JPS62246477A - 研磨テ−プの製造方法 - Google Patents
研磨テ−プの製造方法Info
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- JPS62246477A JPS62246477A JP9054186A JP9054186A JPS62246477A JP S62246477 A JPS62246477 A JP S62246477A JP 9054186 A JP9054186 A JP 9054186A JP 9054186 A JP9054186 A JP 9054186A JP S62246477 A JPS62246477 A JP S62246477A
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- 238000005498 polishing Methods 0.000 title claims abstract description 57
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 9
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 43
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims abstract description 27
- 238000011282 treatment Methods 0.000 claims abstract description 26
- 238000004898 kneading Methods 0.000 claims abstract description 23
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims abstract description 8
- 239000004576 sand Substances 0.000 claims description 27
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 18
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims 1
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 13
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 abstract description 6
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 238000000034 method Methods 0.000 description 15
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 11
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 11
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 10
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 8
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 6
- 235000010582 Pisum sativum Nutrition 0.000 description 4
- 240000004713 Pisum sativum Species 0.000 description 4
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 4
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 4
- 241000270298 Boidae Species 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Natural products CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 2
- 240000007594 Oryza sativa Species 0.000 description 2
- 235000007164 Oryza sativa Nutrition 0.000 description 2
- 241001422033 Thestylus Species 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 2
- 235000013339 cereals Nutrition 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- 235000009566 rice Nutrition 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- QMMJWQMCMRUYTG-UHFFFAOYSA-N 1,2,4,5-tetrachloro-3-(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=C(Cl)C(Cl)=CC(Cl)=C1Cl QMMJWQMCMRUYTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IIZPXYDJLKNOIY-JXPKJXOSSA-N 1-palmitoyl-2-arachidonoyl-sn-glycero-3-phosphocholine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OC[C@H](COP([O-])(=O)OCC[N+](C)(C)C)OC(=O)CCC\C=C/C\C=C/C\C=C/C\C=C/CCCCC IIZPXYDJLKNOIY-JXPKJXOSSA-N 0.000 description 1
- 101100128281 Enterobacteria phage T4 rIII gene Proteins 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- HGAZMNJKRQFZKS-UHFFFAOYSA-N chloroethene;ethenyl acetate Chemical compound ClC=C.CC(=O)OC=C HGAZMNJKRQFZKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000010130 dispersion processing Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 239000008240 homogeneous mixture Substances 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- 239000000787 lecithin Substances 0.000 description 1
- 229940067606 lecithin Drugs 0.000 description 1
- 235000010445 lecithin Nutrition 0.000 description 1
- 229940057995 liquid paraffin Drugs 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- MOQRZWSWPNIGMP-UHFFFAOYSA-N pentyl octadecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCCCCC MOQRZWSWPNIGMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 description 1
- PHYFQTYBJUILEZ-IUPFWZBJSA-N triolein Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(=O)OCC(OC(=O)CCCCCCC\C=C/CCCCCCCC)COC(=O)CCCCCCC\C=C/CCCCCCCC PHYFQTYBJUILEZ-IUPFWZBJSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 230000002747 voluntary effect Effects 0.000 description 1
