JPH0251A - 高コントラスト画像形成方法 - Google Patents
高コントラスト画像形成方法Info
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C5/00—Photographic processes or agents therefor; Regeneration of such processing agents
- G03C5/08—Photoprinting; Processes and means for preventing photoprinting
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ハロゲン化銀写真感光材料の画像形成方法に
関するものであり、特に印刷製版分野等における感光材
料として用いた場合に明室と呼び得る環境下で取り扱う
ことができ、かつ貼り込み跡の改良等良好な返し特性が
得られるハロゲン化銀写真感光材料の画像形成方法に関
するものである。 〔従来の技術及びその問題点〕 近年印刷製版分野において省力化、合理化作業環境改善
のため、従来暗室下で行われていたフィルムメーキング
、いわゆる返し工程作業を明るい部屋でできるようにす
るための技術が要求され、感光材料やプリンター等の機
器の改良がなされている。 明室取り扱い可能な感光材料としては、紫外光に富む光
源、例えば超高圧水銀灯、メタルハライド光源、キセノ
ンランプ、ハロゲンランプ等などに感光するハロゲン化
銀写真感光材料が挙げられる。これらのハロゲン化銀写
真感光材料は、100〜300ルクスという明るい一般
蛍光灯あるいは、紫外線量の少ない専用の蛍光灯下で取
り扱うことができる。 しかし従来の暗室取り扱い可能な感光材料は、暗室下で
取り扱われる感光材料と比較して、次の性能で劣ること
が知られている。即ち、返し原稿としての網点画像と線
画像を重ねて露光する場合の線画性能(抜き文字性能)
が劣ること、また線画原稿あるいは網原稿を貼り込みベ
ース上に製版用透明テープで固定したとき、このテープ
の跡が残り (貼り込みテープ跡)、このため仕上がり
画質を損なうという欠点を有し、この改良が望まれてい
た。 〔発明の目的〕 本発明の目的は、選択した光源による露光で良好な性能
、特に写真性能として返し特性における抜き文字品質の
良い、更にテープ貼り込み跡の出ないハロゲン化銀写真
感光材料の画像形成方法を提供することにある。 〔発明の構成及び作用〕 本発明の上記目的は、ヒドラジド化合物及びハロゲン化
銀粒子及び該ハロゲン化銀粒子の極大感光波長より少な
くとも50nm長波に極大吸収を持つ化合物を含有する
ハロゲン化銀写真感光材料を390〜430nmに比エ
ネルギーの極大値を持つ光源にて露光する画像形成方法
により達成される。 また、本発明の好ましい実施態様は、上述した本発明に
用いるハロゲン化銀写真感光材料が減感色素及び/また
は紫外線吸収剤を含有し、該ノ10ゲン化銀写真感光材
料を390〜430nmに比エネルギーの極大値を持つ
光源にて露光し、画像形成することである。 以下、本発明について詳述する。 本発明に用いるハロゲン化銀写真感光材料は、ヒドラジ
ド化合物を含有する。 本発明に用いられるヒドラジド化合物は、好ましくは下
記−数式[1]、[2]、[3]で表される化合物であ
る。 一般式[1] (式中、R1及びR2はアリール基またはへテロ環基を
表し、Rは有機結合基を表し、nはθ〜6、mは0また
はlを表し、nが2以上のときは、各Rは同じであって
も、異なっていてもよい。)−数式[2] 以下−数式[11、[2] 、[3]について具体的に
説明する。 一般式[1] (式中、R21は脂肪族基、芳香族基またはへテロ環基
を、R2!は水素原子、置換してもよいアルコキシ基、
ヘテロ環オキシ基、アミノ基、もしくはアリールオキシ
基を表し、Pl及びR2は水素原子、アシル基、または
スルフィン酸基を表す。)−数式
関するものであり、特に印刷製版分野等における感光材
料として用いた場合に明室と呼び得る環境下で取り扱う
ことができ、かつ貼り込み跡の改良等良好な返し特性が
得られるハロゲン化銀写真感光材料の画像形成方法に関
するものである。 〔従来の技術及びその問題点〕 近年印刷製版分野において省力化、合理化作業環境改善
のため、従来暗室下で行われていたフィルムメーキング
、いわゆる返し工程作業を明るい部屋でできるようにす
るための技術が要求され、感光材料やプリンター等の機
器の改良がなされている。 明室取り扱い可能な感光材料としては、紫外光に富む光
源、例えば超高圧水銀灯、メタルハライド光源、キセノ
ンランプ、ハロゲンランプ等などに感光するハロゲン化
銀写真感光材料が挙げられる。これらのハロゲン化銀写
真感光材料は、100〜300ルクスという明るい一般
蛍光灯あるいは、紫外線量の少ない専用の蛍光灯下で取
り扱うことができる。 しかし従来の暗室取り扱い可能な感光材料は、暗室下で
取り扱われる感光材料と比較して、次の性能で劣ること
が知られている。即ち、返し原稿としての網点画像と線
画像を重ねて露光する場合の線画性能(抜き文字性能)
が劣ること、また線画原稿あるいは網原稿を貼り込みベ
ース上に製版用透明テープで固定したとき、このテープ
の跡が残り (貼り込みテープ跡)、このため仕上がり
画質を損なうという欠点を有し、この改良が望まれてい
た。 〔発明の目的〕 本発明の目的は、選択した光源による露光で良好な性能
、特に写真性能として返し特性における抜き文字品質の
良い、更にテープ貼り込み跡の出ないハロゲン化銀写真
感光材料の画像形成方法を提供することにある。 〔発明の構成及び作用〕 本発明の上記目的は、ヒドラジド化合物及びハロゲン化
銀粒子及び該ハロゲン化銀粒子の極大感光波長より少な
くとも50nm長波に極大吸収を持つ化合物を含有する
ハロゲン化銀写真感光材料を390〜430nmに比エ
ネルギーの極大値を持つ光源にて露光する画像形成方法
により達成される。 また、本発明の好ましい実施態様は、上述した本発明に
用いるハロゲン化銀写真感光材料が減感色素及び/また
は紫外線吸収剤を含有し、該ノ10ゲン化銀写真感光材
料を390〜430nmに比エネルギーの極大値を持つ
光源にて露光し、画像形成することである。 以下、本発明について詳述する。 本発明に用いるハロゲン化銀写真感光材料は、ヒドラジ
ド化合物を含有する。 本発明に用いられるヒドラジド化合物は、好ましくは下
記−数式[1]、[2]、[3]で表される化合物であ
る。 一般式[1] (式中、R1及びR2はアリール基またはへテロ環基を
表し、Rは有機結合基を表し、nはθ〜6、mは0また
はlを表し、nが2以上のときは、各Rは同じであって
も、異なっていてもよい。)−数式[2] 以下−数式[11、[2] 、[3]について具体的に
説明する。 一般式[1] (式中、R21は脂肪族基、芳香族基またはへテロ環基
を、R2!は水素原子、置換してもよいアルコキシ基、
ヘテロ環オキシ基、アミノ基、もしくはアリールオキシ
基を表し、Pl及びR2は水素原子、アシル基、または
スルフィン酸基を表す。)−数式
【3】
%式%
(式中、Arは耐拡散基またはハロゲン化銀吸着促進基
を少なくとも1つ含むアリール基を表し、R□は置換ア
ルキル基を表す。) 以、下余白 ・・ノ 式中、R1及びR2はアリール基またはへテロ環基を表
わし、Rは2価の有機基を表わし、nはO〜6.1よ0
またはlを表わす。 ここで、R1及びR2で表わされるアリール基としては
フェニル基、ナフチル基等が挙げられ、ヘテロ環基とし
てはピリジル基、ベンゾチアゾリル基、キノリル−基、
チエニル基等が挙げられるが、R3及びR2として好ま
しくはアリール基である。 R1及びR2で表わされるアリール基またはへテロ環基
には種々の置換基が導入できる。置換基としては例えば
ハロゲン原子(例えば塩素、フッ素など)、アルキル基
(例えばメチル、エチル、ドデシルなど)、アルコキシ
基(例えばメトキシ、エトキシ、インプロポキシ、ブト
キシ、オクチルオキシ、ドデシルオキシなど)、アシル
アミノ基 (例えばアセチルアミノ、ピバリルアミノ、
ベンゾイルアミノ、テトラデカノイルアミノ、α−(2
,4−ジ−t−アミルフェノキシ)ブチリルアミノなど
)、スルホニルアミノ基(例えば、メタンスルホニルア
ミノ、ブタンスルホニルアミノ、トチカンスルホニルア
ミノ、ベンゼンスルホニルアミノナト)、ウレア基(例
えば、フェニルウレア、エチルウレアなど)、チオウレ
ア基(例えば、フェニルチオウレア、エチルチオウレア
など)、ヒドロキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基(
例えば、メチルアミン、ジメチルアミノなど)、カルボ
キシ基、アルコキシカルボニル ニル)、カルバモイル基、スルホ基などが挙げられる。 Rで表わされる2価の有機基としては、例えばアルキレ
ン基(例えば、メチレン、エチレン、トリメチレン、テ
トラメチレンなど)、アリーレン基(例えば、フェニレ
ン、ナフチレンなど)、アリーレン基等が挙げられるが
アルキレン基は結合中にオキシ基、チオ基、セレノ基、
カルポニル基、−N−基(R3は水素原子、アルキル基
、アリール基を表わす)、スルホニル基等を含んでも良
い。Rで表わされる基には種々の置換基が導入できる。 置換基としては例えば、− CONIINIIR4(R
4は上述したR1及びR2と同じ意味を表わす)、ア
ルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基
、カルボキシ基、アシル基、アリール基、等が挙げられ
る。 Rとして好ましくはアルキレン基である。 −数式[1]で表わされる化合物のうち好ましくはR1
及びR2が置換または未置換のフェニル基であり、n=
m=lでRがアルキレン基を表わす化合物である。 上記−数式[11で表される代表的な化合物を具体的化
合物 =29 ■ tc、11.。 ■ ■ ■ ■ ■ 次に一般式[21について説明する R21で表わされる脂肪族基は、好ましくは、炭素数6
以上のものであって、特に炭素数8〜50の直鎖、分岐
または環状のアルキル基である。ここで分岐アルキル基
はその中に1つまたはそれ以上のへテロ原子を含んだ飽
和のへテロ環を形成するように環化されてもよい。また
このアルキル基はアリール基アルコキシ基、スルホキシ
基、等の置換基を有してもよい。 R2+で表される芳香族基は単環または2環アリール基
または不飽和へテロ環基である。ここで不飽和へテロ環
基は単環または2環のアリール基と縮合してヘテロアリ
ール基を形成してもよい。 例えばベンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環、ピリミ
ジン環、イミダゾール環、ピロリジル基、キノリン環、
インキノリン環、ベンズイミダゾール環、チアゾール環
、ベンゾチアゾール環等があるがなかでもベンゼン環を
含むものが好ましい。 R2,とじて特に好ましいものはアリール基である。 R21のアリール基または不飽和へテロ環基は置換され
ていてもよく、代表的な置換基としては直鎖、分岐また
は環状のアルキル基(好ましくはアルキル部分の炭素数
が1〜20の単環または2環のもの)、アルコキシ基(
好ましくは炭素数1〜20のもの)、置換アミノ基(好
ましくは炭素数1〜20のアルキル基で置換されたアミ
ノ基)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜30を
持つもの)、スルホンアミド基(好ましくは炭素数1〜
30を持つもの)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜
30を持つもの)などがある。 一般式[2]のR22で表される基のうち置換されても
よいアルコキシ基としては炭素数1〜20のものであっ
て、ハロゲン原子、アリール基などで置換されていても
よい。 一般式[2]においてR22で表される基のうち置換さ
れてもよいアリールオキシ基またはへテロ環オキシ基と
しては単環のものが好ましく、また置換基としてはハロ
ゲン原子アルキル基、アルコキン基、シアノ基などがあ
る R2□で表される基のうちで好ましいものは、置換され
てもよいアルコキシ基またはアミノ基である。 A2置換されてもよいアルキル基、アルコシ基または一
〇−−3−−N−基結合を含む環状構造であってもよい
。但しR2□がヒドラジノ基であることはない。 一般式[2]のR21またはR2□はその中にカプラー
等の不動性写真用添加剤において常用されているバラス
ト基が組み込まれているものでもよい。 バラスト基は8以上の炭素数を有する写真性に対して比
較的不活性な基であり、例えばアルキル基、アルコキシ
基、フェニル基、アルキルフェニル基、フニノキシ基、
アルキルフェノキシ基などの中から選ぶことができる。 一般式[2]のR21またはR22はその中にハロゲン
化銀粒子表面に対する吸着を強める基が組み込まれてい
るものでもよい。かかる吸着基としては、チオ尿素基、
複素環チオアミド基、メルカプト複素環基、トリアゾー
ル基などの米国特許第4.355゜105号に記載され
た基があげられる。−数式[2]で表される化合物のう
ち下記−数式[2−alで表される化合物は特に好まし
い。 一般式[2−al 上記−数式[2−al中、 R8,およびR24は水素原子、置換されてもよいアル
キル基(例えばメチル基、エチル基、ブチル基、ドデシ
ル基、2−ヒドロキシプロピル基、2−シアノエチル基
、2−クロロエチル基)、置換されてもよいフェニル基
、ナフチル基、シクロヘキシル基、ピリジル基、ピロリ
ジル基(例えばフェニル基、p−メチルフェニル基、ナ
フチル基、α−ヒドロキシナフチル基、シクロヘキシル
基、p−メチルシクロヘキシル基、ピリジル基、4−プ
ロピル−2−ピリジル基、ピロリジル基、4−メチル−
2−ピロリジル基)を表し、 R2iは水素原子または置換されてもよいベンジル基、
アルコキシ基及びアルキル基(例えばベンジル基、p−
メチルベンジル基、メトキシ基、エトキシ基、エチル基
、ブチル基)を表し、R2,及びR2?は2価の芳香族
基(例えばフェニレン基またはナフチレン基)を表し、
Yはイオウ原子または酸素原子を表し、Lは2価の結合
基(例えば−5OIC112CII!N11− SO,
Nll、−0CII!5OIN11、−〇−−CIl−
N−)を表し、 R1,は−N R/ R//または一0R2,を表し、
R/ 、 R//及びRgsは水素原子、置換されても
よいアルキル基(例えばメチル基、エチル基、ドデシル
基)、フェニル基(例えばフェニル基、p−メチルフェ
ニル基、p−メトキシフェニル基)またはナフチル基(
例えばα−す7チル基、β−ナフチル基)を表し、m、
nは0またはlを表す。RgaがOR,、を表すときY
はイオウ原子を表すのが好ましい。 上記−数式[2]及び[2−alで表される代表的な化
合物を以下に示す。 −16、以、
下余白 ゛・7 一般式[21の具体例 I ■ ※→llN11CCOC+12C11□SO,CII□
C11,011一25 =33 ※ ■ 1l −NllNIICCN[IC+□1126次に、 上記具体的化合物のうち化合物2−45゜2−47を例
にとって、 その合成法を示す。 化合物2−45の合成 合成スキーム (A) (B) (E) 化合物4−二トロフェニルヒドラジン1539と500
aIQのジエチルオキザレートを混合し、1時間還流す
る。反応を進めながらエタノールを除去してI/%き、
最後に冷却し結晶を析出させる。濾過し石油エーテルで
数回洗浄し、再結晶する。次に得られた結晶(A)のう
ち509を1000a+<1のメタノールで加温溶解し
、pd/C(パラジウム・炭素)触媒下に50Psiの
か加圧したH 、雰囲気で還元し、化合物(B)を得る
。 この化合物(B)22gをアセトニトリル200m12
とピリジン169の溶液に溶かし室温で化合物(C)2
4s+のアセトニトリル溶液を滴下した。不溶物を濾別
後、虐液を濃縮し再結晶精製して化合物(D )319
を、得tこ 。 化合物(D )309を上記と同様に水添をして化合物
(E)20gを得た。 化合物(E)109をアセトニトリル100mQに溶解
しエチルインチオシアネート3,09を加え、1時間還
流した。溶媒を留去後回結晶精製して化合物(F)7.
