JPH02771B2 - - Google Patents
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- JPH02771B2 JPH02771B2 JP54089256A JP8925679A JPH02771B2 JP H02771 B2 JPH02771 B2 JP H02771B2 JP 54089256 A JP54089256 A JP 54089256A JP 8925679 A JP8925679 A JP 8925679A JP H02771 B2 JPH02771 B2 JP H02771B2
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、磁気記録媒体に関するものであり、
特にはスチル特性の改善とヘツドの耐摩耗性を兼
備した磁気記録媒体に関するものである。
特にはスチル特性の改善とヘツドの耐摩耗性を兼
備した磁気記録媒体に関するものである。
磁気記録媒体に要求される特性の一つにスチル
特性がある。ビデオテープレコーダ録画再生にお
いて、スチル再生を良好にするためにはテープ面
のヘツドによる摩耗を防止せねばならない。スチ
ル再生中、例えば一つの方式においては、回転ヘ
ツドの近くで円弧状に成形されたテープ上を回転
ドラムに90度間隔で取り付けた２個の磁気ヘツド
を高速度で回転させることにより走査を行なつて
いる。この場合、テープの耐摩耗性が悪いと、テ
ープ面は次第にえぐれ、スチル再生時間が短縮さ
れる。
特性がある。ビデオテープレコーダ録画再生にお
いて、スチル再生を良好にするためにはテープ面
のヘツドによる摩耗を防止せねばならない。スチ
ル再生中、例えば一つの方式においては、回転ヘ
ツドの近くで円弧状に成形されたテープ上を回転
ドラムに90度間隔で取り付けた２個の磁気ヘツド
を高速度で回転させることにより走査を行なつて
いる。この場合、テープの耐摩耗性が悪いと、テ
ープ面は次第にえぐれ、スチル再生時間が短縮さ
れる。
従来、このスチル特性向上のために、Cr2O3、
Al2O3粉等の磁性粉より硬質の非磁性粉がテープ
塗膜中に含められていた。これはテープの耐摩耗
性を改善はしたが、反面ヘツド摩耗量が多くなる
という由々しき欠点が認識された。
Al2O3粉等の磁性粉より硬質の非磁性粉がテープ
塗膜中に含められていた。これはテープの耐摩耗
性を改善はしたが、反面ヘツド摩耗量が多くなる
という由々しき欠点が認識された。
結局、この種の磁気記録媒体においては、テー
プの耐摩耗性の改善によるスチル特性の向上とヘ
ツドの摩耗の減少という相反する２つの要求が存
在する。ヘツド摩耗を最小限に抑え且つスチル特
性を改善することが必要である。
プの耐摩耗性の改善によるスチル特性の向上とヘ
ツドの摩耗の減少という相反する２つの要求が存
在する。ヘツド摩耗を最小限に抑え且つスチル特
性を改善することが必要である。
本発明者は、テープ塗膜中に含めるべき非磁性
粉について種々検討したところ、ヘツド摩耗は大
きいがスチル特性は良好な第一非磁性粉と、ヘツ
ド摩耗は少ないがスチル特性は悪い第二非磁性粉
を特定の組合せでそして特定条件下で配合するこ
とにより、それらの相乗効果によりスチル特性を
単体の場合より向上でき且つヘツド摩耗を適当な
摩耗量に抑えることができることを見出した。
粉について種々検討したところ、ヘツド摩耗は大
きいがスチル特性は良好な第一非磁性粉と、ヘツ
ド摩耗は少ないがスチル特性は悪い第二非磁性粉
を特定の組合せでそして特定条件下で配合するこ
とにより、それらの相乗効果によりスチル特性を
単体の場合より向上でき且つヘツド摩耗を適当な
摩耗量に抑えることができることを見出した。
即ち、(1)磁性粉末に対して0.5〜15重量％の
Al2O3またはCr2O3のいずれかを第一非磁性粉と
しそして0.5〜15重量％のTiO2またはSiCいずれ
かを第二非磁性粉として使用すること、(2)第一及
び第二非磁性粉をそれらの総量が磁性粉末に対し
て20重量％以下の範囲で同時に塗膜中に含め且つ
該第一及び第二非磁性粉の粒径を0.1〜2μｍの範
囲とすること、そして(3)第一非磁性粉がAl2O3の
場合には第二非磁性粉をTiO2としそして第一非