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は磁気ヘッドを研磨する研磨テープの製造方法に
関し、詳しくはこの研磨テープの可撓性支持体上に塗布
する研磨液の調液に関するものである。
関し、詳しくはこの研磨テープの可撓性支持体上に塗布
する研磨液の調液に関するものである。
(従来技術)
研磨剤と結合剤(以下バインダという)等を調液して研
磨液を生成し、この研磨液を長尺の可撓性支持体上に塗
布し、この後この研磨液を乾燥して研磨テープを製造す
る方法が知られている。
磨液を生成し、この研磨液を長尺の可撓性支持体上に塗
布し、この後この研磨液を乾燥して研磨テープを製造す
る方法が知られている。
このような研磨テープの製造方法においては、でき上っ
た研磨テープにおける研磨剤の脱粒を減少させることお
よび研II塗膜の平滑性を向上させることが課題とされ
ている。
た研磨テープにおける研磨剤の脱粒を減少させることお
よび研II塗膜の平滑性を向上させることが課題とされ
ている。
このような課題を解決するためには適切な研磨液を生成
することが必要で、このためには調液を適切な処理によ
り行なうことが必要である。ずなわら、研磨剤の脱粒を
防止するためには研磨剤とバインダの結合力を高めてお
く必要があり、またrIII磨塗膜の平滑性を向上させ
るためには研磨剤を一次粒子の状態でバインダ中に均一
に分散させる必要があり、このような点を考慮して上記
課題を解決し得る処理を行なうべきである。
することが必要で、このためには調液を適切な処理によ
り行なうことが必要である。ずなわら、研磨剤の脱粒を
防止するためには研磨剤とバインダの結合力を高めてお
く必要があり、またrIII磨塗膜の平滑性を向上させ
るためには研磨剤を一次粒子の状態でバインダ中に均一
に分散させる必要があり、このような点を考慮して上記
課題を解決し得る処理を行なうべきである。
ところが、従来よく知られているボールミルを用いた調
液方法(特開昭55−129927号、クリーニングテ
ープ;日立マクセル)によっては短時間のうちに研磨剤
とバインダの結合力を十分に向上させることが困難であ
り、また、研磨剤を一次粒子まで十分に微分散させるこ
とも困難であって上記課題を解決したとはいえなかった
。また、やはり従来よく知られているロールミルを用い
た調液方法(特公昭53−44714号、研磨テープ:
独逸顔利工業)によっても研磨剤とバインダの結合力を
十分に向上させることが困難であり、また、研磨剤を一
次粒子まで微分散させることは極めて困難であって上記
課題を解決することができなかった。
液方法(特開昭55−129927号、クリーニングテ
ープ;日立マクセル)によっては短時間のうちに研磨剤
とバインダの結合力を十分に向上させることが困難であ
り、また、研磨剤を一次粒子まで十分に微分散させるこ
とも困難であって上記課題を解決したとはいえなかった
。また、やはり従来よく知られているロールミルを用い
た調液方法(特公昭53−44714号、研磨テープ:
独逸顔利工業)によっても研磨剤とバインダの結合力を
十分に向上させることが困難であり、また、研磨剤を一
次粒子まで微分散させることは極めて困難であって上記
課題を解決することができなかった。
(発明の目的)
本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、研磨剤
の脱粒を減少させ得るとともに研磨塗膜の平滑性を向上
させ得る研磨テープの製造方法を提供することを目的と
するものである。
の脱粒を減少させ得るとともに研磨塗膜の平滑性を向上
させ得る研磨テープの製造方法を提供することを目的と
するものである。
(発明の構成)
本発明の研磨テープの製造方法は、少なくとも研磨剤の
一部とバインダの一部に対し、少なくとも混練処理とサ
ンドグラインダ分散処理を含む調液を行なうことを特徴
とするものである。
一部とバインダの一部に対し、少なくとも混練処理とサ
ンドグラインダ分散処理を含む調液を行なうことを特徴
とするものである。
ここで、研磨剤の種類、形状および大きざとしてはその
目的に応じて適当なものを選択すればよく、とくに限定
されるものではない。
目的に応じて適当なものを選択すればよく、とくに限定
されるものではない。
また、バインダも研磨剤を支持体上に接着することがで
きるものであれば、その種類の如何は囚われないが、極
性を有するものであって研磨剤の分散に寄与し得るもの
であればより好ましい。とくにニトロセルロースや、水
酸基、カルボキシル基を有する塩化ビニル酢酸ビニル系
共m合体が好ましい。
