JPH07102505B2 - 研磨テープ - Google Patents
研磨テープInfo
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- JPH07102505B2 JPH07102505B2 JP63090951A JP9095188A JPH07102505B2 JP H07102505 B2 JPH07102505 B2 JP H07102505B2 JP 63090951 A JP63090951 A JP 63090951A JP 9095188 A JP9095188 A JP 9095188A JP H07102505 B2 JPH07102505 B2 JP H07102505B2
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- polishing
- particles
- test example
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- abrasive
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- G11—INFORMATION STORAGE
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- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
- G11B5/1871—Shaping or contouring of the transducing or guiding surface
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B21/00—Machines or devices using grinding or polishing belts; Accessories therefor
- B24B21/16—Machines or devices using grinding or polishing belts; Accessories therefor for grinding other surfaces of particular shape
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24D—TOOLS FOR GRINDING, BUFFING OR SHARPENING
- B24D11/00—Constructional features of flexible abrasive materials; Special features in the manufacture of such materials
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24D—TOOLS FOR GRINDING, BUFFING OR SHARPENING
- B24D3/00—Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents
- B24D3/001—Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents the constituent being used as supporting member
- B24D3/002—Flexible supporting members, e.g. paper, woven, plastic materials
- B24D3/004—Flexible supporting members, e.g. paper, woven, plastic materials with special coatings
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24D—TOOLS FOR GRINDING, BUFFING OR SHARPENING
- B24D3/00—Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents
- B24D3/02—Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents the constituent being used as bonding agent
- B24D3/20—Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents the constituent being used as bonding agent and being essentially organic
- B24D3/28—Resins or natural or synthetic macromolecular compounds
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24D—TOOLS FOR GRINDING, BUFFING OR SHARPENING
- B24D3/00—Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents
- B24D3/34—Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents characterised by additives enhancing special physical properties, e.g. wear resistance, electric conductivity, self-cleaning properties
- B24D3/346—Physical features of abrasive bodies, or sheets, e.g. abrasive surfaces of special nature; Abrasive bodies or sheets characterised by their constituents characterised by additives enhancing special physical properties, e.g. wear resistance, electric conductivity, self-cleaning properties utilised during polishing, or grinding operation
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Y10T428/24942—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including components having same physical characteristic in differing degree
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- Y10T428/259—Silicic material
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明はフェライト製磁気ヘッドの研磨に用いられる研
磨テープに関し、特に仕上げ研磨用の研磨テープに関す
るものである。
磨テープに関し、特に仕上げ研磨用の研磨テープに関す
るものである。
(従来の技術) ビデオや高級オーディオの磁気ヘッドは、可撓性支持体
上に、研磨材、結合剤、添加剤等を含む研磨塗液を塗布
し、乾燥させ研磨層が形成されてなる研磨テープにより
研磨されて製作されている。
上に、研磨材、結合剤、添加剤等を含む研磨塗液を塗布
し、乾燥させ研磨層が形成されてなる研磨テープにより
研磨されて製作されている。
このような研磨テープは、一般には磁気ヘッドを挾む2
つのリール間を走行して被研磨面に接触し、該被研磨面
を研磨するようになっている。研磨テープは、可撓性支
持体を有しているため、研磨砥石に比べ、磁気ヘッド等
の曲面の研磨に適し、また、被研磨面の傷つきが少なく
精密研磨が可能であるため、仕上げ研磨には不可欠なも
のである。
つのリール間を走行して被研磨面に接触し、該被研磨面
を研磨するようになっている。研磨テープは、可撓性支
持体を有しているため、研磨砥石に比べ、磁気ヘッド等
の曲面の研磨に適し、また、被研磨面の傷つきが少なく
精密研磨が可能であるため、仕上げ研磨には不可欠なも
のである。
上記研磨テープによる研磨は、周知のように磁気ヘッド
の先端形状をつくる、磁気ヘッドのチッピングをなく
す、磁気ヘッド面を仕上げることを目的とするものであ
り、かかる研磨を良好に行なうためには、研磨能力を上
げて研磨時間を短縮することと、被研磨面の平滑度を高
めることの両方が望まれる。研磨能力を向上させるため
には硬くて粒径の大きい粒状研磨材を有する研磨テープ
を用いればよいが、かかる研磨テープによれば被研磨面
の平滑度を高めることができなくなる。反対に被研磨面
の平滑度を高めるためには軟かくて粒径の小さい粒状研
磨材を有する研磨テープを用いればよいが、かかる研磨
テープは研磨能力が低いものとなる。そこで上記2つの
要望を同時に満たすこと目的とする研磨テープが従来よ
り提案されており、例えば特開昭54−97408号には、研
磨層に2種類の研磨材を混合することにより、研磨能力
と被研磨面の平滑度を共に高めるようにした研磨テープ
を開示されている。
の先端形状をつくる、磁気ヘッドのチッピングをなく
す、磁気ヘッド面を仕上げることを目的とするものであ
り、かかる研磨を良好に行なうためには、研磨能力を上
げて研磨時間を短縮することと、被研磨面の平滑度を高
めることの両方が望まれる。研磨能力を向上させるため
には硬くて粒径の大きい粒状研磨材を有する研磨テープ
を用いればよいが、かかる研磨テープによれば被研磨面
の平滑度を高めることができなくなる。反対に被研磨面
の平滑度を高めるためには軟かくて粒径の小さい粒状研
磨材を有する研磨テープを用いればよいが、かかる研磨
テープは研磨能力が低いものとなる。そこで上記2つの
要望を同時に満たすこと目的とする研磨テープが従来よ
り提案されており、例えば特開昭54−97408号には、研
磨層に2種類の研磨材を混合することにより、研磨能力
と被研磨面の平滑度を共に高めるようにした研磨テープ
を開示されている。
(発明が解決しようとする課題) ところで、近年ビデオテープ等の磁気記録媒体の高密度
記録化が進み、これに伴なって磁気ヘッドに要求される
性能も一段と高まっている。すなわち、例えば従来のビ
デオテープの場合には、最短記録波長が1μm程度であ
ったが、S−VHS方式のビデオテープ(例えば富士写真
フィルム(株)製 S−マスター,3M(株)製 5516XTS
等)では最短記録波長が0.8μmと狭くなっており、こ
れに応じて磁気ヘッドもその性能の向上が望まれてい
る。ところが、上記特開昭54−97408号等に開示されて
いる研磨テープは、記録波長が1μm程度の磁気ヘッド
の研磨を行なう研磨テープに関するものであり、かかる
研磨テープでは上記の高性能な磁気ヘッドの研磨には適
さないという不都合があった。
記録化が進み、これに伴なって磁気ヘッドに要求される
性能も一段と高まっている。すなわち、例えば従来のビ
デオテープの場合には、最短記録波長が1μm程度であ
ったが、S−VHS方式のビデオテープ(例えば富士写真
フィルム(株)製 S−マスター,3M(株)製 5516XTS
等)では最短記録波長が0.8μmと狭くなっており、こ
れに応じて磁気ヘッドもその性能の向上が望まれてい
る。ところが、上記特開昭54−97408号等に開示されて
いる研磨テープは、記録波長が1μm程度の磁気ヘッド
の研磨を行なう研磨テープに関するものであり、かかる
研磨テープでは上記の高性能な磁気ヘッドの研磨には適
さないという不都合があった。
本発明は上記の問題点に鑑みてなされたものであり、記
録波長が0.8μm程度の高密度記録用のフェライト製磁
気ヘッドの研磨に適し、かつ研磨能力も高い研磨テープ
を提供することを目的とするものである。
録波長が0.8μm程度の高密度記録用のフェライト製磁
気ヘッドの研磨に適し、かつ研磨能力も高い研磨テープ
を提供することを目的とするものである。
(課題を解決するための手段および作用) 本出願人は、研磨テープの研磨層の組成について鋭意研
究を重ねた結果、研磨層中の粒状研磨材の粒子サイズお
よび硬度を調整すれば上記目的にかなう研磨テープを作
成することができることを見出すに至った。
究を重ねた結果、研磨層中の粒状研磨材の粒子サイズお
よび硬度を調整すれば上記目的にかなう研磨テープを作
成することができることを見出すに至った。
上記のように導き出された本発明の研磨テープは、可撓
性支持体上に形成される研磨層中の研磨材が、粒子直径
0.07〜0.04μm、モース硬度5〜7の第1の粒子研磨材
と、粒子直径が0.20〜0.60μm、モース硬度8.5以上の
第2の粒状研磨材とからなり、前記第2の粒状研磨材の
重量に対する前記第1の粒状研磨材の重量の比の値が1.
