JPS62246476A - 研磨テ−プの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は磁気ヘッドを研磨ザる研磨テープの製造方法に
関し、詳しくはこの研磨テープの可撓性支持体上に塗布
する研磨液の調液に関するものである。

（従来技術） 研磨剤と結合剤（以下バインダという）等を調液して研
磨液を生成し、この研磨液を長尺の可撓性支持体−ヒに
塗布し、この模この研磨液を乾燥して研磨テープを製造
する方法が知られている。

このにうな研磨テープの製造方法においては、でき上っ
た研磨テープにおける研磨剤の脱粒を減少させることお
よび研Ｗ！塗模の平Ｗ１性を向上さびることが課題とさ
れている。

このような課題を解決するためには適切なｏｉｔｌｌＬ
液を生成することが必要で、このためには調液を適切な
処理により行なうことが必要である。すなわち、研磨剤
の脱粒を防止するためには研磨剤とバインダの結合力を
高めておく必要があり、まＩミ研磨塗膜の平滑性を向上
させるためには研磨剤を一次粒子の状態でバインダ中に
均一に分散させる必要があり、このような点を考慮して
上記課題を解決し得る処理を行なうべきである。

ところが、従来よく知られているボールミルを用いた調
液方法（特開昭５５−１２９９２７４、クリーニングテ
ープ：日立マクセル）によっては短時聞のうちに研磨剤
とバインダの結合力を十分に向上さＩることが困難であ
り、また、研磨剤を一次粒子まで十分に微分散させるこ
とも困難であって上記課題を解決したとはいえなかった
。また、やはり従来よく知られているロールミルを用い
た調液方法（特公昭５３−４４７１４号、研磨テープ：
独逸顔料工ＩＡ）によって６研磨剤とバインダの結合力
を十分に向上さ「ることが困難であり、また、研磨剤を
一次粒子まで微分散させることは極めて困難であって上
記課題を解決することができなかった。

（発明の目的） 本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、研磨剤
の脱粒を減少させ得るとともに研ｓｒｓの平滑性を向上
さ１！得る研磨テープの製造方法を提供することを目的
とするものである。

（発明の構成） 本発明の研磨テープの製造方法は、少なくとも研磨剤の
一部とバインダの一部に対し、少なくとも混練処理とア
トライタ分散処理を含む調液を行なうことを特徴とする
ものである。

ここで、？ｌ１１Ｍ剤の種類、形状Ｊ３よび大きさとし
てはその目的に応じて適当なものを選択すればよく、と
くに限定されるものではない。

また、バインダも研磨剤を支持体上に接着することがで
きるものであればその１４類の如何は問わないが、極性
を有するものであって研磨剤の分散に寄与しＩＱるもの
であればより好ましい。とくにニトロセルロースや、水
Ａｌｌ、カルボキシル基を有する塩化ビニル酢酸ビニル
系共重合体が好ましい。

次に、上記混線処理について説明する。ここで混線とは
、ねっか（捏和、　ｋｎｅａｄｉｎｇ）のことをいい、
混線を行なう手段としては加圧ニーダ−（加圧式双腕ニ
ーダ−）、オープンニーダ−（双腕ニーダ−）、三本ロ
ールミル等がある。この中でも、加圧ニーダーとオープ
ンニーダ−は研磨液を餅状で強く混線できる上作業性に
も優れている。なお、強く混線できる点ではオープンニ
ーダ−よりも加圧ニーダ−の方がより優れている。また
、上記混練は力強く練る必要があり、研磨液が餅状とな
っている状態で練るのが好ましく、少なくとも１００ボ
イス以上の高粘度で練る必要がある。