きるものであれば、その種類の如何は囚われないが、極
性を有するものであって研磨剤の分散に寄与し得るもの
であればより好ましい。とくにニトロセルロースや、水
酸基、カルボキシル基を有する塩化ビニル酢酸ビニル系
共m合体が好ましい。
次に、上記混練処理について説明する。ここで混練とは
、ねっか(将和、 kneadinQ)のことをいい、
混練を行なう手段としては加圧ニーダ−(加圧式双腕ニ
ーダ−)、オープンニーダ−(双腕ニーダ−)、三本0
−ルミル等がある。この中でも、加圧ニーダ−とオープ
ンニーダ−は研磨液を餅状で強く混練できる上作業性に
も優れている。なお、m<混練できる点ではオープンニ
ーダ−よりも加圧ニーダ−の方がより優れている。また
、上記混練は力強く練る必要があり、研磨液が餅状とな
っている状態で練るのが好ましく、少なくとも100ボ
イズ以上の高粘度で練る必要がある。
、ねっか(将和、 kneadinQ)のことをいい、
混練を行なう手段としては加圧ニーダ−(加圧式双腕ニ
ーダ−)、オープンニーダ−(双腕ニーダ−)、三本0
−ルミル等がある。この中でも、加圧ニーダ−とオープ
ンニーダ−は研磨液を餅状で強く混練できる上作業性に
も優れている。なお、m<混練できる点ではオープンニ
ーダ−よりも加圧ニーダ−の方がより優れている。また
、上記混練は力強く練る必要があり、研磨液が餅状とな
っている状態で練るのが好ましく、少なくとも100ボ
イズ以上の高粘度で練る必要がある。
次にサンドグラインダ分散処理について説明する。一般
にサンドグラインダとは、砂粒を分散メディアとし、こ
の分散メディアにより満たされる静止した同筒状タンク
からなる。そして、この中へミルベース(顔料+ビヒク
ルスラリ)の均質混合体を満たし、タンクの中心軸に沿
って配設した円ム状羽根付回転軸を回転させるとともに
このタング中にポンプで上記ミルベースを送るようにし
て顔□料分散を行なう分散装置である。なお、サンドグ
ラインダは内部回転ミルの一種で、サンドミルあるいは
グレインミル等とも旧称される。そして、上記サンドグ
ラインダ分散処理とはこのサンドグラインダを用いて行
なう分散処理であって、研磨剤を一次粒子まで微分散し
得る処理をいう。
にサンドグラインダとは、砂粒を分散メディアとし、こ
の分散メディアにより満たされる静止した同筒状タンク
からなる。そして、この中へミルベース(顔料+ビヒク
ルスラリ)の均質混合体を満たし、タンクの中心軸に沿
って配設した円ム状羽根付回転軸を回転させるとともに
このタング中にポンプで上記ミルベースを送るようにし
て顔□料分散を行なう分散装置である。なお、サンドグ
ラインダは内部回転ミルの一種で、サンドミルあるいは
グレインミル等とも旧称される。そして、上記サンドグ
ラインダ分散処理とはこのサンドグラインダを用いて行
なう分散処理であって、研磨剤を一次粒子まで微分散し
得る処理をいう。
分散回数は例えば3〜50回、好ましくは6〜24回で
ある。また、送液量は例えば0.2〜5G9J/sin
。
ある。また、送液量は例えば0.2〜5G9J/sin
。
好ましくは1〜15i/sinである。また、上述した
分散メディアの具体例としてはオタワサンド、アルシナ
ピーズ、ジルコニアピーズ、ガラスピーズ等があり、そ
の粒子サイズは例えばφ0.1履〜φ5 tax s好
ましくはφ0.5jll〜φ2mである。またこのとき
の研磨液の液粘度は例えば10〜300ボイズ、好まし
くは20〜200ボイズ、さらに好ましくは30〜15
0ボイズである。
分散メディアの具体例としてはオタワサンド、アルシナ
ピーズ、ジルコニアピーズ、ガラスピーズ等があり、そ
の粒子サイズは例えばφ0.1履〜φ5 tax s好
ましくはφ0.5jll〜φ2mである。またこのとき
の研磨液の液粘度は例えば10〜300ボイズ、好まし
くは20〜200ボイズ、さらに好ましくは30〜15
0ボイズである。
また、混練処理およびサンドグラインダ分散処理は必ず
しも研磨剤およびバインダの全量に対して行なう必要は
なく各々の一部に対して行なうだけでもよい。研磨剤の
一部とは研磨剤全指の10%以上、好ましくは20%以
上をいう。また、バインダの一部とはバインダ全量の1
0%以上、好ましくは20%以上、さらに好ましくは3
0%以上をいう。
しも研磨剤およびバインダの全量に対して行なう必要は
なく各々の一部に対して行なうだけでもよい。研磨剤の
一部とは研磨剤全指の10%以上、好ましくは20%以
上をいう。また、バインダの一部とはバインダ全量の1
0%以上、好ましくは20%以上、さらに好ましくは3
0%以上をいう。