09を得た。化合物(F )5.09をメタノール5Q
+oQに溶解してメチルアミン(40%水溶液8mg)
を加え攪拌した。メタノールを若干濃縮後、析出した固
体をとり出し再結晶精製して化合物2−45を得た。 化合物2−47の合成 合成スキーム (B) (C) (D) (E) 化合物2−47 化合物(B)22gをピリジン2001IIQに溶解し
攪拌すル中へ、p−ニトロベンゼンスルホニルクロライ
ド229を加えた。反応混合物を水あけ、後析出する固
体をとり出し化合物(C)を得た。この化合物(C)を
合成スキームに従って化合物2−45と同様の反応によ
り化合物2−47を得た。 次に一般式[3]について説明する。 −数式[3] 。 Ar NIINI(CRs+ 一般式[3]中、A「は耐拡散基又はハロゲン化銀吸着
促進基を少なくとも1つを含むアリール・基を表わすが
、耐拡散基としてはカプラー等の不動性写真用添加剤に
おいて常用されているバラスト基が好ましい。バラスト
基は8以上の炭素数を有する写真性に対して比較的不活
性な基であり、例えばアルキル基、アルコキシ基、フェ
ニル基、アルキルフェニル基、フェノキシ基、アルキル
フェノキシ基などの中から選ぶことができる。 ハロゲン化銀吸着促進基としてはチオ尿素基、グーオウ
レタン基、複素環チオアミド基、メルカプト複素環基、
トリアゾール基などの米国特許第4゜385.108号
に記載された基が挙げられる。 R31は置換アルキル基を表わすが、アルキル基として
は、直鎖、分岐、環状のアルキル基を表わし、例えばメ
チル、エチル、プロピル、ブチル、イングロビル、ペン
チル、シクロヘキシル等の基が挙げられる。 これらのアルキル基へ導入される置換基としては、アル
コキシ(例えばメトキシ、エトキシ等)、アリールオキ
シ(例えばフェノキシ、p−クロルフエノキシ等)、ペ
テロ環オキシ(例えばピリジルオキシ等)、メルカプト
、アルキルチオ(メチルチオ、エチルチオ等)、アリー
ルチオ(例えばフェニルチオ、p−クロルフェニルチオ
等)、ペテロ環チオ(例えば、ピリジルチオ、ピリミジ
ルチオ、チアジアゾリルチオ等)、アルキルスルホニル
(例えばメタンスルホニル、ブタンスルホニル等)、ア
リールスルホニル(例えばベンゼンスルホニル等)、ヘ
テロ環スルホニル(例えばピリジルスルホニル、モルホ
リノスルホニル等)、アシル(例えばアセチル、ベンゾ
イル等)、シアノ、クロル、臭素、アルコキシカルボニ
ル(例えばエトキシカルボニル、メトキシカルボニル カルバモイル、アルキルカルバモイル(例えば、N−メ
チルカルバモイル、N,N−ジメチルカルバモイル等)
、アリールカルバモイル(例えば、N−7エ二ルカルバ
モイル等)、アミノ、アルキルアミノ(例えば、メチル
アミノ、N,N−ジメチルアミノ等)、アリールアミノ
(例えば、フェニルアミノ、ナフチルアミノ等)、アシ
ルアミノ(例えばアセチルアミノ、ベンゾイルアミノ等
)、アルコキシカルボニルアミノ(例えば、エトキシカ
ルボニルアミノ等)、アリールオキシカルボニルアミノ
(例えば、フェノキシカルボニルアミノ等)、アシルオ
キシ(例えば、アセチルオキシ、ベンゾイルオキシ等)
、アルキルアミノカルボニルオキシ(例えばメチルアミ
ノカルボニルオキシ等)、アリールアミノカルボニルオ
キシ(例えば、フェニルアミノカルボニルオキシ等)、
スルホ、スルファモイル、アルキルスルファモイル(例
えば、メチルスルファモイル等)、アリールスルファモ
イル(例えば、フェニルスルファモイル等)等の多基が
挙げられる。 ヒドラジンの水素原子はスルホニル基(例えばメタンス
ルホニル、トルエンスルホニル等)、アシル基(例えば
、アセチル、トリフルオロアセチル等)、オキザリル基
(例えば、エトキザリル等)等)等の置換基で置換され
ていてもよい。 上記−数式[3]で表される代表的な化合物としては、
以下に示すものがある。 =26 ※−NllN[1CCH20CII□Cl120C11
2CI(□011=28 得 Iこ 。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料に含まれる一般式[
1]、[2]、[3]の化合物の量は、本発明のハロゲ
ン化銀写真感光材料中に含有されるハロゲン化銀1モル
当り、5 X 10−’ないし5 X 10−’モルま
でが好ましく、更に好ましくは5 X 10−’ないし
l X 10−2モルの範囲である。 以下余白 次に化合物3−5の合成例について述べる。 化合物3−5の合成 合成スキーム 化合物2−45の合成法に準じて化合物3−5をヒドラ
ジド化合物の添加位置はハロゲン化銀乳剤層及び/また
は支持体上ハロゲン化銀乳剤層側にある非感光層である
が、好ましくは、ハロゲン化銀乳剤層及び/またはその
下層である。添加量は、to−’〜10− ’モル/銀
1モルが好ましく、更に好ましくは10−’〜1O−2
モル/銀1モルである。 本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料及び/または現
像液中には、アミノ化合物を含有することが好ましい。 本発明に好ましく用いられるアミノ化合物は、第1級〜
第4級アミンすべてを包含する。好ましいアミノ化合物
の例としてアルカノールアミン類が挙げられる。以下、
好ましい具体例を列挙するが、これらに限定されるもの
でない。 ジエチルアミノエタノール ジエチルアミノブタノール ジエチルアミノプロパン−1,2−ジオールジメチルア
ミンプロパン−1,2−ジオールジェタノールアミン ジエチルアミノ−I−プロパノール トリエタノールアミン ジプロピルアミノプロパン−1,2−ジオールジオクチ
ルアミノ−1−エタノール ジオクチルアミノプロパン−1,2−ジオールドデシル
アミノプロパン−1,2−ジオールドデシルアミノ−1
−プロパツール ドデシルアミノ−1−エタノール アミノプロパン−1,2−ジオール ジエチルアミノ−2−7’ロバノール ジプロパノールアミン グリシン トリエチルアミン トリエチレンジアミン 3−ピロリジノ−1,2−プロパンジオール3−(ジメ
チルアミン)−1,2−プロパンジオール 3−モルホリノ−1,2−プロパンジオール1.4−ピ
ペラジンビス(エタンスルホン酸)3−ピペラジノ−1
,2−プロパンジオールN−ピペラジンエタノール アミノ化合物はハロゲン化銀写真感光材料の感光層側の
塗設層(例えばハロゲン化銀乳剤層、保護層、下引層の
親水性コロイド層)の少なくとも1層及び/または現像
液中に含有させればよく、好ましい実施態様は現像液中
に含有する態様である。アミノ化合物の含有量は含有さ
せる対象、アミノ化合物の種類等によって異なるが、コ
ントラスト促進量が必要である。 本発明の画像形成方法を適用するハロゲン化銀写真感光
材料中には、明室下で取り扱うことのできるように、ハ
ロゲン化銀粒子の感光極大波長より少なくとも50nm
長波に極大吸収を持つ化合物を含有せしめる。 上記化合物の最適な極大吸収波長は、その用いるハロゲ
ン化銀乳剤の種々の条件によっである程度変化するが、
それは分光スペクトルを測定することにより容易に見い
出すことができる。このような化合物はハロゲン化銀乳
剤層に含有せしめても良いが、より効果的には、支持体
に対して乳剤層より遠い側に位置する層、例えば保護層
に含有させることが好ましい。更にハロゲン化銀乳剤層
と保護層の間の中間層に含有せしめてもよい。上記化合
物を含有する層には、塩基性モルダントや等電点の高い
酸処理ゼラチンのような、上記化合物を固定することが
できる物質を用いることにより、本発明の効果を一層高
めることができる。 ハロゲン化銀粒子の感光極大波長より少なくとも50n
m長波に極大吸収を持つ上記化合物は、約511Ig〜
3g/m”の範囲で用いることが好ましく、また極大吸
収波長における光学濃度として0.1層以上であること
が望ましい。また極大吸収波長は少なくとも50ni長
波に極大吸収を持つものであるが、充分な効果を発揮さ
せるために300nm以下長波であることが好ましく、
更に200nm以下であることが好ましい。更に50〜
100na長波の化合物及び100〜200n+o長波
の化合物というように、2種以上組み合わせ含有せしめ
ると、より好ましい結果が得られる。これらの化合物は
、例えば下記−数式[4] −(a)、 (b)、 (
c)及び具体的例示化合物で表されるものであるが、勿
論これらに限定されるものではない。 一般式(4) −(a) 子団であって、X及びYは水素原子、アルキル基、シア
ノアルキル基、カルボキシアルキル基、スルホアルキル
基、ヒドロキシアルキル基、ハロゲン化アルキル基また
は置換されてもよいアルキル基或はそのナトリウム・カ
リウム塩を表し、R4!とR43は水素原子、ハロゲン
原子、アルキル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アル
キルチオ基、または前記の一〇x基と同様の基を表し、
Qは少なくとも一つのハロゲン原子、カルボキシ基、ス
ルホ基、またはスルホアルキル基或はそのナトリウム・
カリウム塩で置換されたフェニル基まI;はスルホアル
キル基、スルホアルコキシアルキル基、スルホアルキル
チオアルキル基を、またLは置換されてもよいメチン基
を表す。R44はアルキル基、カルボキシ基、アルキル
オキシカルボニル基或はアシル置換、スルホ置換、非置
換のアミノ基を表す。IIlは整数0.1または2をI
m!は整数0またはlをそれぞれ示す。 一般式(4) −(b) 式中R4,、R、、、R4,、R、、及びR4゜は水素
原子、ハロゲン原子、アルキル基、ヒドロキシル基、ア
ルコキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、カルボキシル
基またはスルホン基或はそのナトリウム・カリウム塩を
表し、R6,はアルキル基またはカルボキシル基を表す
。 一般式[4] −(c) 式中R41′及びR4!′はアルキル基、置換アルキル
基、アリール基、アルコキシカルボニル基またカルボキ
シル基を表し、R43′及びR44′はスルホン酸基も
しくはカルボキシル基で置換されたアルキル基またはス
ルホン酸基もしくはカルボキシル基またはスルホン酸基
で置換されたアリール基或はそのナトリウム・カリウム
塩を表し、Lは置換もしくは未置換のメチン鎖を表す。 Mはナトリウム、カリウムまたは水素原子を表し、+1
13は0またはlを表す。 以下一般式[4] −(a)、 (b)、 (c)に係
る化合物本発明の画像形成方法は、本発明に用いるへロ
ゲン化銀写真感光材料を露光する光源として390〜4
30nmに比エネルギーの極大値を持つ光源を用いる。 好ましくは400〜420nmの極大値を持つ光源にて
露光するが、この条件に合う光源ならば、いかなる発光
形式であっても良い。例えばフィラメントを無、電極の
有無について限定するものではない。また発光電極管内
に含有せしめる発光ガスもハロゲンガス、希ガスあるい
は混合体であっても良い。またガスと同時に発光用金属
を含有せしめても良い。 一般にこの目的に合う光源としては超高圧水銀灯メタル
ハライドランプの他に後記する無電極放電管のV球形式
の発光スペクトルが好ましい。この形式の発光放電管は
米国とュージョン(FUSION)社やその他の光源メ
ーカーから入手できるものであり、具体的には、米国特
許第4,254.363号、同第4.010.400号
、同第3.993.379号、同第3.950.670
号、同第3.873,884号、同第3.790.85
2号、同第3゜787.705号、同第3.786,3
08号、同第3.645.629号、同第4.536.