磁性粉がCr2O3の場合には第二非磁性粉をSiCと
することによりスチル特性とヘツド摩耗とを最適
化しうることが判明した。
Al2O3またはCr2O3のいずれかを第一非磁性粉と
しそして0.5〜15重量％のTiO2またはSiCいずれ
かを第二非磁性粉として使用すること、(2)第一及
び第二非磁性粉をそれらの総量が磁性粉末に対し
て20重量％以下の範囲で同時に塗膜中に含め且つ
該第一及び第二非磁性粉の粒径を0.1〜2μｍの範
囲とすること、そして(3)第一非磁性粉がAl2O3の
場合には第二非磁性粉をTiO2としそして第一非
磁性粉がCr2O3の場合には第二非磁性粉をSiCと
することによりスチル特性とヘツド摩耗とを最適
化しうることが判明した。
上述した性質の異なる２種類の非磁性粉末の塗
膜への含入は、通常通り磁性粉末をバインダー及
び添加材と混合し、その後非磁性粉を加え、必要
なら適当な硬化剤を加えて磁性塗料とし、それを
ベース材上に通常の方法で塗布することによりも
たらされる。もちろん、最初から非磁性粉と磁性
粉とを一緒に混練しても良い。
膜への含入は、通常通り磁性粉末をバインダー及
び添加材と混合し、その後非磁性粉を加え、必要
なら適当な硬化剤を加えて磁性塗料とし、それを
ベース材上に通常の方法で塗布することによりも
たらされる。もちろん、最初から非磁性粉と磁性
粉とを一緒に混練しても良い。
非磁性粉混合物の総添加量は、これらが非磁性
であるが故に、あまり多く入れると電磁気特性面
で劣つてくる。第１図のグラフは、磁性粉に対す
る非磁性粉総量の割合と高周波再生出力との関係
を示すものであるが、このグラフからわかるよう
に、非磁性粉が磁性粉に対して20重量％以下であ
ることが好ましい。尚、このグラフは非磁性粉と
してAl2O3およびTiO2混合物を使用した場合であ
るが、Cr2O3とSiC混合粉についても同様の傾向
が確認された。
であるが故に、あまり多く入れると電磁気特性面
で劣つてくる。第１図のグラフは、磁性粉に対す
る非磁性粉総量の割合と高周波再生出力との関係
を示すものであるが、このグラフからわかるよう
に、非磁性粉が磁性粉に対して20重量％以下であ
ることが好ましい。尚、このグラフは非磁性粉と
してAl2O3およびTiO2混合物を使用した場合であ
るが、Cr2O3とSiC混合粉についても同様の傾向
が確認された。
２種類の粉末の配合比については、後に実施例
において示すように、両者の組合せによつてヘツ
ド摩耗量及びスチル再生時間としてのスチル特性
が変わつてくるので、両特性を勘案してそのバラ
ンスの良いところに最適比を求めるべきである。
その際、上述した総量の規制を考慮すべきことは
言うまでもない。一般に、第一及び第二非磁性粉
とも磁性粉末に対して0.5〜15重量％の範囲で選
択される。
において示すように、両者の組合せによつてヘツ
ド摩耗量及びスチル再生時間としてのスチル特性
が変わつてくるので、両特性を勘案してそのバラ
ンスの良いところに最適比を求めるべきである。
その際、上述した総量の規制を考慮すべきことは
言うまでもない。一般に、第一及び第二非磁性粉
とも磁性粉末に対して0.5〜15重量％の範囲で選
択される。
非磁性粉末の粒径については、第一及び第二非
磁性粉ともその粒径を0.1〜2μｍの範囲とされる。
これら非磁性粉に粒子径が2μｍを超えると、磁
性層の塗膜厚さが通常3.5〜5μｍであることから、
塗膜厚さに対する非磁性粉末粒径の相対的比率が
大きくなりすぎ、また塗膜中での分散性も低下
し、塗膜から非磁性粉末粒が部分的に突出する状
態が生じ易くなる。そのため、ヘツドと磁気テー
プとの間のスペーシングロスをいたずらに大きく
し、出力低下を招く。また、塗膜形成装置を含め
て製造装置の摩滅を早める不都合も生じる。粒径
が0.1μｍより小さくなると、塗膜補強効果が小さ
く、またヘツド目詰り問題が生じ易くなり、粉末
取扱上の問題も生じる。
磁性粉ともその粒径を0.1〜2μｍの範囲とされる。
これら非磁性粉に粒子径が2μｍを超えると、磁
性層の塗膜厚さが通常3.5〜5μｍであることから、
塗膜厚さに対する非磁性粉末粒径の相対的比率が
大きくなりすぎ、また塗膜中での分散性も低下
し、塗膜から非磁性粉末粒が部分的に突出する状
態が生じ易くなる。そのため、ヘツドと磁気テー