また、被調液材料としては必ずしも研磨剤およびバイン
ダのみからなることを意味するものではなく、例えば分
散剤、潤活剤等の添加剤を含んでいてもよい。
ダのみからなることを意味するものではなく、例えば分
散剤、潤活剤等の添加剤を含んでいてもよい。
また、上記調液は必ずしも混練処理およびサンドグライ
ンダ分散処理のみからなることを意味するものではなく
、その他適当な種々の処理を含んでいてもよい。また、
混練およびサンドグラインダ分散の画処理の時間的前後
は問わないが、とくに好ましくは混練はサンドグライン
ダ処理の前に行なう。
ンダ分散処理のみからなることを意味するものではなく
、その他適当な種々の処理を含んでいてもよい。また、
混練およびサンドグラインダ分散の画処理の時間的前後
は問わないが、とくに好ましくは混練はサンドグライン
ダ処理の前に行なう。
なお、上述したサンドグラインダ、加圧ニーダ−、オー
ブンニーダ−、ボールミル、三本ロールミルは以下に示
ず文献に詳細に記述されている。
ブンニーダ−、ボールミル、三本ロールミルは以下に示
ず文献に詳細に記述されている。
「混合混練技術」 〈矢野著1日刊工業Fr聞社、昭和
55年8月20日発行)、r Pa1nt F lo
v P ignent Dispersion J
(T、 C,PaNon著、Intarscten
ce pu旧1shers 、 1966年10
月発行)、「分散技術入門] (小石、釣谷著1日刊工
業新聞社、昭和52年1月20日発行)、「混練技術」
(橋木著2産業技術センタ、昭和53年10月 5日
発行)等。
55年8月20日発行)、r Pa1nt F lo
v P ignent Dispersion J
(T、 C,PaNon著、Intarscten
ce pu旧1shers 、 1966年10
月発行)、「分散技術入門] (小石、釣谷著1日刊工
業新聞社、昭和52年1月20日発行)、「混練技術」
(橋木著2産業技術センタ、昭和53年10月 5日
発行)等。
なJ3、本発明において01磨テープというときはいわ
ゆるテープ形状のものの他、ディスク形状やシート形状
のものも広く含むものとする。
ゆるテープ形状のものの他、ディスク形状やシート形状
のものも広く含むものとする。
(発明の効果)
本発明の研磨テープの製造方法によれば、混練処理とサ
ンドグラインダ分散処理という相異なる2つの処理によ
って調液を行ない、従来生じていた複数の問題点を各問
題点別に各々の処理により対処するとともに、画処理に
よりもたらされる相乗効果によってこれらの問題点に全
体として対応するようにしている。
ンドグラインダ分散処理という相異なる2つの処理によ
って調液を行ない、従来生じていた複数の問題点を各問
題点別に各々の処理により対処するとともに、画処理に
よりもたらされる相乗効果によってこれらの問題点に全
体として対応するようにしている。
すなわち、混練処理により研磨剤とバインダが高粘度状
態で混練され、この両者の親和力が向上して両者の結合
力が強化されるので研磨層から研磨剤が脱粒するのを防
止することができる。これにより研磨塗膜の耐久性を向
上させることができる。
態で混練され、この両者の親和力が向上して両者の結合
力が強化されるので研磨層から研磨剤が脱粒するのを防
止することができる。これにより研磨塗膜の耐久性を向
上させることができる。
また、サンドグラインダ分散処理により研磨剤がバイン
ダ中で一次粒子まで均一に微分散され、研磨液中で研磨
粒子が凝集してる部分がないので研磨塗膜の平滑性が向
上し、この研磨テープを用いて行なう磁気ヘッドの仕上
Tii磨性が向上する。
ダ中で一次粒子まで均一に微分散され、研磨液中で研磨
粒子が凝集してる部分がないので研磨塗膜の平滑性が向
上し、この研磨テープを用いて行なう磁気ヘッドの仕上
Tii磨性が向上する。
すなわち磁気ヘッドの表面に個がつくおそれが小さく、
また、磁気ヘッドの表面平滑性を向上させることができ
る。
また、磁気ヘッドの表面平滑性を向上させることができ
る。
また、研磨剤の脱粒防止という点においては、サンドグ
ラインダ分散処理により研磨剤が微分散され、研磨剤と
バインダの結合力が増加するので、混練処理を単独で行
なう場合よりも脱粒防止効果をより確実なものとするこ
とができる。
ラインダ分散処理により研磨剤が微分散され、研磨剤と
バインダの結合力が増加するので、混練処理を単独で行
なう場合よりも脱粒防止効果をより確実なものとするこ
とができる。
ざらに、研磨塗膜の平滑性を向上させるという点におい
て、混練処理の後にυンドグラインダ分散処理を行なう
