前記の範囲内にあるものであればよい。
プラスチックフィルムの厚さは好ましくは5〜100μ
m程度、更に好ましくは10〜50μmの範囲内である
。
m程度、更に好ましくは10〜50μmの範囲内である
。
また、金属箔としては、好ましくは、銅、アルミニウム
、金、銀、ニッケル、これらを含む合金か、その他の合
金製であり、特に好ましくは、銅および/またはアルミ
ニウムからなる金属箔である。
、金、銀、ニッケル、これらを含む合金か、その他の合
金製であり、特に好ましくは、銅および/またはアルミ
ニウムからなる金属箔である。
金属箔厚さは、好ましくは5〜100μm程度の範囲内
とされる。
とされる。
プラスチックフィルムが直接接合する金属箔面ば、接合
表面積を大きくするために、銅箔の表面処理などにおい
て汎用される電気鍍金により粒子を付着させるか、ある
いは交流エツチングなどが施されることが、接着力増大
のために好ましく、また、有機重合体に適当するシラン
カップリング処理、チタネートカップリング処理などに
よって接着力が増強されてもよい。
表面積を大きくするために、銅箔の表面処理などにおい
て汎用される電気鍍金により粒子を付着させるか、ある
いは交流エツチングなどが施されることが、接着力増大
のために好ましく、また、有機重合体に適当するシラン
カップリング処理、チタネートカップリング処理などに
よって接着力が増強されてもよい。
また、銅箔の防錆剤として広く使用されている亜鉛との
結合性が高い−5)I基を含むモノマーか、あるいはポ
リマーを以て表面処理が施されることにより接着、力が
向上させられてもよい。
結合性が高い−5)I基を含むモノマーか、あるいはポ
リマーを以て表面処理が施されることにより接着、力が
向上させられてもよい。
この発明は、例えば、下記のような方法により具体化さ
れ得るが、これらにより限定されるものではない。
れ得るが、これらにより限定されるものではない。
a、 (1)金属箔上にポリアミド酸ワニスをTダイ、
あるいはコンマコーターなどを利用して流延塗布し、次
いで加熱乾燥させて、溶剤の含有量を1%以下にすると
ともに、ポリアミド酸を網目状ポリイミドに転化させる
。
あるいはコンマコーターなどを利用して流延塗布し、次
いで加熱乾燥させて、溶剤の含有量を1%以下にすると
ともに、ポリアミド酸を網目状ポリイミドに転化させる
。
(2)他の金属箔上に線状ポリイミドの先駆体であるポ
リアミド酸ワニスを、同様に流延塗布し、次いで加熱乾
燥させ、溶剤の含有量を1%以下にするとともに、ポリ
アミド酸を線状ポリイミドに転化させる。
リアミド酸ワニスを、同様に流延塗布し、次いで加熱乾
燥させ、溶剤の含有量を1%以下にするとともに、ポリ
アミド酸を線状ポリイミドに転化させる。
(3)第1図に示すように、上記の(1)と(2)によ
り得られた積層用材のポリイミド面相互を重ね合わせて
積層し、加熱加圧し、ポリイミドを一体化させる。
り得られた積層用材のポリイミド面相互を重ね合わせて
積層し、加熱加圧し、ポリイミドを一体化させる。
あるいは、
b、 (4)金属箔上に網目状ポリイミド先駆体である
ポリアミド酸ワニスを流延塗布し、加熱して指触乾燥か
らポリイミドに転化するまでの間の中間的状態にする。
ポリアミド酸ワニスを流延塗布し、加熱して指触乾燥か
らポリイミドに転化するまでの間の中間的状態にする。
(5)上記の(4)により得られた積層用材のポリアミ
ド酸ワニス面に線状ポリイミド先駆体であるポリアミド
酸ワニスを流延塗布し、次いで加熱乾燥させて溶剤含有
量を1%以下にするとともにポリアミド酸をポリイミド
に転化させる。
ド酸ワニス面に線状ポリイミド先駆体であるポリアミド
酸ワニスを流延塗布し、次いで加熱乾燥させて溶剤含有
量を1%以下にするとともにポリアミド酸をポリイミド
に転化させる。
(6)第2図に示すように、上記の(5)によって得ら
れた積層用材のポリイミド面に金属箔を重ね合わせて積
層し、加熱加圧して、金属箔を一体化させる。
れた積層用材のポリイミド面に金属箔を重ね合わせて積
層し、加熱加圧して、金属箔を一体化させる。
あるいは、
C9第3図に示すように、上記 (1)にて得られた積