0〜16.0の範囲内にあるように設定され、前記研磨材お
よび前記結合剤を含む前記研磨層中の全固形分重量に対
する前記第1の粒状研磨材の重量と前記第2の粒状研磨
材の重量とを合計した重量の割合が80〜95重量%の範囲
内にあるように設定されていることを特徴とするもので
ある。
性支持体上に形成される研磨層中の研磨材が、粒子直径
0.07〜0.04μm、モース硬度5〜7の第1の粒子研磨材
と、粒子直径が0.20〜0.60μm、モース硬度8.5以上の
第2の粒状研磨材とからなり、前記第2の粒状研磨材の
重量に対する前記第1の粒状研磨材の重量の比の値が1.
0〜16.0の範囲内にあるように設定され、前記研磨材お
よび前記結合剤を含む前記研磨層中の全固形分重量に対
する前記第1の粒状研磨材の重量と前記第2の粒状研磨
材の重量とを合計した重量の割合が80〜95重量%の範囲
内にあるように設定されていることを特徴とするもので
ある。
上記研磨テープにおいては、硬度が高く粒径の大きい第
2の粒状研磨材により研磨能力が高められるとともに、
硬度が低く粒径の小さい第1の粒状研磨材により、被研
磨面が高度に平滑化される。また上記の粒径および硬度
の2種類の粒状研磨材を有する研磨テープを用いれば、
第2の粒状研磨材による粗研磨と第1の粒状研磨材によ
る微細研磨を同時に行なうことができるので、高密度記
録用のフェライト製磁気ヘッドに適した高度な平滑化処
理を研磨能力を低下させることなく行なうことができ
る。
2の粒状研磨材により研磨能力が高められるとともに、
硬度が低く粒径の小さい第1の粒状研磨材により、被研
磨面が高度に平滑化される。また上記の粒径および硬度
の2種類の粒状研磨材を有する研磨テープを用いれば、
第2の粒状研磨材による粗研磨と第1の粒状研磨材によ
る微細研磨を同時に行なうことができるので、高密度記
録用のフェライト製磁気ヘッドに適した高度な平滑化処
理を研磨能力を低下させることなく行なうことができ
る。
なお、上記第1の粒状研磨材の粒子直径は、好ましくは
0.07〜0.15μm、さらに好ましくは0.10〜0.13μmであ
り、第2の粒状研磨材の粒子直径は、好ましくは0.20〜
0.40μm、さらに好ましくは0.30〜0.40μmであり、被
研磨面の平滑度を高めるためには第1の粒状研磨材と第
2の粒状研磨材の粒度分布は1:2程度とするのが好まし
い。
0.07〜0.15μm、さらに好ましくは0.10〜0.13μmであ
り、第2の粒状研磨材の粒子直径は、好ましくは0.20〜
0.40μm、さらに好ましくは0.30〜0.40μmであり、被
研磨面の平滑度を高めるためには第1の粒状研磨材と第
2の粒状研磨材の粒度分布は1:2程度とするのが好まし
い。
また第1の粒状研磨材は、具体的にはα−Fe2O3,TiO2,S
iO2,SnO2等により形成することができ、第2の粒状研磨
材は、具体的には、Cr2O3,Al2O3,SiC等により形成する
ことができる。また本発明では、第1の粒状研磨材の重
量/第2の粒状研磨材の重量が1.0〜16.0の範囲内にあ
るように設定している。
iO2,SnO2等により形成することができ、第2の粒状研磨
材は、具体的には、Cr2O3,Al2O3,SiC等により形成する
ことができる。また本発明では、第1の粒状研磨材の重
量/第2の粒状研磨材の重量が1.0〜16.0の範囲内にあ
るように設定している。
上記重量比が1.0よりも小さいと、被研磨面に深い傷が
つきやすくなり、16.0より大きいと研磨能力が不十分に
なりやすい。なお、第1の粒状研磨材の重量/第2の粒
状研磨材の重量は、好ましくは3.0〜16.0、さらに好ま
しくは7.0〜16.0の範囲内に設定するのがよい。また、
本発明では第1の粒状研磨材と第2の粒状研磨材とを合
わせた重量が、研磨材および結合剤を含む研磨層中の全
固形分重量の80〜95重量%の範囲内にあるように設定し
ている。上記重量が80重量%より少ないと研磨能力が不
十分になり易く、95重量%より大きいと研磨層から研磨
材が脱粒して被研磨面に傷を付けやすくなる。なお、第
1の粒状研磨材と第2の粒状研磨材とを合わせた重量
は、研磨層中の全固形分重量の90〜95重量%の範囲内に
あるように設定するのがより好ましい。さらに、研磨層
の表面粗さ(Ra)は0.046〜0.130μmであるのが好まし
い。
つきやすくなり、16.0より大きいと研磨能力が不十分に
なりやすい。なお、第1の粒状研磨材の重量/第2の粒
状研磨材の重量は、好ましくは3.0〜16.0、さらに好ま
しくは7.0〜16.0の範囲内に設定するのがよい。また、
本発明では第1の粒状研磨材と第2の粒状研磨材とを合
わせた重量が、研磨材および結合剤を含む研磨層中の全
固形分重量の80〜95重量%の範囲内にあるように設定し
ている。上記重量が80重量%より少ないと研磨能力が不
十分になり易く、95重量%より大きいと研磨層から研磨
材が脱粒して被研磨面に傷を付けやすくなる。なお、第
1の粒状研磨材と第2の粒状研磨材とを合わせた重量
は、研磨層中の全固形分重量の90〜95重量%の範囲内に
あるように設定するのがより好ましい。さらに、研磨層
の表面粗さ(Ra)は0.046〜0.130μmであるのが好まし
い。
以下、本発明の実施態様について詳細に説明する。
第1図は本発明の研磨テープを用いた研磨装置の概略図
である。
である。
上記研磨テープ1は、テープ巻き取りリール7が矢印A
方向に回転することによりテープ送り出しリール6から
図中矢印方向に送り出される。この研磨テープ1はその
走行路においてパスロール8により所定のラップ角で被
研磨体であるフェライト製磁気ヘッド5に接触せしめら
れ、この磁気ヘッド5のテープ摺動面の研磨を行なう。
研磨テープ1は、第2図に示すように、ポリエチレンテ
レフタレート(PET)、ポリエチレン−2,6−ナフタレー
ト等からなる可撓性を有する非磁性支持体2上に研磨層
3が塗設されてなるものであり、この研磨層3が上記磁
気ヘッドに摺接することにより研磨が行なわれる。研磨
層3には、平均粒子直径0.07〜0.40μm、モース硬度5
〜7の、比較的硬度が低く小径の第1の粒状研磨材(以
下第1の粒子と称する)4Aと、平均粒子直径0.20〜0.60
μm、モース硬度で8.5以上の、比較的硬度が高く大径
の第2の粒状研磨材(以下第2の粒子と称する)4Bが結
合剤等とともに混練されて塗設されている。被研磨面の