場合には、混練処理によって研磨剤がある程度分散され
た後にサンドグラインダ分散処理によって研磨剤の微分
散を行なうことができるのでサンドグラインダ分散処理
を単独で行なう場合よりも短時間のうちに高い平滑表面
のものを形成することができる。
て、混練処理の後にυンドグラインダ分散処理を行なう
場合には、混練処理によって研磨剤がある程度分散され
た後にサンドグラインダ分散処理によって研磨剤の微分
散を行なうことができるのでサンドグラインダ分散処理
を単独で行なう場合よりも短時間のうちに高い平滑表面
のものを形成することができる。
(実 施 例)
以下本発明の実施例について説明する。
・実施例1
以下に示す組成の研磨液Aをオープンニーダ−を用いて
30分間混練し、餅状になった後さらに30分間混練し
た。その後、この混練したものにメチルエチルケトン(
100部)を加えて、液状(60ボイズ)として研磨液
Bをつ(つだ。次に、この研磨液Bを内部容積120j
Q、のサンドグラインダに入れ、送液185!、/Wi
nで6回に亘ってサンドグラインダ分散処理して研磨液
Cをつくった。この研磨液Cは液の粘度が80ボイスで
あった。サンドグラインダの分散メディアとしてはガラ
スピーズ(φ 1.5.)を用いた。この後研磨液Cを
3μのフィルタで一過し、12μ厚のポリエステルフィ
ルム上に8μ厚(乾燥厚)で塗布し、乾燥させて塗膜を
形成した。その後この塗膜を形成したポリエステルフィ
ルムを1/2インヂ巾に裁断し、研磨テープ1をつ(つ
た。なお、研磨液への組成材料および上記メチルエチル
ケトンの含有比率は固形分組成であられす。また、バイ
ンダとしてのニドOセルO−スは溶剤としてのメチルエ
チルケトンにあらかじめ溶解させておく。
30分間混練し、餅状になった後さらに30分間混練し
た。その後、この混練したものにメチルエチルケトン(
100部)を加えて、液状(60ボイズ)として研磨液
Bをつ(つだ。次に、この研磨液Bを内部容積120j
Q、のサンドグラインダに入れ、送液185!、/Wi
nで6回に亘ってサンドグラインダ分散処理して研磨液
Cをつくった。この研磨液Cは液の粘度が80ボイスで
あった。サンドグラインダの分散メディアとしてはガラ
スピーズ(φ 1.5.)を用いた。この後研磨液Cを
3μのフィルタで一過し、12μ厚のポリエステルフィ
ルム上に8μ厚(乾燥厚)で塗布し、乾燥させて塗膜を
形成した。その後この塗膜を形成したポリエステルフィ
ルムを1/2インヂ巾に裁断し、研磨テープ1をつ(つ
た。なお、研磨液への組成材料および上記メチルエチル
ケトンの含有比率は固形分組成であられす。また、バイ
ンダとしてのニドOセルO−スは溶剤としてのメチルエ
チルケトンにあらかじめ溶解させておく。
rtlI磨液Aの組成
rii磨剤α−A9Jz Oa (”jイスφ0,3
μ) −・・300部 ニトロセルロース ・・・50部メ
チルエチルケトン ・・・200部レシ
チン(分散剤) ・・・1.5部・実施
例2 以下に示す組成の研磨液りを加圧ニーダ−を用いて30
分間混練し、餅状になった後さらに1時間混練した。そ
の後、この混練したものに乾燥した空気を吹きつけなが
らさらに混練を加えることで直径数α程度の大きさに砕
かれるようにした。次にこの砕かれたものを以下に示す
組成の研磨液Eとともに撹拌機に入れて撹拌し略均−な
液とした(液粘度70ボイズ)後、サンドグラインダに
て送液ff149./winで24回に亘ってサンドグ
ラインダ分散処理して研磨液Fをつくった。研磨液Fは
液の粘度が90ボイスであった。サンドグラインダの分
散メディアとしてはガラスピーズ(φ 1.Oam)を
用いた。
μ) −・・300部 ニトロセルロース ・・・50部メ
チルエチルケトン ・・・200部レシ
チン(分散剤) ・・・1.5部・実施
例2 以下に示す組成の研磨液りを加圧ニーダ−を用いて30
分間混練し、餅状になった後さらに1時間混練した。そ
の後、この混練したものに乾燥した空気を吹きつけなが
らさらに混練を加えることで直径数α程度の大きさに砕
かれるようにした。次にこの砕かれたものを以下に示す
組成の研磨液Eとともに撹拌機に入れて撹拌し略均−な
液とした(液粘度70ボイズ)後、サンドグラインダに
て送液ff149./winで24回に亘ってサンドグ
ラインダ分散処理して研磨液Fをつくった。研磨液Fは
液の粘度が90ボイスであった。サンドグラインダの分
散メディアとしてはガラスピーズ(φ 1.Oam)を
用いた。
次に研磨液Fを3μのフィルタでデ過した後、以下に示