次に、上記アトライタ分散処理について説明する。一般
にアトライタとは、ボールまたはペブルを分散メディア
とし、この分散メディアにより満たされる静止した円筒
状のタンクからなり、そして、この中ヘミルベース（顔
料＋ビヒクルスラリ）を満たし、タンクの中心に配設さ
れた垂直回転軸と仁の軸に直角に取付けられた数本の腕
木を回転させ、この回転プる腕木により上記分散メディ
アに３！！続的なずり応力を与え、これによりミルベー
スのビヒクル中へ顔料分散を行なう分散装置である。そ
して上記アＩ・ライタ分散処理とはこのアトライタを用
いて行なう分数処理であって、研磨剤を一次粒子まで微
分散し得る処理をいう。分散時間は例えば２〜４８時間
、好ましくは６〜２４時間である。また、上述した分散
メディアの具体例としてはスチルビーズ、アルミナビー
ズ、ジルコニアビーズ、ガラスピーズ等がある。また、
アトライタのタンク中のみかけ上の分散メディアの容積
と全容積の比（みかけ上の分散メディア容ＭＡ／全容積
）、すなわち見掛容積比は例えば１００／　１００〜１
００／・ｇｏｏ、好ましくは１００／　ＴＯＯ〜１００
／　５００である。なお、上記みかけ上の分散メディア
の容積とは、タンク中に堆積せしめた分散メディア全体
の高さにタンクの底面積を乗じたものである。

またこのときの研磨液の液粘度は例えば１０〜３００ボ
イズ、好ましくは２０〜２００ボイズ、ざらに好ましく
は３０〜１５０ボイズである。

また、混線処］！ｌ！　Ｊ３よびアトライタ分散処理は
必ずしも研磨剤およびバインダの全指に対して行なう必
要はなく各々の一部に対して行なうだけでもよい。研磨
剤の一部とは研磨剤全層の１０％以上、好ましくは２０
％以上をいう。また、バインダの一部とはバインダ全問
の１０％以上、好ましくは２０％以上、さらに好ましく
は３０％以上をいう。

また、被調液祠料としては必ずしも研磨剤およびバイン
ダのみからなることを意味するものではなく、例えば分
散剤、潤滑剤等の添加剤を含んでいてもよい。

また、上記調液は必ずしも混線処理およびアトライタ分
散処理のみからなることを意味するものではなく、その
他適当な種々の処理を含んでいてもよい。また、とくに
好ましくは混練はアトライタ分散の前に行なう。

なお、上述したアトライタ、加圧ニーダ−、オープンニ
ーダ−、ボールミル、三本ロールミルは以下に示ず文献
に詳細に記）ホされている。

「混合混練技術」　（矢野著２日刊工業新聞社。

昭和５５年８１２０口発行）、　　［ｐａｉｎｔ　　Ｆ
！ｏｗＰｉｇｓｅｎｔ　　Ｄｉｓｑｅｒｓｉｏｎ　］（
Ｔ、　Ｃ，ｐａｔｔｏｎ著、１ｎｔｅｒｓｃｉｃｎｃｅ
　Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ　、　　１９６８年１０月発行
）、「分散技術入門」　（小石、鉤谷著２日刊工業新聞
社、昭和５２年１月２０ロ発行）、「混線技術」　（橋
本著、産業技術センタ、昭和５３年１０月５日発行）等
。

なお、本発明において研磨テープというときはいわゆる
テープ形状のものの他、ディスク形状やシート形状のも
のも広く含むものとする。

（Ｒ明の効果） 本発明の研磨テープの製造方法によれば、混練処理とア
トライタ分散処理という相異なる２つの　−処理によっ
て調液を行ない、従来生じていた複数の問題点を各問題
点別に各々の処理により対処するとともに、画処理によ
りもたらされる相乗効果によってこれらの問題点に全体
として対応するようにしている。

すなわち、混練処理によりｒ１１１磨剤とバインダが高
粘度状態で混練され、この両者の親和力が向上して両者
の結合力が強化されるのでｒｔｌｌ磨層から研磨剤が脱
粒するのを防止することができる。これにより研磨塗膜
の耐久性を向上させることができる。

また、アトライタ分散処理により研磨剤がバインダ中で
一次粒子まで均一に微分散され、研磨液中で研磨粒子が
凝集している部分がないので研磨塗膜の平滑性が向上し
、この研磨テープを用いて行なう磁気ヘッドの仕上研磨
性が向上する。すなわち磁気ヘッドの表面に傷がつくお
それが小さく、また、磁気ヘッドの表面平滑性を向上さ
せることができる。

