JPH0240A - 高コントラストハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents
高コントラストハロゲン化銀写真感光材料Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
[産業上の利用分野]
本発明は分光増感され、全整色に感度をもつハロゲン化
銀写真感光材料に関するものであり、特に緑色光および
赤色光感度が高くコントラストの高い網点画像を比較的
迅速現像においても得られ、且つ旭理後に色素汚染の極
めて少ないハロゲン化銀写真感光材料に関するものであ
る。 [従来の技術] ハロゲン化銀感光材料を用いて、きわめてコントラスト
の高い写真画像を形成することができることは公知であ
る。例えば、ハロゲン化銀粒子の平均粒径が約0.5μ
講以下の微粒子で、粒度分布が狭く、且つ粒子の形が揃
っており、塩化銀の含有率が例えば50モル%以上とい
うように高い塩臭化銀または塩沃化銀乳剤よりなるハロ
ゲン化銀感光材料を、亜硫酸イオン濃度の低い、現像主
薬としてハイドロキノンのみを含有するアルカリ性現像
液で処理することによりコントラストの高い網点画像あ
るいは線画を得る方法が知られている。 この種のハロゲン化銀感光材料は、リス型ハロゲン化銀
感光材料として知られており、通常写真製版過程で、原
稿の連続階調の濃度変化を、この濃度に比例する大小の
面積を有する網点の集合に変換するのに用いられている
。このような変換は、リス型ハロゲン化銀写真感光材料
を用い、交叉線スクリーンまたはコンタクトスクリーン
を介して原稿の撮影を行い、次いで亜硫酸イオン濃度が
非常に低く、しかもハイドロキノン現像主薬のみを含有
するいわゆるリスを現像液で現像することによって網点
画像を形成させている。このリス型ハロゲン化銀写真感
光材料は、亜硫酸イオン濃度の高い通常の現像液、例え
ば市販の印画紙用現像液で処理しても、ガンマはたかだ
か5ないし6であり、網点形成上、最も避けなければな
うないフリンジも多発するので、網点ネガ/ポジ用には
、上記リス型現像液との組み合わせが不可欠であるとさ
れている。このリス型現像液については、ジ工−・ニー
・シイ−・エールのジャーナル・オブ・ザ・7ランクリ
ン・インスティテユー) (J、A。 CYule : J、 Franklin In5ti
tute)、第239巻、第221頁(1945)に詳
細に記載されており、これは実質的には、ハイドロキノ
ンのみを現像主薬として含み、現像主薬の酸化防止剤と
しての役目を果たす亜硫酸イオン濃度が低い現像液であ
る。 このような現像液は、その保恒性が悪く自動酸化を受け
やすいから、製版業者が常に品質の高い網ネガあるいは
網ポジ画像を得るためには、経時で減少している現像液
の活性度を一定に保つための現像液の管理が必要とされ
るが、その操作が煩雑になることは避けられ得ない。 さらにまた、リス現像処理においては、上記活性度を一
定に保つ現像液管理の他に、処理スピードが遅いという
、2つの大きな短所がある。 近年の印刷製版の流れとして、印刷プロセスの短縮化と
短時間化があげられ、製版フィルムの処理スピードに対
しての要望が高まっている。 保恒性の高い現像液を用いて製版に適するような極めて
高いコントラストの画像を得る技術として、例えば特願
昭59−240147号明細書等にはテトラゾリウム塩
を含むハロゲン化銀写真感光材料を用いる方法が開示さ
れている。この方法では亜硫酸イオン濃度の高い安定な
現像液を使用し得るとともに、従来のリス現像では行い
得なかった現像時間30秒前後、乾燥完了までの所要時
間90秒乃至100秒の迅速処理が可能である。 一方製版用としてのハロゲン化銀写真感光材料は一般に
緑色部に感光性を有すると同時に赤色光および青色光に
感光性を有するいわゆるオールマイティタイプの感光性
をもつことが要求される。 感光性ハロゲン化銀乳剤は単独ではその感光波長域が狭
いので、その感光波長域を長波長側へ拡大することを目
的とした分光増感剤が用いられている。例えば、緑色光
および赤色光に対する感度を付与するものとして、特公
昭38−7828号、同40−392号、同43−10
251号、同43−22884号、英国特許815゜1
72号、同9.55,961号、同955.912号、
同142.228号、米国特許1,942,854号、
同1,950,876号、同1,957,869号、同
2,238.231号、同2,521,705号、同2
,647.059号、特公昭43−2606号、同44
−3644号、同46−18106号、同46−181
08号、同48−15032号、同49−33782号
、同54−34252号、同58−52574号、米国
特許2,839.403号、同3.567.458号、
同3,625,698号等の明細書に記載されたシアニ
ン色素並びにメロシアニン色素があげられる。 [発明が解決しようとする問題点] これらの分光増感剤は、特定の波長領域の感度を高める
ということと同時に、−大凶な特性として例えば、 (a) 他の添加剤の影響を受けたり、添加剤の効果
に影響を与えないこと (b) 日時が経過した場合にも感度低下やカブリの
増大等の写真特性変化を生じさせないこと、 (c) 処理後に色素汚染を生じさせないこと、等の
性質が要求されるが、前記のような比較的迅速な現像を
行った場合、処理後の色素汚染が大きくなり実用上大き
な問題となっている。 色素汚染を減するためにはゼラチン等の親水性コロイド
に対する染着性が少なく、且つ処理液中に流出し易い、
溶解性の高い分光増感剤を使用すればよく、従来も種々
の化合物が提案されている。 しかし、製版用として要求されるような極めて高いコン
トラストを与える現像効果には分光増感剤が大きな影響
を及ぼす場合が多く、コントラストを低下させるなどの
問題を生じるため通常の感光材料における色素汚れ解決
手段を高コントラスト現像を行うハロゲン化銀写真感光
材料にそのまま適用することは困難であった。 [発明の目的1 本発明の目的は前記のような問題点を解決し、青色、緑
色および赤色の全域感光度が高く、亜硫酸イオン濃度の
高い通常の現像液を用いた迅速な現像処理によって極め
て高いコントラストが得られ、且つ処理後の色素汚染の
極めて少ないハロゲン化銀写真感光材料を提供すること
にある。 [問題点を解決するための手段] 本発明者等は種々検討の結果、支持体と該支持体上に塗
設された少なくとも1層のハロゲン化銀乳剤層を含む親
水性コロイド層を有するハロゲン化銀写真感光材料にお
いて、上記ハロゲン化銀乳剤層の少なくとも1層が下記
一般式[1]、[2][3]で示される化合物の少なく
とも1種と下記一般式[4]、[5]ないし[6]で示
される化合物の少なくとも1種とを含有することを特徴
とするハロゲン化銀写真感光材料によって上記目的を達
成し得ることを見出だした。 以下一般式[1] 、[2] 、[3]について具体的
に説明する。 一般式[11 式中、R,及びR2はアリール基またはへテロ環基を表
わし、Rは2価の有機基を表わし、nはO〜6.1ま0
またはlを表わす。 ここで、R1及びR1で表わされるアリール基としては
フェニル基、ナアチル基等が挙げられ、ヘテロ環基とし
てはピリジル基、ベンゾチアゾリル基、キノリル基、チ
エニル基等が挙げられるが、R1及びR8として好まし
くはアリール基である。 RI及びR2で表わされるアリール基またはへテロ環基
には種々の置換基が導入できる。置換基としては例えば
ハロゲン原子(例えば塩素、7ツ素など)、アルキル基
(例えばメチル、エチル、ドデシルなど)、アルコキシ
基(例えばメトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、ブト
キシ、オクチルオキシ、ドデシルオキシなど)、アシル
アミノ基 (例えばアセチルアミノ、ピバリルアミノ、
ベンゾイルアミノ、テトラデカノイルアミノ、α−(2
,4−ジ−t−アミルフェノキシ)ブチリルアミノなど
)、スルホニルアミノ基(例えば、メタンスルホニルア
ミノ、ブタンスルホニルアミノ ホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノなど)、ウレ
ア基(例えば、フェニルウレア、エチルウレアなど)、
チオウレア基(例えば、フェニルチオウレア、エチルチ
オウレアなど)、ヒドロキシ基、アミノ基、アルキルア
ミノ基(例えば、メチルアミノ、ジメチルアミノなど)
、カルボキシ基、アルコキシカルボニル基(例えば、エ
トキシカルボニル)、カルバモイル基、スルホ基などが
挙げられる。Rで表わされる2価の有機基としては、例
えばアルキレン基(例えば、メチレン、エチレン、トリ
メチレン、テトラメチレンなど)、アリーレン基(例え
ば、フェニレン、ナフチレンなト)、アラルキレン基等
が挙げられるがアルキレン基は結合中にオキシ基、チオ
基、セレノ基、カルボニアリール基を表わす)、スルホ
ニル基等を含んでも良い。Rで表わされる基には種々の
置換基が導入できる。 置換基としては例えば、 CONHNI(Rt (R
4は上述したR1及びR2と同じ意味を表わす)、アル
キル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、
カルボキシ基、アシル基、アリール基、等が挙げられる
。 Rとして好ましくはアルキレン基である。 一般式[11で表わされる化合物のうち好ましくはR1
及びR1が置換または未置換のフェニル基であり、n=
m=lでRがアルキレン基を表わす化合物である。 上記一般式[11で表される代表的な化合物を具体的化
合物 ■ ζ ■ ■ ■ ■ ■ ■ ■ tcall■ ■ tC,t+、。 tcBH++ ■ −53 ■ −55 次に一般式[2]について説明する RlIで表わされる脂肪族基は、好ましくは、炭素数6
以上のものであって、特に炭素数8〜50の直鎖、分岐