す組成の研磨液Gとともに攪拌機に投入して攪拌し研1
11Hをつくった。研磨液Hは液の粘度が85ボイズで
あった。この後、研磨液Hを3μのフィルタでチ過して
12μ厚のポリエステルフィルム上に8μ厚(乾燥厚)
で塗布し、乾燥させてtJ!IIを形成した。その侵こ
の塗膜を形成したポリエステルフィルムを172インチ
巾に1IiKし、N磨テープ2をつくった。
す組成の研磨液Gとともに攪拌機に投入して攪拌し研1
11Hをつくった。研磨液Hは液の粘度が85ボイズで
あった。この後、研磨液Hを3μのフィルタでチ過して
12μ厚のポリエステルフィルム上に8μ厚(乾燥厚)
で塗布し、乾燥させてtJ!IIを形成した。その侵こ
の塗膜を形成したポリエステルフィルムを172インチ
巾に1IiKし、N磨テープ2をつくった。
研磨液りの組成
研磨剤7F+3zO3(サイズ1.0μX 0.1μ×
0.1μ) ・・・ 200部 塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアル コール共重合体 ・・・80部ア
ミルステアレート ・・・2.0部メチ
ルエチルケトン ・・・100部酢酸n
−ブチル ・・・320部研磨液E
の組成 研磨剤CrzOz(サイズφ0.3tt ) ・150
部カーボンブラック ・・・30部
メチルエチルケトン ・・・100部シ
クロヘキサノン ・・・350部オレ
イン波 ・・・3部シリコ
ーンオイル ・・・0.2部フッ素系
オイル ・・・1部流動パラフィ
ン ・・・1部ブチルステアレー
ト ・・・1部界面活性剤
・・・2部VI磨液Gの組成 末端イソシアネートプレポリマ(硬化剤)・・・35部 ・比較例1 実施例1で示した研磨液へをメチルエチルケトン〈10
0部)とともにボールミルに入れ、96時間に亘、プて
分散処理した。分散メディアとしてはスチールピーズ(
φ3/4インチ)を用いた。
0.1μ) ・・・ 200部 塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアル コール共重合体 ・・・80部ア
ミルステアレート ・・・2.0部メチ
ルエチルケトン ・・・100部酢酸n
−ブチル ・・・320部研磨液E
の組成 研磨剤CrzOz(サイズφ0.3tt ) ・150
部カーボンブラック ・・・30部
メチルエチルケトン ・・・100部シ
クロヘキサノン ・・・350部オレ
イン波 ・・・3部シリコ
ーンオイル ・・・0.2部フッ素系
オイル ・・・1部流動パラフィ
ン ・・・1部ブチルステアレー
ト ・・・1部界面活性剤
・・・2部VI磨液Gの組成 末端イソシアネートプレポリマ(硬化剤)・・・35部 ・比較例1 実施例1で示した研磨液へをメチルエチルケトン〈10
0部)とともにボールミルに入れ、96時間に亘、プて
分散処理した。分散メディアとしてはスチールピーズ(
φ3/4インチ)を用いた。
この分散処理した液を3μのフィルタでチ過し、12μ
厚のポリエステルフィルム上に8μ厚(乾燥厚)でm布
し、乾燥させてfJ!膜を形成した。その模この塗膜を
形成したポリエステルフィルムを1部2インチ中に裁断
し、研磨テープ3をつくった。
厚のポリエステルフィルム上に8μ厚(乾燥厚)でm布
し、乾燥させてfJ!膜を形成した。その模この塗膜を
形成したポリエステルフィルムを1部2インチ中に裁断
し、研磨テープ3をつくった。
・比較例2
実施例1で示した研磨液Aとメチルエチルケトン(10
0部以上)を三本ロールミルで混練し、低粘度(5ボイ
ズ)の研磨スラリを得た。なお、混練中も粘度が同程度
となるように適宜添加溶剤量を1JIIl、、た。次に
この研磨スラリを5μのフィルタでデ過(3μのフィル
タではデ過性悪し)し、12μ厚のポリエステルフィル
ム上に8μ厚(乾燥厚)で塗布し、乾燥させて塗膜を形
成した。その後この塗膜を形成したポリエステルフィル
ムを1部2インチ巾に裁断し、研磨テープ4をつくった
。
0部以上)を三本ロールミルで混練し、低粘度(5ボイ
ズ)の研磨スラリを得た。なお、混練中も粘度が同程度
となるように適宜添加溶剤量を1JIIl、、た。次に
この研磨スラリを5μのフィルタでデ過(3μのフィル
タではデ過性悪し)し、12μ厚のポリエステルフィル
ム上に8μ厚(乾燥厚)で塗布し、乾燥させて塗膜を形
成した。その後この塗膜を形成したポリエステルフィル
ムを1部2インチ巾に裁断し、研磨テープ4をつくった
。
実施例1.2および比較例1.2によりつくったfI#
磨テープ1〜4の脱落研磨粒子数および表面粗さくRa
)を測定し、下表にその結果を示J0なお、脱落研磨