層用材と (5)にて得られた積層用材ポリイミド面を
重ね合わせて、加熱加圧して、ポリイミドを一体化させ
る。
層用材と (5)にて得られた積層用材ポリイミド面を
重ね合わせて、加熱加圧して、ポリイミドを一体化させ
る。
更に、例えば
d、 上記(5)の積層用材相互を一体化させる。
e、上記(2)の積層用材と金属箔とを、一体化させる
。
。
f、上記(2)の積層用材相互を一体化させる。
などの方法によっても具体化され得る。
上記製造方法において、各ポリアミド酸フェスの塗布厚
さは、乾燥硬化後の一体化したフィルムの厚さが好まし
くは5〜100μm1更に好ましくはlO〜50μm程
度の範囲内となる限りにおいて、任意であるが、線状ポ
リイミドがフィルム厚さの半分以下となるように塗布す
ることが好ましい。
さは、乾燥硬化後の一体化したフィルムの厚さが好まし
くは5〜100μm1更に好ましくはlO〜50μm程
度の範囲内となる限りにおいて、任意であるが、線状ポ
リイミドがフィルム厚さの半分以下となるように塗布す
ることが好ましい。
また、網目状ポリイミドとしては、前記対称型芳香族メ
タ置換第1級ジアミンと、対称型芳香族パラ置換第1級
ジアミンの当量比が0〜50 : 100〜50の範囲
内のものが好ましく、線状ポリイミドとしては、前記当
量比力月00〜90:0〜10のものが好ましい。
タ置換第1級ジアミンと、対称型芳香族パラ置換第1級
ジアミンの当量比が0〜50 : 100〜50の範囲
内のものが好ましく、線状ポリイミドとしては、前記当
量比力月00〜90:0〜10のものが好ましい。
加熱温度は種々の条件により変えられ得るが、通常、約
100〜400℃、好ましくは150〜350℃の範囲
内である。
100〜400℃、好ましくは150〜350℃の範囲
内である。
加圧力は、通常0.1〜200kgf/cm”、好まし
くは10〜lQOkgf/cm”である。
くは10〜lQOkgf/cm”である。
この発明の両面FMCLは、耐熱性、機械的および電気
的性能において優れており、フラットケーブル、電磁波
シールド材料、包装用材料など多くの用途において、高
温雰囲気中にあっても、高い耐久性と信頼性を以ての使
用を特徴とする特に、この発明の両面FMCLがフレキ
シブルプリント回路の基板として使用される場合には、
レーザー光線によるスルーホール処理、あるいは高温半
田にも安定して耐え得るために、生産性を向上させ、回
路の高密度化を容易化させ、更に、ワイヤボンド加工性
と信頼性を向上させ得るのであり、表面実装密度は高く
なり、耐熱性、電気的および機械的特性に優れたフレキ
シブルプリント回路を得ることを可能とするのであって
、大巾に用途範囲は拡大されるのである。
的性能において優れており、フラットケーブル、電磁波
シールド材料、包装用材料など多くの用途において、高
温雰囲気中にあっても、高い耐久性と信頼性を以ての使
用を特徴とする特に、この発明の両面FMCLがフレキ
シブルプリント回路の基板として使用される場合には、
レーザー光線によるスルーホール処理、あるいは高温半
田にも安定して耐え得るために、生産性を向上させ、回
路の高密度化を容易化させ、更に、ワイヤボンド加工性
と信頼性を向上させ得るのであり、表面実装密度は高く
なり、耐熱性、電気的および機械的特性に優れたフレキ
シブルプリント回路を得ることを可能とするのであって
、大巾に用途範囲は拡大されるのである。
以下に、この発明の実施例と比較例を示して、この発明
と、その効果を具体的に説明する。
と、その効果を具体的に説明する。
なお、実施例と比較例中において、
(1) 90度ビール強度測定はIPC−FC−241
Aに準じ、(2)半田耐熱性測定はJIS C−648
1に準じ、膨張波打ち変形など形状の異常化の有無を以
て、判定した。
Aに準じ、(2)半田耐熱性測定はJIS C−648
1に準じ、膨張波打ち変形など形状の異常化の有無を以
て、判定した。
実施例1
(a)攪拌器、還流冷却器および窒素導入管を備えた容
器中にて、 4.4−ビス(3−アミノフェノキシ)ビ
フェニル221g (0,60モル)と、4.4−ジア
ミノジフェニルエーテル280g (1,4モル)を、