または環状のアルキル基である。ここで分岐アルキル基
はその中に1つまたはそれ以上のへテロ原子を含んだ飽
和のへテロ環を形成するように環化されてもよい。また
このアルキル基はアリール基、アルコキシ基、スルホキ
シ基、等の置換基を有してもよい。 RlIで表される芳香族基は単環または2環アリール基
または不飽和へテロ環基である。ここで不飽和へテロ環
基は単環または2環のアリール基と縮合してヘテロアリ
ール基を形成してもよい。 例えばベンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環、ピリミ
ジン環、イミダゾール環、ピロラゾール環、キノリン環
、イソキノリン環、ベンズイミダゾール環、チアゾール
環、ベンゾチアゾール環等があるがなかでもベンゼン環
を含むものが好ましい。 R□として特に好ましいものはアリール基である。 R11のアリール基または不飽和へテロ環基は置換され
ていてもよく、代表的な置換基としては直鎖、分岐また
は環状のアルキル基(好ましくはアルキル部分の炭素数
が1〜20の単環または2環のもの)、アルコキシ基(
好ましくは炭素数1〜20のもの)、置換アミノ基(好
ましくは炭素数1〜20のアルキル基で置換されたアミ
ノ基)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜30を
持つもの)、スルホンアミド基(好ましくは炭素数1〜
30を持つもの)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜
30を持つもの)などがある。 一般式[2]のR1ff1で表される基のうち置換され
てもよいアルコキシ基としては炭素数1〜20のもので
あって、ハロゲン原子、アリール基などで置換されてい
てもよい。 一般式[2]においてRoで表される基のうち置換され
てもよいアリールオキシ基またはへテロ環オキシ基とし
ては単環のものが好ましく、また置換基としてはハロゲ
ン原子アルキル基、アルコキシ基、シアノ基などがある R22で表される基のうちで好ましいものは、置換され
てもよいアルコキシ基またはアミノ基である。 A、置換されてもよいアルキル基、アルコシ基または一
〇−−S−−N−基結合を含む環状構造であってもよい
。但しR2□がヒドラジノ基であることはない。 一般式[2]のR11またはR2mはその中にカプラー
等の不動性写真用添加剤において常用されているバラス
ト基が組み込まれているものでもよい。 バラスト基は8以上の炭素数を有する写真性に対して比
較的不活性な基であり、例えばアルキル基、アルコキシ
基、フェニル基、アルキルフェニル基、フニノキシ基、
アルキルフェノキシ基などの中から選ぶことができる。 一般式[2]のRz+またはR1はその中にハロゲン化
銀粒子表面に対する吸着を強める基が組み込まれている
ものでもよい。かかる吸着基としては、チオ尿素基、複
素環チオアミド基、メルカプト複素環基、トリアゾール
基などの米国特許第4.355゜105号に記載された
基があげられる。一般式[2]で表される化合物のうち
下記一般式[2−alで表される化合物は特に好ましい
。 一般式[2−al 上記一般式[2−al中、 R13およびRoは水素原子、置換されてもよいアルキ
ル基(例えばメチル基、エチル基、ブチル基、ドデシル
基、2−ヒドロキシプロピル基、2−シアンエチル基、
2−クロロエチル基)、置換されてもよいフェニル基、
ナフチル基、シクロヘキシル基、ピリジル基、ピロリジ
ル基(例えばフェニル基、p−メチルフェニル基、ナフ
チル基、α−ヒドロキシナフチル基、シクロヘキシル基
、p−メチルシクロヘキシル基、ピリジル基、4−プロ
ピル−2−ピリジル基、ピロリジル基、4−メチル−2
−ピロリジル基)を表し、 RZaは水素原子または置換されてもよいベンジル基、
アルコキシ基及びアルキル基(例えばベンジル基、p−
メチルベンジル基、メトキシ基、エトキシ基、エチル基
、ブチル基)を表し、Ro及びR27は2価の芳香族基
(例えばフェニレン基またはナフチレン基)を表し、Y
はイオウ原子または酸素原子を表し、Lは2価の結合基
(例えば−5OzGHzCH*Nl(−5OJII、−
0CH!SO2NH,−0−CH−N−)を表し、 RZaは−NR’R″または一0R2,を表し、R’、
R〃及びR29は水素原子、置換されてもよいアルキル
基(例えばメチル基、エチル基、ドデシル基)、フェニ
ル基(例えばフェニル基、p−メチルフェニル基、p−
メトキシフェニル基)またはナフチル基(例えばα−す
7チル基、β−す7チル基)を表し、m、nは0または
1を表す。R1,がOR2,を表すときYはイオウ原子
を表すのが好ましい。 上記一般式、[2]及び[2−alで表される代表的な
−紋針[2]の具体例 F3 =26 =27 =30 cl(ll’1ZIn ■! ※ η −NHNHCCNHC+ *H□ 次に、上記具体的化合物のうち化合物2−45゜2−4
7を例にとって、その合成法を示す。 化合物2−45の合成 合成スキーム (A) CB) 化合物4−ニトロフェニルヒドラジン1539と500
mQのジエチルオキザレートを混合し、1時間還流する
。反応を進めながらエタノールを除去していき、最後に
冷却し結晶を析出させる。濾過し石油エーテルで数回洗
浄し、再結晶する。次に得られた結晶(A)のうち50
9を1000m12のメタノールで加温溶解し、pd/
C(パラジウム・炭素)触媒下に50Psiのか加圧し
たH2雰囲気で還元し、化合物(B。 を得る。 この化合物(B)229をアセトニトリル200mQと
ピリジン16gの溶液に溶かし室温で化合物(C)24
9のアセトニトリル溶液を滴下した。不溶物を濾別後、
濾液を濃縮し再結晶精製して化合物(D )319を得
tこ 。 化合物(D)309を上記と同様に水添をして化合物(
E)209を得た。 化合物(E)IOgをアセトニトリル100mffに溶
解しエチルインチオシアネー) 3.09を加え、1時
間還流した。溶媒を留去後頁結晶精製して化合物CF)
7、Ogを得た。化合物CF )5.09をメタ7−ル
50mff1:溶解してメチルアミン(40%水溶液8
m<2)を加え攪拌した。メタノールを若干濃縮後、析
出した固体をとり出し再結晶精製して化合物2−45を
得た。 化合物2−47の合成 合成スキーム (B) (C) CD’) (E) 化合物2−47 化合物(B)22gをピリジン200m12に溶解し攪
拌すル中へ、p−ニトロベンゼンスルホニルクロライド
229を加えた。反応混合物を水あけ、後析出する固体
をとり出し化合物(C)を得た。この化合物(C)を合
成スキームに従って化合物2−45と同様の反応により
化合物2−47を得I;。 次に一般式[3]について説明する。 −大穴[31。 厘 Ar−N開■−C−R81 一般式[31中、Arは耐拡散基又はハロゲン化銀吸着
促進基を少なくとも1つを含むアリール基を表わすが、
耐拡散基としてはカプラー等の不動性写真用添加剤にお
いて常用されているバラスト基が好ましい。バラスト基
は8以上の炭素数を有する写真性に対して比較的不活性
な基であり、例えばアルキル基、アルコキシ基、フェニ
ル基、アルキルフェニル基、フェノキシ基、アルキルフ
ェノキシ基などの中から選ぶことができる。 ハロゲン化銀吸着促進基としてはチオ尿素基、チオウレ
タン基、複素環チオアミド基、メルカプト複素環基、ト
リアゾール基などの米国特許第4゜385.108号に
記載された基が挙げられる。 R□ハ置換アルキル基を表わすが、アルキル基としては
、直鎖、分岐、環状のアルキル基を表わし、例えばメチ
ル、エチル、プロピル、ブチル、イングロビル、ペンチ
ル、シクロヘキシル等の基が挙げられる。 これらのアルキル基へ導入される置換基としては、アル
コキシ(例えばメトキシ、エトキシ等)、アリールオキ
シ(例えばフェノキシ、p−クロルフェノキシ等)、ヘ
テロ環オキシ(例えばピリジルオキシ等)、メルカプト
、アルキルチオ(メチルチオ、エチルチオ等)、アリー
ルチオ(例えばフェニルチオ、p−クロルフェニルチオ
等)、ヘテロ環チオ(例えば、ピリジルチオ、ピリミジ
ルチオ、チアジアゾリルチオ等)、アルキルスルホニル
(例えばメタンスルホニル、ブタンスルホニル等)、ア
リールスルホニル(例えばベンゼンスルホニル等)、ヘ
テロ環スルホニル(例えばピリジルスルホニル、モルホ
リノスルホニル等)、アシル(例えばアセチル、ベンゾ
イル等)、シアノ、クロル、臭素、アルコキシカルボニ
ル(例えばエトキシカルボニル、メトキシカルボニル等
)、アリールオキシカルボニル(例えばフェノキシカル
ボニル等)、カルボキシ、カルバモイル、アルキルカル
バモイル(例えば、N−メチルカルバモイル、N、N−
ジメチルカルバモイル等)、アリールカルバモイル(例
えば、N−7エニルカルバモイル等)、アミノ、アルキ
ルアミノ(例えば、メチルアミノ、N、N−ジメチルア
ミノ等)、アリールアミノ(例えば、フェニルアミノ、
ナフチルアミノ等)、アシルアミノ(例えばアセチルア
ミノ、ベンゾイルアミノ等)、アルコキシカルボニルア
ミノ(例えば、エトキシカルボニルアミノ等)、アリー
ルオキシカルボニルアミノ(例えば、フェノキシカルボ
ニルアミノ等)、アシルオキシ(例えば、アセチルオキ
シ、ベンゾイルオキシ等)、アルキルアミ7カルボニル
オキシ(fIえばメチルアミノカルボニルオキシ等)、
アリールアミノカルボニルオキシ(例えば、フェニルア
ミノカルボニルオキシ等)、スルホ、スルファモイル、
アルキルスルファモイル(例えば、メチルスルファモイ
ル等)、アリールスルファモイル(例えば、フェニルス
ルファモイル等)等の各店が挙げられる。 ヒドラジンの水素原子はスルホニル基(例工ばメタンス
ルホニル、トルエンスルホニル等)、アシル基(例えば
、アセチル、トリフルオロアセチル等)、オキザリル基
(例えば、エトキザリル等)等)等の置換基で置換され