粒子数はフェライトヘッド研削後の研磨テープ表面を電
子顕微1ll(5000倍)で観察し、脱落した研磨粒
子数をその凹みの数により計数し、相対値で表わした。
磨テープ1〜4の脱落研磨粒子数および表面粗さくRa
)を測定し、下表にその結果を示J0なお、脱落研磨
粒子数はフェライトヘッド研削後の研磨テープ表面を電
子顕微1ll(5000倍)で観察し、脱落した研磨粒
子数をその凹みの数により計数し、相対値で表わした。
また、表面粗さくRa )は塗膜表面の中心線平均粗さ
を測定したものである。カットオフ値は0,8m、触針
半径は2μ、触側スピードは0.3.@/secであっ
た。
を測定したものである。カットオフ値は0,8m、触針
半径は2μ、触側スピードは0.3.@/secであっ
た。
上表から明らかなように、本実施例1.2によ・れば、
研磨剤の脱落を防止することができるとともにテープの
研磨塗膜表面を平滑にすることができる。
研磨剤の脱落を防止することができるとともにテープの
研磨塗膜表面を平滑にすることができる。
なお、本発明の実施例としては上記のものに限られるも
のではなく、本発明の目的を達成し11ノる種々の実施
例がある。
のではなく、本発明の目的を達成し11ノる種々の実施
例がある。
(自発)手続ネ111正書
特許庁長官 殿 昭和61年10
月8日囚 1、事件の表示 特願昭61−90541号 2、発明の名称 TAlffテープの製造方法 3、補正をする者 事f1との関係 特許出願人 任 所 神奈川県南足柄市中沼210番地名 称
富士写真フィルム株式会社4、代理人 〒160東京都港区六本木5−2−1 ホ’)ライヤヒル711!!i!(479)2367(
7318)弁理士 柳 川 征 史 (ほか2名)5、
補正命令の日付 な し 6、補正により増加する発明の数 な し7、補
正の対象 明III内の「発明の詳細な説明」の欄
8、補正の内容 1)明a害第6頁第8行
月8日囚 1、事件の表示 特願昭61−90541号 2、発明の名称 TAlffテープの製造方法 3、補正をする者 事f1との関係 特許出願人 任 所 神奈川県南足柄市中沼210番地名 称
富士写真フィルム株式会社4、代理人 〒160東京都港区六本木5−2−1 ホ’)ライヤヒル711!!i!(479)2367(
7318)弁理士 柳 川 征 史 (ほか2名)5、
補正命令の日付 な し 6、補正により増加する発明の数 な し7、補
正の対象 明III内の「発明の詳細な説明」の欄
8、補正の内容 1)明a害第6頁第8行
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 研磨剤と結合剤の調液を行ない、この調液により生成さ
れた研磨液を可撓性支持体上に塗布し、この塗布した研
磨液を乾燥させて研磨テープを製造する方法において、 前記調液には、少なくとも前記研磨剤の一部と少なくと
も前記結合剤の一部に対して行なう混練処理とサンドグ
ラインダ分散処理とが含まれていることを特徴とする研
磨テープの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9054186A JPS62246477A (ja) | 1986-04-18 | 1986-04-18 | 研磨テ−プの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9054186A JPS62246477A (ja) | 1986-04-18 | 1986-04-18 | 研磨テ−プの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62246477A true JPS62246477A (ja) | 1987-10-27 |
Family
ID=14001273
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9054186A Pending JPS62246477A (ja) | 1986-04-18 | 1986-04-18 | 研磨テ−プの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62246477A (ja) |
-
1986
- 1986-04-18 JP JP9054186A patent/JPS62246477A/ja active Pending
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