また、研磨剤の脱粒防止という点においては、アトライ
タ分散処理により研磨剤が微分散され、ｒＩＩＩ磨剤と
バインダの結合力が増加するので、混線処理を単独で行
なう場合よりもその防止効果をより確実なものとするこ
とができる。

さらに、研磨塗膜の平滑性を向上させるという点におい
て、混練処理の後にアトライタ分散処理を行むう場合に
（よ、混練４１！１理によって研磨剤がある程度分散さ
れた後にアトライタ分散処理によって研磨剤の微分散を
行なうことができるのでアトライタ分散処理を単独で行
なう場合よりも短時間のうちに高い平滑表面のものを形
成することができる。

（実　　施　　例） 以下本発明の実施例について説明する。

・実施例１ 以下に示す組成の研磨液へをオープンニーダ−を用いて
３０分間混練し、餅状になった後さらに３０分間混練し
た。その後、この混練したものにメヂルエチルケトン（
１００部）を加えて、液状（６０ボイズ）として研磨液
Ｂをつくった。次に、この研磨液Ｂをアトライタに入れ
、１８時間に亘ってアトライタ分散処理して研磨液Ｃを
つくった。この研磨液Ｃは液の粘度が１０ボイスであっ
た。アトライタの分散メディアとしてはスチールピーズ
（φ１／４インチ）を用い、 分散メディア容積（見１ｉ）） 全容積 で表わされる見掛容積比は１００／　１２０とした。こ
の後研磨液Ｃを３μのフィルタで濾過し、１２μ厚のポ
リエステルフィルム上に８μ厚（乾燥厚）で塗布し、乾
燥させて塗膜を形成した。その後この塗膜を形成したポ
リエステルフィルムを１部２インチ巾にｍ断し、Ｉｔ！
＋磨テープ１をつくった。なお、１ｉ４１１液への組成
材料および上記メチルエチルケトンの含在比率は固形分
組成であられ弯。また、バインダとしての二］−ロセル
［１−スは溶剤としてのメチルエチルケトンにあらかじ
め溶解さＶておく。

研磨液Ａの組成 ｒＩＰｌ＠剤（Ｘ　　ＡＬ２０ｓ　　（サイズφｏ、３
μ）・・・・・・　３００部 ニトロセルロース　　　　　　　　　・・・・・・　５
０部メチルエチルケトン　　　　　　　　・・・・・・
２００部レシチン（分散剤）　　　　　　　　・・・・
・・１．５部・実施例２ 以下に示Ｊ組成の研磨液りを加圧ニーダ−を用いて３０
分間混練し、餅状になった後さらに１時間混練した。そ
の後、この混練したものに乾燥した空気を吹きつけなが
らさらに混練を加えることでに１径数σ程度の大きさに
砕かれるようにした。次にこの砕かれたものを以下に示
す組成の研磨液Ｅとともにアトライタに入れ、２４時間
に亘ってアトライタ分散処理して研磨液Ｆをつくった。

ｒＪｌ磨液Ｆは液の粘度が８５ポイズであった。アトラ
イタの分散メディアとしてはスチールピーズ（φ１／４
インチ）を用い、 分散メディア容ｖ１（見掛） 全容積 で表わされる見掛容積比は１００／　１２Ｇとした。次
に研磨液Ｆを３μのフィルタでデ遇し濾過した後、以下
に示す組成の研磨液Ｇとともに攪拌機に投入し研磨液Ｈ
をつくった。研磨液ト１は液の粘度が８０ボイスであっ
た。この後、？ｉｌＩ磨ａｌｌを３μのフィルタで濾過
して１２μ厚のポリエステルフィルム上に８μ厚（乾燥
厚）で塗布し、乾燥させて塗膜を形成した。その後この
塗膜を形成したポリエステルフィルムを１７２インチｔ
ｐに裁断し、ｒｔｌＪ　ｆｆｉデーブ２をつくった。