N、N−ジメチルアセトアミド3500mI2に溶解さ
せ0℃付近まで冷却し、これに窒素雰囲気下、ピロメリ
ット酸二無水物436g (2,0モル)を添加し0℃
付近で2時間攪拌し反応させた。
器中にて、 4.4−ビス(3−アミノフェノキシ)ビ
フェニル221g (0,60モル)と、4.4−ジア
ミノジフェニルエーテル280g (1,4モル)を、
N、N−ジメチルアセトアミド3500mI2に溶解さ
せ0℃付近まで冷却し、これに窒素雰囲気下、ピロメリ
ット酸二無水物436g (2,0モル)を添加し0℃
付近で2時間攪拌し反応させた。
次に、上記溶液を室温に上げて、窒素雰囲気中約20時
間の攪拌を行った。
間の攪拌を行った。
こうして得られたポリアミド酸溶液の対数粘度は、1.
7dJ2 /gであった。
7dJ2 /gであった。
このポリアミド酸溶液をN、N−ジメチルアセトアミド
を以て濃度19%まで希釈した。
を以て濃度19%まで希釈した。
この (a)溶液を、厚さ35μmの市販の圧延銅箔に
均一に流延塗布して、 130℃にて5分間、更に16
0℃にて5分間、加熱し乾燥させた後に、酸素濃度0.
5%の330℃の窒素雰囲気中で20分間加熱して、銅
箔上に膜厚20μmのポリイミドが直接的に接着された
積層用材(イ)を得た。
均一に流延塗布して、 130℃にて5分間、更に16
0℃にて5分間、加熱し乾燥させた後に、酸素濃度0.
5%の330℃の窒素雰囲気中で20分間加熱して、銅
箔上に膜厚20μmのポリイミドが直接的に接着された
積層用材(イ)を得た。
この積層用材(イ)の銅箔を全面エツチングして得られ
たプラスチックフィルムのガラス転移点温度は340℃
であった。
たプラスチックフィルムのガラス転移点温度は340℃
であった。
また、その溶剤含有量は0.02%であった。
(bl攪拌器、還流冷却器および窒素導入管を備えた容
器中にて4.4“−ビス(3−アミノフェノキシ)ビフ
ェニル737g(2モル)を、N、 N−ジメチルアセ
トアミド 3500mI2に溶解させ、 0℃付近まで
冷却し窒素雰囲気下、ピロメリット酸二無水物436g
(2,0モル)を添加し0℃付近で2時間攪拌した。
器中にて4.4“−ビス(3−アミノフェノキシ)ビフ
ェニル737g(2モル)を、N、 N−ジメチルアセ
トアミド 3500mI2に溶解させ、 0℃付近まで
冷却し窒素雰囲気下、ピロメリット酸二無水物436g
(2,0モル)を添加し0℃付近で2時間攪拌した。
次に、上記溶液を室温に上げ、窒素雰囲気下、約20時
間の攪拌を行った。
間の攪拌を行った。
こうして得られたポリアミド酸溶液の対数粘度は1.5
dI2/gであった。 このポリアミド酸溶液をN、
N−ジメチルアセトアミドを以て濃度19%まで希釈し
た。 この (b)溶液を、厚さ35μmの市販圧延銅
箔に均一に流延塗布し、130℃にて5分間型に160
℃にて5分間、加熱し乾燥させた後に、酸素濃度が05
%の330℃の窒素雰囲気中にて20分間加熱し、銅箔
上に膜厚20μmの線状ポリイミドが直接に固着した積
層用材(ロ)を得た。
dI2/gであった。 このポリアミド酸溶液をN、
N−ジメチルアセトアミドを以て濃度19%まで希釈し
た。 この (b)溶液を、厚さ35μmの市販圧延銅
箔に均一に流延塗布し、130℃にて5分間型に160
℃にて5分間、加熱し乾燥させた後に、酸素濃度が05
%の330℃の窒素雰囲気中にて20分間加熱し、銅箔
上に膜厚20μmの線状ポリイミドが直接に固着した積
層用材(ロ)を得た。
この積層用材(ロ)の銅箔を全面エツチングして得られ
たプラスチックフィルムのガラス転移点温度は260℃
であった。
たプラスチックフィルムのガラス転移点温度は260℃
であった。
また、その溶剤含有量は0.01%であった。
(イ)および (ロ)の積層用材をポリイミド面相互を
対面させて、290℃にて20分間・50kgf/cm
2のプレス処理を加えて、両面FMCLを得た。
対面させて、290℃にて20分間・50kgf/cm
2のプレス処理を加えて、両面FMCLを得た。
この両面FMCLの銅箔プラスチックフィルムの90度
ビール強度は、積層用材(イ)側において常温にて1.