プとの間のスペーシングロスをいたずらに大きく
し、出力低下を招く。また、塗膜形成装置を含め
て製造装置の摩滅を早める不都合も生じる。粒径
が0.1μｍより小さくなると、塗膜補強効果が小さ
く、またヘツド目詰り問題が生じ易くなり、粉末
取扱上の問題も生じる。
また、第一非磁性粉については、粒径が0.1μｍ
より小さくなると、急激にスチル特性が低下する
ことが認められている。Al2O3を例とると、その
粒径とスチル時間の関係は次の通りとなる。（条
件：Al2O3含有量は磁性粉100重量部に対して３
重量部、温度25℃、湿度60％R.H.）： Al2O3粒径（μｍ） スチル時間 ２ 3.5Hr以上 １ 3.5Hr以上 0.3 3.5Hr以上 0.1 2.5Hr以上 0.05 20分 この傾向は第二非磁性粉の共存下でも実質変わ
らない。
より小さくなると、急激にスチル特性が低下する
ことが認められている。Al2O3を例とると、その
粒径とスチル時間の関係は次の通りとなる。（条
件：Al2O3含有量は磁性粉100重量部に対して３
重量部、温度25℃、湿度60％R.H.）： Al2O3粒径（μｍ） スチル時間 ２ 3.5Hr以上 １ 3.5Hr以上 0.3 3.5Hr以上 0.1 2.5Hr以上 0.05 20分 この傾向は第二非磁性粉の共存下でも実質変わ
らない。
以上の理由で、第一及び第二非磁性粉いずれを
問わず非磁性粉末の粒径は0.1〜2μｍの範囲とさ
れる。
問わず非磁性粉末の粒径は0.1〜2μｍの範囲とさ
れる。
磁性粉としては、酸化鉄系磁性粉及び強磁性合
金粉いずれも使用しうる。本発明で使用する４種
類の研磨剤はモース硬度が７以上の硬質のもので
あり（モース硬度Al2O3：９、Cr2O3：８、SiC：
9.5TiO2：７）、酸化物系磁性粉のモース硬度5.5
〜6.0や合金粉のモース硬度4.5に比べて格段に硬
いので本発明は磁性粉の種類にあまり影響されな
い。
金粉いずれも使用しうる。本発明で使用する４種
類の研磨剤はモース硬度が７以上の硬質のもので
あり（モース硬度Al2O3：９、Cr2O3：８、SiC：
9.5TiO2：７）、酸化物系磁性粉のモース硬度5.5
〜6.0や合金粉のモース硬度4.5に比べて格段に硬
いので本発明は磁性粉の種類にあまり影響されな
い。
以下、本発明の実施例を示す。
実施例 １
以下の組成の磁性粉含有組成物を調整した：
Co含有酸化鉄磁性粉 400ｇ
ニトロセルロース 30ｇ
塩化ビニル系樹脂 15ｇ
ウレタンエラストマー 40ｇ
カーボン 20ｇ
この組成物に対して、TiO2（粒径0.4μｍ）及び
Al2O3（粒径0.4μｍ）を様々の比率で混合して磁性
塗料とし、イソシアネート系硬化剤を添加後、ポ
リエステルフイルム上に約5μｍの厚さに塗布し
て磁気テープを作製した。
Al2O3（粒径0.4μｍ）を様々の比率で混合して磁性
塗料とし、イソシアネート系硬化剤を添加後、ポ
リエステルフイルム上に約5μｍの厚さに塗布し
て磁気テープを作製した。
第２図のグラフは、磁性粉に対するAl2O3及び
TiO2粉末量とヘツド摩耗量との関係を示す。こ
のグラフから、Al2O3単独の場合、即ちTiO20％
の場合、ヘツド摩耗量はAl2O3が僅か１％の程度
でも非常に多いことがわかる。Al2O3が少ない範
囲では、その添加量の増大と共に、ヘツド摩耗量
は増大し、他方TiO2の添加量の増大によつてヘ
ツド摩耗量が減少することは明らかである。
TiO2粉末量とヘツド摩耗量との関係を示す。こ
のグラフから、Al2O3単独の場合、即ちTiO20％
の場合、ヘツド摩耗量はAl2O3が僅か１％の程度
でも非常に多いことがわかる。Al2O3が少ない範
囲では、その添加量の増大と共に、ヘツド摩耗量
は増大し、他方TiO2の添加量の増大によつてヘ
ツド摩耗量が減少することは明らかである。
第３図のグラフは、第２図と同じく、Al2O3添
加量及びTiO2添加量とスチル再生時間との関係
を示すものである。Al2O3が少ないとスチル再生
時間は非常に短く、特にAl2O30％ではTiO2添加
量をいくら増してもスチル再生時間はほとんど長
くならない。Al2O3を３％以上にするとスチル再
生時間は220分位となり、更に重要なことにTiO2