平滑度を高めるためには上記第1の粒状研磨材と第2の
粒状研磨材の粒度分布は1:2程度とするのが好ましく、
例えば第1の粒状研磨材の平均粒子直径が0.11μであ
り、第2の粒状研磨材の平均粒子直径が0.33μであると
すると、粒度分布をTEM像で測定した標準偏差σの値
は、第1の粒状研磨材が0.06μm、第2の粒状研磨材が
0.14μm程度となるのが好ましい。なお、上記結合剤
は、上記2種類の粒子をそれぞれ良好に分散させて研磨
層に結合させるため、分散性の高いものが好ましく、ま
た研磨層には上記研磨材と結合剤の他に、研磨テープが
どのような状態にあっても磁気ヘッドとの十分な潤滑性
を維持して走行安定性を良好に保つことができるよう
に、潤滑剤等の添加剤が含有されることが望ましい。ま
た、上記研磨層3と非磁性支持体2の好ましい厚さは、
磁気ヘッドの研磨形状によって異なるが、研磨テープが
前述したS−VHS方式用のフェライト製磁気ヘッドの仕
上げ研磨を行なうものである場合には、非磁性支持体の
厚さが一例として30μmであれば磁性層の厚さは5μ
m、非磁性支持体の厚さが一例として23μmであれば磁
性層の厚さは10μm程度であるのが好ましい。なお、研
磨層の厚さが大きすぎると、磁気ヘッドと研磨テープの
接触が悪くなるので、研磨層の厚さは常に50μm以下に
するのが好ましい。
方向に回転することによりテープ送り出しリール6から
図中矢印方向に送り出される。この研磨テープ1はその
走行路においてパスロール8により所定のラップ角で被
研磨体であるフェライト製磁気ヘッド5に接触せしめら
れ、この磁気ヘッド5のテープ摺動面の研磨を行なう。
研磨テープ1は、第2図に示すように、ポリエチレンテ
レフタレート(PET)、ポリエチレン−2,6−ナフタレー
ト等からなる可撓性を有する非磁性支持体2上に研磨層
3が塗設されてなるものであり、この研磨層3が上記磁
気ヘッドに摺接することにより研磨が行なわれる。研磨
層3には、平均粒子直径0.07〜0.40μm、モース硬度5
〜7の、比較的硬度が低く小径の第1の粒状研磨材(以
下第1の粒子と称する)4Aと、平均粒子直径0.20〜0.60
μm、モース硬度で8.5以上の、比較的硬度が高く大径
の第2の粒状研磨材(以下第2の粒子と称する)4Bが結
合剤等とともに混練されて塗設されている。被研磨面の
平滑度を高めるためには上記第1の粒状研磨材と第2の
粒状研磨材の粒度分布は1:2程度とするのが好ましく、
例えば第1の粒状研磨材の平均粒子直径が0.11μであ
り、第2の粒状研磨材の平均粒子直径が0.33μであると
すると、粒度分布をTEM像で測定した標準偏差σの値
は、第1の粒状研磨材が0.06μm、第2の粒状研磨材が
0.14μm程度となるのが好ましい。なお、上記結合剤
は、上記2種類の粒子をそれぞれ良好に分散させて研磨
層に結合させるため、分散性の高いものが好ましく、ま
た研磨層には上記研磨材と結合剤の他に、研磨テープが
どのような状態にあっても磁気ヘッドとの十分な潤滑性
を維持して走行安定性を良好に保つことができるよう
に、潤滑剤等の添加剤が含有されることが望ましい。ま
た、上記研磨層3と非磁性支持体2の好ましい厚さは、
磁気ヘッドの研磨形状によって異なるが、研磨テープが
前述したS−VHS方式用のフェライト製磁気ヘッドの仕
上げ研磨を行なうものである場合には、非磁性支持体の
厚さが一例として30μmであれば磁性層の厚さは5μ
m、非磁性支持体の厚さが一例として23μmであれば磁
性層の厚さは10μm程度であるのが好ましい。なお、研
磨層の厚さが大きすぎると、磁気ヘッドと研磨テープの
接触が悪くなるので、研磨層の厚さは常に50μm以下に
するのが好ましい。
また、本発明の研磨テープは、上記のような高性能な磁
気ヘッドの研磨に特に適したものであるが、第3図およ
び第4図に示すように、ハードディスク15の研磨に用い
られてもよい。ハードディスク15を研磨する場合には2
つのゴムローラ18によりハードディスクを挾み、これら
ゴムローラ18により2本の研磨テープ1の研磨層をディ
スクの両面に押し付け、この状態でハードディスク15を
矢印B方向に回転させればディスクの両面を同時に研磨
することができる。なお、この場合には第1図および第
2図に示す磁気ヘッドの研磨に比べて被研磨体(ハード
ディスク)に強い押圧力が加わるが、本発明の研磨テー
プは上述した2種類の粒状研磨材を有するものであるこ
とにより、被研磨体を傷つけるおそれはない。
気ヘッドの研磨に特に適したものであるが、第3図およ
び第4図に示すように、ハードディスク15の研磨に用い
られてもよい。ハードディスク15を研磨する場合には2
つのゴムローラ18によりハードディスクを挾み、これら
ゴムローラ18により2本の研磨テープ1の研磨層をディ
スクの両面に押し付け、この状態でハードディスク15を
矢印B方向に回転させればディスクの両面を同時に研磨
することができる。なお、この場合には第1図および第
2図に示す磁気ヘッドの研磨に比べて被研磨体(ハード
ディスク)に強い押圧力が加わるが、本発明の研磨テー
プは上述した2種類の粒状研磨材を有するものであるこ
とにより、被研磨体を傷つけるおそれはない。
(実施例) つぎにそれぞれ条件を変えて形成された研磨テープによ
る研磨例を挙げ、本発明の研磨テープの望ましい構成に
ついてさらに説明する。なお、以下「部」とは、いずれ
も重量部を示す。
る研磨例を挙げ、本発明の研磨テープの望ましい構成に
ついてさらに説明する。なお、以下「部」とは、いずれ
も重量部を示す。
(テスト例1) 塩化ビニル系樹脂(塩化ビニル87重量%、数平均分子量
2.6×104、エポキシ基含有量3.5重量%、スルホン酸ソ
ーダ基含有量0.5重量%、前記重量%は、塩化ビニル系
樹脂重量に対する重量%である。)8.3部、スルホン酸
基含有ポリウレタン樹脂(分子量25,000−SO3H1つあた
りの分子量25,000)4.8部、ポリイソシアネート(3モ
ルの2,4−トリレンジイソシアネート化合物と1モルの
トリメチロールプロパンの反応生成物の75重量%酢酸エ
チル溶液)9.6部、KF96−100(ジメチルポリシロキサ
ン,粘度100cst)0.2部、メチルエチルケトン100部、シ
クロヘキサノン100部に、第1の粒子として平均粒子直
径0.11μm、モース硬度5.0のα−Fe2O3粒子225部と、
第2の粒子として平均粒子直径0.30μm、モース硬度8.