7kgf/cm、200℃にて 1.5kgf/cm、
積層材料(ロ)側において、常温にて22kgf/cm
、200℃にて20kgf/cmであった。
ビール強度は、積層用材(イ)側において常温にて1.
7kgf/cm、200℃にて 1.5kgf/cm、
積層材料(ロ)側において、常温にて22kgf/cm
、200℃にて20kgf/cmであった。
この両面FMCLの銅箔をエツチングによって全面的に
除去して得られたプラスチックフィルムの室温における
引張弾性率は250kg/mm”、引張伸び率は135
%、誘電率は1KHzで3.0であった。
除去して得られたプラスチックフィルムの室温における
引張弾性率は250kg/mm”、引張伸び率は135
%、誘電率は1KHzで3.0であった。
この両面FMCLの銅箔面にフォトエツチング法によっ
て印刷回路を形成させて、これにスルーホールメツキを
施し、300℃の半田洛中に30秒間浮遊させたが、回
路形成済の積層物には、枝打状変形、眉間剥離、ボイド
、ブリスターの発生など状態の変化現象は皆無であった
。
て印刷回路を形成させて、これにスルーホールメツキを
施し、300℃の半田洛中に30秒間浮遊させたが、回
路形成済の積層物には、枝打状変形、眉間剥離、ボイド
、ブリスターの発生など状態の変化現象は皆無であった
。
また、積層物を200℃の恒温槽中に240時間放置し
たが、枝打状変形、層間剥離・グリスターなどの欠陥の
発生は皆無であった。
たが、枝打状変形、層間剥離・グリスターなどの欠陥の
発生は皆無であった。
即ち、この発明の両面FMCLは、高温半田に耐え得る
ことにより、その生産性を向上させ、高温中の接着強度
が高いため、回路の高密度化、ワイヤーボンドを伴う表
面実装方法の採用を可能にし、更に、熱劣化性が小さい
ことにより、高温中における長期間の使用を可能にした
のである。
ことにより、その生産性を向上させ、高温中の接着強度
が高いため、回路の高密度化、ワイヤーボンドを伴う表
面実装方法の採用を可能にし、更に、熱劣化性が小さい
ことにより、高温中における長期間の使用を可能にした
のである。
実施例2
(c)攪拌器、還流冷却器および窒素導入管を備えた容
器にて、 4.4−ビス(3−アミノフェノキシ)ビフ
ェニル73g (0,60モル)と、4.4−ジアミノ
ジフェニルエーテル360g (1,8モル)を、N、
N−ジメチルアセトアミド 350On+J2中に溶解
させ、 0℃付近まで冷却し、これに窒素雰囲気下、ピ
ロメリット酸二無水物436g (2,0モル)を添加
して0℃付近で2時間攪拌した。 次に、上記溶液を室
温に上昇させ、窒素雰囲気下、約20時間の攪拌を行っ
た。
器にて、 4.4−ビス(3−アミノフェノキシ)ビフ
ェニル73g (0,60モル)と、4.4−ジアミノ
ジフェニルエーテル360g (1,8モル)を、N、
N−ジメチルアセトアミド 350On+J2中に溶解
させ、 0℃付近まで冷却し、これに窒素雰囲気下、ピ
ロメリット酸二無水物436g (2,0モル)を添加
して0℃付近で2時間攪拌した。 次に、上記溶液を室
温に上昇させ、窒素雰囲気下、約20時間の攪拌を行っ
た。
こうして得られたポリアミド酸溶液の対数粘度は!、
6df2/gであった。
6df2/gであった。
このポリアミド酸溶液をN、N−ジメチルアセトアミド
