JPS62246477A - 研磨テ−プの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は磁気ヘッドを研磨する研磨テープの製造方法に
関し、詳しくはこの研磨テープの可撓性支持体上に塗布
する研磨液の調液に関するものである。

（従来技術） 研磨剤と結合剤（以下バインダという）等を調液して研
磨液を生成し、この研磨液を長尺の可撓性支持体上に塗
布し、この後この研磨液を乾燥して研磨テープを製造す
る方法が知られている。

このような研磨テープの製造方法においては、でき上っ
た研磨テープにおける研磨剤の脱粒を減少させることお
よび研ＩＩ塗膜の平滑性を向上させることが課題とされ
ている。

このような課題を解決するためには適切な研磨液を生成
することが必要で、このためには調液を適切な処理によ
り行なうことが必要である。ずなわら、研磨剤の脱粒を
防止するためには研磨剤とバインダの結合力を高めてお
く必要があり、またｒＩＩＩ磨塗膜の平滑性を向上させ
るためには研磨剤を一次粒子の状態でバインダ中に均一
に分散させる必要があり、このような点を考慮して上記
課題を解決し得る処理を行なうべきである。

ところが、従来よく知られているボールミルを用いた調
液方法（特開昭５５−１２９９２７号、クリーニングテ
ープ；日立マクセル）によっては短時間のうちに研磨剤
とバインダの結合力を十分に向上させることが困難であ
り、また、研磨剤を一次粒子まで十分に微分散させるこ
とも困難であって上記課題を解決したとはいえなかった
。また、やはり従来よく知られているロールミルを用い
た調液方法（特公昭５３−４４７１４号、研磨テープ：
独逸顔利工業）によっても研磨剤とバインダの結合力を
十分に向上させることが困難であり、また、研磨剤を一
次粒子まで微分散させることは極めて困難であって上記
課題を解決することができなかった。

（発明の目的） 本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、研磨剤
の脱粒を減少させ得るとともに研磨塗膜の平滑性を向上
させ得る研磨テープの製造方法を提供することを目的と
するものである。

（発明の構成） 本発明の研磨テープの製造方法は、少なくとも研磨剤の
一部とバインダの一部に対し、少なくとも混練処理とサ
ンドグラインダ分散処理を含む調液を行なうことを特徴
とするものである。

ここで、研磨剤の種類、形状および大きざとしてはその
目的に応じて適当なものを選択すればよく、とくに限定
されるものではない。

また、バインダも研磨剤を支持体上に接着することがで
きるものであれば、その種類の如何は囚われないが、極
性を有するものであって研磨剤の分散に寄与し得るもの
であればより好ましい。とくにニトロセルロースや、水
酸基、カルボキシル基を有する塩化ビニル酢酸ビニル系
共ｍ合体が好ましい。

次に、上記混練処理について説明する。ここで混練とは
、ねっか（将和、　ｋｎｅａｄｉｎＱ）のことをいい、
混練を行なう手段としては加圧ニーダ−（加圧式双腕ニ
ーダ−）、オープンニーダ−（双腕ニーダ−）、三本０
−ルミル等がある。この中でも、加圧ニーダ−とオープ
ンニーダ−は研磨液を餅状で強く混練できる上作業性に
も優れている。なお、ｍ＜混練できる点ではオープンニ
ーダ−よりも加圧ニーダ−の方がより優れている。また
、上記混練は力強く練る必要があり、研磨液が餅状とな
っている状態で練るのが好ましく、少なくとも１００ボ
イズ以上の高粘度で練る必要がある。

次にサンドグラインダ分散処理について説明する。一般
にサンドグラインダとは、砂粒を分散メディアとし、こ
の分散メディアにより満たされる静止した同筒状タンク
からなる。そして、この中へミルベース（顔料＋ビヒク
ルスラリ）の均質混合体を満たし、タンクの中心軸に沿
って配設した円ム状羽根付回転軸を回転させるとともに
このタング中にポンプで上記ミルベースを送るようにし
て顔□料分散を行なう分散装置である。なお、サンドグ
ラインダは内部回転ミルの一種で、サンドミルあるいは
グレインミル等とも旧称される。そして、上記サンドグ
ラインダ分散処理とはこのサンドグラインダを用いて行
なう分散処理であって、研磨剤を一次粒子まで微分散し
得る処理をいう。