5のCr2O3粒子75部を加え、ボールミルにより十分に混練
し、得られた塗布液を厚さ23μmの帯状のポリエステル
フィルム上に厚さ10μmになるように塗布して研磨層を
形成した。研磨層が乾燥した後、上記フィルムを巻き取
り、これを1/2インチ幅にスリットして研磨テープを作
成した。
2.6×104、エポキシ基含有量3.5重量%、スルホン酸ソ
ーダ基含有量0.5重量%、前記重量%は、塩化ビニル系
樹脂重量に対する重量%である。)8.3部、スルホン酸
基含有ポリウレタン樹脂(分子量25,000−SO3H1つあた
りの分子量25,000)4.8部、ポリイソシアネート(3モ
ルの2,4−トリレンジイソシアネート化合物と1モルの
トリメチロールプロパンの反応生成物の75重量%酢酸エ
チル溶液)9.6部、KF96−100(ジメチルポリシロキサ
ン,粘度100cst)0.2部、メチルエチルケトン100部、シ
クロヘキサノン100部に、第1の粒子として平均粒子直
径0.11μm、モース硬度5.0のα−Fe2O3粒子225部と、
第2の粒子として平均粒子直径0.30μm、モース硬度8.
5のCr2O3粒子75部を加え、ボールミルにより十分に混練
し、得られた塗布液を厚さ23μmの帯状のポリエステル
フィルム上に厚さ10μmになるように塗布して研磨層を
形成した。研磨層が乾燥した後、上記フィルムを巻き取
り、これを1/2インチ幅にスリットして研磨テープを作
成した。
(テスト例2) テスト例1の第1の粒子の材質をSiO2(モース硬度7.
0)に代え、他の条件はすべてテスト例1と同じにして
研磨テープを作成した。
0)に代え、他の条件はすべてテスト例1と同じにして
研磨テープを作成した。
(テスト例3) テスト例1の第2の粒子の材質をAl2O3(モース硬度9.
0)に代え、他の条件はすべてテスト例1と同じにして
研磨テープを作成した。
0)に代え、他の条件はすべてテスト例1と同じにして
研磨テープを作成した。
(テスト例4) テスト例1の第2の粒子の代りに、テスト例1における
第1の粒子(平均粒子直径0.11μm、モース硬度5.0の
α−Fe2O3)を同様の重量部(75部)だけ加え、他の条
件はすべてテスト例1と同じにして研磨テープを作成し
た。
第1の粒子(平均粒子直径0.11μm、モース硬度5.0の
α−Fe2O3)を同様の重量部(75部)だけ加え、他の条
件はすべてテスト例1と同じにして研磨テープを作成し
た。
(テスト例5) テスト例1の第1の粒子の代りに、テスト例1における
第2の粒子(平均粒子直径0.30μm、モース硬度8.5のC
r2O3)を同様の重量部(225部)だけ加え、他の条件は
すべてテスト例1と同じにして研磨テープを作成した。
第2の粒子(平均粒子直径0.30μm、モース硬度8.5のC
r2O3)を同様の重量部(225部)だけ加え、他の条件は
すべてテスト例1と同じにして研磨テープを作成した。
(テスト例6) テスト例1の第1の粒子の代りに直径0.1μm長さ1μ
m、モース硬度5.0の針状α−Fe2O3を同様の重量部(22
5部)だけ加え、また第2の粒子の平均粒子直径を0.50
μmに変え、その他の条件はすべてテスト例1と同じに
して研磨テープを作成した。
m、モース硬度5.0の針状α−Fe2O3を同様の重量部(22
5部)だけ加え、また第2の粒子の平均粒子直径を0.50
μmに変え、その他の条件はすべてテスト例1と同じに
して研磨テープを作成した。
(テスト例7) テスト例1の第1の粒子の代りに直径0.06μm長さ0.5
μm、モース硬度5.0の針状α−Fe2O3を同様の重量部
(225部)だけ加え、また第2の粒子の平均粒子直径を
0.25μmに変え、その他の条件はすべてテスト例1と同
じにして研磨テープを作成した。
μm、モース硬度5.0の針状α−Fe2O3を同様の重量部
(225部)だけ加え、また第2の粒子の平均粒子直径を
0.25μmに変え、その他の条件はすべてテスト例1と同
じにして研磨テープを作成した。
(テスト例8) テスト例1の第1の粒子の平均粒子直径を0.03μmに変
え、他の条件はすべてテスト例1と同じにして研磨テー
プを作成した。
え、他の条件はすべてテスト例1と同じにして研磨テー
プを作成した。
(テスト例9) テスト例1の第1の粒子の平均粒子直径を0.07μmに変
え、他の条件はすべてテスト例1と同じにして研磨テー
プを作成した。
え、他の条件はすべてテスト例1と同じにして研磨テー
プを作成した。
(テスト例10) テスト例1の第1の粒子の平均粒子直径を0.40μmに変
え、他の条件はすべてテスト例1と同じにして研磨テー
プを作成した。
え、他の条件はすべてテスト例1と同じにして研磨テー
プを作成した。
(テスト例11) テスト例1の第1の粒子の平均粒子直径を0.80μmに変
え、他の条件はすべてテスト例1と同じにして研磨テー
プを作成した。
え、他の条件はすべてテスト例1と同じにして研磨テー
プを作成した。
(テスト例12) テスト例1の第2の粒子の平均粒子直径を0.08μmに変
え、他の条件はすべてテスト例1と同じにして研磨テー
プを作成した。
え、他の条件はすべてテスト例1と同じにして研磨テー
プを作成した。
(テスト例13) テスト例1の第2の粒子の平均粒子直径を0.20μmに変
え、他の条件はすべてテスト例1と同じにして研磨テー
プを作成した。
え、他の条件はすべてテスト例1と同じにして研磨テー
プを作成した。
(テスト例14) テスト例1の第2の粒子の平均粒子直径を0.60μmに変
え、他の条件はすべてテスト例1と同じにして研磨テー
プを作成した。
え、他の条件はすべてテスト例1と同じにして研磨テー
プを作成した。
(テスト例15) テスト例1の第2の粒子の平均粒子直径を0.80μmに変
え、他の条件はすべてテスト例1と同じにして研磨テー
プを作成した。
え、他の条件はすべてテスト例1と同じにして研磨テー
プを作成した。
(テスト例16) テスト例1における第1の粒子と第2の粒子の総重量を
変えずに、重量比(第1の粒子/第2の粒子)が0.5と
なるように両粒子の配合量を変え、他の条件はすべてテ
スト例1と同じにして研磨テープを作成した。
変えずに、重量比(第1の粒子/第2の粒子)が0.5と
なるように両粒子の配合量を変え、他の条件はすべてテ
スト例1と同じにして研磨テープを作成した。
(テスト例17) テスト例1における第1の粒子と第2の粒子の総重量を
変えずに、重量比(第1の粒子/第2の粒子)が1.0と
なるように両粒子の配合量を変え、他の条件はすべてテ
スト例1と同じにして研磨テープを作成した。
変えずに、重量比(第1の粒子/第2の粒子)が1.0と