を以て濃度19%まで希釈した。
を以て濃度19%まで希釈した。
この (c)溶液を厚さ35μmの市販の圧延銅箔に均
一に流延塗布し 130℃にて5分間、更に160°C
にて5分間、加熱し乾燥させた後、酸素濃度0.5%の
330℃の窒素雰囲気中にて10分間加熱し、銅箔上に
膜厚20μmのポリイミドが、直接的に固着された積層
用材(ハ)を得た。
一に流延塗布し 130℃にて5分間、更に160°C
にて5分間、加熱し乾燥させた後、酸素濃度0.5%の
330℃の窒素雰囲気中にて10分間加熱し、銅箔上に
膜厚20μmのポリイミドが、直接的に固着された積層
用材(ハ)を得た。
この積層用材(ハ)の銅箔を全面エツチングして得られ
たプラスチックフィルムのガラス転移点温度は390℃
であった。
たプラスチックフィルムのガラス転移点温度は390℃
であった。
また、その溶剤含有量は04%であった。
(d) ti拌器、還流冷却器および窒素導入管を備え
た容器内へ、1.3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベ
ンゼン584g (2,0モル)とN、N−ジメチルア
セトアミド3700mβを装入し、これに室温にて窒素
雰囲気下3.3°、4.4°−ベンゾフェノンテトラカ
ルボン酸二無水物644g (2,0モル)を、溶液温
度の上昇に注意しつつ4分割して添加して、室温にて約
24時間反応させた。
た容器内へ、1.3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベ
ンゼン584g (2,0モル)とN、N−ジメチルア
セトアミド3700mβを装入し、これに室温にて窒素
雰囲気下3.3°、4.4°−ベンゾフェノンテトラカ
ルボン酸二無水物644g (2,0モル)を、溶液温
度の上昇に注意しつつ4分割して添加して、室温にて約
24時間反応させた。
こうして得られたポリアミド酸溶液の対数粘度は1.2
dβ/gであった。
dβ/gであった。
このポリアミド酸溶液なN、N−ジメチルアセトアミド
を以て濃度21%まで希釈した。
を以て濃度21%まで希釈した。
この (d)溶液を厚さ35μmの市販の圧延銅箔に均
一に流延塗布して、130℃にて5分間、更に160℃
にて5分間、加熱し乾燥させた後に、酸素濃度3%の2
50℃の窒素雰囲気中において30分間加熱して、銅箔
上に膜厚lOμmの線状ポリイミドが直接固着させられ
た積層用材(ニ)が得られた。
一に流延塗布して、130℃にて5分間、更に160℃
にて5分間、加熱し乾燥させた後に、酸素濃度3%の2
50℃の窒素雰囲気中において30分間加熱して、銅箔
上に膜厚lOμmの線状ポリイミドが直接固着させられ
た積層用材(ニ)が得られた。
この積層材料(:)の銅箔を全面エツチングして得られ
たプラスチックフィルムのガラス転移点温度は260℃
であった。
たプラスチックフィルムのガラス転移点温度は260℃
であった。
また、その溶剤含有量は0.3%であった。
積層用材(ハ)と (ニ)のポリイミド面相互を対面さ
せ、240℃・50kgf/cm” ・20分間のプ
レス処理を施して、両面FMCLを得た。
せ、240℃・50kgf/cm” ・20分間のプ
レス処理を施して、両面FMCLを得た。
この両面FMCLの銅箔プラスチックフィルム間の90