675号、同第4,422.017号、同第4.415
゜838号、同第4.390.813号、同第4,38
3,203号、同第4.359.668号、同第3.9
11.318号、同第3.872.349号、同第3.
983,039号、同第4.042.850号、同第4
゜208.587号、同第4,313,969号、同第
4,269,581号等に開示のあるものを挙げること
ができる。 また、本発明で用いる390〜430nmに比エネルギ
ーの極大値を持つ光源とは上述のV球形式の発光スペク
トルを得るため超高圧水銀灯やメタルハライドランプ光
源の上部に390nm以下の短波をカットする吸収フィ
ルター(430nm以上の長波をカットしても、しなく
ても良い)を装着したものも含み、これにより本発明の
効果を得ることもできる。 このフィルターの取付は光源の近接上部あるいは、プリ
ンター上部のガラス板(第2図に示すガラス板)を吸収
フィルターガラスにする等の方法がある。 本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料に用いるハロゲ
ン化銀は、任意の組成の塩化銀、塩臭化銀、塩沃臭化銀
等で少なくとも50モル%の塩化銀を含有することが好
ましい。ハロゲン化銀粒子の平均粒径は0.025〜0
.5μmの範囲のものが好ましく用いられるが0.05
〜0.30μ膿がより好ましい。 本発明に係るハロゲン化銀粒子の単分散度は、下記式(
1)で定義され、その値は5〜60が好ましく、より好
ましくは8〜30となるよう調製する。 本発明に係るハロゲン化銀粒子の粒径は、便宜的に立方
晶粒子の校長で表し、単分散度は粒径の標準偏差を平均
粒径で割った値を100倍した数値で表す。 また、本発明で用い得るハロゲン化銀としては、少なく
とも2層の多層積層構造を有するタイプのものを好まし
く用いることができる。例えばコア部に塩臭化銀または
塩化銀、シェル部に臭化銀または沃臭化銀、逆にコア部
を臭化銀または沃臭化銀、シェル部を塩臭化銀または塩
化銀である塩臭化銀または塩沃臭化銀粒子であってもよ
い。このときヨードは任意の層に5モル%以内で含有さ
せることができる。 また、少なくとも2種類の粒子を混合して用いることも
できる。例えば生乳粒子は10モル%以下の塩化銀及び
5モル%以下のヨードを含有する立方晶、八面体または
平板状の塩沃臭化銀粒子であり、副粒子はヨード5モル
%以下で塩化銀50モル%以上含有する立方晶、八面体
または平板状塩沃臭化銀粒子からなる混合粒子とするこ
とができる。 このように粒子を混合して用いる場合は、主・副粒子の
化学増感は任意であるが、副粒子は主粒子より化学増感
(イオウ増感や金増感)を控えることにより感度を低く
してもよいし、粒子径や内部にドープするロジウムなど
の貴金属の量を調節して感度を底下させてもよい。また
副粒子の内部を金でカブらせてもよいし、コア/シェル
法でコアとシェルの組成を変化させてカブらせてもよい
。 主粒子と副粒子は小粒子径よいが、例えば0.025μ
m”1.0μmの任意の値をとることができる。 本発明に用いるハロゲン化銀乳剤調製時には、ロジウム
塩を添加して感度またはr4!調をコントロールする事
ができる。ロジウム塩の添加は一般には粒子形成時が好
ましいが、化学熟成時、乳剤塗布液調製時でも良い。 本発明に用いるハロゲン化銀乳剤に添加されるロジウム
塩は、単純な塩の他に複塩でも良い。代表的には、ロジ
ウムクロライド、ロジウムトリクロライド、ロジウムア
ンモニウムクロライドftトが用いられる。 ロジウム塩の添加量は、必要とする感度、階調により自
由に変られるが銀1モルに対して10−8モルから10
−’モルの範囲が特に有用である。 またロジウム塩を使用するときに、他の無機化合物例え
ばイリジウム塩、白金塩、タリウム塩、コバルト塩、金
塩などを併用しても良い。イリジウム塩はしばしば高照
度特性の改良の目的で、銀1モル当り10−”モルから
10−4モルの範囲まで好ましく用いることができる。 本発明において用いられるハロゲン化銀は種々の化学増
感剤によって増感することができる。増感剤としては、
例えば活性ゼラチン、硫黄増感剤(チオ硫酸ソーダ、ア
リルチオカルバミド、チオ尿素、アリルイソチオシアネ
ート等)、セレン増感剤(N、N−ジメチルセレノ尿素
、セレノ尿素等)、還元増感剤(トリエチレンテトラミ
ン、塩化第1スズ等)、例えばカリウムクロロオーライ
ト、カリウムオーリチオシアネート、カリウムクロロオ
ーレート、2−オーロスルホペンゾチアゾールメチルク
ロライド、アンモニウムクロロパラデート、カリウムク
ロロオーレ−ト、ナトリウムクロロパラダイト等で代表
される各種貴金属増感剤等をそれぞれ単独で、あるいは
2種以上併用して用いることができる。なお金増感剤を
使用する場合は助剤的にロダンアンモンを使用すること
もできる。 本発明の効果は、減感色素及び/または紫外線吸収剤を
本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料中に含有せしめ
ることにより、−層高めることができる。 減感色素としては下記−数式[5]−(a)〜(e)で
表されるものを好ましく用いることができる。 紫外線吸収剤としては下記−数式[5] −(f7.(
g)で表されるものを好ましく用いることができる。 これらの化合物は、米国特許第3.567.456号、
同3,615.639号、同3,579.345号、同
3,615.608号、同3,598.596号、同3
,598.955号、同3,592.653号、同3,
582.343号、特公昭40−26751号、同40
−27332号、同43−13167号、同45−88
33号、同47−8746号等の明細書を参考にして合
成することができる。 −数式[5] −(a) とで芳香族環を形成してもよい。R,s及びRoはそれ
ぞれアルキル基、低級アルケニル基、7エ二ル基または
低級ヒドロキシアルキル基を表し、またR、1及びRs
2が水素原子以外の場合にはアリール基であってもよく
■、は1〜4の正の整数、R1は低級アルキル基または
スルホン化低級アルキル基を表し、XIは酸アニオンを
表す。〕一般数計5 ] −(c) 一般式[5]−(b) 〔式中R5I及びR32は水素またはハロゲン原子、シ
アノ基またはニトロ基を表す。また、R,1とR,*〔
式中、R%−およびR87はそれぞれ水素原子またはニ
トロ基、R□およびR5,は低級アルキル基、アリル基
又はフェニル基、Zlはニトロベンゾチアゾール核、ニ
トロベンゾオキサゾール核、ニトロベンゾセレナゾール
核、イミダゾ〔4・5−b〕キノキサリン核、3・3−
ジメチル−3H−ピロロ〔2・3−b〕 ピリジン核、
3・3−ジアルキル−H−ニトロインドール核、チアゾ
ロ〔4・5−υ〕キノリン核、ニトロキノリン核、ニト
ロチアゾール核、ニトロナフトチアゾール核、ニトロオ
キサゾール核、ニトロナフトオキサゾール核、ニトロセ
レナゾール核、ニトロナフトセレナゾール核またはニト
ロピリジン核を形成するために必要な原子群、x2はア
ニオン、al、及びnはそれぞれlまたは2を表す。た
だし化合物が分子内塩を形成する場合はnはlを表す。 〕 一般式[5]−(d) 〔式中R@0+ R@In R4!及びR,sはそれぞ
れ水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基
、アリールオキシ基またはニトロ基、R6,は水素原子
、アルキル基またはニトロ基を表す。2゜は非置換また
はそれぞれ低級アルキル基、7エ二ル基、チエニル基、
ハロゲン原子、アルコキシ基、ヒドロキシ基、シアノ基
、アルキルスルフォニル基、アルコキシカルボニル基、
フォニルスルフォニル基、トリフルオロメチル基で置換
されたチアゾール核、ベンゾチアゾール核、ナフトチア
ゾール核、オキサゾール核、ベンゾオキサゾール核、ナ
フトオキサゾール核、セレナゾール核、ベンゾセレナゾ
ール核、ナフトセレナゾール核、チアゾリン核、ピリジ
ン核、キノリン核、インキノリン核、3.3−ジアルキ
ル−3H−インドール核、イミダゾール核、ベンゾイミ
ダゾール核またはナフトイミダゾール核を形成するに必
要な原子群を表し、Ll及びり、はそれぞれ非置換また
は低級アルキル基もしくはアリール基で置換されたメチ
ン鎖を表し、R1,及びR6,はそれぞれ非置換もしく
は置換基を有するアルキル基、アルケニル基、アリール
基、スルホアルキル基まアラルキル基、x、はアニオン
、m、及びnはそれぞれlまたは2を表す。 ただし化合物が分子内塩を形成する場合はnはlを表す
。〕 一般式[5] −(e) 一般式[5]−(f) 〔式中R67及びRoはそれぞれアルキル基、Rasは
アリール基を表す。Ll及びL2はそれぞれ非置換また
は低級アルキル基もしくはアリール基で置換されたメチ
ン鎖を表し2.はチアゾール核、ベンゾチアゾール核、
ナフトチアゾール核、オキサゾール核、ベンズオキサゾ
ール核、ナフトオキサゾール核、セレナゾール核、ベン
ゾセレナゾール核、ナフトセレナゾール核、チアゾリン
核、ピリジン核、キノリン核、3・3−ジアルキルイン
ドレニン核、イミダゾール核、イミダゾ〔4・5−b〕
キノキサリン核を形成するために必要な原子群、x2は
アニオン、117は1〜3の正の整数、msTO 〔式中R7゜はアルキル、ヒドロキシアルキル、シアノ
アルキル、スルホアルキル基を表し2.はオキサゾール
、チアゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾール
、イミダゾール、ベンツイミダゾール環を、Aはピロー
ル環、ピロリジン環を形成するに必要な原子群を表す。 〕 一般式[5] −(g) R7曝 Lm 〔式中Roll R7!I R731R74はアルキル
基、ヒドロキシアルキル基、シアノ基、アルキルシアノ
基、アルコキシ基またはスルホアルキル基を表す。R?