なるように両粒子の配合量を変え、他の条件はすべてテ
スト例1と同じにして研磨テープを作成した。
(テスト例18) テスト例1における第1の粒子と第2の粒子の総重量を
変えずに、重量比(第1の粒子/第2の粒子)が10.0と
なるように両粒子の配合量を変え、他の条件はすべてテ
スト例1と同じにして研磨テープを作成した。
変えずに、重量比(第1の粒子/第2の粒子)が10.0と
なるように両粒子の配合量を変え、他の条件はすべてテ
スト例1と同じにして研磨テープを作成した。
(テスト例19) テスト例1における第1の粒子と第2の粒子の総重量を
変えずに、重量比(第1の粒子/第2の粒子)が16.0と
なるように両粒子の配合量を変え、他の条件はすべてテ
スト例1と同じにして研磨テープを作成した。
変えずに、重量比(第1の粒子/第2の粒子)が16.0と
なるように両粒子の配合量を変え、他の条件はすべてテ
スト例1と同じにして研磨テープを作成した。
(テスト例20) テスト例1における第1の粒子と第2の粒子の総重量を
変えずに、重量比(第1の粒子/第2の粒子)が32.0と
なるように両粒子の配合量を変え、他の条件はすべてテ
スト例1と同じにして研磨テープを作成した。
変えずに、重量比(第1の粒子/第2の粒子)が32.0と
なるように両粒子の配合量を変え、他の条件はすべてテ
スト例1と同じにして研磨テープを作成した。
(テスト例21) テスト例1における第1の粒子と第2の粒子の総重量を
変えずに、両粒子の重量%(両粒子の総重量×100/両粒
子の総重量+結合剤中の固形分重量)が50%となるよう
に各粒子の配合量を変え、他の条件はすべてテスト例1
と同じにして研磨テープを作成した。
変えずに、両粒子の重量%(両粒子の総重量×100/両粒
子の総重量+結合剤中の固形分重量)が50%となるよう
に各粒子の配合量を変え、他の条件はすべてテスト例1
と同じにして研磨テープを作成した。
(テスト例22) テスト例1における第1の粒子と第2の粒子の重量比を
変えずに、両粒子の重量%(両粒子の総重量×100/両粒
子の総重量+結合剤中の固形分重量)が70%となるよう
に各粒子の配合量を変え、他の条件はすべてテスト例1
と同じにして研磨テープを作成した。
変えずに、両粒子の重量%(両粒子の総重量×100/両粒
子の総重量+結合剤中の固形分重量)が70%となるよう
に各粒子の配合量を変え、他の条件はすべてテスト例1
と同じにして研磨テープを作成した。
(テスト例23) テスト例1における第1の粒子と第2の粒子の重量比を
変えずに、両粒子の重量%(両粒子の総重量×100/両粒
子の総重量+結合剤中の固形分重量)が80%となるよう
に各粒子の配合量を変え、他の条件はすべてテスト例1
と同じにして研磨テープを作成した。
変えずに、両粒子の重量%(両粒子の総重量×100/両粒
子の総重量+結合剤中の固形分重量)が80%となるよう
に各粒子の配合量を変え、他の条件はすべてテスト例1
と同じにして研磨テープを作成した。
(テスト例24) テスト例1における第1の粒子と第2の粒子の重量比を
変えずに、両粒子の重量%(両粒子の総重量×100/両粒
子の総重量+結合剤中の固形分重量)が90%となるよう
に各粒子の配合量を変え、他の条件はすべてテスト例1
と同じにして研磨テープを作成した。
変えずに、両粒子の重量%(両粒子の総重量×100/両粒
子の総重量+結合剤中の固形分重量)が90%となるよう
に各粒子の配合量を変え、他の条件はすべてテスト例1
と同じにして研磨テープを作成した。
(テスト例25) テスト例1における第1の粒子と第2の粒子の重量比を
変えずに、両粒子の重量%(両粒子の総重量×100/両粒
子の総重量+結合剤中の固形分重量)が95%となるよう
に各粒子の配合量を変え、他の条件はすべてテスト例1
と同じにして研磨テープを作成した。
変えずに、両粒子の重量%(両粒子の総重量×100/両粒
子の総重量+結合剤中の固形分重量)が95%となるよう
に各粒子の配合量を変え、他の条件はすべてテスト例1
と同じにして研磨テープを作成した。
(テスト例26) テスト例1における第1の粒子と第2の粒子の重量比を
変えずに、両粒子の重量%(両粒子の総重量×100/両粒
子の総重量+結合剤中の固形分重量)が97%となるよう
に各粒子の配合量を変え、他の条件はすべてテスト例1
と同じにして研磨テープを作成した。
変えずに、両粒子の重量%(両粒子の総重量×100/両粒
子の総重量+結合剤中の固形分重量)が97%となるよう
に各粒子の配合量を変え、他の条件はすべてテスト例1
と同じにして研磨テープを作成した。
(テスト例27) テスト例1において、第1の研磨材をモース硬度が5未
満であるCaCO3(平均粒子直径0.11μm)に替えた以外
は、テスト例1と同一の条件で研磨テープを作成した。
満であるCaCO3(平均粒子直径0.11μm)に替えた以外
は、テスト例1と同一の条件で研磨テープを作成した。
(テスト例28) テスト例1において、第1の研磨材をモース硬度が7を
超え8.5未満のSiO4(平均粒子直径0.12μm)に替えた
以外は、テスト例1と同一の条件で研磨テープを作成し
た。
超え8.5未満のSiO4(平均粒子直径0.12μm)に替えた
以外は、テスト例1と同一の条件で研磨テープを作成し
た。
(テスト例29) テスト例1において、第2の研磨材をモース硬度が7を
超え8.5未満のα−Fe2O4(平均粒子直径0.11μm)に替
えた以外は、テスト例1と同一の条件で研磨テープを作
成した。
超え8.5未満のα−Fe2O4(平均粒子直径0.11μm)に替
えた以外は、テスト例1と同一の条件で研磨テープを作
成した。
上記テスト例1〜29により作成された研磨テープの、第
1の粒子,第2の粒子に関するデータおよび研磨層の表
面粗さ(Ra)を下記の表1にまとめて示す。なお表1中
の(A)は、前述した第1の粒子と第2の粒子の重量比
(第1の粒子の重量/第2の粒子の重量)であり、
(B)は、第1および第2の粒子の重量%(第1および
第2の粒子の総重量×100/第1および第2の粒子の総重
量+結合剤の固形分重量)である。なお、研磨層の表面
粗さ(Ra)は、カットオフ0.8mm、触針半径2μm、触
針スピード3mm/secの条件で測定した。
1の粒子,第2の粒子に関するデータおよび研磨層の表
面粗さ(Ra)を下記の表1にまとめて示す。なお表1中
の(A)は、前述した第1の粒子と第2の粒子の重量比
(第1の粒子の重量/第2の粒子の重量)であり、
(B)は、第1および第2の粒子の重量%(第1および
第2の粒子の総重量×100/第1および第2の粒子の総重
量+結合剤の固形分重量)である。なお、研磨層の表面