ていてもよい。 上記−大穴[3]で表される代表的な化合物としては、
以下に示すものがある。 ■ =12 =23 ※−NIINHCCH!0CH2CII□0CIlxC
HzOH=32 得た。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料に含まれる一般式[
1]、[2]、[3]の化合物の量は、本発明の ハロゲン化銀写真感光材料中に含有されるハロゲン化銀
1モル当り、 810−’ないし5 X tO−鳳モル までか好まし く、 更に好まし く は5 X 10−’ないし 次に化合物3− 5の合成例について述べる。 化合物3− 5の合成 合成スキーム 化合物2−45の合成法に準じて化合物3−を −大計[4] 式中、R41およびR1は各々置換されていてもよいア
ルキル基を表し R41およびR″の少なくとも一方は
スルホアルキル基またはカルボキシアルキル基である。 Zはアルキル基またはアラルキル基を表す。U 、V
、WおよびYは各々水素原子、ノ\ロゲン原子、置換さ
れていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアル
コキシ基、置換されていてもよいアルコキシカルボニル
基、カルボキシル基またはヒドロキシル基を表す。XQ
は酸アニオンを表ず。mは1または2を表し、分子内塩
が形成されるとき、mはlである。 R41およびR1が表すアルキル基の置換基の例として
は、ヒドロキシル基、スルホ基、スルホネート基、スル
ホナト基、カルボキシル基およびその塩、カルボキシラ
ド基、ハロゲン原子(例えば7ツ素原子、塩素原子)、
炭素数1〜4の無置換または置換アルコキシ基(アルコ
キシ基は更にスルホ基やヒドロキシル基で置換されてい
てもよい)、炭素数2〜5のアルコキシカルボニル基、
炭素数1〜4のアルキルスルホニル基、スルファモイル
基、無置換または置換カルバモイル基(炭素数1〜4の
アルキル基で置換された置換カルバモイル基を含む)、
置換フェニル基(置換基の例としては、スルホ基、カル
ボキシル基、ヒドロキシル基等)、ビニル基、等があげ
られる。 無置換アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基があげられる。 置換アルキル基の例としてはヒドロキシアルキル基とし
て2−ヒドロキシエチル基、3−ヒドロキシプロピル基
など、スルホアルキル基として2−スルホエチル基、3
−スルホプロピル基、3−スルホブチル基、4−スルホ
ブチル基、2−ヒドロキシ−3−スルホプロピル基、2
−クロロ−3−スルホプロピル基など、カルボキシルア
ルキル基としてカルボキシルメチル基、カルボキシエチ
ル基、カルボキシルメチル基など、2.2.2−トリフ
ルオロエチル基、2−(3−スルホプロピルオキシ)エ
チル基、2−(2−ヒドロキシエトキシ)エチル基、エ
トキシカルボニルエチル基、メチルスルホニルエチル基
、スル7アモイルアルキル基として2−スルファモイル
エチル基、2−カルバモイルエチル基、2−N。 N−ジメチルカルバモイルエチル基など、フェネチル基
、p−カルボキシフェネチル基、スルホアラルキル基と
してp−スルホ7エネチル基、スルホアラルキル基とし
てp−スルホ7エネチル基など、p・ヒドロキシフェネ
チル基、フェノキシエチル基等が挙げられる。 U 、V 、WおよびYで表されるハロゲン原子として
は例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子等が挙げられ
、アルキル基としては例えばメチル基、エチル基、プロ
ピル基、ブチル基等が挙げられ、アルコキシ基としては
例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキ
シ基等が挙げられ、アルコキシカルボニル基としては例
えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等が
挙げられ、これらの各店はハロゲン原子、スルホ基、ヒ
ドロキシル基、カルボキシル基等で置換されていてもよ
い。 Zで表されるアルキル基としては例えばメチル基、エチ
ル基、プロピル基が挙げられ、アラルキル基としては例
えばベンジル基が挙げられる。 Xθで表される酸アニオンとしては例えば塩化物、臭化
物、沃化物、チオシアネート、スルホネート、メチルス
ルホネート、エチルスルホネート、バークロレート、p
−ト’レニンスルホネート等カある。 本発明に用いる一般式[4]で示される化合物の−大成
[5] Ris ■ 式中、1!+45!およびH2Sは各々置換されていて
もよいアルキル基を表す。U 、V 、WおよびYは各
々水素原子、ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シ
アノ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アルコキシカ
ルボニル基、ヒドロキシル基、アシルオキシ基、ヒドロ
キシアルキル基、ヒドロキシアルコキシ基またはフェニ
ル基を表す。xeは酸アニオンを表す。nは1または2
を表し、分子内塩が形成されるとき、nはlである。 R5l4S!BよびR11が表すアルキル基は一般式[
4]のR41またはR42で表されるアルキル基と同義
である。 U 、V 、WおよびYが表すアルコキシ基としては例
えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ
基が挙げられ、アルコキシカルボニル基としては例えば
メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等が挙げ
られ、アシルオキシ基としては例えばアセチルオキシ基
、プロ・ピオニルオキシ基が挙げられ、ヒドロキシアル
キル基としては例えばヒドロキシメチル基、ヒドロキシ
エチル基、とドロキシグロピル基、ヒドロキシブチル基
等が挙げられヒドロキシアルコキシ基としては例えばヒ
ドロキシメトキシ基、ヒドロキシエトキシ基、ヒドロキ
シプロポキシ基、ヒドロキシブトキシ基等が挙げられる
。 xeで表される酸アニオンは一般式[4]のXQにおけ
ると同義である。 本発明に用いる一般式[5]で示される化合物の−大成
[6] におけるUないしYにおけるものと同義である。 )(eで表される酸アニオンは一般式〔4〕のXθにお
けると同義である。 本発明に用いる一般式[6]で示される化合物の式中、
R414iz、2szおよびR@1は各々置換されてい
てもよいアルキル基を表す。U 、V 、WおよびYは
各々水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよいア
ルキル基、置換されていてもよいアルコキシ基、置換さ
れていてもよいアルコキシカルボニル基、カルボキシル
基、ヒドロキシル基、シアノ基、または置換されていて
もよいアシルオキシ基を表す。 R61ないしRa&で表されるアルキル基は一般式[4
]の2口またはR目で表されるアルキル基と同義であり
、U、V、WはたはYで表されるハロゲン原子、アルキ
ル基、アルコキシ基およびアルコキシカルボニル基は一
般式[4]のUないしYにおけるものと同義であり、ア
シルオキシ基は一般式[5]本発明の一般式[4]〜
銀写真感光材料に関するものであり、特に緑色光および
赤色光感度が高くコントラストの高い網点画像を比較的
迅速現像においても得られ、且つ旭理後に色素汚染の極
めて少ないハロゲン化銀写真感光材料に関するものであ
る。 [従来の技術] ハロゲン化銀感光材料を用いて、きわめてコントラスト
の高い写真画像を形成することができることは公知であ
る。例えば、ハロゲン化銀粒子の平均粒径が約0.5μ
講以下の微粒子で、粒度分布が狭く、且つ粒子の形が揃
っており、塩化銀の含有率が例えば50モル%以上とい
うように高い塩臭化銀または塩沃化銀乳剤よりなるハロ
ゲン化銀感光材料を、亜硫酸イオン濃度の低い、現像主
薬としてハイドロキノンのみを含有するアルカリ性現像
液で処理することによりコントラストの高い網点画像あ
るいは線画を得る方法が知られている。 この種のハロゲン化銀感光材料は、リス型ハロゲン化銀
感光材料として知られており、通常写真製版過程で、原
稿の連続階調の濃度変化を、この濃度に比例する大小の
面積を有する網点の集合に変換するのに用いられている
。このような変換は、リス型ハロゲン化銀写真感光材料
を用い、交叉線スクリーンまたはコンタクトスクリーン
を介して原稿の撮影を行い、次いで亜硫酸イオン濃度が
非常に低く、しかもハイドロキノン現像主薬のみを含有
するいわゆるリスを現像液で現像することによって網点
画像を形成させている。このリス型ハロゲン化銀写真感
光材料は、亜硫酸イオン濃度の高い通常の現像液、例え
ば市販の印画紙用現像液で処理しても、ガンマはたかだ
か5ないし6であり、網点形成上、最も避けなければな
うないフリンジも多発するので、網点ネガ/ポジ用には
、上記リス型現像液との組み合わせが不可欠であるとさ
れている。このリス型現像液については、ジ工−・ニー
・シイ−・エールのジャーナル・オブ・ザ・7ランクリ
ン・インスティテユー) (J、A。 CYule : J、 Franklin In5ti
tute)、第239巻、第221頁(1945)に詳
細に記載されており、これは実質的には、ハイドロキノ
ンのみを現像主薬として含み、現像主薬の酸化防止剤と
しての役目を果たす亜硫酸イオン濃度が低い現像液であ
る。 このような現像液は、その保恒性が悪く自動酸化を受け
やすいから、製版業者が常に品質の高い網ネガあるいは
網ポジ画像を得るためには、経時で減少している現像液
の活性度を一定に保つための現像液の管理が必要とされ
るが、その操作が煩雑になることは避けられ得ない。 さらにまた、リス現像処理においては、上記活性度を一