S及びRvaはスルホン酸基、アルキルスルホン酸基を
表す。〕 次に、本発明に好ましく用いられる減感色素及び紫外線
吸収剤の具体的例示化合物を示すが、これらに限定され
るものではない。(尚以下例示の5−1〜5−36の中
には、前掲の一般式に該当しないものもある。またpt
sはバラトルエンスルホ本発明に用いられる/10ゲン
化銀は、すでに写真感光材料業界で公知の種々な増感剤
、安定剤その他の添加剤を添加する事が出来る。 又前記ハロゲン化銀は親水性コロイド層中に添加せしめ
られるが、これらの親水性コロイドはゼラチンを始め写
真感光材料業界公知の種々な親水性コロイドを使用する
ことが出来、これらの親水性コロイドは、ノ・ロゲン化
銀を含有しない層、例えばハレーション防止層、保護層
、中間層にも適用出来る。 更に本発明に用いる支持体もポリエステルフィルム等写
真感光材料業界で公知の各種支持体を用いることが出来
る。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料の現像に用いられる
現像主薬としては次のものが挙げられる。 HO−(CH= CH)n−OH型現像主薬の代表的な
ものとしては、ハイドロキノンがあり、その他にカテコ
ール、ピロガロールおよびその誘導体ならびにアスコル
ビン酸、クロロハイドロキノン、ブロモハイドロキノン
、メチルハイドロキノン、2,3−ジブロモハイドロキ
ノン、2.5−ジエチルノーイドロキノン、カテコール
、4−クロロカテコール、4−フェニル−カテコール、
3−メトキシ−カテコール、4−アセチル−ピロガロー
ル、アスコルビン酸ソーダ等がある。 また、HO−(CH= CH)n−NHz型現像現像剤
て(よ、オルトおよびパラのアミノフェノールまtこ1
よアミノピラゾロンが代表的なもので、4−アミノフェ
ノール、2−アミノ−6−フェニルフェノール、2−ア
ミノ−4−クロロ−6−フェニルフェノール、N−メチ
ル−p−アミノフェノール、等がある。 更に、HzN−(CH−CH)n−NHz型現像現像剤
て(よ例えば4−アミノ−2−メチル−N、N−ジエチ
ルアニリン、2.4−ジアミノ−N、N−ジエチルアニ
リン、N−(4−アミノ−3−メチルフェニルp−フ二
二レンジアミン、等がある。 ヘテロ環型現像剤としては、l−フェニル−3−ピラゾ
リドン、l−フェニル−4,4−ジメチル−3−ピラゾ
リドン、l−フェニル−4−メチル−4−ヒドロキシメ
チル−3−ピラゾリドン、のような3−ピラゾリドン類
、l−フェニル−4−アミノ−5−ピラゾロン、5−ア
ミノウラシル等を挙げることができる。 その他、T.H.ジェームス著ザ・セオリイ・オプ・ザ
・ホトグラフィック・プロセス第4版(The The
ory of the Photographic P
rocess Fourth Editton)第29
1”−334頁およびジャーナル・オブ・ザ・アメリカ
ン・ケミカル・ソサエティ (Journal oft
he Aa+erican Chea+ical So
ciety)第73巻、第3。 100頁(1951)に記載されているごとき現像剤が
本発明に有効に使用し得るものである。これらの現像剤
は単独で使用しても2種以上組合せてもよいが、2種以
上を組合せて用いる方が好ましい。 また本発明の感光材料の現像に使用する現像液には保恒
剤として、例えば亜硫酸ソーダ、亜硫酸カリ、等の亜硫
酸塩を用いても、本発明の効果が損なわれることはなく
、本発明の1つの特徴として挙げることができる。また
保恒剤としてヒドロキシルアミン、ヒドラジド化合物を
用いて現像液1a当り5〜500gで、より好ましくは
20〜200gである。 また上記のグリコール類としては、エチレングリコール
、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、トリ
エチレングリコール、l、4−ブタンジオール、l、5
−ベンタンジオール等があるが、ジエチレングリコール
が好ましく用いられる。そしてこれらグリコール類の好
ましい使用量は現像液IQ当り5〜500gで、より好
ましくは20〜200gである。これらの有機溶媒は単
独でも併用しても用いることができる。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、上記の如き現像
抑制剤を含んだ現像液を用いて現像処理することにより
極めて保存安定性に優れた感光材料を得ることができる
。 上記の組成になる現像液のpH値は9〜12であるが、
保恒性および写真特性上からpti値はlO〜11の範
囲が好ましい。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、種々の条件で処
理することができる。処理温度は、例えば現像温度は5
0°C以下が好ましく、特に30℃前後が好ましく、ま
た現像時間は3分以内に終了することが一般的であるが
、特に好ましくは2分以内が好効果をもたらすことが多
い。また現像以外の処理工程、例えば水洗、停止、安定
、定着、さらに必要に応じて前硬膜、中和等の工程を採
−用することは任意であり、これらは適宜省略すること
もできる。さらにまた、これらの処理は皿現像、枠現像
などいわゆる手現像処理でも、ローラー現像、ハンガー
現像など機械現像であってもよい。 〔実施例〕 以下実施例によって本発明を具体的に説明する。 なお、当然のことではあるが、本発明は以下述べる実施
例に限定されるものではない。 実施例=1 pH3,0の酸性雰囲気下でコンドロールドダブルジェ
ット法によりロジウムを銀1モル当たり10−’モル含
有する下記表−1に示す平均粒径、ハロゲン化銀組成単
分散度の粒子を作成した。粒子の成長は、ベンジルアデ
ニン及びメルカプトプロピルスルホン酸ナトリウムをそ
れぞれ1%のゼラチン水溶液112当たり30mg含有
する系で行った。銀とハライドの混合後6−メチルー4
−ヒドロキシ−1゜3.3a、7−チトラザインデンを
ハロゲン化銀1モル当たり600mg加え、その後水洗
、脱塩した。 次いで、ハロゲン化銀1モル当たり60mgの6−メチ
ル−4−ヒドロキシ−1,3,3a、7−チトラザイン
デンおよびメルカプトプロピルスルホン酸ナトリウムを
加えた後、イオウ増感をした。イオウ増感後安定剤とし
て6−メチル−4−ヒドロキシ−1゜3.3a、7−チ
トラザインデンを加えた。 (ハロゲン化銀乳剤層) 前記各乳剤に添加剤を下記の付量になるよう調製添加し
、特開昭59−19941号の実施例−1によるラテッ
クス下引処理した(100μm厚さ)ポリエチレンテレ
フタレート支持体上に塗布した。 ラテックスポリマー :スチレン−ブチルアクリレート
−アクリル酸3元共重合 ポ リ ? −1,0g/m 2 テトラフ工ニルホスホニウムクロライド39mg/+” サポニン 200mg/ゴ2ポ
リエチレングリコール 100+*g/醜2ド
デシルベンゼンスルホン酸ナトリウム100mg/m” ハイドロキノン 200B/m”フ
ェニドン 100mg71zスチ
レン−マレイン酸共重合体200mg/■2没食子酸ブ
チルエステル 500mg/s”ヒドラジド化
合物 表−1に示す5−メチルベンゾト
リアゾール 30a+g/m”メルカプトプロピル
スルホン酸ナトリウム30+ag/*” 減感色素または紫外線吸収染料 表−1に示す2−メル
カプトベンツイミダゾール− 5−スルホン酸 3o■g/m”イナ
ートオセインゼラチン(等電点4.9.ゼリー強度36
0) 1.5g/■2l−(
p−アセチルアミドフェニル)−5メルカプトテトラゾ
ール 30mg/w”銀量
2.8g/m”(乳剤層保護膜) 乳剤層保護膜として、下記の付量になるよう調製塗布し
た。 弗素化ジオクチルスルホコノ1り酸エステル300B/
m’ 77ト剤:ポリメタクリル酸メチル (平均粒径3.5μm) 100+mg
/m’硝酸リチウム塩 30mg/
e”酸処理ゼラチン(等電点8.0) 1.2g
/m”コロイダルシリカ 50mg/
+”50nm長波に吸収極大を持つ化合物 表−1に示す スチレン−マレイン酸共重合体 100+ag/m2
媒染剤 の支持体上に塗布した。 ハイドロキノン フェニドン ラテックスポリマー ニブチルアク −スチレン共重合体 スチレン−マレイン酸共[合体 クエン酸 サポニン ベンゾトリアゾール 硝酸リチウム塩 2−メルカプトーベンツイミ 5−スルホン酸ナトリウム 5−メチルベゾトリアゾール ダゾールー Br バッキング染料 100mg/s” 30mg/m” リレート 0.5g/m’ 100mg/m” 40mg/m2 200mg/m” 100mg/m” 30mg/m2 30mg/m” 30mg/+2 10mg/m” 添加剤を下記付量になるよう乳剤層とは反対側CI、S
o、H 3OS K So 3 K So 、 Na オセインゼラチン 2.0g/m”(
バッキング層保護膜) 添加剤を下記付量になるよう調製塗布した。 ジオクチルスルホコノ1り酸エステル 300mg/m” マット剤:メタクリル酸メチル (平均粒径4.Op m) 100mg
/a”コロイダルシリカ 30mg/
a+”Na(,12100mg/m” オセインゼラチン (等電点4.9.ゼリー強度360
)1.1g/m” 弗素化Fデシルベンゼンスルホン酸 ナトリウム 50a+g/m2以
上のようにして得られた試料を表−1に示す光源にて露
光し下記に示す現像液、定着液を使用して現像処理した
。 (露光方法) 第1図(a)に示すスペクトル(400〜420nmに
比エネルギーの極大を持つ)を持つ「7球」と呼ばれる
米国ヒユージョン(FT131ON)製の無電極放電光
源、または第1図(b)に示すスペクトル(350〜3
80nmに比エネルギーの極大を持つ)を持つ「D球」
と呼ばれる従来の光源をガラス板下に装着し、ガラス面
上には第2図に示すように貼り込み跡、抜き文字品質を
評価できるように原稿と感光材料を載せ(ガラス面より
順に、6.カットマスクフィルム、5.貼り込みベース
、4.線画ポジ像が形成されたフィルム、3、貼り込み
ベース、2.網点画像が形成されたフィルム、1.返し
用感光材料)露光した。 く現像液処方〉 ハイドロキノン 25 gl−
フェニル−4,4−ジメチル−3−ピラゾリドン
0.4g臭化ナトリウム
3g5−メチルベンゾトリアゾール
0.3g5−ニトロインダゾール
0.05g5gジエチルアミノプロパン−2−ジオー
ル0 g 亜硫酸ナトリウム 75 g5−
スルホサリチル酸ナトリウム 75 gエチレン
ジアミン四酢酸ナトリウム 2g水でIffに仕上
げた。 pHは、苛性ソーダで11.5とした。 く定着液処方〉 (組成A) チオ硫酸アンモニウム (72,5%W/V水溶液) 240
m+2亜硫酸ナトリウム 17g
酢酸ナトリウム・3水塩 6.5g硼
酸
6遣クエン酸ナトリウム・2水塩 2
g酢酸(90%W/V水溶液) 13.