分散回数は例えば３〜５０回、好ましくは６〜２４回で
ある。また、送液量は例えば０．２〜５Ｇ９Ｊ／ｓｉｎ
　。

好ましくは１〜１５ｉ／ｓｉｎである。また、上述した
分散メディアの具体例としてはオタワサンド、アルシナ
ピーズ、ジルコニアピーズ、ガラスピーズ等があり、そ
の粒子サイズは例えばφ０．１履〜φ５　ｔａｘ　ｓ好
ましくはφ０．５ｊｌｌ〜φ２ｍである。またこのとき
の研磨液の液粘度は例えば１０〜３００ボイズ、好まし
くは２０〜２００ボイズ、さらに好ましくは３０〜１５
０ボイズである。

また、混練処理およびサンドグラインダ分散処理は必ず
しも研磨剤およびバインダの全量に対して行なう必要は
なく各々の一部に対して行なうだけでもよい。研磨剤の
一部とは研磨剤全指の１０％以上、好ましくは２０％以
上をいう。また、バインダの一部とはバインダ全量の１
０％以上、好ましくは２０％以上、さらに好ましくは３
０％以上をいう。

また、被調液材料としては必ずしも研磨剤およびバイン
ダのみからなることを意味するものではなく、例えば分
散剤、潤活剤等の添加剤を含んでいてもよい。

また、上記調液は必ずしも混練処理およびサンドグライ
ンダ分散処理のみからなることを意味するものではなく
、その他適当な種々の処理を含んでいてもよい。また、
混練およびサンドグラインダ分散の画処理の時間的前後
は問わないが、とくに好ましくは混練はサンドグライン
ダ処理の前に行なう。

なお、上述したサンドグラインダ、加圧ニーダ−、オー
ブンニーダ−、ボールミル、三本ロールミルは以下に示
ず文献に詳細に記述されている。

「混合混練技術」　〈矢野著１日刊工業Ｆｒ聞社、昭和
５５年８月２０日発行）、ｒ　Ｐａ１ｎｔ　　Ｆ　ｌｏ
ｖ　　Ｐ　ｉｇｎｅｎｔ　　Ｄｉｓｐｅｒｓｉｏｎ　Ｊ
　　（Ｔ、　Ｃ，ＰａＮｏｎ著、Ｉｎｔａｒｓｃｔｅｎ
ｃｅ　　　ｐｕ旧１ｓｈｅｒｓ　、　　１９６６年１０
月発行）、「分散技術入門］　（小石、釣谷著１日刊工
業新聞社、昭和５２年１月２０日発行）、「混練技術」
　（橋木著２産業技術センタ、昭和５３年１０月　５日
発行）等。

なＪ３、本発明において０１磨テープというときはいわ
ゆるテープ形状のものの他、ディスク形状やシート形状
のものも広く含むものとする。

（発明の効果） 本発明の研磨テープの製造方法によれば、混練処理とサ
ンドグラインダ分散処理という相異なる２つの処理によ
って調液を行ない、従来生じていた複数の問題点を各問
題点別に各々の処理により対処するとともに、画処理に
よりもたらされる相乗効果によってこれらの問題点に全
体として対応するようにしている。

すなわち、混練処理により研磨剤とバインダが高粘度状
態で混練され、この両者の親和力が向上して両者の結合
力が強化されるので研磨層から研磨剤が脱粒するのを防
止することができる。これにより研磨塗膜の耐久性を向
上させることができる。

また、サンドグラインダ分散処理により研磨剤がバイン
ダ中で一次粒子まで均一に微分散され、研磨液中で研磨
粒子が凝集してる部分がないので研磨塗膜の平滑性が向
上し、この研磨テープを用いて行なう磁気ヘッドの仕上
Ｔｉｉ磨性が向上する。

すなわち磁気ヘッドの表面に個がつくおそれが小さく、
また、磁気ヘッドの表面平滑性を向上させることができ
る。

また、研磨剤の脱粒防止という点においては、サンドグ
ラインダ分散処理により研磨剤が微分散され、研磨剤と
バインダの結合力が増加するので、混練処理を単独で行
なう場合よりも脱粒防止効果をより確実なものとするこ
とができる。