°ビ一ル強度は積層用材(ハ)の側において常温にて0
.8kgf/cm、 200℃にて0.6kgf/c
m”であった、 積層用材(ニ)側は常温にて2.5k
gf/cm200℃にて0.5kgf/cmであった。
°ビ一ル強度は積層用材(ハ)の側において常温にて0
.8kgf/cm、 200℃にて0.6kgf/c
m”であった、 積層用材(ニ)側は常温にて2.5k
gf/cm200℃にて0.5kgf/cmであった。
この両面F1M CLの銅箔をエツチングして全面除去
して得られたプラスチックフィルムの室温における引張
弾性率は260kg/mm”、引張伸び率は95%、誘
電率はIK)Izで3.0であった。
して得られたプラスチックフィルムの室温における引張
弾性率は260kg/mm”、引張伸び率は95%、誘
電率はIK)Izで3.0であった。
この両面FMCLの銅箔面にフォトエツチング法により
印刷回路を形成し、スルーホールメツキを施して、30
0℃の半田洛中に30秒間浮遊させたが、この回路形成
済の積層物に枝打状変形、層間剥離、ボイド、あるいは
ブリスターの発生その他の状態の変化は何ら認められな
かった。
印刷回路を形成し、スルーホールメツキを施して、30
0℃の半田洛中に30秒間浮遊させたが、この回路形成
済の積層物に枝打状変形、層間剥離、ボイド、あるいは
ブリスターの発生その他の状態の変化は何ら認められな
かった。
また、この両面FMCLを200℃の恒温槽中に240
時間放置したが、枝打状変形、眉間剥離、ブリスターな
どの欠陥の発生は見られなかった。
時間放置したが、枝打状変形、眉間剥離、ブリスターな
どの欠陥の発生は見られなかった。
即ち、実施例1同様に、生産性、耐熱性、機械的性質お
よび電気的性質に優れた両面FMCLが得られた。
よび電気的性質に優れた両面FMCLが得られた。
比較例1
実施例1において、積層用材(イ)の製造工程中の33
0℃の窒素雰囲気内の加熱時間を5分間に変更したこと
を除き、その他は完全に同一の手順の方法によって積層
用材(幻を得た。
0℃の窒素雰囲気内の加熱時間を5分間に変更したこと
を除き、その他は完全に同一の手順の方法によって積層
用材(幻を得た。
積石用材(幻のプラスチックフィルムのガラス転移点温
度は340℃であった。
度は340℃であった。
また、その溶剤含有量は1.4%であった。
この積層用材(ホ)と実施例1の積層用材(ロ)とを実
施例1の場合と完全に同一の方法により積層して、両面
FMCLを得た。 この両面FMCLの銅箔とプラスチ
ックフィルムの90度ビール強度は、積層用材(ネ)側
では、常温にて1.7kgf/cm、200℃にて1.
5kgf/cm”であり、積石用材(ロ)側は常温にて
2.2kgf/cm、 200℃にて2.0kgf/a
mであった。 この両面FMCLの銅箔をエツチングし
て、その全面を除去して得られたプラスチックフィルム
の室温における引張弾性率は250kg/mm”引張伸
び率は135%、誘電率は1KHzにて3.0であった
。 即ち、プラスチック中の溶剤含有量が1.4%であ
ることを除き、実施例1とほぼ同一の両面FMCLが得
られた。
施例1の場合と完全に同一の方法により積層して、両面
FMCLを得た。 この両面FMCLの銅箔とプラスチ
ックフィルムの90度ビール強度は、積層用材(ネ)側
では、常温にて1.7kgf/cm、200℃にて1.