量を増加するとスチル再生時間は更に一層延長さ
れる。
加量及びTiO2添加量とスチル再生時間との関係
を示すものである。Al2O3が少ないとスチル再生
時間は非常に短く、特にAl2O30％ではTiO2添加
量をいくら増してもスチル再生時間はほとんど長
くならない。Al2O3を３％以上にするとスチル再
生時間は220分位となり、更に重要なことにTiO2
量を増加するとスチル再生時間は更に一層延長さ
れる。
このようにTiO2をAl2O3に混ぜることによつて
スチル再生時間はAl2O3単独の場合よりも80〜
100分延長出来、他方ヘツド摩耗量は1/2〜1/3に
減らすことができる。このほか、ヘツド面の荒
れ、テープ表面性等他の因子もAl2O3単独で用い
る場合と同等以上である。TiO2を５〜15％そし
てAl2O3を３〜15％の範囲で選ぶことにより、ヘ
ツド摩耗とスチル特性とのバランスを得ることが
できる。
スチル再生時間はAl2O3単独の場合よりも80〜
100分延長出来、他方ヘツド摩耗量は1/2〜1/3に
減らすことができる。このほか、ヘツド面の荒
れ、テープ表面性等他の因子もAl2O3単独で用い
る場合と同等以上である。TiO2を５〜15％そし
てAl2O3を３〜15％の範囲で選ぶことにより、ヘ
ツド摩耗とスチル特性とのバランスを得ることが
できる。
実施例 ２
実施例１における磁性塗料用組成物における塩
化ビニル系樹脂に代えてポリエステルを同量使用
して磁気テープを作製したが、第２及び３図と同
一のヘツド摩耗及びスチル再生時間特性が得られ
て、更に、実施例１における組成物においてニト
ロセルロースを使用せずに磁性塗料を調製した場
合にも実施例１と同様の結果を得た。更に、実施
例１において使用されたイソシアネート系硬化剤
を使用せずに可塑系で磁気テープを作製した場合
には、スチル特性に若干の低下は認められたが、
全体の傾向としては、第２及び３図のグラフと同
様の結果が得られた。また、実施例１及び上述し
た以外の従来から公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性
樹脂、反応型樹脂あるいはこれらの混合物をバイ
ンダーとして用いた場合を検討したが、スチル特
性及びヘツド摩耗に数値上の僅かの変動はあつた
が、傾向としては第２及び３図と同様の傾向が得
られた。従つて。本発明においては、バインダー
や添加剤に影響は実質上ないものと見ることがで
きる。
化ビニル系樹脂に代えてポリエステルを同量使用
して磁気テープを作製したが、第２及び３図と同
一のヘツド摩耗及びスチル再生時間特性が得られ
て、更に、実施例１における組成物においてニト
ロセルロースを使用せずに磁性塗料を調製した場
合にも実施例１と同様の結果を得た。更に、実施
例１において使用されたイソシアネート系硬化剤
を使用せずに可塑系で磁気テープを作製した場合
には、スチル特性に若干の低下は認められたが、
全体の傾向としては、第２及び３図のグラフと同
様の結果が得られた。また、実施例１及び上述し
た以外の従来から公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性
樹脂、反応型樹脂あるいはこれらの混合物をバイ
ンダーとして用いた場合を検討したが、スチル特
性及びヘツド摩耗に数値上の僅かの変動はあつた
が、傾向としては第２及び３図と同様の傾向が得
られた。従つて。本発明においては、バインダー
や添加剤に影響は実質上ないものと見ることがで
きる。
実施例 ３
実施例１において使用したCo含有酸化鉄磁性
粉の代わりに、γ−Fe2O3粉、Fe3O4粉、Co含有
Fe3O4粉、強磁性性合金粉及びこれらの混合物を
使用して実施例１と同様にして磁気テープを作製
し、その特性について検討したが、第２及び３図
に示したグラフと同様の結果を得た。
粉の代わりに、γ−Fe2O3粉、Fe3O4粉、Co含有
Fe3O4粉、強磁性性合金粉及びこれらの混合物を
使用して実施例１と同様にして磁気テープを作製
し、その特性について検討したが、第２及び３図
に示したグラフと同様の結果を得た。
実施例 ４
非磁性粉末として、Cr2O3（粒径0.4μｍ）及び
SiC（粒径0.3μｍ）の組合せについて実施例１と同
様の試験を行なつた。第４図はこれら非磁性粉末