6ml1(組成り) 純水(イオン交換水) 17raQ
硫酸(50%W/V(7)水溶液) 4
.7g硫酸アルミニウム (AQzos換算含量が8.1%L’V(7)水溶液)
26.5g定着液の使用時に水500m2中に上記組
成A、組成りの順に溶かし、lQに仕上げて用いた。こ
の定着液のpHは約4.3であった。 く現像処理条件〉 (工 程) (温 度) (時 間)現 像
40℃ 15秒定着 着
35 ’0 10秒水 洗 常
温 10秒 乾 燥 50℃ lO秒評価
は以下のようにして行い、結果を表−1に示した。 (写真性能評価方法) (1) 貼り込み跡 第2図において貼り込み用ベース上に網フィルムを載せ
て、更に網フィルムの周辺を透明な製版用スコッチテー
プで固定しておき、露光現像処理した後このテープ跡(
貼り込み跡)がないときを「5」、跡が目立ち最も悪い
レベルを 「l」として5段階評価をした。 (2)抜き文字品質 抜き文字品質は、第2図における網フィルムの50%の
網点面積を持つ部分が、返し用感光材料に50%の網点
面積となるように適正露光したとき、第2図における線
画フィルム上の50pII+の線巾が再現される画質を
言い、非常に良い抜き文字画質を 「5」とし、最も悪
いレベルを 「l」として5段階評価をした。 表−1より、ヒドラジド化合物及びハロゲン化銀粒子を
含有し、該ハロゲン化銀粒子の極大感光波長より50n
m長波に吸収極大を持つ化合物を含有するハロゲン化銀
写真感光材料を通常の光源に385nm以下の短波をカ
ットする吸収フィルターを装着したもので露光すると
(試料No、4)、従来の光源で露光した比較試料(N
o、 1〜3)に比べて貼り込み跡性能が良くなること
がわかる。更に、上記ハロゲン化銀写真感光材料に減感
色素及び/または紫外線吸収剤を添加した試料を400
〜420nmに比エネルギーの極大値を持つ「7球」で
露光するとぐ試料No、5〜9)著しく抜き文字品質が
良好で貼り込み跡のない銀画像が得られることが理解で
きる。 なお大日本スクリーン社製明室プリンターp−627F
Mの光源上部にコダック力う−プリンティングフイルタ
ーCP−2Bを装着し表−1の試料No、4を露光した
結果は試料No、4の結果と同様であった。 実施例−2 実施例−1と同様にして試料を作成したが、ここでは、
主・副の2種類のハロゲン化銀粒子を混合して用いた。 主粒子は平均粒径0.12μm1単分散度15、ヨード
2モル%を含む立方晶沃臭化銀粒子で、粒子内部にロジ
ウムをto−’モル含有する。 また副粒子は平均粒径0.08μm1単分散度15で、
内部にロジウムを2 X 10−’モル含有し、主粒子
より感度が低い臭化銀2モル%含有の立方晶の塩臭化銀
粒子であった。主粒子lに対して副粒子10の割合で混
合して、実施例−1の試料No、10と同様な添加剤を
加えて試料を作成し、露光し、現像処理した。上記の如
き混合粒子法で性能を評価すると、抜き文字、貼り込み
跡性能ともランク 「5」より良い性能でかつ濃度が高
く、写真製品用フィルムの湿式減力適性を有するもので
あることがわかった。 実施例−3 実施例−2と同様にして、主・副2種類の混合粒子法で
試料を作成した。副粒子は0.05μmの粒径のとき金
でカブらせて、更にシエリングした。 それ以外は、実施例−2と同様とした。この試料も抜き
文字、貼り込み跡性能ともランク 「5」より良い性能
で、実施例−2より濃度が高く、減力性能のよいもので
あった。 実施例−4 実施例−3と同様にして、主・副2種類の混合粒子法で
試料を作成した。ここでは副粒子を0.05μmまで臭
化銀の組成で調製し、ここで核酸分解化合物のウラシル
、グアニンおよびアデニンを加えた後塩化銀でシエリン
グし、ロジウムを2×10−’モル%含有する平均粒径
0.09μmの粒子を調製した。その他は全〈実施例−
3と同様にして試料を作成し、露光・現像処理した結果
、性能は実施例−3より抜き文字性能及び貼り込み跡性
能がよく、また濃度の高い性能を有していた。 実施例−5 実施例−2と同様にして試料を作成したが、ここでは主
・副の2種類のハロゲン化銀粒子を混合して用いた。主
粒子は厚さ0.05μm1平均粒径0.4μmの平板状
の、ヨードを2モル%含有する沃臭化銀粒子であった。 得られた性能を評価した結果、実施例−3と同様な性能
を示すものであった。 実施例−6 実施例−2と同様にして試料を作成したが、ここではポ
リエチレンテレフタレートでラミネートした紙支持体上
に塗布した。このとき乳剤中に、沸点150℃以上の高
沸点溶媒(ジオクチル7タレート)に溶かした蛍光増白
剤を30mg/m”添加し、塗布銀量を13mg/m”
とした。その他は実施例−2を変更せずに試料を作成し
た。得られた試料は抜き文字性能、貼り込み跡はランク
「5」に値する性能であり、紙支持体を使用した場合
にも適用できることがわかった。 〔発明の効果〕 上述のように、本発明の画像形成方法によれば選択した
光源による露光で良好な性能、特に写真性能として返し
特性における抜き文字品質の良い、更にテープ貼り込み
跡の出ないハロゲン化銀写真感光材料の画像形成ができ
る。
を少なくとも1つ含むアリール基を表し、R□は置換ア
ルキル基を表す。) 以、下余白 ・・ノ 式中、R1及びR2はアリール基またはへテロ環基を表
わし、Rは2価の有機基を表わし、nはO〜6.1よ0
またはlを表わす。 ここで、R1及びR2で表わされるアリール基としては
フェニル基、ナフチル基等が挙げられ、ヘテロ環基とし
てはピリジル基、ベンゾチアゾリル基、キノリル−基、
チエニル基等が挙げられるが、R3及びR2として好ま
しくはアリール基である。 R1及びR2で表わされるアリール基またはへテロ環基
には種々の置換基が導入できる。置換基としては例えば
ハロゲン原子(例えば塩素、フッ素など)、アルキル基
(例えばメチル、エチル、ドデシルなど)、アルコキシ
基(例えばメトキシ、エトキシ、インプロポキシ、ブト
キシ、オクチルオキシ、ドデシルオキシなど)、アシル
アミノ基 (例えばアセチルアミノ、ピバリルアミノ、
ベンゾイルアミノ、テトラデカノイルアミノ、α−(2
,4−ジ−t−アミルフェノキシ)ブチリルアミノなど
)、スルホニルアミノ基(例えば、メタンスルホニルア
ミノ、ブタンスルホニルアミノ、トチカンスルホニルア
ミノ、ベンゼンスルホニルアミノナト)、ウレア基(例
えば、フェニルウレア、エチルウレアなど)、チオウレ
ア基(例えば、フェニルチオウレア、エチルチオウレア
など)、ヒドロキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基(
例えば、メチルアミン、ジメチルアミノなど)、カルボ
キシ基、アルコキシカルボニル ニル)、カルバモイル基、スルホ基などが挙げられる。 Rで表わされる2価の有機基としては、例えばアルキレ
ン基(例えば、メチレン、エチレン、トリメチレン、テ
トラメチレンなど)、アリーレン基(例えば、フェニレ
ン、ナフチレンなど)、アリーレン基等が挙げられるが
アルキレン基は結合中にオキシ基、チオ基、セレノ基、
カルポニル基、−N−基(R3は水素原子、アルキル基
、アリール基を表わす)、スルホニル基等を含んでも良
い。Rで表わされる基には種々の置換基が導入できる。 置換基としては例えば、− CONIINIIR4(R
4は上述したR1及びR2と同じ意味を表わす)、ア
ルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基
、カルボキシ基、アシル基、アリール基、等が挙げられ
る。 Rとして好ましくはアルキレン基である。 −数式[1]で表わされる化合物のうち好ましくはR1
及びR2が置換または未置換のフェニル基であり、n=
m=lでRがアルキレン基を表わす化合物である。 上記−数式[11で表される代表的な化合物を具体的化
合物 =29 ■ tc、11.。 ■ ■ ■ ■ ■ 次に一般式[21について説明する R21で表わされる脂肪族基は、好ましくは、炭素数6
以上のものであって、特に炭素数8〜50の直鎖、分岐
または環状のアルキル基である。ここで分岐アルキル基
はその中に1つまたはそれ以上のへテロ原子を含んだ飽
和のへテロ環を形成するように環化されてもよい。また
このアルキル基はアリール基アルコキシ基、スルホキシ
基、等の置換基を有してもよい。 R2+で表される芳香族基は単環または2環アリール基
または不飽和へテロ環基である。ここで不飽和へテロ環
基は単環または2環のアリール基と縮合してヘテロアリ
ール基を形成してもよい。 例えばベンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環、ピリミ
ジン環、イミダゾール環、ピロリジル基、キノリン環、
インキノリン環、ベンズイミダゾール環、チアゾール環
、ベンゾチアゾール環等があるがなかでもベンゼン環を
含むものが好ましい。 R2,とじて特に好ましいものはアリール基である。 R21のアリール基または不飽和へテロ環基は置換され
ていてもよく、代表的な置換基としては直鎖、分岐また
は環状のアルキル基(好ましくはアルキル部分の炭素数
が1〜20の単環または2環のもの)、アルコキシ基(
好ましくは炭素数1〜20のもの)、置換アミノ基(好
ましくは炭素数1〜20のアルキル基で置換されたアミ
ノ基)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜30を
持つもの)、スルホンアミド基(好ましくは炭素数1〜
30を持つもの)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜
30を持つもの)などがある。 一般式[2]のR22で表される基のうち置換されても
よいアルコキシ基としては炭素数1〜20のものであっ
て、ハロゲン原子、アリール基などで置換されていても
よい。 一般式[2]においてR22で表される基のうち置換さ
れてもよいアリールオキシ基またはへテロ環オキシ基と
しては単環のものが好ましく、また置換基としてはハロ
ゲン原子アルキル基、アルコキン基、シアノ基などがあ
る R2□で表される基のうちで好ましいものは、置換され
てもよいアルコキシ基またはアミノ基である。 A2置換されてもよいアルキル基、アルコシ基または一
〇−−3−−N−基結合を含む環状構造であってもよい
。但しR2□がヒドラジノ基であることはない。 一般式[2]のR21またはR2□はその中にカプラー
等の不動性写真用添加剤において常用されているバラス
ト基が組み込まれているものでもよい。 バラスト基は8以上の炭素数を有する写真性に対して比
較的不活性な基であり、例えばアルキル基、アルコキシ
基、フェニル基、アルキルフェニル基、フニノキシ基、
アルキルフェノキシ基などの中から選ぶことができる。 一般式[2]のR21またはR22はその中にハロゲン
化銀粒子表面に対する吸着を強める基が組み込まれてい
るものでもよい。かかる吸着基としては、チオ尿素基、
複素環チオアミド基、メルカプト複素環基、トリアゾー
ル基などの米国特許第4.355゜105号に記載され
た基があげられる。−数式[2]で表される化合物のう
ち下記−数式[2−alで表される化合物は特に好まし
い。 一般式[2−al 上記−数式[2−al中、 R8,およびR24は水素原子、置換されてもよいアル
キル基(例えばメチル基、エチル基、ブチル基、ドデシ
ル基、2−ヒドロキシプロピル基、2−シアノエチル基
、2−クロロエチル基)、置換されてもよいフェニル基
、ナフチル基、シクロヘキシル基、ピリジル基、ピロリ
ジル基(例えばフェニル基、p−メチルフェニル基、ナ
フチル基、α−ヒドロキシナフチル基、シクロヘキシル
基、p−メチルシクロヘキシル基、ピリジル基、4−プ
ロピル−2−ピリジル基、ピロリジル基、4−メチル−
2−ピロリジル基)を表し、 R2iは水素原子または置換されてもよいベンジル基、
アルコキシ基及びアルキル基(例えばベンジル基、p−
メチルベンジル基、メトキシ基、エトキシ基、エチル基
、ブチル基)を表し、R2,及びR2?は2価の芳香族
基(例えばフェニレン基またはナフチレン基)を表し、
Yはイオウ原子または酸素原子を表し、Lは2価の結合
基(例えば−5OIC112CII!N11− SO,
Nll、−0CII!5OIN11、−〇−−CIl−
N−)を表し、 R1,は−N R/ R//または一0R2,を表し、
R/ 、 R//及びRgsは水素原子、置換されても
よいアルキル基(例えばメチル基、エチル基、ドデシル
基)、フェニル基(例えばフェニル基、p−メチルフェ
ニル基、p−メトキシフェニル基)またはナフチル基(
例えばα−す7チル基、β−ナフチル基)を表し、m、
nは0またはlを表す。RgaがOR,、を表すときY
はイオウ原子を表すのが好ましい。 上記−数式[2]及び[2−alで表される代表的な化
合物を以下に示す。 −16、以、
下余白 ゛・7 一般式[21の具体例 I ■ ※→llN11CCOC+12C11□SO,CII□
C11,011一25 =33 ※ ■ 1l −NllNIICCN[IC+□1126次に、 上記具体的化合物のうち化合物2−45゜2−47を例
にとって、 その合成法を示す。 化合物2−45の合成 合成スキーム (A) (B) (E) 化合物4−二トロフェニルヒドラジン1539と500
aIQのジエチルオキザレートを混合し、1時間還流す
る。反応を進めながらエタノールを除去してI/%き、
最後に冷却し結晶を析出させる。濾過し石油エーテルで
数回洗浄し、再結晶する。次に得られた結晶(A)のう
ち509を1000a+<1のメタノールで加温溶解し
、pd/C(パラジウム・炭素)触媒下に50Psiの
か加圧したH 、雰囲気で還元し、化合物(B)を得る
。 この化合物(B)22gをアセトニトリル200m12
とピリジン169の溶液に溶かし室温で化合物(C)2
4s+のアセトニトリル溶液を滴下した。不溶物を濾別
後、虐液を濃縮し再結晶精製して化合物(D )319
を、得tこ 。 化合物(D )309を上記と同様に水添をして化合物
(E)20gを得た。 化合物(E)109をアセトニトリル100mQに溶解
しエチルインチオシアネート3,09を加え、1時間還
流した。溶媒を留去後回結晶精製して化合物(F)7.