ざらに、研磨塗膜の平滑性を向上させるという点におい
て、混練処理の後にυンドグラインダ分散処理を行なう
場合には、混練処理によって研磨剤がある程度分散され
た後にサンドグラインダ分散処理によって研磨剤の微分
散を行なうことができるのでサンドグラインダ分散処理
を単独で行なう場合よりも短時間のうちに高い平滑表面
のものを形成することができる。

（実　施　例） 以下本発明の実施例について説明する。

・実施例１ 以下に示す組成の研磨液Ａをオープンニーダ−を用いて
３０分間混練し、餅状になった後さらに３０分間混練し
た。その後、この混練したものにメチルエチルケトン（
１００部）を加えて、液状（６０ボイズ）として研磨液
Ｂをつ（つだ。次に、この研磨液Ｂを内部容積１２０ｊ
Ｑ、のサンドグラインダに入れ、送液１８５！、／Ｗｉ
ｎで６回に亘ってサンドグラインダ分散処理して研磨液
Ｃをつくった。この研磨液Ｃは液の粘度が８０ボイスで
あった。サンドグラインダの分散メディアとしてはガラ
スピーズ（φ　１．５．）を用いた。この後研磨液Ｃを
３μのフィルタで一過し、１２μ厚のポリエステルフィ
ルム上に８μ厚（乾燥厚）で塗布し、乾燥させて塗膜を
形成した。その後この塗膜を形成したポリエステルフィ
ルムを１／２インヂ巾に裁断し、研磨テープ１をつ（つ
た。なお、研磨液への組成材料および上記メチルエチル
ケトンの含有比率は固形分組成であられす。また、バイ
ンダとしてのニドＯセルＯ−スは溶剤としてのメチルエ
チルケトンにあらかじめ溶解させておく。

ｒｔｌＩ磨液Ａの組成 ｒｉｉ磨剤α−Ａ９Ｊｚ　Ｏａ　　（”ｊイスφ０，３
μ）　−・・３００部 ニトロセルロース　　　　　　　　　　・・・５０部メ
チルエチルケトン　　　　　　　　・・・２００部レシ
チン（分散剤）　　　　　　　　・・・１．５部・実施
例２ 以下に示す組成の研磨液りを加圧ニーダ−を用いて３０
分間混練し、餅状になった後さらに１時間混練した。そ
の後、この混練したものに乾燥した空気を吹きつけなが
らさらに混練を加えることで直径数α程度の大きさに砕
かれるようにした。次にこの砕かれたものを以下に示す
組成の研磨液Ｅとともに撹拌機に入れて撹拌し略均−な
液とした（液粘度７０ボイズ）後、サンドグラインダに
て送液ｆｆ１４９．／ｗｉｎで２４回に亘ってサンドグ
ラインダ分散処理して研磨液Ｆをつくった。研磨液Ｆは
液の粘度が９０ボイスであった。サンドグラインダの分
散メディアとしてはガラスピーズ（φ　１．Ｏａｍ）を
用いた。

次に研磨液Ｆを３μのフィルタでデ過した後、以下に示
す組成の研磨液Ｇとともに攪拌機に投入して攪拌し研１
１１Ｈをつくった。研磨液Ｈは液の粘度が８５ボイズで
あった。この後、研磨液Ｈを３μのフィルタでチ過して
１２μ厚のポリエステルフィルム上に８μ厚（乾燥厚）
で塗布し、乾燥させてｔＪ！ＩＩを形成した。その侵こ
の塗膜を形成したポリエステルフィルムを１７２インチ
巾に１ＩｉＫし、Ｎ磨テープ２をつくった。