粗さ(Ra)は、カットオフ0.8mm、触針半径2μm、触
針スピード3mm/secの条件で測定した。
上記テスト例1〜29により製造された研磨テープをそれ
ぞれ研磨装置に装填し、予め粗研磨および中間研磨が終
了し、表面粗さが0.38μmとなっているフェライト製ビ
デオヘッド(磁気ヘッド)の研磨を行ない、磁気ヘッド
の研磨時間、研磨後における磁気ヘッドの表面粗さ(R
a)、磁気ヘッドの再生感度を調べ、さらにテスト例1,2
1〜29については、研磨後における脱落研磨粒子数を調
べた。その結果を総合評価とともに表2に示す。なお、
磁気ヘッド研磨時間はフェライトヘッド1μmを研磨す
るのに必要な時間であり、また研磨後における磁気ヘッ
ド表面粗さ(Ra)は、磁気ヘッドを16秒間仕上研磨した
後、そのヘッドのギャップ表面をカットオフ0.8mm、触
針半径2μm、触針スピード0.3mm/secの条件で測定し
たものである。また磁気ヘッドの再生感度は磁気ヘッド
を16秒間仕上げ研磨した後、測定したものであり、標準
の磁気ヘッド、磁気テープを用いて5MHzの信号を記録再
生したときの出力を予め測定し、その値を0dBとして、
各テスト例の研磨テープにより研磨されたビデオヘッド
により上記信号を再生した出力を相対値で示したもので
ある。また研磨後における脱落研磨粒子数は、磁気ヘッ
ドを仕上研磨した後の研磨テープ表面を電子顕微鏡(50
00倍)で観察し、脱落した研磨粒子数を凹み数により計
数し相対値で表わしたものである。
ぞれ研磨装置に装填し、予め粗研磨および中間研磨が終
了し、表面粗さが0.38μmとなっているフェライト製ビ
デオヘッド(磁気ヘッド)の研磨を行ない、磁気ヘッド
の研磨時間、研磨後における磁気ヘッドの表面粗さ(R
a)、磁気ヘッドの再生感度を調べ、さらにテスト例1,2
1〜29については、研磨後における脱落研磨粒子数を調
べた。その結果を総合評価とともに表2に示す。なお、
磁気ヘッド研磨時間はフェライトヘッド1μmを研磨す
るのに必要な時間であり、また研磨後における磁気ヘッ
ド表面粗さ(Ra)は、磁気ヘッドを16秒間仕上研磨した
後、そのヘッドのギャップ表面をカットオフ0.8mm、触
針半径2μm、触針スピード0.3mm/secの条件で測定し
たものである。また磁気ヘッドの再生感度は磁気ヘッド
を16秒間仕上げ研磨した後、測定したものであり、標準
の磁気ヘッド、磁気テープを用いて5MHzの信号を記録再
生したときの出力を予め測定し、その値を0dBとして、
各テスト例の研磨テープにより研磨されたビデオヘッド
により上記信号を再生した出力を相対値で示したもので
ある。また研磨後における脱落研磨粒子数は、磁気ヘッ
ドを仕上研磨した後の研磨テープ表面を電子顕微鏡(50
00倍)で観察し、脱落した研磨粒子数を凹み数により計
数し相対値で表わしたものである。
また、総合評価は、生産性,研磨状態ともに好ましいも
のに「○」、特に好ましくはないが実用上問題とならな
いものに「△」、生産性,研磨状態の少なくともいずれ
か一方が実用上問題となるものに「×」を付した。すな
わち生産性については研磨時間を検討し、研磨時間のみ
については15〜30秒であれば「○」、31〜55秒であれば
「△」、56以上であれば「×」とし、また研磨状態につ
いては再生感度を検討し、再生感度のみについては+0.
5dB以上であれば「○」、+0.4〜0dBであれば「△」、0
dB以下は「×」とした。上記2つの測定項目のうち一方
でも「×」があれば総合評価は「×」、一方でも「△」
があれば総合評価は「△」、両方とも「○」である場合
のみ総合評価を「○」とした。
のに「○」、特に好ましくはないが実用上問題とならな
いものに「△」、生産性,研磨状態の少なくともいずれ
か一方が実用上問題となるものに「×」を付した。すな
わち生産性については研磨時間を検討し、研磨時間のみ
については15〜30秒であれば「○」、31〜55秒であれば
「△」、56以上であれば「×」とし、また研磨状態につ
いては再生感度を検討し、再生感度のみについては+0.
5dB以上であれば「○」、+0.4〜0dBであれば「△」、0
dB以下は「×」とした。上記2つの測定項目のうち一方
でも「×」があれば総合評価は「×」、一方でも「△」
があれば総合評価は「△」、両方とも「○」である場合
のみ総合評価を「○」とした。
上記の表1および表2から、まずテスト例1〜5につい
てみると、第1の粒子,第2の粒子とも、平均粒子直
径、モース硬度が本発明の範囲にあるテスト例1〜3に
ついては、研磨時間が短くなるとともに、被研磨面の表
面粗さが小さくなり、その結果として再生感度が大きく
なっており、研磨能力と磁気ヘッドの表面平滑度が共に
すぐれた良好な研磨を行なうことができることが確認さ
れた。一方、テスト例4の研磨テープは、小径で柔らか
い第1の粒子のみからなるため、研磨時間が著しく長く
なり、またテスト例5の研磨テープは、大径で硬い第2
の粒子のみからなるため、表面粗さが大きくなって再生
感度の低下を招いた。このように本発明の研磨テープは
2種類の研磨粒子を併用したことにより、研磨能力と磁
気ヘッド平滑度を共に良好に高めることができるものと
なっている。
てみると、第1の粒子,第2の粒子とも、平均粒子直
径、モース硬度が本発明の範囲にあるテスト例1〜3に
ついては、研磨時間が短くなるとともに、被研磨面の表
面粗さが小さくなり、その結果として再生感度が大きく
なっており、研磨能力と磁気ヘッドの表面平滑度が共に
すぐれた良好な研磨を行なうことができることが確認さ
れた。一方、テスト例4の研磨テープは、小径で柔らか
い第1の粒子のみからなるため、研磨時間が著しく長く
なり、またテスト例5の研磨テープは、大径で硬い第2
の粒子のみからなるため、表面粗さが大きくなって再生
感度の低下を招いた。このように本発明の研磨テープは
2種類の研磨粒子を併用したことにより、研磨能力と磁
気ヘッド平滑度を共に良好に高めることができるものと
なっている。
また、テスト例6,7の研磨テープは、前述した特開昭54
−97408号に開示されているのと同様の研磨粒子を第1
の粒子,第2の粒子として含有するものであるが、この
場合には、第1の粒子の長さがそれぞれ1μmおよび0.
5μmと長くなっていることと、該第1の粒子が針状で
あるために分散されにくく、磁気ヘッドの表面粗さが高
くなってしまう。従ってかかる研磨テープは高性能な磁
気ヘッドの研磨を行なうものとしては不適当である。
−97408号に開示されているのと同様の研磨粒子を第1
の粒子,第2の粒子として含有するものであるが、この
場合には、第1の粒子の長さがそれぞれ1μmおよび0.