09を得た。化合物(F )5.09をメタノール5Q
+oQに溶解してメチルアミン(40%水溶液8mg)
を加え攪拌した。メタノールを若干濃縮後、析出した固
体をとり出し再結晶精製して化合物2−45を得た。 化合物2−47の合成 合成スキーム (B) (C) (D) (E) 化合物2−47 化合物(B)22gをピリジン2001IIQに溶解し
攪拌すル中へ、p−ニトロベンゼンスルホニルクロライ
ド229を加えた。反応混合物を水あけ、後析出する固
体をとり出し化合物(C)を得た。この化合物(C)を
合成スキームに従って化合物2−45と同様の反応によ
り化合物2−47を得た。 次に一般式[3]について説明する。 −数式[3] 。 Ar NIINI(CRs+ 一般式[3]中、A「は耐拡散基又はハロゲン化銀吸着
促進基を少なくとも1つを含むアリール・基を表わすが
、耐拡散基としてはカプラー等の不動性写真用添加剤に
おいて常用されているバラスト基が好ましい。バラスト
基は8以上の炭素数を有する写真性に対して比較的不活
性な基であり、例えばアルキル基、アルコキシ基、フェ
ニル基、アルキルフェニル基、フェノキシ基、アルキル
フェノキシ基などの中から選ぶことができる。 ハロゲン化銀吸着促進基としてはチオ尿素基、グーオウ
レタン基、複素環チオアミド基、メルカプト複素環基、
トリアゾール基などの米国特許第4゜385.108号
に記載された基が挙げられる。 R31は置換アルキル基を表わすが、アルキル基として
は、直鎖、分岐、環状のアルキル基を表わし、例えばメ
チル、エチル、プロピル、ブチル、イングロビル、ペン
チル、シクロヘキシル等の基が挙げられる。 これらのアルキル基へ導入される置換基としては、アル
コキシ(例えばメトキシ、エトキシ等)、アリールオキ
シ(例えばフェノキシ、p−クロルフエノキシ等)、ペ
テロ環オキシ(例えばピリジルオキシ等)、メルカプト
、アルキルチオ(メチルチオ、エチルチオ等)、アリー
ルチオ(例えばフェニルチオ、p−クロルフェニルチオ
等)、ペテロ環チオ(例えば、ピリジルチオ、ピリミジ
ルチオ、チアジアゾリルチオ等)、アルキルスルホニル
(例えばメタンスルホニル、ブタンスルホニル等)、ア
リールスルホニル(例えばベンゼンスルホニル等)、ヘ
テロ環スルホニル(例えばピリジルスルホニル、モルホ
リノスルホニル等)、アシル(例えばアセチル、ベンゾ
イル等)、シアノ、クロル、臭素、アルコキシカルボニ
ル(例えばエトキシカルボニル、メトキシカルボニル カルバモイル、アルキルカルバモイル(例えば、N−メ
チルカルバモイル、N,N−ジメチルカルバモイル等)
、アリールカルバモイル(例えば、N−7エ二ルカルバ
モイル等)、アミノ、アルキルアミノ(例えば、メチル
アミノ、N,N−ジメチルアミノ等)、アリールアミノ
(例えば、フェニルアミノ、ナフチルアミノ等)、アシ
ルアミノ(例えばアセチルアミノ、ベンゾイルアミノ等
)、アルコキシカルボニルアミノ(例えば、エトキシカ
ルボニルアミノ等)、アリールオキシカルボニルアミノ
(例えば、フェノキシカルボニルアミノ等)、アシルオ
キシ(例えば、アセチルオキシ、ベンゾイルオキシ等)
、アルキルアミノカルボニルオキシ(例えばメチルアミ
ノカルボニルオキシ等)、アリールアミノカルボニルオ
キシ(例えば、フェニルアミノカルボニルオキシ等)、
スルホ、スルファモイル、アルキルスルファモイル(例
えば、メチルスルファモイル等)、アリールスルファモ
イル(例えば、フェニルスルファモイル等)等の多基が
挙げられる。 ヒドラジンの水素原子はスルホニル基(例えばメタンス
ルホニル、トルエンスルホニル等)、アシル基(例えば
、アセチル、トリフルオロアセチル等)、オキザリル基
(例えば、エトキザリル等)等)等の置換基で置換され
ていてもよい。 上記−数式[3]で表される代表的な化合物としては、
以下に示すものがある。 =26 ※−NllN[1CCH20CII□Cl120C11
2CI(□011=28 得 Iこ 。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料に含まれる一般式[
1]、[2]、[3]の化合物の量は、本発明のハロゲ
ン化銀写真感光材料中に含有されるハロゲン化銀1モル
当り、5 X 10−’ないし5 X 10−’モルま
でが好ましく、更に好ましくは5 X 10−’ないし
l X 10−2モルの範囲である。 以下余白 次に化合物3−5の合成例について述べる。 化合物3−5の合成 合成スキーム 化合物2−45の合成法に準じて化合物3−5をヒドラ
ジド化合物の添加位置はハロゲン化銀乳剤層及び/また
は支持体上ハロゲン化銀乳剤層側にある非感光層である
が、好ましくは、ハロゲン化銀乳剤層及び/またはその
下層である。添加量は、to−’〜10− ’モル/銀
1モルが好ましく、更に好ましくは10−’〜1O−2
モル/銀1モルである。 本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料及び/または現
像液中には、アミノ化合物を含有することが好ましい。 本発明に好ましく用いられるアミノ化合物は、第1級〜
第4級アミンすべてを包含する。好ましいアミノ化合物
の例としてアルカノールアミン類が挙げられる。以下、
好ましい具体例を列挙するが、これらに限定されるもの
でない。 ジエチルアミノエタノール ジエチルアミノブタノール ジエチルアミノプロパン−1,2−ジオールジメチルア
ミンプロパン−1,2−ジオールジェタノールアミン ジエチルアミノ−I−プロパノール トリエタノールアミン ジプロピルアミノプロパン−1,2−ジオールジオクチ
ルアミノ−1−エタノール ジオクチルアミノプロパン−1,2−ジオールドデシル
アミノプロパン−1,2−ジオールドデシルアミノ−1
−プロパツール ドデシルアミノ−1−エタノール アミノプロパン−1,2−ジオール ジエチルアミノ−2−7’ロバノール ジプロパノールアミン グリシン トリエチルアミン トリエチレンジアミン 3−ピロリジノ−1,2−プロパンジオール3−(ジメ
チルアミン)−1,2−プロパンジオール 3−モルホリノ−1,2−プロパンジオール1.4−ピ
ペラジンビス(エタンスルホン酸)3−ピペラジノ−1
,2−プロパンジオールN−ピペラジンエタノール アミノ化合物はハロゲン化銀写真感光材料の感光層側の
塗設層(例えばハロゲン化銀乳剤層、保護層、下引層の
親水性コロイド層)の少なくとも1層及び/または現像
液中に含有させればよく、好ましい実施態様は現像液中
に含有する態様である。アミノ化合物の含有量は含有さ
せる対象、アミノ化合物の種類等によって異なるが、コ
ントラスト促進量が必要である。 本発明の画像形成方法を適用するハロゲン化銀写真感光
材料中には、明室下で取り扱うことのできるように、ハ
ロゲン化銀粒子の感光極大波長より少なくとも50nm
長波に極大吸収を持つ化合物を含有せしめる。 上記化合物の最適な極大吸収波長は、その用いるハロゲ
ン化銀乳剤の種々の条件によっである程度変化するが、
それは分光スペクトルを測定することにより容易に見い
出すことができる。このような化合物はハロゲン化銀乳
剤層に含有せしめても良いが、より効果的には、支持体
に対して乳剤層より遠い側に位置する層、例えば保護層
に含有させることが好ましい。更にハロゲン化銀乳剤層
と保護層の間の中間層に含有せしめてもよい。上記化合
物を含有する層には、塩基性モルダントや等電点の高い
酸処理ゼラチンのような、上記化合物を固定することが
できる物質を用いることにより、本発明の効果を一層高
めることができる。 ハロゲン化銀粒子の感光極大波長より少なくとも50n
m長波に極大吸収を持つ上記化合物は、約511Ig〜
3g/m”の範囲で用いることが好ましく、また極大吸
収波長における光学濃度として0.1層以上であること
が望ましい。また極大吸収波長は少なくとも50ni長
波に極大吸収を持つものであるが、充分な効果を発揮さ
せるために300nm以下長波であることが好ましく、
更に200nm以下であることが好ましい。更に50〜
100na長波の化合物及び100〜200n+o長波
の化合物というように、2種以上組み合わせ含有せしめ
ると、より好ましい結果が得られる。これらの化合物は
、例えば下記−数式[4] −(a)、 (b)、 (
c)及び具体的例示化合物で表されるものであるが、勿
論これらに限定されるものではない。 一般式(4) −(a) 子団であって、X及びYは水素原子、アルキル基、シア
ノアルキル基、カルボキシアルキル基、スルホアルキル
基、ヒドロキシアルキル基、ハロゲン化アルキル基また
は置換されてもよいアルキル基或はそのナトリウム・カ
リウム塩を表し、R4!とR43は水素原子、ハロゲン
原子、アルキル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アル
キルチオ基、または前記の一〇x基と同様の基を表し、
Qは少なくとも一つのハロゲン原子、カルボキシ基、ス
ルホ基、またはスルホアルキル基或はそのナトリウム・
カリウム塩で置換されたフェニル基まI;はスルホアル
キル基、スルホアルコキシアルキル基、スルホアルキル
チオアルキル基を、またLは置換されてもよいメチン基
を表す。R44はアルキル基、カルボキシ基、アルキル
オキシカルボニル基或はアシル置換、スルホ置換、非置
換のアミノ基を表す。IIlは整数0.1または2をI
m!は整数0またはlをそれぞれ示す。 一般式(4) −(b) 式中R4,、R、、、R4,、R、、及びR4゜は水素
原子、ハロゲン原子、アルキル基、ヒドロキシル基、ア
ルコキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、カルボキシル
基またはスルホン基或はそのナトリウム・カリウム塩を
表し、R6,はアルキル基またはカルボキシル基を表す
。 一般式[4] −(c) 式中R41′及びR4!′はアルキル基、置換アルキル
基、アリール基、アルコキシカルボニル基またカルボキ
シル基を表し、R43′及びR44′はスルホン酸基も
しくはカルボキシル基で置換されたアルキル基またはス
ルホン酸基もしくはカルボキシル基またはスルホン酸基
で置換されたアリール基或はそのナトリウム・カリウム
塩を表し、Lは置換もしくは未置換のメチン鎖を表す。 Mはナトリウム、カリウムまたは水素原子を表し、+1
13は0またはlを表す。 以下一般式[4] −(a)、 (b)、 (c)に係
る化合物本発明の画像形成方法は、本発明に用いるへロ
ゲン化銀写真感光材料を露光する光源として390〜4
30nmに比エネルギーの極大値を持つ光源を用いる。 好ましくは400〜420nmの極大値を持つ光源にて
露光するが、この条件に合う光源ならば、いかなる発光
形式であっても良い。例えばフィラメントを無、電極の
有無について限定するものではない。また発光電極管内
に含有せしめる発光ガスもハロゲンガス、希ガスあるい
は混合体であっても良い。またガスと同時に発光用金属
を含有せしめても良い。 一般にこの目的に合う光源としては超高圧水銀灯メタル
ハライドランプの他に後記する無電極放電管のV球形式
の発光スペクトルが好ましい。この形式の発光放電管は
米国とュージョン(FUSION)社やその他の光源メ
ーカーから入手できるものであり、具体的には、米国特
許第4,254.363号、同第4.010.400号
、同第3.993.379号、同第3.950.670
号、同第3.873,884号、同第3.790.85
2号、同第3゜787.705号、同第3.786,3
08号、同第3.645.629号、同第4.536.
675号、同第4,422.017号、同第4.415
゜838号、同第4.390.813号、同第4,38
3,203号、同第4.359.668号、同第3.9
11.318号、同第3.872.349号、同第3.