定に保つ現像液管理の他に、処理スピードが遅いという
、2つの大きな短所がある。 近年の印刷製版の流れとして、印刷プロセスの短縮化と
短時間化があげられ、製版フィルムの処理スピードに対
しての要望が高まっている。 保恒性の高い現像液を用いて製版に適するような極めて
高いコントラストの画像を得る技術として、例えば特願
昭59−240147号明細書等にはテトラゾリウム塩
を含むハロゲン化銀写真感光材料を用いる方法が開示さ
れている。この方法では亜硫酸イオン濃度の高い安定な
現像液を使用し得るとともに、従来のリス現像では行い
得なかった現像時間30秒前後、乾燥完了までの所要時
間90秒乃至100秒の迅速処理が可能である。 一方製版用としてのハロゲン化銀写真感光材料は一般に
緑色部に感光性を有すると同時に赤色光および青色光に
感光性を有するいわゆるオールマイティタイプの感光性
をもつことが要求される。 感光性ハロゲン化銀乳剤は単独ではその感光波長域が狭
いので、その感光波長域を長波長側へ拡大することを目
的とした分光増感剤が用いられている。例えば、緑色光
および赤色光に対する感度を付与するものとして、特公
昭38−7828号、同40−392号、同43−10
251号、同43−22884号、英国特許815゜1
72号、同9.55,961号、同955.912号、
同142.228号、米国特許1,942,854号、
同1,950,876号、同1,957,869号、同
2,238.231号、同2,521,705号、同2
,647.059号、特公昭43−2606号、同44
−3644号、同46−18106号、同46−181
08号、同48−15032号、同49−33782号
、同54−34252号、同58−52574号、米国
特許2,839.403号、同3.567.458号、
同3,625,698号等の明細書に記載されたシアニ
ン色素並びにメロシアニン色素があげられる。 [発明が解決しようとする問題点] これらの分光増感剤は、特定の波長領域の感度を高める
ということと同時に、−大凶な特性として例えば、 (a) 他の添加剤の影響を受けたり、添加剤の効果
に影響を与えないこと (b) 日時が経過した場合にも感度低下やカブリの
増大等の写真特性変化を生じさせないこと、 (c) 処理後に色素汚染を生じさせないこと、等の
性質が要求されるが、前記のような比較的迅速な現像を
行った場合、処理後の色素汚染が大きくなり実用上大き
な問題となっている。 色素汚染を減するためにはゼラチン等の親水性コロイド
に対する染着性が少なく、且つ処理液中に流出し易い、
溶解性の高い分光増感剤を使用すればよく、従来も種々
の化合物が提案されている。 しかし、製版用として要求されるような極めて高いコン
トラストを与える現像効果には分光増感剤が大きな影響
を及ぼす場合が多く、コントラストを低下させるなどの
問題を生じるため通常の感光材料における色素汚れ解決
手段を高コントラスト現像を行うハロゲン化銀写真感光
材料にそのまま適用することは困難であった。 [発明の目的1 本発明の目的は前記のような問題点を解決し、青色、緑
色および赤色の全域感光度が高く、亜硫酸イオン濃度の
高い通常の現像液を用いた迅速な現像処理によって極め
て高いコントラストが得られ、且つ処理後の色素汚染の
極めて少ないハロゲン化銀写真感光材料を提供すること
にある。 [問題点を解決するための手段] 本発明者等は種々検討の結果、支持体と該支持体上に塗
設された少なくとも1層のハロゲン化銀乳剤層を含む親
水性コロイド層を有するハロゲン化銀写真感光材料にお
いて、上記ハロゲン化銀乳剤層の少なくとも1層が下記
一般式[1]、[2][3]で示される化合物の少なく
とも1種と下記一般式[4]、[5]ないし[6]で示
される化合物の少なくとも1種とを含有することを特徴
とするハロゲン化銀写真感光材料によって上記目的を達
成し得ることを見出だした。 以下一般式[1] 、[2] 、[3]について具体的
に説明する。 一般式[11 式中、R,及びR2はアリール基またはへテロ環基を表
わし、Rは2価の有機基を表わし、nはO〜6.1ま0
またはlを表わす。 ここで、R1及びR1で表わされるアリール基としては
フェニル基、ナアチル基等が挙げられ、ヘテロ環基とし
てはピリジル基、ベンゾチアゾリル基、キノリル基、チ
エニル基等が挙げられるが、R1及びR8として好まし
くはアリール基である。 RI及びR2で表わされるアリール基またはへテロ環基
には種々の置換基が導入できる。置換基としては例えば
ハロゲン原子(例えば塩素、7ツ素など)、アルキル基
(例えばメチル、エチル、ドデシルなど)、アルコキシ
基(例えばメトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、ブト
キシ、オクチルオキシ、ドデシルオキシなど)、アシル
アミノ基 (例えばアセチルアミノ、ピバリルアミノ、
ベンゾイルアミノ、テトラデカノイルアミノ、α−(2
,4−ジ−t−アミルフェノキシ)ブチリルアミノなど
)、スルホニルアミノ基(例えば、メタンスルホニルア
ミノ、ブタンスルホニルアミノ ホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノなど)、ウレ
ア基(例えば、フェニルウレア、エチルウレアなど)、
チオウレア基(例えば、フェニルチオウレア、エチルチ
オウレアなど)、ヒドロキシ基、アミノ基、アルキルア
ミノ基(例えば、メチルアミノ、ジメチルアミノなど)
、カルボキシ基、アルコキシカルボニル基(例えば、エ
トキシカルボニル)、カルバモイル基、スルホ基などが
挙げられる。Rで表わされる2価の有機基としては、例
えばアルキレン基(例えば、メチレン、エチレン、トリ
メチレン、テトラメチレンなど)、アリーレン基(例え
ば、フェニレン、ナフチレンなト)、アラルキレン基等
が挙げられるがアルキレン基は結合中にオキシ基、チオ
基、セレノ基、カルボニアリール基を表わす)、スルホ
ニル基等を含んでも良い。Rで表わされる基には種々の
置換基が導入できる。 置換基としては例えば、 CONHNI(Rt (R
4は上述したR1及びR2と同じ意味を表わす)、アル
キル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、
カルボキシ基、アシル基、アリール基、等が挙げられる
。 Rとして好ましくはアルキレン基である。 一般式[11で表わされる化合物のうち好ましくはR1
及びR1が置換または未置換のフェニル基であり、n=
m=lでRがアルキレン基を表わす化合物である。 上記一般式[11で表される代表的な化合物を具体的化
合物 ■ ζ ■ ■ ■ ■ ■ ■ ■ tcall■ ■ tC,t+、。 tcBH++ ■ −53 ■ −55 次に一般式[2]について説明する RlIで表わされる脂肪族基は、好ましくは、炭素数6
以上のものであって、特に炭素数8〜50の直鎖、分岐
または環状のアルキル基である。ここで分岐アルキル基
はその中に1つまたはそれ以上のへテロ原子を含んだ飽
和のへテロ環を形成するように環化されてもよい。また
このアルキル基はアリール基、アルコキシ基、スルホキ
シ基、等の置換基を有してもよい。 RlIで表される芳香族基は単環または2環アリール基
または不飽和へテロ環基である。ここで不飽和へテロ環
基は単環または2環のアリール基と縮合してヘテロアリ
ール基を形成してもよい。 例えばベンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環、ピリミ
ジン環、イミダゾール環、ピロラゾール環、キノリン環
、イソキノリン環、ベンズイミダゾール環、チアゾール
環、ベンゾチアゾール環等があるがなかでもベンゼン環
を含むものが好ましい。 R□として特に好ましいものはアリール基である。 R11のアリール基または不飽和へテロ環基は置換され
ていてもよく、代表的な置換基としては直鎖、分岐また
は環状のアルキル基(好ましくはアルキル部分の炭素数
が1〜20の単環または2環のもの)、アルコキシ基(
好ましくは炭素数1〜20のもの)、置換アミノ基(好
ましくは炭素数1〜20のアルキル基で置換されたアミ
ノ基)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜30を
持つもの)、スルホンアミド基(好ましくは炭素数1〜
30を持つもの)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜
30を持つもの)などがある。 一般式[2]のR1ff1で表される基のうち置換され
てもよいアルコキシ基としては炭素数1〜20のもので
あって、ハロゲン原子、アリール基などで置換されてい
てもよい。 一般式[2]においてRoで表される基のうち置換され
てもよいアリールオキシ基またはへテロ環オキシ基とし
ては単環のものが好ましく、また置換基としてはハロゲ
ン原子アルキル基、アルコキシ基、シアノ基などがある R22で表される基のうちで好ましいものは、置換され
てもよいアルコキシ基またはアミノ基である。 A、置換されてもよいアルキル基、アルコシ基または一
〇−−S−−N−基結合を含む環状構造であってもよい
。但しR2□がヒドラジノ基であることはない。 一般式[2]のR11またはR2mはその中にカプラー
等の不動性写真用添加剤において常用されているバラス
ト基が組み込まれているものでもよい。 バラスト基は8以上の炭素数を有する写真性に対して比
較的不活性な基であり、例えばアルキル基、アルコキシ
基、フェニル基、アルキルフェニル基、フニノキシ基、
アルキルフェノキシ基などの中から選ぶことができる。 一般式[2]のRz+またはR1はその中にハロゲン化
銀粒子表面に対する吸着を強める基が組み込まれている
ものでもよい。かかる吸着基としては、チオ尿素基、複
素環チオアミド基、メルカプト複素環基、トリアゾール