5μmと長くなっていることと、該第1の粒子が針状で
あるために分散されにくく、磁気ヘッドの表面粗さが高
くなってしまう。従ってかかる研磨テープは高性能な磁
気ヘッドの研磨を行なうものとしては不適当である。
次にテスト例1とともに、テスト例8〜15についてみる
と、第1の粒子の平均粒子直径が0.07μmを下回った場
合(テスト例8)と、第2の粒子の平均粒子直径が0.2
μmを下回った場合(テスト例12)は、磁気ヘッドの研
磨時間が長く、生産性が悪くなり、また第1の粒子の平
均粒子直径が0.40μmを上回った場合(テスト例11)
と、第2の粒子の平均粒子直径が0.60μmを上回った場
合(テスト例15)は、磁気ヘッドの表面粗さが大きくな
って再生出力が低くなった。従って両粒子の平均粒子直
径は、第1の粒子が0.07〜0.40μm、第2の粒子が0.20
〜0.60μmであることが必要であることが確認された。
と、第1の粒子の平均粒子直径が0.07μmを下回った場
合(テスト例8)と、第2の粒子の平均粒子直径が0.2
μmを下回った場合(テスト例12)は、磁気ヘッドの研
磨時間が長く、生産性が悪くなり、また第1の粒子の平
均粒子直径が0.40μmを上回った場合(テスト例11)
と、第2の粒子の平均粒子直径が0.60μmを上回った場
合(テスト例15)は、磁気ヘッドの表面粗さが大きくな
って再生出力が低くなった。従って両粒子の平均粒子直
径は、第1の粒子が0.07〜0.40μm、第2の粒子が0.20
〜0.60μmであることが必要であることが確認された。
また、テスト例1とともにテスト例16〜20についてみる
と、第1の粒子が平均粒子直径が0.11μm、モース硬度
が5のα−Fe2O3であり、第2の粒子が平均粒子直径が
0.30μm、モース硬度が8.5のCr2O3である場合には、両
粒子の重量比が1.0を下回ると(テスト例16)、Cr2O3の
量が多くなるため、磁気ヘッドの表面粗さが大きくなっ
て再生出力が低下し、上記重量比が16.0を上回ると(テ
スト例20)、α−Fe2O3の量が多くなるため、研磨時間
が長くなる。従って上記重量比は1.0〜16.0の範囲が好
ましい。なおこの好ましい重量比の範囲は、第1および
第2の粒子として具体的に用いられる粒子の種類に応じ
て変化するので、本発明の研磨テープにおける重量比は
上記の数値に限定されるものではない。
と、第1の粒子が平均粒子直径が0.11μm、モース硬度
が5のα−Fe2O3であり、第2の粒子が平均粒子直径が
0.30μm、モース硬度が8.5のCr2O3である場合には、両
粒子の重量比が1.0を下回ると(テスト例16)、Cr2O3の
量が多くなるため、磁気ヘッドの表面粗さが大きくなっ
て再生出力が低下し、上記重量比が16.0を上回ると(テ
スト例20)、α−Fe2O3の量が多くなるため、研磨時間
が長くなる。従って上記重量比は1.0〜16.0の範囲が好
ましい。なおこの好ましい重量比の範囲は、第1および
第2の粒子として具体的に用いられる粒子の種類に応じ
て変化するので、本発明の研磨テープにおける重量比は
上記の数値に限定されるものではない。
さらにテスト例1とともにテスト例21〜26についてみる
と、第1および第2の粒子の重量%が70%を下回ると
(テスト例21)研磨時間が長くなり、まら95%を上回る
と(テスト例26)研磨粒子の脱落が多くなり、磁気ヘッ
ドに傷をつけてしまい易い。従って上記重量%は70〜95
%の範囲が好ましい。なおこの好ましい重量%の範囲
は、第1および第2の粒子として具体的に用いられる粒
子の種類に応じて変化するので、本発明の研磨テープに
おける重量%は上記の数値に限定されるものではない。
と、第1および第2の粒子の重量%が70%を下回ると
(テスト例21)研磨時間が長くなり、まら95%を上回る
と(テスト例26)研磨粒子の脱落が多くなり、磁気ヘッ
ドに傷をつけてしまい易い。従って上記重量%は70〜95
%の範囲が好ましい。なおこの好ましい重量%の範囲
は、第1および第2の粒子として具体的に用いられる粒
子の種類に応じて変化するので、本発明の研磨テープに
おける重量%は上記の数値に限定されるものではない。
またテスト例1とともにテスト例27〜29についてみる
と、次のことがわかる。すなわち、第1の粒子のモース
硬度が低いと研磨時間が長くなり(テスト例27)、第1
の粒子のモース硬度が高くなると研磨される磁気ヘッド
表面の粗さが大きくなって、それを用いた場合の出力が
低下する(テスト例28)。また、第2の粒子のモース硬
度が8.5未満でも研磨時間が長くなる(テスト例29)。
と、次のことがわかる。すなわち、第1の粒子のモース
硬度が低いと研磨時間が長くなり(テスト例27)、第1
の粒子のモース硬度が高くなると研磨される磁気ヘッド
表面の粗さが大きくなって、それを用いた場合の出力が
低下する(テスト例28)。また、第2の粒子のモース硬
度が8.5未満でも研磨時間が長くなる(テスト例29)。
また上述した各テスト例から明らかであるように、本発
明の研磨テープの好ましい特性はその表面粗さとも関連
性があり、その好ましい範囲は0.046〜0.130μmであ
る。
明の研磨テープの好ましい特性はその表面粗さとも関連
性があり、その好ましい範囲は0.046〜0.130μmであ
る。
さらに、本発明の研磨テープの研磨粒子以外の好ましい
組成について調べるため、以下の3つの比較例に示す方
法により研磨テープを作成した。
組成について調べるため、以下の3つの比較例に示す方
法により研磨テープを作成した。
(比較例1) テスト例1の研磨塗布液からスルホン酸基含有ポリウレ
タン樹脂(4.8部)を除去し、他の条件はすべてテスト
例1と同じにして研磨テープを作成した。
タン樹脂(4.8部)を除去し、他の条件はすべてテスト
例1と同じにして研磨テープを作成した。
(比較例2) テスト例1の研磨塗布液から塩化ビニル系樹脂(8.3
部)を除去し、他の条件はすべてテスト例1と同じにし
て研磨テープを作成した。
部)を除去し、他の条件はすべてテスト例1と同じにし
て研磨テープを作成した。
(比較例3) テスト例1の研磨塗布液からポリイソシアネート(9.6
部)を除去し、他の条件はすべてテスト例1と同じにし
て研磨テープを作成した。
部)を除去し、他の条件はすべてテスト例1と同じにし
て研磨テープを作成した。
テスト例1および比較例1〜3の研磨テープにより、フ
ェライト製ビデオヘッドをそれぞれ1分間研磨し、その
被研磨面を顕微鏡により観察し、長さ2μm以上の傷の
数をカウントした。これとともに各研磨テープをそれぞ
れ磁気ヘッドに接触させたまま、60℃,80%RHの環境で
3日間保った後、ヘッド表面の腐蝕の有無を観察した。
その結果を下記の表3に示す。
ェライト製ビデオヘッドをそれぞれ1分間研磨し、その
被研磨面を顕微鏡により観察し、長さ2μm以上の傷の
数をカウントした。これとともに各研磨テープをそれぞ
れ磁気ヘッドに接触させたまま、60℃,80%RHの環境で
3日間保った後、ヘッド表面の腐蝕の有無を観察した。
その結果を下記の表3に示す。
上記の結果からも明らかなように、スルホン酸基含有ポ
リウレタン樹脂は、スルホン酸基から研磨材の分散に寄
与し、その結果研磨材を研磨層に均一に分散させ研磨層
表面を平滑にするため、被研磨面の傷つきを防止するも
のであり、また塩化ビニル系樹脂のエポキシ基は、脱塩
酸を防止し、その結果脱塩酸による被研磨面の腐蝕、特
に腐蝕されやすいパーマロイ等から成る被研磨面の腐蝕
を防止するという作用をなすものであり、さらにポリイ
ソシアネートは硬化剤として働き、結合剤が三次元網目
構造を形成するため研磨粒子の研磨層からの脱落を防止
し、このため、脱落研磨粒子が被研磨面との間に存在し
て被研磨面が傷つくことを防止する。従って本発明の研
磨テープの研磨層には、上記組成の添加剤が加えられる
こと望ましい。
リウレタン樹脂は、スルホン酸基から研磨材の分散に寄
与し、その結果研磨材を研磨層に均一に分散させ研磨層
表面を平滑にするため、被研磨面の傷つきを防止するも
のであり、また塩化ビニル系樹脂のエポキシ基は、脱塩
酸を防止し、その結果脱塩酸による被研磨面の腐蝕、特
に腐蝕されやすいパーマロイ等から成る被研磨面の腐蝕
を防止するという作用をなすものであり、さらにポリイ
ソシアネートは硬化剤として働き、結合剤が三次元網目
構造を形成するため研磨粒子の研磨層からの脱落を防止
し、このため、脱落研磨粒子が被研磨面との間に存在し
て被研磨面が傷つくことを防止する。従って本発明の研
磨テープの研磨層には、上記組成の添加剤が加えられる
こと望ましい。
(発明の効果) 以上詳細に説明したように本発明の研磨テープによれ
ば、小径かつ硬度の低い第1の粒状研磨材と、大径かつ
硬度の高い第2の粒状研磨材を研磨材として含有するこ
ことにより、第2の粒状研磨材により粗い研磨を効率よ
く行なうのと同時に第1の粒状研磨材により平滑化仕上
げを行なうことができ、研磨能力と、被研磨面の平滑度
を共に高めて高性能な磁気ヘッド等に適した研磨を効率
よく行なうことができる。
ば、小径かつ硬度の低い第1の粒状研磨材と、大径かつ
硬度の高い第2の粒状研磨材を研磨材として含有するこ
ことにより、第2の粒状研磨材により粗い研磨を効率よ
く行なうのと同時に第1の粒状研磨材により平滑化仕上
げを行なうことができ、研磨能力と、被研磨面の平滑度
を共に高めて高性能な磁気ヘッド等に適した研磨を効率
よく行なうことができる。
第1図は本発明の研磨テープを用いた研磨装置の概略
図、 第2図は上記研磨テープと磁気ヘッドの拡大図、 第3図は他の研磨装置の概略斜視図、 第4図はその断面図である。 1……研磨テープ、2……非磁性支持体 3……研磨層 4A……第1の粒状研磨材(第1の粒子) 4B……第2の粒状研磨材(第2の粒子) 5……磁気ヘッド
図、 第2図は上記研磨テープと磁気ヘッドの拡大図、 第3図は他の研磨装置の概略斜視図、 第4図はその断面図である。 1……研磨テープ、2……非磁性支持体 3……研磨層 4A……第1の粒状研磨材(第1の粒子) 4B……第2の粒状研磨材(第2の粒子) 5……磁気ヘッド