5kgf/cm”であり、積石用材(ロ)側は常温にて
2.2kgf/cm、 200℃にて2.0kgf/a
mであった。 この両面FMCLの銅箔をエツチングし
て、その全面を除去して得られたプラスチックフィルム
の室温における引張弾性率は250kg/mm”引張伸
び率は135%、誘電率は1KHzにて3.0であった
。 即ち、プラスチック中の溶剤含有量が1.4%であ
ることを除き、実施例1とほぼ同一の両面FMCLが得
られた。
この両面FMCLの銅箔面にフォトエツチングにより印
刷回路を形成させ、スルーホールメツキを施したが、枝
打状変形、層間剥離、ボイド、あるいはブリスターの発
生はなかった。
刷回路を形成させ、スルーホールメツキを施したが、枝
打状変形、層間剥離、ボイド、あるいはブリスターの発
生はなかった。
回路形成済のこの両面FMCLを300℃の半田浴中に
30秒間浮遊させたところ、枝打状の変形が生じて、積
層用材(ホ)側の銅箔と、プラスチックフィルムの間に
層間剥離が生じたため使用可能なフレキシブルプリント
回路は得られなかった。
30秒間浮遊させたところ、枝打状の変形が生じて、積
層用材(ホ)側の銅箔と、プラスチックフィルムの間に
層間剥離が生じたため使用可能なフレキシブルプリント
回路は得られなかった。
また、260℃の半田浴中に20秒間、浮遊させた場合
にも枝打状変形が生じ、銅箔とプラスチックフィルムの
間に層間剥離が生じ、使用に耐え得るフレキシブルプリ
ント回路は得られなかった。
にも枝打状変形が生じ、銅箔とプラスチックフィルムの
間に層間剥離が生じ、使用に耐え得るフレキシブルプリ
ント回路は得られなかった。
更に、この両面FMCLを200℃の恒温槽中に240
時間放置した場合も枝打状変形と層間剥離が生じた。
時間放置した場合も枝打状変形と層間剥離が生じた。
即ち、比較例1では、プラスチックフィルム中の溶剤量
が1%を越えているため、300℃は勿論260℃の半
田浴にも耐え得ず、加えて高温劣化が激しく、耐熱両面
FMCLとはなり得なかった。
が1%を越えているため、300℃は勿論260℃の半
田浴にも耐え得ず、加えて高温劣化が激しく、耐熱両面
FMCLとはなり得なかった。
比較例2
(8)攪拌器、還流冷却器および窒素導入管を備えた容
器中にて4.4−ジアミノジフェニルエーテル400g
(2モル)をN、N−ジメチルアセトアミド 3500
mβに溶解させ、0℃付近まで冷却し、窒素雰囲気下に
ピロメリット酸二無水物436g (2,0モル)を添
加し0℃付近にて2時間撹拌した。 次に、上記溶液を
室温に上げて、窒素雰囲気下に約20時間攪拌を行った
。 こうして得られたポリアミド酸溶液の対数粘度は1
.6dρ/gであった。
器中にて4.4−ジアミノジフェニルエーテル400g
(2モル)をN、N−ジメチルアセトアミド 3500
mβに溶解させ、0℃付近まで冷却し、窒素雰囲気下に
ピロメリット酸二無水物436g (2,0モル)を添
加し0℃付近にて2時間撹拌した。 次に、上記溶液を
室温に上げて、窒素雰囲気下に約20時間攪拌を行った
。 こうして得られたポリアミド酸溶液の対数粘度は1
.6dρ/gであった。
このポリアミド酸溶液を、N、N−ジメチルアセトアミ
ドを以て濃度16%まで希釈した。
ドを以て濃度16%まで希釈した。
この fe)溶液を厚さ35μmの市販の圧延銅箔に均
一に流延塗布し、130℃で5分間、更に160℃で5
分間、加熱し乾燥させた後に、330℃の酸素濃度3%
の窒素雰囲気下に20分間加熱して、銅箔上に膜厚20
μmのポリイミドが直接固着された積層用材(へ)が得
られた。
一に流延塗布し、130℃で5分間、更に160℃で5
分間、加熱し乾燥させた後に、330℃の酸素濃度3%
の窒素雰囲気下に20分間加熱して、銅箔上に膜厚20
μmのポリイミドが直接固着された積層用材(へ)が得
られた。
この積層用材(へ)の銅箔を全面エツチングして得られ
たプラスチックフィルムのガラス転移点温度は400℃
以上であった。
たプラスチックフィルムのガラス転移点温度は400℃
以上であった。
また、その溶剤含有量は0.05%であった。
この積層用材(へ)と実施例1における積層用材(ニ)
を実施例2と同一方法を以て積層して、両面FMCLを
得た。
を実施例2と同一方法を以て積層して、両面FMCLを
得た。
この両面FMCLの銅箔プラスチックフィルム間の90
度ビール強度は、積層用材(へ)側で、常温0.35k
gf/cm、 2QO℃にて0.2kgf/cmであ
り、積層用材(ニ)側では、常温2.5kgf/am、
200℃にて0、5kgf/cmであった。
度ビール強度は、積層用材(へ)側で、常温0.35k
gf/cm、 2QO℃にて0.2kgf/cmであ
り、積層用材(ニ)側では、常温2.5kgf/am、
200℃にて0、5kgf/cmであった。
この両面FMCLの銅箔を全面的にエツチングして除去
して得られたプラスチックフィルムの室温における引張
弾性率は320kg/mm”、引張伸び率は80%、誘