基などの米国特許第4.355゜105号に記載された
基があげられる。一般式[2]で表される化合物のうち
下記一般式[2−alで表される化合物は特に好ましい
。 一般式[2−al 上記一般式[2−al中、 R13およびRoは水素原子、置換されてもよいアルキ
ル基(例えばメチル基、エチル基、ブチル基、ドデシル
基、2−ヒドロキシプロピル基、2−シアンエチル基、
2−クロロエチル基)、置換されてもよいフェニル基、
ナフチル基、シクロヘキシル基、ピリジル基、ピロリジ
ル基(例えばフェニル基、p−メチルフェニル基、ナフ
チル基、α−ヒドロキシナフチル基、シクロヘキシル基
、p−メチルシクロヘキシル基、ピリジル基、4−プロ
ピル−2−ピリジル基、ピロリジル基、4−メチル−2
−ピロリジル基)を表し、 RZaは水素原子または置換されてもよいベンジル基、
アルコキシ基及びアルキル基(例えばベンジル基、p−
メチルベンジル基、メトキシ基、エトキシ基、エチル基
、ブチル基)を表し、Ro及びR27は2価の芳香族基
(例えばフェニレン基またはナフチレン基)を表し、Y
はイオウ原子または酸素原子を表し、Lは2価の結合基
(例えば−5OzGHzCH*Nl(−5OJII、−
0CH!SO2NH,−0−CH−N−)を表し、 RZaは−NR’R″または一0R2,を表し、R’、
R〃及びR29は水素原子、置換されてもよいアルキル
基(例えばメチル基、エチル基、ドデシル基)、フェニ
ル基(例えばフェニル基、p−メチルフェニル基、p−
メトキシフェニル基)またはナフチル基(例えばα−す
7チル基、β−す7チル基)を表し、m、nは0または
1を表す。R1,がOR2,を表すときYはイオウ原子
を表すのが好ましい。 上記一般式、[2]及び[2−alで表される代表的な
−紋針[2]の具体例 F3 =26 =27 =30 cl(ll’1ZIn ■! ※ η −NHNHCCNHC+ *H□ 次に、上記具体的化合物のうち化合物2−45゜2−4
7を例にとって、その合成法を示す。 化合物2−45の合成 合成スキーム (A) CB) 化合物4−ニトロフェニルヒドラジン1539と500
mQのジエチルオキザレートを混合し、1時間還流する
。反応を進めながらエタノールを除去していき、最後に
冷却し結晶を析出させる。濾過し石油エーテルで数回洗
浄し、再結晶する。次に得られた結晶(A)のうち50
9を1000m12のメタノールで加温溶解し、pd/
C(パラジウム・炭素)触媒下に50Psiのか加圧し
たH2雰囲気で還元し、化合物(B。 を得る。 この化合物(B)229をアセトニトリル200mQと
ピリジン16gの溶液に溶かし室温で化合物(C)24
9のアセトニトリル溶液を滴下した。不溶物を濾別後、
濾液を濃縮し再結晶精製して化合物(D )319を得
tこ 。 化合物(D)309を上記と同様に水添をして化合物(
E)209を得た。 化合物(E)IOgをアセトニトリル100mffに溶
解しエチルインチオシアネー) 3.09を加え、1時
間還流した。溶媒を留去後頁結晶精製して化合物CF)
7、Ogを得た。化合物CF )5.09をメタ7−ル
50mff1:溶解してメチルアミン(40%水溶液8
m<2)を加え攪拌した。メタノールを若干濃縮後、析
出した固体をとり出し再結晶精製して化合物2−45を
得た。 化合物2−47の合成 合成スキーム (B) (C) CD’) (E) 化合物2−47 化合物(B)22gをピリジン200m12に溶解し攪
拌すル中へ、p−ニトロベンゼンスルホニルクロライド
229を加えた。反応混合物を水あけ、後析出する固体
をとり出し化合物(C)を得た。この化合物(C)を合
成スキームに従って化合物2−45と同様の反応により
化合物2−47を得I;。 次に一般式[3]について説明する。 −大穴[31。 厘 Ar−N開■−C−R81 一般式[31中、Arは耐拡散基又はハロゲン化銀吸着
促進基を少なくとも1つを含むアリール基を表わすが、
耐拡散基としてはカプラー等の不動性写真用添加剤にお
いて常用されているバラスト基が好ましい。バラスト基
は8以上の炭素数を有する写真性に対して比較的不活性
な基であり、例えばアルキル基、アルコキシ基、フェニ
ル基、アルキルフェニル基、フェノキシ基、アルキルフ
ェノキシ基などの中から選ぶことができる。 ハロゲン化銀吸着促進基としてはチオ尿素基、チオウレ
タン基、複素環チオアミド基、メルカプト複素環基、ト
リアゾール基などの米国特許第4゜385.108号に
記載された基が挙げられる。 R□ハ置換アルキル基を表わすが、アルキル基としては
、直鎖、分岐、環状のアルキル基を表わし、例えばメチ
ル、エチル、プロピル、ブチル、イングロビル、ペンチ
ル、シクロヘキシル等の基が挙げられる。 これらのアルキル基へ導入される置換基としては、アル
コキシ(例えばメトキシ、エトキシ等)、アリールオキ
シ(例えばフェノキシ、p−クロルフェノキシ等)、ヘ
テロ環オキシ(例えばピリジルオキシ等)、メルカプト
、アルキルチオ(メチルチオ、エチルチオ等)、アリー
ルチオ(例えばフェニルチオ、p−クロルフェニルチオ
等)、ヘテロ環チオ(例えば、ピリジルチオ、ピリミジ
ルチオ、チアジアゾリルチオ等)、アルキルスルホニル
(例えばメタンスルホニル、ブタンスルホニル等)、ア
リールスルホニル(例えばベンゼンスルホニル等)、ヘ
テロ環スルホニル(例えばピリジルスルホニル、モルホ
リノスルホニル等)、アシル(例えばアセチル、ベンゾ
イル等)、シアノ、クロル、臭素、アルコキシカルボニ
ル(例えばエトキシカルボニル、メトキシカルボニル等
)、アリールオキシカルボニル(例えばフェノキシカル
ボニル等)、カルボキシ、カルバモイル、アルキルカル
バモイル(例えば、N−メチルカルバモイル、N、N−
ジメチルカルバモイル等)、アリールカルバモイル(例
えば、N−7エニルカルバモイル等)、アミノ、アルキ
ルアミノ(例えば、メチルアミノ、N、N−ジメチルア
ミノ等)、アリールアミノ(例えば、フェニルアミノ、
ナフチルアミノ等)、アシルアミノ(例えばアセチルア
ミノ、ベンゾイルアミノ等)、アルコキシカルボニルア
ミノ(例えば、エトキシカルボニルアミノ等)、アリー
ルオキシカルボニルアミノ(例えば、フェノキシカルボ
ニルアミノ等)、アシルオキシ(例えば、アセチルオキ
シ、ベンゾイルオキシ等)、アルキルアミ7カルボニル
オキシ(fIえばメチルアミノカルボニルオキシ等)、
アリールアミノカルボニルオキシ(例えば、フェニルア
ミノカルボニルオキシ等)、スルホ、スルファモイル、
アルキルスルファモイル(例えば、メチルスルファモイ
ル等)、アリールスルファモイル(例えば、フェニルス
ルファモイル等)等の各店が挙げられる。 ヒドラジンの水素原子はスルホニル基(例工ばメタンス
ルホニル、トルエンスルホニル等)、アシル基(例えば
、アセチル、トリフルオロアセチル等)、オキザリル基
(例えば、エトキザリル等)等)等の置換基で置換され
ていてもよい。 上記−大穴[3]で表される代表的な化合物としては、
以下に示すものがある。 ■ =12 =23 ※−NIINHCCH!0CH2CII□0CIlxC
HzOH=32 得た。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料に含まれる一般式[
1]、[2]、[3]の化合物の量は、本発明の ハロゲン化銀写真感光材料中に含有されるハロゲン化銀
1モル当り、 810−’ないし5 X tO−鳳モル までか好まし く、 更に好まし く は5 X 10−’ないし 次に化合物3− 5の合成例について述べる。 化合物3− 5の合成 合成スキーム 化合物2−45の合成法に準じて化合物3−を −大計[4] 式中、R41およびR1は各々置換されていてもよいア
ルキル基を表し R41およびR″の少なくとも一方は
スルホアルキル基またはカルボキシアルキル基である。 Zはアルキル基またはアラルキル基を表す。U 、V
、WおよびYは各々水素原子、ノ\ロゲン原子、置換さ
れていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアル
コキシ基、置換されていてもよいアルコキシカルボニル
基、カルボキシル基またはヒドロキシル基を表す。XQ
は酸アニオンを表ず。mは1または2を表し、分子内塩
が形成されるとき、mはlである。 R41およびR1が表すアルキル基の置換基の例として
は、ヒドロキシル基、スルホ基、スルホネート基、スル
ホナト基、カルボキシル基およびその塩、カルボキシラ
ド基、ハロゲン原子(例えば7ツ素原子、塩素原子)、
炭素数1〜4の無置換または置換アルコキシ基(アルコ
キシ基は更にスルホ基やヒドロキシル基で置換されてい
てもよい)、炭素数2〜5のアルコキシカルボニル基、
炭素数1〜4のアルキルスルホニル基、スルファモイル
基、無置換または置換カルバモイル基(炭素数1〜4の
アルキル基で置換された置換カルバモイル基を含む)、
置換フェニル基(置換基の例としては、スルホ基、カル
ボキシル基、ヒドロキシル基等)、ビニル基、等があげ
られる。 無置換アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基があげられる。 置換アルキル基の例としてはヒドロキシアルキル基とし
て2−ヒドロキシエチル基、3−ヒドロキシプロピル基
など、スルホアルキル基として2−スルホエチル基、3
−スルホプロピル基、3−スルホブチル基、4−スルホ
ブチル基、2−ヒドロキシ−3−スルホプロピル基、2
−クロロ−3−スルホプロピル基など、カルボキシルア
ルキル基としてカルボキシルメチル基、カルボキシエチ
ル基、カルボキシルメチル基など、2.2.2−トリフ
ルオロエチル基、2−(3−スルホプロピルオキシ)エ
チル基、2−(2−ヒドロキシエトキシ)エチル基、エ
トキシカルボニルエチル基、メチルスルホニルエチル基
、スル7アモイルアルキル基として2−スルファモイル