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 岩嵜 孝志 神奈川県小田原市扇町2丁目12番1号 富 士写真フイルム株式会社内 (72)発明者 鈴木 正美 神奈川県小田原市扇町2丁目12番1号 富 士写真フイルム株式会社内 (72)発明者 米山 高史 神奈川県小田原市扇町2丁目12番1号 富 士写真フイルム株式会社内 (72)発明者 古謝 秀明 神奈川県南足柄市中沼210番地 富士写真 フイルム株式会社内 (56)参考文献 特開 昭60−242972(JP,A) 実開 昭58−31955(JP,U)
Claims (1)
- 【請求項1】研磨材および結合剤を含む研磨層が可撓性
支持体上に形成されてなるフェライト製磁気ヘッド研磨
用の研磨テープにおいて、前記研磨材が、粒子直径0.07
〜0.40μm、モース硬度5〜7の第1の粒状研磨材と、
粒子直径0.20〜0.60μm、モース硬度8.5以上の第2の
粒状研磨材とからなり、前記第2の粒状研磨材の重量に
対する前記第1の粒状研磨材の重量の比の値が1.0〜16.
0の範囲内にあるように設定され、前記研磨材および前
記結合剤を含む前記研磨層中の全固形分重量に対する前
記第1の粒状研磨材の重量と前記第2の粒状研磨材の重
量とを合計した重量の割合が80〜95重量%の範囲内にあ
るように設定されていることを特徴とする研磨テープ。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63090951A JPH07102505B2 (ja) | 1988-04-13 | 1988-04-13 | 研磨テープ |
US07/337,778 US4922675A (en) | 1988-04-13 | 1989-04-13 | Abrasive tape |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63090951A JPH07102505B2 (ja) | 1988-04-13 | 1988-04-13 | 研磨テープ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01264776A JPH01264776A (ja) | 1989-10-23 |
JPH07102505B2 true JPH07102505B2 (ja) | 1995-11-08 |
Family
ID=14012784
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63090951A Expired - Fee Related JPH07102505B2 (ja) | 1988-04-13 | 1988-04-13 | 研磨テープ |
Country Status (2)
Country | Link |
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US (1) | US4922675A (ja) |
JP (1) | JPH07102505B2 (ja) |
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JP2542264B2 (ja) * | 1989-08-10 | 1996-10-09 | 富士写真フイルム株式会社 | 研磨テ―プ |
US5152809A (en) * | 1990-07-16 | 1992-10-06 | Herbert Glatt | Scrub puff |
DE4100167A1 (de) * | 1991-01-05 | 1992-07-16 | Ver Schmirgel & Maschf | Schleifmittel und verfahren zu seiner herstellung |
JP2889994B2 (ja) * | 1991-01-09 | 1999-05-10 | 富士写真フイルム株式会社 | 研磨テープおよび磁気ヘッドの研磨方法 |
JP2729189B2 (ja) * | 1991-09-03 | 1998-03-18 | ダイアホイルヘキスト株式会社 | 磁気記録媒体用積層ポリエステルフィルム |
US5213589A (en) * | 1992-02-07 | 1993-05-25 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Abrasive articles including a crosslinked siloxane, and methods of making and using same |
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US6165239A (en) * | 1997-07-28 | 2000-12-26 | 3M Innovative Properties Company | Aqueous sulfopolyurea colloidal dispersions, films and abrasive articles |
JP2910748B2 (ja) * | 1997-11-12 | 1999-06-23 | 日本電気株式会社 | 異質同軸部材の端面の球状加工装置及びその方法 |
US6649727B1 (en) | 2000-07-27 | 2003-11-18 | 3M Innovative Properties Company | Aqueous colloidal dispersions of sulfonated polyurethane ureas and products |
US6517821B1 (en) | 2000-07-27 | 2003-02-11 | L'oreal | Reshapable hair styling composition comprising aqueous colloidal dispersions of sulfonated polyurethane urea |
JP5267164B2 (ja) * | 2009-01-30 | 2013-08-21 | コニカミノルタビジネステクノロジーズ株式会社 | 電子写真感光体の表面研磨方法 |
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JPS54143608A (en) * | 1978-04-29 | 1979-11-09 | Victor Co Of Japan Ltd | Magnetic recording medium |
JPS5613525A (en) * | 1979-07-16 | 1981-02-09 | Tdk Corp | Magnetic recording medium |
JPS576439A (en) * | 1980-06-13 | 1982-01-13 | Tdk Corp | Magnetic recording medium |
JPS5831955U (ja) * | 1981-08-20 | 1983-03-02 | 株式会社東芝 | 研摩ベルト |
JPS58172652A (ja) * | 1982-04-02 | 1983-10-11 | Ricoh Co Ltd | セレン系電子写真感光体の製造方法 |
JPS60136913A (ja) * | 1983-12-26 | 1985-07-20 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
CA1266569A (en) * | 1984-05-09 | 1990-03-13 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Coated abrasive product incorporating selective mineral substitution |
DE3473958D1 (en) * | 1984-10-31 | 1988-10-13 | Ibm Deutschland | Magnetic disc and process for producing it |
US4778714A (en) * | 1985-10-11 | 1988-10-18 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Nonabrasive magnetic recording tape |
JPH0736216B2 (ja) * | 1985-10-15 | 1995-04-19 | 日立マクセル株式会社 | 磁気デイスク |
JPH0741530B2 (ja) * | 1985-11-27 | 1995-05-10 | 株式会社日立製作所 | 磁気デイスクの製造方法 |
US4773920B1 (en) * | 1985-12-16 | 1995-05-02 | Minnesota Mining & Mfg | Coated abrasive suitable for use as a lapping material. |
JPS62246476A (ja) * | 1986-04-18 | 1987-10-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | 研磨テ−プの製造方法 |
-
1988
- 1988-04-13 JP JP63090951A patent/JPH07102505B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1989
- 1989-04-13 US US07/337,778 patent/US4922675A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH01264776A (ja) | 1989-10-23 |
US4922675A (en) | 1990-05-08 |
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