983,039号、同第4.042.850号、同第4
゜208.587号、同第4,313,969号、同第
4,269,581号等に開示のあるものを挙げること
ができる。 また、本発明で用いる390〜430nmに比エネルギ
ーの極大値を持つ光源とは上述のV球形式の発光スペク
トルを得るため超高圧水銀灯やメタルハライドランプ光
源の上部に390nm以下の短波をカットする吸収フィ
ルター(430nm以上の長波をカットしても、しなく
ても良い)を装着したものも含み、これにより本発明の
効果を得ることもできる。 このフィルターの取付は光源の近接上部あるいは、プリ
ンター上部のガラス板(第2図に示すガラス板)を吸収
フィルターガラスにする等の方法がある。 本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料に用いるハロゲ
ン化銀は、任意の組成の塩化銀、塩臭化銀、塩沃臭化銀
等で少なくとも50モル%の塩化銀を含有することが好
ましい。ハロゲン化銀粒子の平均粒径は0.025〜0
.5μmの範囲のものが好ましく用いられるが0.05
〜0.30μ膿がより好ましい。 本発明に係るハロゲン化銀粒子の単分散度は、下記式(
1)で定義され、その値は5〜60が好ましく、より好
ましくは8〜30となるよう調製する。 本発明に係るハロゲン化銀粒子の粒径は、便宜的に立方
晶粒子の校長で表し、単分散度は粒径の標準偏差を平均
粒径で割った値を100倍した数値で表す。 また、本発明で用い得るハロゲン化銀としては、少なく
とも2層の多層積層構造を有するタイプのものを好まし
く用いることができる。例えばコア部に塩臭化銀または
塩化銀、シェル部に臭化銀または沃臭化銀、逆にコア部
を臭化銀または沃臭化銀、シェル部を塩臭化銀または塩
化銀である塩臭化銀または塩沃臭化銀粒子であってもよ
い。このときヨードは任意の層に5モル%以内で含有さ
せることができる。 また、少なくとも2種類の粒子を混合して用いることも
できる。例えば生乳粒子は10モル%以下の塩化銀及び
5モル%以下のヨードを含有する立方晶、八面体または
平板状の塩沃臭化銀粒子であり、副粒子はヨード5モル
%以下で塩化銀50モル%以上含有する立方晶、八面体
または平板状塩沃臭化銀粒子からなる混合粒子とするこ
とができる。 このように粒子を混合して用いる場合は、主・副粒子の
化学増感は任意であるが、副粒子は主粒子より化学増感
(イオウ増感や金増感)を控えることにより感度を低く
してもよいし、粒子径や内部にドープするロジウムなど
の貴金属の量を調節して感度を底下させてもよい。また
副粒子の内部を金でカブらせてもよいし、コア/シェル
法でコアとシェルの組成を変化させてカブらせてもよい
。 主粒子と副粒子は小粒子径よいが、例えば0.025μ
m”1.0μmの任意の値をとることができる。 本発明に用いるハロゲン化銀乳剤調製時には、ロジウム
塩を添加して感度またはr4!調をコントロールする事
ができる。ロジウム塩の添加は一般には粒子形成時が好
ましいが、化学熟成時、乳剤塗布液調製時でも良い。 本発明に用いるハロゲン化銀乳剤に添加されるロジウム
塩は、単純な塩の他に複塩でも良い。代表的には、ロジ
ウムクロライド、ロジウムトリクロライド、ロジウムア
ンモニウムクロライドftトが用いられる。 ロジウム塩の添加量は、必要とする感度、階調により自
由に変られるが銀1モルに対して10−8モルから10
−’モルの範囲が特に有用である。 またロジウム塩を使用するときに、他の無機化合物例え
ばイリジウム塩、白金塩、タリウム塩、コバルト塩、金
塩などを併用しても良い。イリジウム塩はしばしば高照
度特性の改良の目的で、銀1モル当り10−”モルから
10−4モルの範囲まで好ましく用いることができる。 本発明において用いられるハロゲン化銀は種々の化学増
感剤によって増感することができる。増感剤としては、
例えば活性ゼラチン、硫黄増感剤(チオ硫酸ソーダ、ア
リルチオカルバミド、チオ尿素、アリルイソチオシアネ
ート等)、セレン増感剤(N、N−ジメチルセレノ尿素
、セレノ尿素等)、還元増感剤(トリエチレンテトラミ
ン、塩化第1スズ等)、例えばカリウムクロロオーライ
ト、カリウムオーリチオシアネート、カリウムクロロオ
ーレート、2−オーロスルホペンゾチアゾールメチルク
ロライド、アンモニウムクロロパラデート、カリウムク
ロロオーレ−ト、ナトリウムクロロパラダイト等で代表
される各種貴金属増感剤等をそれぞれ単独で、あるいは
2種以上併用して用いることができる。なお金増感剤を
使用する場合は助剤的にロダンアンモンを使用すること
もできる。 本発明の効果は、減感色素及び/または紫外線吸収剤を
本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料中に含有せしめ
ることにより、−層高めることができる。 減感色素としては下記−数式[5]−(a)〜(e)で
表されるものを好ましく用いることができる。 紫外線吸収剤としては下記−数式[5] −(f7.(
g)で表されるものを好ましく用いることができる。 これらの化合物は、米国特許第3.567.456号、
同3,615.639号、同3,579.345号、同
3,615.608号、同3,598.596号、同3
,598.955号、同3,592.653号、同3,
582.343号、特公昭40−26751号、同40
−27332号、同43−13167号、同45−88
33号、同47−8746号等の明細書を参考にして合
成することができる。 −数式[5] −(a) とで芳香族環を形成してもよい。R,s及びRoはそれ
ぞれアルキル基、低級アルケニル基、7エ二ル基または
低級ヒドロキシアルキル基を表し、またR、1及びRs
2が水素原子以外の場合にはアリール基であってもよく
■、は1〜4の正の整数、R1は低級アルキル基または
スルホン化低級アルキル基を表し、XIは酸アニオンを
表す。〕一般数計5 ] −(c) 一般式[5]−(b) 〔式中R5I及びR32は水素またはハロゲン原子、シ
アノ基またはニトロ基を表す。また、R,1とR,*〔
式中、R%−およびR87はそれぞれ水素原子またはニ
トロ基、R□およびR5,は低級アルキル基、アリル基
又はフェニル基、Zlはニトロベンゾチアゾール核、ニ
トロベンゾオキサゾール核、ニトロベンゾセレナゾール
核、イミダゾ〔4・5−b〕キノキサリン核、3・3−
ジメチル−3H−ピロロ〔2・3−b〕 ピリジン核、
3・3−ジアルキル−H−ニトロインドール核、チアゾ
ロ〔4・5−υ〕キノリン核、ニトロキノリン核、ニト
ロチアゾール核、ニトロナフトチアゾール核、ニトロオ
キサゾール核、ニトロナフトオキサゾール核、ニトロセ
レナゾール核、ニトロナフトセレナゾール核またはニト
ロピリジン核を形成するために必要な原子群、x2はア
ニオン、al、及びnはそれぞれlまたは2を表す。た
だし化合物が分子内塩を形成する場合はnはlを表す。 〕 一般式[5]−(d) 〔式中R@0+ R@In R4!及びR,sはそれぞ
れ水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基
、アリールオキシ基またはニトロ基、R6,は水素原子
、アルキル基またはニトロ基を表す。2゜は非置換また
はそれぞれ低級アルキル基、7エ二ル基、チエニル基、
ハロゲン原子、アルコキシ基、ヒドロキシ基、シアノ基
、アルキルスルフォニル基、アルコキシカルボニル基、
フォニルスルフォニル基、トリフルオロメチル基で置換
されたチアゾール核、ベンゾチアゾール核、ナフトチア
ゾール核、オキサゾール核、ベンゾオキサゾール核、ナ
フトオキサゾール核、セレナゾール核、ベンゾセレナゾ
ール核、ナフトセレナゾール核、チアゾリン核、ピリジ
ン核、キノリン核、インキノリン核、3.3−ジアルキ
ル−3H−インドール核、イミダゾール核、ベンゾイミ
ダゾール核またはナフトイミダゾール核を形成するに必
要な原子群を表し、Ll及びり、はそれぞれ非置換また
は低級アルキル基もしくはアリール基で置換されたメチ
ン鎖を表し、R1,及びR6,はそれぞれ非置換もしく
は置換基を有するアルキル基、アルケニル基、アリール
基、スルホアルキル基まアラルキル基、x、はアニオン
、m、及びnはそれぞれlまたは2を表す。 ただし化合物が分子内塩を形成する場合はnはlを表す
。〕 一般式[5] −(e) 一般式[5]−(f) 〔式中R67及びRoはそれぞれアルキル基、Rasは
アリール基を表す。Ll及びL2はそれぞれ非置換また
は低級アルキル基もしくはアリール基で置換されたメチ
ン鎖を表し2.はチアゾール核、ベンゾチアゾール核、
ナフトチアゾール核、オキサゾール核、ベンズオキサゾ
ール核、ナフトオキサゾール核、セレナゾール核、ベン
ゾセレナゾール核、ナフトセレナゾール核、チアゾリン
核、ピリジン核、キノリン核、3・3−ジアルキルイン
ドレニン核、イミダゾール核、イミダゾ〔4・5−b〕
キノキサリン核を形成するために必要な原子群、x2は
アニオン、117は1〜3の正の整数、msTO 〔式中R7゜はアルキル、ヒドロキシアルキル、シアノ
アルキル、スルホアルキル基を表し2.はオキサゾール
、チアゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾール
、イミダゾール、ベンツイミダゾール環を、Aはピロー
ル環、ピロリジン環を形成するに必要な原子群を表す。 〕 一般式[5] −(g) R7曝 Lm 〔式中Roll R7!I R731R74はアルキル
基、ヒドロキシアルキル基、シアノ基、アルキルシアノ
基、アルコキシ基またはスルホアルキル基を表す。R?
S及びRvaはスルホン酸基、アルキルスルホン酸基を
表す。〕 次に、本発明に好ましく用いられる減感色素及び紫外線
吸収剤の具体的例示化合物を示すが、これらに限定され
るものではない。(尚以下例示の5−1〜5−36の中
には、前掲の一般式に該当しないものもある。またpt
sはバラトルエンスルホ本発明に用いられる/10ゲン
化銀は、すでに写真感光材料業界で公知の種々な増感剤
、安定剤その他の添加剤を添加する事が出来る。 又前記ハロゲン化銀は親水性コロイド層中に添加せしめ
られるが、これらの親水性コロイドはゼラチンを始め写
真感光材料業界公知の種々な親水性コロイドを使用する
ことが出来、これらの親水性コロイドは、ノ・ロゲン化
銀を含有しない層、例えばハレーション防止層、保護層
、中間層にも適用出来る。 更に本発明に用いる支持体もポリエステルフィルム等写
真感光材料業界で公知の各種支持体を用いることが出来
る。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料の現像に用いられる
現像主薬としては次のものが挙げられる。 HO−(CH= CH)n−OH型現像主薬の代表的な
ものとしては、ハイドロキノンがあり、その他にカテコ
ール、ピロガロールおよびその誘導体ならびにアスコル
ビン酸、クロロハイドロキノン、ブロモハイドロキノン
、メチルハイドロキノン、2,3−ジブロモハイドロキ
ノン、2.5−ジエチルノーイドロキノン、カテコール
、4−クロロカテコール、4−フェニル−カテコール、
3−メトキシ−カテコール、4−アセチル−ピロガロー
ル、アスコルビン酸ソーダ等がある。 また、HO−(CH= CH)n−NHz型現像現像剤
て(よ、オルトおよびパラのアミノフェノールまtこ1
よアミノピラゾロンが代表的なもので、4−アミノフェ
ノール、2−アミノ−6−フェニルフェノール、2−ア
ミノ−4−クロロ−6−フェニルフェノール、N−メチ
ル−p−アミノフェノール、等がある。 更に、HzN−(CH−CH)n−NHz型現像現像剤
て(よ例えば4−アミノ−2−メチル−N、N−ジエチ
ルアニリン、2.4−ジアミノ−N、N−ジエチルアニ
リン、N−(4−アミノ−3−メチルフェニルp−フ二
二レンジアミン、等がある。 ヘテロ環型現像剤としては、l−フェニル−3−ピラゾ
リドン、l−フェニル−4,4−ジメチル−3−ピラゾ
リドン、l−フェニル−4−メチル−4−ヒドロキシメ
チル−3−ピラゾリドン、のような3−ピラゾリドン類
、l−フェニル−4−アミノ−5−ピラゾロン、5−ア
ミノウラシル等を挙げることができる。 その他、T.H.ジェームス著ザ・セオリイ・オプ・ザ
・ホトグラフィック・プロセス第4版(The The
ory of the Photographic P
rocess Fourth Editton)第29
1”−334頁およびジャーナル・オブ・ザ・アメリカ
ン・ケミカル・ソサエティ (Journal oft
he Aa+erican Chea+ical So
ciety)第73巻、第3。 100頁(1951)に記載されているごとき現像剤が
本発明に有効に使用し得るものである。これらの現像剤
は単独で使用しても2種以上組合せてもよいが、2種以
上を組合せて用いる方が好ましい。 また本発明の感光材料の現像に使用する現像液には保恒
剤として、例えば亜硫酸ソーダ、亜硫酸カリ、等の亜硫
酸塩を用いても、本発明の効果が損なわれることはなく
、本発明の1つの特徴として挙げることができる。また
保恒剤としてヒドロキシルアミン、ヒドラジド化合物を
用いて現像液1a当り5〜500gで、より好ましくは
20〜200gである。 また上記のグリコール類としては、エチレングリコール
、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、トリ
エチレングリコール、l、4−ブタンジオール、l、5
−ベンタンジオール等があるが、ジエチレングリコール
が好ましく用いられる。そしてこれらグリコール類の好
ましい使用量は現像液IQ当り5〜500gで、より好
ましくは20〜200gである。これらの有機溶媒は単
独でも併用しても用いることができる。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、上記の如き現像
抑制剤を含んだ現像液を用いて現像処理することにより
極めて保存安定性に優れた感光材料を得ることができる
。 上記の組成になる現像液のpH値は9〜12であるが、
保恒性および写真特性上からpti値はlO〜11の範
囲が好ましい。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、種々の条件で処
理することができる。処理温度は、例えば現像温度は5
0°C以下が好ましく、特に30℃前後が好ましく、ま
た現像時間は3分以内に終了することが一般的であるが
、特に好ましくは2分以内が好効果をもたらすことが多
い。また現像以外の処理工程、例えば水洗、停止、安定
、定着、さらに必要に応じて前硬膜、中和等の工程を採
−用することは任意であり、これらは適宜省略すること
もできる。さらにまた、これらの処理は皿現像、枠現像
などいわゆる手現像処理でも、ローラー現像、ハンガー
現像など機械現像であってもよい。 〔実施例〕 以下実施例によって本発明を具体的に説明する。 なお、当然のことではあるが、本発明は以下述べる実施
例に限定されるものではない。 実施例=1 pH3,0の酸性雰囲気下でコンドロールドダブルジェ
ット法によりロジウムを銀1モル当たり10−’モル含