エチル基、2−カルバモイルエチル基、2−N。 N−ジメチルカルバモイルエチル基など、フェネチル基
、p−カルボキシフェネチル基、スルホアラルキル基と
してp−スルホ7エネチル基、スルホアラルキル基とし
てp−スルホ7エネチル基など、p・ヒドロキシフェネ
チル基、フェノキシエチル基等が挙げられる。 U 、V 、WおよびYで表されるハロゲン原子として
は例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子等が挙げられ
、アルキル基としては例えばメチル基、エチル基、プロ
ピル基、ブチル基等が挙げられ、アルコキシ基としては
例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキ
シ基等が挙げられ、アルコキシカルボニル基としては例
えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等が
挙げられ、これらの各店はハロゲン原子、スルホ基、ヒ
ドロキシル基、カルボキシル基等で置換されていてもよ
い。 Zで表されるアルキル基としては例えばメチル基、エチ
ル基、プロピル基が挙げられ、アラルキル基としては例
えばベンジル基が挙げられる。 Xθで表される酸アニオンとしては例えば塩化物、臭化
物、沃化物、チオシアネート、スルホネート、メチルス
ルホネート、エチルスルホネート、バークロレート、p
−ト’レニンスルホネート等カある。 本発明に用いる一般式[4]で示される化合物の−大成
[5] Ris ■ 式中、1!+45!およびH2Sは各々置換されていて
もよいアルキル基を表す。U 、V 、WおよびYは各
々水素原子、ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、シ
アノ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アルコキシカ
ルボニル基、ヒドロキシル基、アシルオキシ基、ヒドロ
キシアルキル基、ヒドロキシアルコキシ基またはフェニ
ル基を表す。xeは酸アニオンを表す。nは1または2
を表し、分子内塩が形成されるとき、nはlである。 R5l4S!BよびR11が表すアルキル基は一般式[
4]のR41またはR42で表されるアルキル基と同義
である。 U 、V 、WおよびYが表すアルコキシ基としては例
えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ
基が挙げられ、アルコキシカルボニル基としては例えば
メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等が挙げ
られ、アシルオキシ基としては例えばアセチルオキシ基
、プロ・ピオニルオキシ基が挙げられ、ヒドロキシアル
キル基としては例えばヒドロキシメチル基、ヒドロキシ
エチル基、とドロキシグロピル基、ヒドロキシブチル基
等が挙げられヒドロキシアルコキシ基としては例えばヒ
ドロキシメトキシ基、ヒドロキシエトキシ基、ヒドロキ
シプロポキシ基、ヒドロキシブトキシ基等が挙げられる
。 xeで表される酸アニオンは一般式[4]のXQにおけ
ると同義である。 本発明に用いる一般式[5]で示される化合物の−大成
[6] におけるUないしYにおけるものと同義である。 )(eで表される酸アニオンは一般式〔4〕のXθにお
けると同義である。 本発明に用いる一般式[6]で示される化合物の式中、
R414iz、2szおよびR@1は各々置換されてい
てもよいアルキル基を表す。U 、V 、WおよびYは
各々水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよいア
ルキル基、置換されていてもよいアルコキシ基、置換さ
れていてもよいアルコキシカルボニル基、カルボキシル
基、ヒドロキシル基、シアノ基、または置換されていて
もよいアシルオキシ基を表す。 R61ないしRa&で表されるアルキル基は一般式[4
]の2口またはR目で表されるアルキル基と同義であり
、U、V、WはたはYで表されるハロゲン原子、アルキ
ル基、アルコキシ基およびアルコキシカルボニル基は一
般式[4]のUないしYにおけるものと同義であり、ア
シルオキシ基は一般式[5]本発明の一般式[4]〜
【
6】で表される増感色素は公知のものであり、また公知
の方法によって容易に合成することができ、例えば、F
、M、Ho■es著”The Cyanine Dye
s and Re1ated Compounds“I
nterscience Publishers、
New York (1964)に引用された文献に記
載された方法によって合成することができる。 本発明において使用される上記−大穴[4]〜【61で
示される色素をハロゲン化銀乳剤中に添加分散せしめる
ことは、種々の方法、例えば従来公知の方法によって行
うことができる。例えば、特公昭49−44895号、
特開昭50−11419号の明細書に記載の界面活性剤
と共に分散させて添加する方法、特開昭53−1662
4号、同53−102732号、同53・102733
号、米1m 特wf3,469,987号、同3,67
6.147号ノ明1B書に記載の親水性基質との分散物
として添加する方法、東独特許143,324号の明細
書に記載の固溶体として添加する方法があげられる。そ
の他メロシアニン色素を水溶性溶媒、例えば水、エタノ
ール、メタノール、アセトン、プロパツール、フッ化ア
ルコール、ピリジン等の単狐またはそれらの混合溶媒に
溶解して乳剤中に添加してもよい。添加の時期は乳剤製
造工程中のどの時期でもよいが、化学熟成中あるいは化
学熟成後が好ましい。本発明に用いられる上記−大穴[
4]〜[6]の色素の添加量は、ハロゲン化銀乳剤の分
光増感を行う量、例えばハロゲン化銀1モル当たりlo
−5〜2 X 10−”モル、好ましくは10−’〜2
X 10−”モルである。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料に用いるハロゲン化
銀は任意の組成で用いることができるが好ましくは少な
くとも50モル%の塩化銀を含む塩臭化銀もしくは塩沃
臭化銀である。 ハロゲン化銀粒子の平均粒径は0.05〜0.5μmの
範囲のものが用いられるのが好ましく、0.lO〜0.
40μ重がより好ましい。 本発明に用いるハロゲン化銀乳剤の単分散度Sは粒径の
標準偏差を平均粒径rで割った値を100倍した数値で
表され、本発明に用いるハロゲン化銀粒子の粒径は、便
宜的に立方晶粒子の校長で表表す。その値は好ましくは
5〜25、更に好ましくは8〜20となるよう調製する
。 また、本発明で用い得るハロゲン化銀としては、例えば
少なくとも2層の多層積層構造を有するタイプを用いる
ことができる。例えばコア部に塩化銀、シェル部に臭化
銀、逆にコア部を臭化銀、シェル部を塩化銀である塩臭
化銀粒子であってもよい。 このときヨードは任意の層に5モル%以内で含有させる
ことができる。 本発明に用いるハロゲン化銀乳剤の調製時にはロジウム
塩を添加して感度または階調をコントロールすることも
できる。ロジウム塩の添加は一般には粒子形成時がこの
ましいが、化学熟成時、乳剤塗布液調製時でもよい。 この場合ロジウム塩は単純な塩の他に複塩でも良い。代
表的には、ロジウムクロライド、ロジウムトリクロライ
ド、ロジウムアンモニウムクロライドなどが用いられる
。 ロジウム塩の添加量は、必要とする感度、階調により自
由に変えられるが銀1モルに対して10−”モルから1
0−’モルの範囲が特に有用である。 またロジウム塩を使用するときに、他の無機化合物例え
ばイリジウム塩、白金塩、タリウム塩、コバルト塩、金
塩などを併用してもよい。イリジウム塩はしばしば高照
度特性の付与の目的で、銀1モル当たり1O−8モル−
1O−1モルの範囲まで好ましく用いることができる。 本発明において用いられるハロゲン化銀写真感光材料は
写真感光材料業界で公知の方法を用いる事が出来る。即
ち写真乳剤調製法、増感法、添加剤、親水性コロイド、
バインダー、支持体、処理剤、処理法等である。 本発明の黒白用ハロゲン化銀写真感光材料の像生薬とし
ては次のものがあげられる。 HOf CH= CH−)−+1− OH型現像主薬の
代表的なものとしては、ハイドロキノンがある。 また、HO−(−CI −CH勺NH,型現像剤として
は、オルト及びバラのアミノフェノールまたはアミノピ
ラゾロンが代表的なもので、4−アミノフェノール、2
−アミノ−6−7二二ルフエノール、2−アミノ−4−
クロロ−6−フェニルフェノール、4−アミノ−2−フ
ェニルフェノール、3.4−、;アミノフェノニル、3
−メチル−4,6−ジアミツフエノール、2゜4−シア
ミルゾルシノール、2.4.6− トリアミノフェノー
ル、N−メチル−p−アミノフェノール、N・β−ヒド
ロキシエチル−p−アミンフェノール、p−ヒドロキシ
フェニルアミノ酢酸、2−アミノナラトール等がある。 ペテロ環型現像剤としては、l−フェニル−3・ピラゾ
リドン、l−フェニル−4,4−ジメチル−3−ピラゾ
リドン、1−フェニル−4−メチル−4−ヒドロキシメ
チル−3−ピラゾリドン、1−7エニルー4−メチル−
4−ヒドロキシメチル−3−ピラゾリドン等をあげるこ
とができる。 その他、 T、H,ジェームス著、ザ・セオリイ・オブ
・ザ・ホトグラフィック・プロセス第4版(Tbe T
heory of the Photographic
Process。 Fourth Edition)第291−334頁及
びジャーナル・オブ・ジ・アメリカン・ケミカル・ソサ
エティ(Journal of the Americ
an Chemical 5ociety)第73巻、
第3,100頁(1951)等に記載されているごとき
現像剤が本発明のハロゲン化銀写真感光材料に有効に使