電率は1にHzで3,0であった。
して得られたプラスチックフィルムの室温における引張
弾性率は320kg/mm”、引張伸び率は80%、誘
電率は1にHzで3,0であった。
この両面FMCLに印刷回路のスルーホールの形成のた
めの打抜きを行ったところ、孔の周囲に1間剥離が生じ
て、良好なフレキシブル印刷回路は得られなかった。
めの打抜きを行ったところ、孔の周囲に1間剥離が生じ
て、良好なフレキシブル印刷回路は得られなかった。
更に、この回路形成済の両面FMCLにワイヤボンド加
工を行ったところ、銅箔とプラスチックフィルム間に層
間剥離が生じた。
工を行ったところ、銅箔とプラスチックフィルム間に層
間剥離が生じた。
即ち、比較例2のものは銅箔とプラスチックフィルムと
のビール強度が、常温にて0.7kgf/cm未満、2
00℃にて0.4kgf/cm未満であるために、スル
ーホール加工も、また、ワイヤボンド加工も不可能であ
り、両面プリント回路用の基板として到底、満足できる
ものではなかった。
のビール強度が、常温にて0.7kgf/cm未満、2
00℃にて0.4kgf/cm未満であるために、スル
ーホール加工も、また、ワイヤボンド加工も不可能であ
り、両面プリント回路用の基板として到底、満足できる
ものではなかった。
第1図〜第6図は、この発明の両面FMCLの構成例の
断面模式図である。 1・・・金属箔 2・・・1間目状プラスチックフィルム3・・・線状プ
ラスチックフィルム 第1図 [[団口団用■−〜 第2図
断面模式図である。 1・・・金属箔 2・・・1間目状プラスチックフィルム3・・・線状プ
ラスチックフィルム 第1図 [[団口団用■−〜 第2図
Claims (5)
- 1.プラスチックフィルムの両面に金属箔が接着された
フレキシブル両面金属箔積層板において、金属箔が接着
剤の介在なく直接的にプラスチックフィルムに接着され
、90度ビール強度が常温にて0.7kgf/cm以上
、200℃にて0.4kgf/cm以上であり、プラス
チックフィルムの溶剤含有量が1%以下であり、半田耐
熱性が300℃、30秒間以上であることを特徴とする
フレキシブル両面金属箔積層板。 - 2.プラスチックフィルムの室温における引張弾性率が
100〜800kgf/mm^2、引張伸び率が30〜
200%の範囲内であり、誘電率が1MHzにおいて3
.5以下である請求項1記載の積層板。 - 3.プラスチックフィルムが、ガラス転移点温度280
℃以上の編目状プラスチックまたは/およびガラス転移
点温度150℃以上の線状プラスチックからなる請求項
1、または2記載の積層板。 - 4.プラスチックがポリイミドである請求項1〜3のい
ずれかに記載の積層板。 - 5.積層板の用途がフレキシブルプリント回路用基板で
ある請求項1〜4のいずれかに記載の積層板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63232187A JPH0719939B2 (ja) | 1988-09-19 | 1988-09-19 | フレキシブル両面金属箔積層板 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63232187A JPH0719939B2 (ja) | 1988-09-19 | 1988-09-19 | フレキシブル両面金属箔積層板 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0281495A true JPH0281495A (ja) | 1990-03-22 |
JPH0719939B2 JPH0719939B2 (ja) | 1995-03-06 |
Family
ID=16935364
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63232187A Expired - Lifetime JPH0719939B2 (ja) | 1988-09-19 | 1988-09-19 | フレキシブル両面金属箔積層板 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0719939B2 (ja) |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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1988
- 1988-09-19 JP JP63232187A patent/JPH0719939B2/ja not_active Expired - Lifetime
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0719939B2 (ja) | 1995-03-06 |
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