研磨液りの組成 研磨剤γ−Ｆｅｚｏ３ （サイズ１．０μ×０．１μ×０．１μ）・・・・・・
　２００部塩化ビニル−ｌ￥酸ビニル− ビニルアルコール共重合体　　・・・・・・　８０部ア
ミルステアレート　　　　　　　　・・・・・・２．０
部メチルエチルケトン　　　　　　　　・・・・・・１
００部酢＠ｎ−ブチル　　　　　　　　　　・・・・・
・３２０ＦＢ研磨液Ｅの組成 研磨剤Ｃｒ２０３（す゛イズφ　０，３μ）・・・・・
・　１５０部カーボンブラック　　　　　　　　　・・
・・・・　３０部メチルエチルケトン　　　　　　　　
・・・・・・１００ｉシクロヘキサノン　　　　　　　
　　・・・・・・３５０７！ＩＡレイン酸　・　　　　
　　　　　　　・・・・・・　　３部シリコーンオイル
　　　　　　　　　・・・・・・０．２部フッ素系オイ
ル　　　　　　　　　　・・・・・・　１部流動パラフ
ィン　　　　　　　　　　・・・・・・　１部ブチルス
テアレート　　　　　　　　・・・・・・　　１部界面
活性剤　　　　　　　　　　　　・・・・・・　２部研
磨液Ｇの組成 末端イソシアネートプレポリマ（硬化剤）・・・・・・
　３５部 ・比較例１ 実施例１で示した研磨液へをメチルエチルケトン（１０
０部）とともにボールミルに入れ、９６時間に亘って分
散処理した。分散メディアとしてはスチールピーズ（φ
３／４インチ）を用いた。

この分散処理した液を３μのフィルタで濾過し、１２μ
厚のポリエステルフィルム上に８μ厚（乾燥厚）で塗布
し、乾燥させて塗膜を形成した。その後このｔｌ！膜を
形成したポリエステルフィルムを１部２インチ巾に裁断
し、研磨テープ３をつくった。

・比較例２ 実施例１で示した研磨液へとメチルエチルケトン（１０
０部以上）を三本ロールミルで混練し、低粘度（５ボイ
ズ）の研磨スラリを１ｇた。なお、混線中も粘度が同程
度となるように適宜添加溶剤量をｗ４整した。次にこの
研磨スラリを５μのフィルタでｔ遇しく３μのフィルタ
では濾過性悪し）、１２μ厚のポリエステルフィルム上
に８μ厚（乾燥厚）で塗布し、乾燥させて塗膜を形成し
た。その後この［Ｑを形成したポリエステルフィルムを
１部２インチ＋ｉ］に裁断し、研磨テープ４をつくった
。

実施例１．２および比較例１，２によりつくった研磨テ
ープ１〜４の脱落ｒＩＩＩｅ粒子数および表面粗さくＲ
ａ　）を測定し、下表にその結果を示す。

なお、脱落ｒＩｌｌ磨粒子数はフェライトヘッド研削侵
の研磨テープ表面を電子顕微鏡（５０００倍）で観察し
、脱落した研磨粒子数をその凹みの数により計数し、相
対値で表わした。また、表面粗さくＲａ　）は塗膜表面
の中心ｒＡ甲均粗さを測定したものである。カットオフ
値は０．８ａｌｌｌｌ、触針半径は２μ、触童１スピー
ドは０．３ｆｉ／Ｓｅｃであった。

上表から明らかなように、本実施例１，２によれば研磨
剤の脱落を防止することができるとともにテープの研磨
塗膜表面を平滑にすることができる。

なお、本発明の実施例としては上記のものに限られるも
のではなく、本発明の目的を達成し得る種々の実施例が
ある。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 研磨剤と結合剤の調液を行ない、この調液により生成さ
   れた研磨液を可撓性支持体上に塗布し、この塗布した研
   磨液を乾燥させて研磨テープを製造する方法において、 前記調液には、少なくとも前記研磨剤の一部と少なくと
   も前記結合剤の一部に対して行なう混練処理とアトライ
   タ分散処理とが含まれていることを特徴とする研磨テー
   プの製造方法。