用し得るものである。 これらの現像剤は単独で使用しても2種以上組み合わせ
てもよいが、2種以上を組み合わせて用いる方が好まし
い。また本発明の感光材料の処理に使用する現像液には
保恒剤として、例えば亜硫酸カリ、亜硫酸アンモン等の
亜硫酸塩を用いても、本発明の効果が損なわれることは
なく、本発明の1つの特徴としてあげることができる。 その他−般白黒現像液で用いられるような苛性アルカリ
、炭酸アルカリまたはアミンなどによるpHの調整とバ
ッファー機能をもたせること、及びブロムカリなど無機
現像抑制剤及びベンゾトリアゾールなどの有機現像抑制
剤、エチレンジアミン四酢酸等の金属イオン捕捉剤、メ
タノール、エタノール、ベンジルアルコール、ポリアル
キレンオキシド等の現像促進剤、アルキルアリールスル
ホン酸ナトリウム、天然のサポニン、糖類または前記化
合物のアルキルエステル物等の界面活性剤、グルタルア
ルデヒド、ホルマリン、グリオキザール等の硬膜剤、硫
酸ナトリウム等のイオン強度調整剤等の添加を行うこと
は任意である。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、上記の如き現像
抑制剤を含んだ現像液を用いて現像処理することにより
本発明の目的をより高度に達成することが出来る。 本発明に係る感光材料用黒白現像液のpH値は9〜13
の範囲が適当であるが、保恒性及び写真特性上からはp
H値は10〜12の範囲が好ましい。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、種々の条件で処
理することができる。処理温度は、例えば現像温度は5
0°C以下が好ましく、特に40℃前後が好ましく、ま
た現像時間は3分以内に終了することが一般的であるが
、特に40秒以内の迅速現像において色素汚染の改良効
果が顕著である。現像以外の処理工程、例えば水洗、停
止、安定、定着、更に必要に応じて前硬膜、中和等の工
程を採用することは任意であり、これらは適宜省略する
こともできる。更にまた、これらの処理は皿現像、枠現
像などいわゆる手現像処理でも、ローラー現像、ハンガ
ー現像など機械現像であってもよい。 [実施例] 以下、本発明の実施例を詳細に説明する。なお、当然の
ことではあるが、本発明は以下述べる実施例に限定され
るものではない。 次に示す溶液A、B、およびCを用いて塩臭化銀乳剤を
調製した。 く溶液A〉 オセインゼラチン 179ボリイ
ソプロピレンーポリエチレンオキシジコハク酸エステル
ナトリウム塩 5IIQlO%エタノール溶液蒸留
水 1280ccく溶液B〉 硝酸銀 1709蒸留水
410mgく溶液C〉 塩化ナトリウム 40.99臭化カ
リウム 35.79ポリイソプ
ロピレンオキシジコハク酸工ステルナトリウム塩10%
エタノール溶液 3IIIaオセインゼラチン
119蒸留水
40.7tiQ溶液Aを40°Cに保温した後
EAg値が160mvになる様に塩化ナトリウムを添加
した。 次に特開昭57・92523号と同57・92524号
記載の混合攪拌機を用いて、ダブルジェット法にて溶液
B及び溶液Cを添加した。 B液、C液を添加終了後、乳剤は10分間オストワルド
熟成したのち、常法により脱塩、水洗を行い、その後、
オセインゼラチンの水溶液600m12(オセインゼラ
チン309含有)を加えて、55℃30分間攪拌により
分散した後、750Ilaに調製した。 次にこの乳剤に対して全硫黄増感を施し、安定剤として
6−メチル−4−ヒドロキシ−1,3,3a、7−チト
ラザイン°デンを加えた乳剤を分割し表5に示した様に
本発明に係る一般式[11〜[6]の化合物、または対
比のために下記比較化合物([11−a”c。 [4] −a−d、 [5] −a”c)を単独又は併
用系の態様でそれぞれ2 X 10−’モル/Ag1モ
ル添加した。 次いで各乳剤にドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム
6001119/ Ag 1モル、2.3.5− トリ
フェニルテトラゾリウムクロリド600119/ Ag
1モル、スチレン−マレイン酸共重合体2g/Ag1
モルを加え、ポリエチレンテレフタレートフィルム上に
Ag3.5g/m”、ゼラチン量2.0g/11”にな
る様に塗布した。その際ゼラチン量1.0g/m”にな
る様に延展剤としてl−デシル−2−(3−インペンチ
ル)サクシネート−2−スルホン酸ナトリウムを300
19/ m”、硬膜剤としてホルマリン2511G/諺
8を含む硬膜保護層を重層塗布した。 比較ヒドラジン [11−a [1]−b [1F 比較増感色素 [4] (a) 比較増感色素 [5] (a) (b) (c) (b) (C) (d) 表 得られた試料それぞれ3片をとり、1片には感光針を用
い光学ウェッジを掛けてタングステン光によって階段露
光を与え、他の1片には大日本スクリーン製造(株)社
製コンタクトスクリーンGNNo、 2 (150L
)を用いキセノン光により網掛は露光を行った。また、
残りの1片は露光をかけずに次の地理をした。 上記試料片を下記の処方による現像液及び市販の定着液
とを用いて現像タンク容量4012の自動現像機にて処
理した。 [現像処理条件] (工 程)(@ 度) (時 間)現 像
40℃ 15秒定 着
35℃ 10秒水 洗 3
0℃ 10秒乾 燥 50℃
10秒[現像液組成] (組成A) 純 水
150m12エチレンジアミン四酢酸二ナト
リウム塩 2g亜硫酸カリウム(55%水溶液) 炭酸カリウム ハイドロキノン 5−メチルベンゾトリアゾール l−フェニル−5−メルカプトテトラゾール10mff 臭化カリウム (組成り) 3−ジエチルアミノ−1,2−プロパンジオールg ジエチレングリコール 209純水
3II112エチレンジアミン四
酢酸ニナトリウム塩 25my酢酸(90%溶液)
0.3mQ5−二トロインダゾー
ル 1101191−フェニル−3−ピ
ラゾリドン 500119現像液の使用時に
純水500mff中に上記組成A。 組成りの順に溶かし、H2に仕上げて用いた。 現像済試料でウェッジ露光をかけたものについては写真
特性曲線を書き光学濃度2.5のところの感度を試料N
o、lを基準で相対値を算出し、ガンマは光学濃度1.
0から2.5までの直線部のtane値を示した。 キセノン光を用い、印刷製版用カメラで網撮影を行った
ものについては、形成された網の品質(ドツト品質)を
評価した。 ドツト品質は網点部面積とクリア部面積が等しいいわゆ
る50%ドツトについては網点の周辺に生ずるフリンジ
(ボケ)の状態を目視判定しフリンジの小なるものを5
とした5段階表示で評価した。 即ち“5″は優れていることであり、“l”は極めて悪
いことである。50%ドツト品質が“3”を下回る場合
、一般にこれを許容することができない。 また、露光をかけずに処理をした試料については4枚重
ねをし、フィルムの残色を目視評価し5段階評価を行い
、“5″は無色、“1”は強い橙色系の残色を示した。 一般製版用として3”を下回る残色は大きな欠点とされ
るレベルである。 表 5 表5に示した様に、本発明による一般式[11で示され
る化合物を含有し、且つ一般式[4]〜[6]で示され
た化合物のうちの少なくとも1つを含有した試料は、相
対感度が高く、ガンマもI6〜20と極めて硬調であり
、ドツト品質ランク、残色ランクともに比較試料に比べ
すぐれた値を示すことから、本発明により、青色、緑色
および赤色の全域感光度、ならびに亜硫酸イオン濃度の
比較的高い現像液による比較的迅速な現像がなされた場
合のガンマおよび色素汚染が改良されることが分かる。 [発明の効果] 本発明のハロゲン化銀写真感光材料は青色、緑色および
赤色の全域感光度が高く、亜硫酸イオン濃度の高い通常
の現像液を用いた迅速な現像処理によって極めて高いコ
ントラストが得られ、且つ処理後の色素汚染が極めて少
ないという効果を有する。
6】で表される増感色素は公知のものであり、また公知
の方法によって容易に合成することができ、例えば、F
、M、Ho■es著”The Cyanine Dye
s and Re1ated Compounds“I
nterscience Publishers、
New York (1964)に引用された文献に記
載された方法によって合成することができる。 本発明において使用される上記−大穴[4]〜【61で
示される色素をハロゲン化銀乳剤中に添加分散せしめる
ことは、種々の方法、例えば従来公知の方法によって行
うことができる。例えば、特公昭49−44895号、
特開昭50−11419号の明細書に記載の界面活性剤
と共に分散させて添加する方法、特開昭53−1662
4号、同53−102732号、同53・102733
号、米1m 特wf3,469,987号、同3,67
6.147号ノ明1B書に記載の親水性基質との分散物
として添加する方法、東独特許143,324号の明細
書に記載の固溶体として添加する方法があげられる。そ
の他メロシアニン色素を水溶性溶媒、例えば水、エタノ
ール、メタノール、アセトン、プロパツール、フッ化ア
ルコール、ピリジン等の単狐またはそれらの混合溶媒に
溶解して乳剤中に添加してもよい。添加の時期は乳剤製
造工程中のどの時期でもよいが、化学熟成中あるいは化
学熟成後が好ましい。本発明に用いられる上記−大穴[
4]〜[6]の色素の添加量は、ハロゲン化銀乳剤の分
光増感を行う量、例えばハロゲン化銀1モル当たりlo
−5〜2 X 10−”モル、好ましくは10−’〜2
X 10−”モルである。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料に用いるハロゲン化
銀は任意の組成で用いることができるが好ましくは少な
くとも50モル%の塩化銀を含む塩臭化銀もしくは塩沃
臭化銀である。 ハロゲン化銀粒子の平均粒径は0.05〜0.5μmの
範囲のものが用いられるのが好ましく、0.lO〜0.