研磨液りの組成 研磨剤７Ｆ＋３ｚＯ３（サイズ１．０μＸ　０．１μ×
０．１μ）　　・・・　２００部 塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアル コール共重合体　　　　　　　　　　　・・・８０部ア
ミルステアレート　　　　　　　　・・・２．０部メチ
ルエチルケトン　　　　　　　　・・・１００部酢酸ｎ
−ブチル　　　　　　　　　　・・・３２０部研磨液Ｅ
の組成 研磨剤ＣｒｚＯｚ（サイズφ０．３ｔｔ　）　・１５０
部カーボンブラック　　　　　　　　　　・・・３０部
メチルエチルケトン　　　　　　　　・・・１００部シ
クロヘキサノン　　　　　　　　　・・・３５０部オレ
イン波　　　　　　　　　　　　　　・・・３部シリコ
ーンオイル　　　　　　　　　・・・０．２部フッ素系
オイル　　　　　　　　　　　・・・１部流動パラフィ
ン　　　　　　　　　　　・・・１部ブチルステアレー
ト　　　　　　　　　・・・１部界面活性剤　　　　　
　　　　　　　　・・・２部ＶＩ磨液Ｇの組成 末端イソシアネートプレポリマ（硬化剤）・・・３５部 ・比較例１ 実施例１で示した研磨液へをメチルエチルケトン〈１０
０部）とともにボールミルに入れ、９６時間に亘、プて
分散処理した。分散メディアとしてはスチールピーズ（
φ３／４インチ）を用いた。

この分散処理した液を３μのフィルタでチ過し、１２μ
厚のポリエステルフィルム上に８μ厚（乾燥厚）でｍ布
し、乾燥させてｆＪ！膜を形成した。その模この塗膜を
形成したポリエステルフィルムを１部２インチ中に裁断
し、研磨テープ３をつくった。

・比較例２ 実施例１で示した研磨液Ａとメチルエチルケトン（１０
０部以上）を三本ロールミルで混練し、低粘度（５ボイ
ズ）の研磨スラリを得た。なお、混練中も粘度が同程度
となるように適宜添加溶剤量を１ＪＩＩｌ、、た。次に
この研磨スラリを５μのフィルタでデ過（３μのフィル
タではデ過性悪し）し、１２μ厚のポリエステルフィル
ム上に８μ厚（乾燥厚）で塗布し、乾燥させて塗膜を形
成した。その後この塗膜を形成したポリエステルフィル
ムを１部２インチ巾に裁断し、研磨テープ４をつくった
。

実施例１．２および比較例１．２によりつくったｆＩ＃
磨テープ１〜４の脱落研磨粒子数および表面粗さくＲａ
　）を測定し、下表にその結果を示Ｊ０なお、脱落研磨
粒子数はフェライトヘッド研削後の研磨テープ表面を電
子顕微１ｌｌ（５０００倍）で観察し、脱落した研磨粒
子数をその凹みの数により計数し、相対値で表わした。

また、表面粗さくＲａ　）は塗膜表面の中心線平均粗さ
を測定したものである。カットオフ値は０，８ｍ、触針
半径は２μ、触側スピードは０．３．＠／ｓｅｃであっ
た。

上表から明らかなように、本実施例１．２によ・れば、
研磨剤の脱落を防止することができるとともにテープの
研磨塗膜表面を平滑にすることができる。

なお、本発明の実施例としては上記のものに限られるも
のではなく、本発明の目的を達成し１１ノる種々の実施
例がある。

（自発）手続ネ１１１正書 特許庁長官　殿　　　　　　　　　　　昭和６１年１０
月８日囚 １、事件の表示 特願昭６１−９０５４１号 ２、発明の名称 ＴＡｌｆｆテープの製造方法 ３、補正をする者 事ｆ１との関係　　　　　特許出願人 任　所　　　神奈川県南足柄市中沼２１０番地名　称　
　　　富士写真フィルム株式会社４、代理人 〒１６０東京都港区六本木５−２−１ ホ’）ライヤヒル７１１！！ｉ！（４７９）２３６７（
７３１８）弁理士　柳　川　征　史　（ほか２名）５、
補正命令の日付　　　な　　し ６、補正により増加する発明の数　　　な　　し７、補
正の対象　　　明ＩＩＩ内の「発明の詳細な説明」の欄
８、補正の内容 １）明ａ害第６頁第８行

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 研磨剤と結合剤の調液を行ない、この調液により生成さ
   れた研磨液を可撓性支持体上に塗布し、この塗布した研
   磨液を乾燥させて研磨テープを製造する方法において、 前記調液には、少なくとも前記研磨剤の一部と少なくと
   も前記結合剤の一部に対して行なう混練処理とサンドグ
   ラインダ分散処理とが含まれていることを特徴とする研
   磨テープの製造方法。