量とヘツド摩耗量との関係を示す。第５図は、ス
チル再生時間特性を示す。
SiC（粒径0.3μｍ）の組合せについて実施例１と同
様の試験を行なつた。第４図はこれら非磁性粉末
量とヘツド摩耗量との関係を示す。第５図は、ス
チル再生時間特性を示す。
第１図は、非磁性混合粉の磁性粉に対する重量
％とRF再生出力（dB）との関係を示すグラフで
ある。第２及び３図は、Al2O3−TiO2非磁性混合
粉についてそれらの添加量とヘツド摩耗量（μ
ｍ）及びスチル再生時間（分）の関係をそれぞれ
示すグラフである。第４及び５図は、Cr2O3−
SiC非磁性混合粉についての第２及び３図とそれ
ぞれ同様の関係を示すグラフである。
％とRF再生出力（dB）との関係を示すグラフで
ある。第２及び３図は、Al2O3−TiO2非磁性混合
粉についてそれらの添加量とヘツド摩耗量（μ
ｍ）及びスチル再生時間（分）の関係をそれぞれ
示すグラフである。第４及び５図は、Cr2O3−
SiC非磁性混合粉についての第２及び３図とそれ
ぞれ同様の関係を示すグラフである。
Claims (1)
- １ 磁性粉末に対して0.5〜15重量％のAl2O3また
はCr2O3のいずれかを第一非磁性粉としそして0.5
〜15重量％のTiO2またはSiCいずれかを第二非磁
性粉として、該第一及び第二非磁性粉を総量が磁
性粉末に対して20重量％以下の範囲で同時に塗膜
中に含み且つ該第一及び第二非磁性粉の粒径を
0.1〜2μｍの範囲とした磁気記録媒体であつて、
前記第一非磁性粉がAl2O3の場合には前記第二非
磁性粉がTiO2でありそして前記第一非磁性粉が
Cr2O3の場合には前記第二非磁性粉がSiCである
ことを特徴とする磁気記録媒体。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8925679A JPS5613525A (en) | 1979-07-16 | 1979-07-16 | Magnetic recording medium |
| NLAANVRAGE8003789,A NL189321C (nl) | 1979-07-16 | 1980-07-01 | Magnetisch registreermedium. |
| DE19803026672 DE3026672A1 (de) | 1979-07-16 | 1980-07-14 | Magnetisches aufzeichnungsmedium |
| GB8023238A GB2055394B (en) | 1979-07-16 | 1980-07-16 | Magnetic recording medium |
| US06/329,705 US4399189A (en) | 1979-07-16 | 1981-12-11 | Magnetic recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8925679A JPS5613525A (en) | 1979-07-16 | 1979-07-16 | Magnetic recording medium |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5613525A JPS5613525A (en) | 1981-02-09 |
| JPH02771B2 true JPH02771B2 (ja) | 1990-01-09 |
Family
ID=13965674
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8925679A Granted JPS5613525A (en) | 1979-07-16 | 1979-07-16 | Magnetic recording medium |
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| JP (1) | JPS5613525A (ja) |
| DE (1) | DE3026672A1 (ja) |
| GB (1) | GB2055394B (ja) |
| NL (1) | NL189321C (ja) |