有する下記表−1に示す平均粒径、ハロゲン化銀組成単
分散度の粒子を作成した。粒子の成長は、ベンジルアデ
ニン及びメルカプトプロピルスルホン酸ナトリウムをそ
れぞれ1%のゼラチン水溶液112当たり30mg含有
する系で行った。銀とハライドの混合後6−メチルー4
−ヒドロキシ−1゜3.3a、7−チトラザインデンを
ハロゲン化銀1モル当たり600mg加え、その後水洗
、脱塩した。 次いで、ハロゲン化銀1モル当たり60mgの6−メチ
ル−4−ヒドロキシ−1,3,3a、7−チトラザイン
デンおよびメルカプトプロピルスルホン酸ナトリウムを
加えた後、イオウ増感をした。イオウ増感後安定剤とし
て6−メチル−4−ヒドロキシ−1゜3.3a、7−チ
トラザインデンを加えた。 (ハロゲン化銀乳剤層) 前記各乳剤に添加剤を下記の付量になるよう調製添加し
、特開昭59−19941号の実施例−1によるラテッ
クス下引処理した(100μm厚さ)ポリエチレンテレ
フタレート支持体上に塗布した。 ラテックスポリマー :スチレン−ブチルアクリレート
−アクリル酸3元共重合 ポ リ ? −1,0g/m 2 テトラフ工ニルホスホニウムクロライド39mg/+” サポニン 200mg/ゴ2ポ
リエチレングリコール 100+*g/醜2ド
デシルベンゼンスルホン酸ナトリウム100mg/m” ハイドロキノン 200B/m”フ
ェニドン 100mg71zスチ
レン−マレイン酸共重合体200mg/■2没食子酸ブ
チルエステル 500mg/s”ヒドラジド化
合物 表−1に示す5−メチルベンゾト
リアゾール 30a+g/m”メルカプトプロピル
スルホン酸ナトリウム30+ag/*” 減感色素または紫外線吸収染料 表−1に示す2−メル
カプトベンツイミダゾール− 5−スルホン酸 3o■g/m”イナ
ートオセインゼラチン(等電点4.9.ゼリー強度36
0) 1.5g/■2l−(
p−アセチルアミドフェニル)−5メルカプトテトラゾ
ール 30mg/w”銀量
2.8g/m”(乳剤層保護膜) 乳剤層保護膜として、下記の付量になるよう調製塗布し
た。 弗素化ジオクチルスルホコノ1り酸エステル300B/
m’ 77ト剤:ポリメタクリル酸メチル (平均粒径3.5μm) 100+mg
/m’硝酸リチウム塩 30mg/
e”酸処理ゼラチン(等電点8.0) 1.2g
/m”コロイダルシリカ 50mg/
+”50nm長波に吸収極大を持つ化合物 表−1に示す スチレン−マレイン酸共重合体 100+ag/m2
媒染剤 の支持体上に塗布した。 ハイドロキノン フェニドン ラテックスポリマー ニブチルアク −スチレン共重合体 スチレン−マレイン酸共[合体 クエン酸 サポニン ベンゾトリアゾール 硝酸リチウム塩 2−メルカプトーベンツイミ 5−スルホン酸ナトリウム 5−メチルベゾトリアゾール ダゾールー Br バッキング染料 100mg/s” 30mg/m” リレート 0.5g/m’ 100mg/m” 40mg/m2 200mg/m” 100mg/m” 30mg/m2 30mg/m” 30mg/+2 10mg/m” 添加剤を下記付量になるよう乳剤層とは反対側CI、S
o、H 3OS K So 3 K So 、 Na オセインゼラチン 2.0g/m”(
バッキング層保護膜) 添加剤を下記付量になるよう調製塗布した。 ジオクチルスルホコノ1り酸エステル 300mg/m” マット剤:メタクリル酸メチル (平均粒径4.Op m) 100mg
/a”コロイダルシリカ 30mg/
a+”Na(,12100mg/m” オセインゼラチン (等電点4.9.ゼリー強度360
)1.1g/m” 弗素化Fデシルベンゼンスルホン酸 ナトリウム 50a+g/m2以
上のようにして得られた試料を表−1に示す光源にて露
光し下記に示す現像液、定着液を使用して現像処理した
。 (露光方法) 第1図(a)に示すスペクトル(400〜420nmに
比エネルギーの極大を持つ)を持つ「7球」と呼ばれる
米国ヒユージョン(FT131ON)製の無電極放電光
源、または第1図(b)に示すスペクトル(350〜3
80nmに比エネルギーの極大を持つ)を持つ「D球」
と呼ばれる従来の光源をガラス板下に装着し、ガラス面
上には第2図に示すように貼り込み跡、抜き文字品質を
評価できるように原稿と感光材料を載せ(ガラス面より
順に、6.カットマスクフィルム、5.貼り込みベース
、4.線画ポジ像が形成されたフィルム、3、貼り込み
ベース、2.網点画像が形成されたフィルム、1.返し
用感光材料)露光した。 く現像液処方〉 ハイドロキノン 25 gl−
フェニル−4,4−ジメチル−3−ピラゾリドン
0.4g臭化ナトリウム
3g5−メチルベンゾトリアゾール
0.3g5−ニトロインダゾール
0.05g5gジエチルアミノプロパン−2−ジオー
ル0 g 亜硫酸ナトリウム 75 g5−
スルホサリチル酸ナトリウム 75 gエチレン
ジアミン四酢酸ナトリウム 2g水でIffに仕上
げた。 pHは、苛性ソーダで11.5とした。 く定着液処方〉 (組成A) チオ硫酸アンモニウム (72,5%W/V水溶液) 240
m+2亜硫酸ナトリウム 17g
酢酸ナトリウム・3水塩 6.5g硼
酸
6遣クエン酸ナトリウム・2水塩 2
g酢酸(90%W/V水溶液) 13.
6ml1(組成り) 純水(イオン交換水) 17raQ
硫酸(50%W/V(7)水溶液) 4
.7g硫酸アルミニウム (AQzos換算含量が8.1%L’V(7)水溶液)
26.5g定着液の使用時に水500m2中に上記組
成A、組成りの順に溶かし、lQに仕上げて用いた。こ
の定着液のpHは約4.3であった。 く現像処理条件〉 (工 程) (温 度) (時 間)現 像
40℃ 15秒定着 着
35 ’0 10秒水 洗 常
温 10秒 乾 燥 50℃ lO秒評価
は以下のようにして行い、結果を表−1に示した。 (写真性能評価方法) (1) 貼り込み跡 第2図において貼り込み用ベース上に網フィルムを載せ
て、更に網フィルムの周辺を透明な製版用スコッチテー
プで固定しておき、露光現像処理した後このテープ跡(
貼り込み跡)がないときを「5」、跡が目立ち最も悪い
レベルを 「l」として5段階評価をした。 (2)抜き文字品質 抜き文字品質は、第2図における網フィルムの50%の
網点面積を持つ部分が、返し用感光材料に50%の網点
面積となるように適正露光したとき、第2図における線
画フィルム上の50pII+の線巾が再現される画質を
言い、非常に良い抜き文字画質を 「5」とし、最も悪
いレベルを 「l」として5段階評価をした。 表−1より、ヒドラジド化合物及びハロゲン化銀粒子を
含有し、該ハロゲン化銀粒子の極大感光波長より50n
m長波に吸収極大を持つ化合物を含有するハロゲン化銀
写真感光材料を通常の光源に385nm以下の短波をカ
ットする吸収フィルターを装着したもので露光すると
(試料No、4)、従来の光源で露光した比較試料(N
o、 1〜3)に比べて貼り込み跡性能が良くなること
がわかる。更に、上記ハロゲン化銀写真感光材料に減感
色素及び/または紫外線吸収剤を添加した試料を400
〜420nmに比エネルギーの極大値を持つ「7球」で
露光するとぐ試料No、5〜9)著しく抜き文字品質が
良好で貼り込み跡のない銀画像が得られることが理解で
きる。 なお大日本スクリーン社製明室プリンターp−627F
Mの光源上部にコダック力う−プリンティングフイルタ
ーCP−2Bを装着し表−1の試料No、4を露光した
結果は試料No、4の結果と同様であった。 実施例−2 実施例−1と同様にして試料を作成したが、ここでは、
主・副の2種類のハロゲン化銀粒子を混合して用いた。 主粒子は平均粒径0.12μm1単分散度15、ヨード
2モル%を含む立方晶沃臭化銀粒子で、粒子内部にロジ
ウムをto−’モル含有する。 また副粒子は平均粒径0.08μm1単分散度15で、
内部にロジウムを2 X 10−’モル含有し、主粒子
より感度が低い臭化銀2モル%含有の立方晶の塩臭化銀
粒子であった。主粒子lに対して副粒子10の割合で混
合して、実施例−1の試料No、10と同様な添加剤を
加えて試料を作成し、露光し、現像処理した。上記の如
き混合粒子法で性能を評価すると、抜き文字、貼り込み
跡性能ともランク 「5」より良い性能でかつ濃度が高
く、写真製品用フィルムの湿式減力適性を有するもので
あることがわかった。 実施例−3 実施例−2と同様にして、主・副2種類の混合粒子法で
試料を作成した。副粒子は0.05μmの粒径のとき金
でカブらせて、更にシエリングした。 それ以外は、実施例−2と同様とした。この試料も抜き
文字、貼り込み跡性能ともランク 「5」より良い性能
で、実施例−2より濃度が高く、減力性能のよいもので
あった。 実施例−4 実施例−3と同様にして、主・副2種類の混合粒子法で
試料を作成した。ここでは副粒子を0.05μmまで臭
化銀の組成で調製し、ここで核酸分解化合物のウラシル
、グアニンおよびアデニンを加えた後塩化銀でシエリン
グし、ロジウムを2×10−’モル%含有する平均粒径
0.09μmの粒子を調製した。その他は全〈実施例−
3と同様にして試料を作成し、露光・現像処理した結果
、性能は実施例−3より抜き文字性能及び貼り込み跡性
能がよく、また濃度の高い性能を有していた。 実施例−5 実施例−2と同様にして試料を作成したが、ここでは主
・副の2種類のハロゲン化銀粒子を混合して用いた。主
粒子は厚さ0.05μm1平均粒径0.4μmの平板状
の、ヨードを2モル%含有する沃臭化銀粒子であった。 得られた性能を評価した結果、実施例−3と同様な性能
を示すものであった。 実施例−6 実施例−2と同様にして試料を作成したが、ここではポ
リエチレンテレフタレートでラミネートした紙支持体上
に塗布した。このとき乳剤中に、沸点150℃以上の高
沸点溶媒(ジオクチル7タレート)に溶かした蛍光増白
剤を30mg/m”添加し、塗布銀量を13mg/m”
とした。その他は実施例−2を変更せずに試料を作成し
た。得られた試料は抜き文字性能、貼り込み跡はランク
「5」に値する性能であり、紙支持体を使用した場合
にも適用できることがわかった。 〔発明の効果〕 上述のように、本発明の画像形成方法によれば選択した
光源による露光で良好な性能、特に写真性能として返し
特性における抜き文字品質の良い、更にテープ貼り込み
跡の出ないハロゲン化銀写真感光材料の画像形成ができ
る。
第1図(a)は、本発明に用いる 「7球」と呼ばれる
無電極放電光源のスペクトルであり、第1m(b)は、
「D球」と呼ばれる従来の光源のスペクトルである。第
2図は、抜き文字返し作業時の原稿と感光材料の関係を
示す図である。 l・・・返し用感光材料 2・・・網点画像が形成されたフィルム3.5・・・貼
り込みベース 4・・・線画ポジ像が形成されたフィルム6・・・カッ
トマスクフィルム
無電極放電光源のスペクトルであり、第1m(b)は、
「D球」と呼ばれる従来の光源のスペクトルである。第
2図は、抜き文字返し作業時の原稿と感光材料の関係を
示す図である。 l・・・返し用感光材料 2・・・網点画像が形成されたフィルム3.5・・・貼
り込みベース 4・・・線画ポジ像が形成されたフィルム6・・・カッ
トマスクフィルム
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、ヒドラジド化合物及びハロゲン化銀粒子、及び該ハ
ロゲン化銀粒子の極大感光波長より少なくとも50nm
長波に極大吸収を持つ化合物を含有するハロゲン化銀写
真感光材料を、 390〜430nmに比エネルギーの極大値を持つ光源
にて露光することを特徴とする画像形成方法。 2、上記ハロゲン化銀写真感光材料が減感色素及び/ま
たは紫外線吸収剤を含有し、該ハロゲン化銀写真感光材
料を390〜430nmに比エネルギーの極大値を持つ
光源にて露光することを特徴とする特許請求の範囲第1
項に記載の画像形成方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP358288A JPH0251A (ja) | 1987-10-20 | 1988-01-11 | 高コントラスト画像形成方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26423187 | 1987-10-20 | ||
JP62-264231 | 1987-10-20 | ||
JP358288A JPH0251A (ja) | 1987-10-20 | 1988-01-11 | 高コントラスト画像形成方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0251A true JPH0251A (ja) | 1990-01-05 |
Family
ID=26337210
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP358288A Pending JPH0251A (ja) | 1987-10-20 | 1988-01-11 | 高コントラスト画像形成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0251A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0445607A1 (en) * | 1990-03-05 | 1991-09-11 | General Electric Company | Synthesis of Bi-Pb-Ca-Sr-Cu-O oriented polycrystal superconductor |
KR100827352B1 (ko) * | 2006-08-29 | 2008-05-06 | 주식회사 허브킹 | 유도전신저항성 바실러스 메가테리움 hk-isr1 균주 및이의 배양액을 포함하는 미생물 제제와 이를 이용한인삼병 방제 방법 |
CN103206293A (zh) * | 2013-05-08 | 2013-07-17 | 昆山晋桦豹胶轮车制造有限公司 | 一种大功率防爆柴油机独立冷却系统 |
-
1988
- 1988-01-11 JP JP358288A patent/JPH0251A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0445607A1 (en) * | 1990-03-05 | 1991-09-11 | General Electric Company | Synthesis of Bi-Pb-Ca-Sr-Cu-O oriented polycrystal superconductor |
KR100827352B1 (ko) * | 2006-08-29 | 2008-05-06 | 주식회사 허브킹 | 유도전신저항성 바실러스 메가테리움 hk-isr1 균주 및이의 배양액을 포함하는 미생물 제제와 이를 이용한인삼병 방제 방법 |
CN103206293A (zh) * | 2013-05-08 | 2013-07-17 | 昆山晋桦豹胶轮车制造有限公司 | 一种大功率防爆柴油机独立冷却系统 |
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