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| US4668568A (en) * | 1981-05-07 | 1987-05-26 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Magnetic recording medium |
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| DE3840848A1 (de) * | 1988-12-03 | 1990-06-07 | Draegerwerk Ag | Werkstoff mit vorgebbarer magnetischer suszeptibilitaet |
| JP2924094B2 (ja) * | 1989-06-19 | 1999-07-26 | 住友化学工業株式会社 | 磁気記録媒体 |
| US6548160B2 (en) * | 1999-12-01 | 2003-04-15 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Magnetic recording media |
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| JPS5515771B1 (ja) * | 1967-01-12 | 1980-04-25 | ||
| US3843404A (en) * | 1970-06-08 | 1974-10-22 | Ibm | Magnetic recording coating |
| DE2254981A1 (de) * | 1972-11-10 | 1974-06-12 | Basf Ag | Verfahren zur herstellung von magnetplatten mit duennen magnetschichten |
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| JPS54143608A (en) * | 1978-04-29 | 1979-11-09 | Victor Co Of Japan Ltd | Magnetic recording medium |
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| JPS5555439A (en) * | 1978-10-18 | 1980-04-23 | Hitachi Ltd | Magnetic recording medium composite |
-
1979
- 1979-07-16 JP JP8925679A patent/JPS5613525A/ja active Granted
-
1980
- 1980-07-01 NL NLAANVRAGE8003789,A patent/NL189321C/xx not_active IP Right Cessation
- 1980-07-14 DE DE19803026672 patent/DE3026672A1/de active Granted
- 1980-07-16 GB GB8023238A patent/GB2055394B/en not_active Expired
-
1981
- 1981-12-11 US US06/329,705 patent/US4399189A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
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| NL189321B (nl) | 1992-10-01 |
| GB2055394A (en) | 1981-03-04 |
| NL8003789A (nl) | 1981-01-20 |
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| NL189321C (nl) | 1993-03-01 |
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