40μ重がより好ましい。 本発明に用いるハロゲン化銀乳剤の単分散度Sは粒径の
標準偏差を平均粒径rで割った値を100倍した数値で
表され、本発明に用いるハロゲン化銀粒子の粒径は、便
宜的に立方晶粒子の校長で表表す。その値は好ましくは
5〜25、更に好ましくは8〜20となるよう調製する
。 また、本発明で用い得るハロゲン化銀としては、例えば
少なくとも2層の多層積層構造を有するタイプを用いる
ことができる。例えばコア部に塩化銀、シェル部に臭化
銀、逆にコア部を臭化銀、シェル部を塩化銀である塩臭
化銀粒子であってもよい。 このときヨードは任意の層に5モル%以内で含有させる
ことができる。 本発明に用いるハロゲン化銀乳剤の調製時にはロジウム
塩を添加して感度または階調をコントロールすることも
できる。ロジウム塩の添加は一般には粒子形成時がこの
ましいが、化学熟成時、乳剤塗布液調製時でもよい。 この場合ロジウム塩は単純な塩の他に複塩でも良い。代
表的には、ロジウムクロライド、ロジウムトリクロライ
ド、ロジウムアンモニウムクロライドなどが用いられる
。 ロジウム塩の添加量は、必要とする感度、階調により自
由に変えられるが銀1モルに対して10−”モルから1
0−’モルの範囲が特に有用である。 またロジウム塩を使用するときに、他の無機化合物例え
ばイリジウム塩、白金塩、タリウム塩、コバルト塩、金
塩などを併用してもよい。イリジウム塩はしばしば高照
度特性の付与の目的で、銀1モル当たり1O−8モル−
1O−1モルの範囲まで好ましく用いることができる。 本発明において用いられるハロゲン化銀写真感光材料は
写真感光材料業界で公知の方法を用いる事が出来る。即
ち写真乳剤調製法、増感法、添加剤、親水性コロイド、
バインダー、支持体、処理剤、処理法等である。 本発明の黒白用ハロゲン化銀写真感光材料の像生薬とし
ては次のものがあげられる。 HOf CH= CH−)−+1− OH型現像主薬の
代表的なものとしては、ハイドロキノンがある。 また、HO−(−CI −CH勺NH,型現像剤として
は、オルト及びバラのアミノフェノールまたはアミノピ
ラゾロンが代表的なもので、4−アミノフェノール、2
−アミノ−6−7二二ルフエノール、2−アミノ−4−
クロロ−6−フェニルフェノール、4−アミノ−2−フ
ェニルフェノール、3.4−、;アミノフェノニル、3
−メチル−4,6−ジアミツフエノール、2゜4−シア
ミルゾルシノール、2.4.6− トリアミノフェノー
ル、N−メチル−p−アミノフェノール、N・β−ヒド
ロキシエチル−p−アミンフェノール、p−ヒドロキシ
フェニルアミノ酢酸、2−アミノナラトール等がある。 ペテロ環型現像剤としては、l−フェニル−3・ピラゾ
リドン、l−フェニル−4,4−ジメチル−3−ピラゾ
リドン、1−フェニル−4−メチル−4−ヒドロキシメ
チル−3−ピラゾリドン、1−7エニルー4−メチル−
4−ヒドロキシメチル−3−ピラゾリドン等をあげるこ
とができる。 その他、 T、H,ジェームス著、ザ・セオリイ・オブ
・ザ・ホトグラフィック・プロセス第4版(Tbe T
heory of the Photographic
Process。 Fourth Edition)第291−334頁及
びジャーナル・オブ・ジ・アメリカン・ケミカル・ソサ
エティ(Journal of the Americ
an Chemical 5ociety)第73巻、
第3,100頁(1951)等に記載されているごとき
現像剤が本発明のハロゲン化銀写真感光材料に有効に使
用し得るものである。 これらの現像剤は単独で使用しても2種以上組み合わせ
てもよいが、2種以上を組み合わせて用いる方が好まし
い。また本発明の感光材料の処理に使用する現像液には
保恒剤として、例えば亜硫酸カリ、亜硫酸アンモン等の
亜硫酸塩を用いても、本発明の効果が損なわれることは
なく、本発明の1つの特徴としてあげることができる。 その他−般白黒現像液で用いられるような苛性アルカリ
、炭酸アルカリまたはアミンなどによるpHの調整とバ
ッファー機能をもたせること、及びブロムカリなど無機
現像抑制剤及びベンゾトリアゾールなどの有機現像抑制
剤、エチレンジアミン四酢酸等の金属イオン捕捉剤、メ
タノール、エタノール、ベンジルアルコール、ポリアル
キレンオキシド等の現像促進剤、アルキルアリールスル
ホン酸ナトリウム、天然のサポニン、糖類または前記化
合物のアルキルエステル物等の界面活性剤、グルタルア
ルデヒド、ホルマリン、グリオキザール等の硬膜剤、硫
酸ナトリウム等のイオン強度調整剤等の添加を行うこと
は任意である。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、上記の如き現像
抑制剤を含んだ現像液を用いて現像処理することにより
本発明の目的をより高度に達成することが出来る。 本発明に係る感光材料用黒白現像液のpH値は9〜13
の範囲が適当であるが、保恒性及び写真特性上からはp
H値は10〜12の範囲が好ましい。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、種々の条件で処
理することができる。処理温度は、例えば現像温度は5
0°C以下が好ましく、特に40℃前後が好ましく、ま
た現像時間は3分以内に終了することが一般的であるが
、特に40秒以内の迅速現像において色素汚染の改良効
果が顕著である。現像以外の処理工程、例えば水洗、停
止、安定、定着、更に必要に応じて前硬膜、中和等の工
程を採用することは任意であり、これらは適宜省略する
こともできる。更にまた、これらの処理は皿現像、枠現
像などいわゆる手現像処理でも、ローラー現像、ハンガ
ー現像など機械現像であってもよい。 [実施例] 以下、本発明の実施例を詳細に説明する。なお、当然の
ことではあるが、本発明は以下述べる実施例に限定され
るものではない。 次に示す溶液A、B、およびCを用いて塩臭化銀乳剤を
調製した。 く溶液A〉 オセインゼラチン 179ボリイ
ソプロピレンーポリエチレンオキシジコハク酸エステル
ナトリウム塩 5IIQlO%エタノール溶液蒸留
水 1280ccく溶液B〉 硝酸銀 1709蒸留水
410mgく溶液C〉 塩化ナトリウム 40.99臭化カ
リウム 35.79ポリイソプ
ロピレンオキシジコハク酸工ステルナトリウム塩10%
エタノール溶液 3IIIaオセインゼラチン
119蒸留水
40.7tiQ溶液Aを40°Cに保温した後
EAg値が160mvになる様に塩化ナトリウムを添加
した。 次に特開昭57・92523号と同57・92524号
記載の混合攪拌機を用いて、ダブルジェット法にて溶液
B及び溶液Cを添加した。 B液、C液を添加終了後、乳剤は10分間オストワルド
熟成したのち、常法により脱塩、水洗を行い、その後、
オセインゼラチンの水溶液600m12(オセインゼラ
チン309含有)を加えて、55℃30分間攪拌により
分散した後、750Ilaに調製した。 次にこの乳剤に対して全硫黄増感を施し、安定剤として
6−メチル−4−ヒドロキシ−1,3,3a、7−チト
ラザイン°デンを加えた乳剤を分割し表5に示した様に
本発明に係る一般式[11〜[6]の化合物、または対
比のために下記比較化合物([11−a”c。 [4] −a−d、 [5] −a”c)を単独又は併
用系の態様でそれぞれ2 X 10−’モル/Ag1モ
ル添加した。 次いで各乳剤にドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム
6001119/ Ag 1モル、2.3.5− トリ
フェニルテトラゾリウムクロリド600119/ Ag
1モル、スチレン−マレイン酸共重合体2g/Ag1
モルを加え、ポリエチレンテレフタレートフィルム上に
Ag3.5g/m”、ゼラチン量2.0g/11”にな
る様に塗布した。その際ゼラチン量1.0g/m”にな
る様に延展剤としてl−デシル−2−(3−インペンチ
ル)サクシネート−2−スルホン酸ナトリウムを300
19/ m”、硬膜剤としてホルマリン2511G/諺
8を含む硬膜保護層を重層塗布した。 比較ヒドラジン [11−a [1]−b [1F 比較増感色素 [4] (a) 比較増感色素 [5] (a) (b) (c) (b) (C) (d) 表 得られた試料それぞれ3片をとり、1片には感光針を用
い光学ウェッジを掛けてタングステン光によって階段露
光を与え、他の1片には大日本スクリーン製造(株)社
製コンタクトスクリーンGNNo、 2 (150L
)を用いキセノン光により網掛は露光を行った。また、
残りの1片は露光をかけずに次の地理をした。 上記試料片を下記の処方による現像液及び市販の定着液
とを用いて現像タンク容量4012の自動現像機にて処
理した。 [現像処理条件] (工 程)(@ 度) (時 間)現 像
40℃ 15秒定 着
35℃ 10秒水 洗 3
0℃ 10秒乾 燥 50℃
10秒[現像液組成] (組成A) 純 水
150m12エチレンジアミン四酢酸二ナト
リウム塩 2g亜硫酸カリウム(55%水溶液) 炭酸カリウム ハイドロキノン 5−メチルベンゾトリアゾール l−フェニル−5−メルカプトテトラゾール10mff 臭化カリウム (組成り) 3−ジエチルアミノ−1,2−プロパンジオールg ジエチレングリコール 209純水
3II112エチレンジアミン四
酢酸ニナトリウム塩 25my酢酸(90%溶液)
0.3mQ5−二トロインダゾー
ル 1101191−フェニル−3−ピ
ラゾリドン 500119現像液の使用時に
純水500mff中に上記組成A。 組成りの順に溶かし、H2に仕上げて用いた。 現像済試料でウェッジ露光をかけたものについては写真
特性曲線を書き光学濃度2.5のところの感度を試料N
o、lを基準で相対値を算出し、ガンマは光学濃度1.
0から2.5までの直線部のtane値を示した。 キセノン光を用い、印刷製版用カメラで網撮影を行った
ものについては、形成された網の品質(ドツト品質)を
評価した。 ドツト品質は網点部面積とクリア部面積が等しいいわゆ
る50%ドツトについては網点の周辺に生ずるフリンジ
(ボケ)の状態を目視判定しフリンジの小なるものを5
とした5段階表示で評価した。 即ち“5″は優れていることであり、“l”は極めて悪
いことである。50%ドツト品質が“3”を下回る場合
、一般にこれを許容することができない。 また、露光をかけずに処理をした試料については4枚重
ねをし、フィルムの残色を目視評価し5段階評価を行い
、“5″は無色、“1”は強い橙色系の残色を示した。 一般製版用として3”を下回る残色は大きな欠点とされ
るレベルである。 表 5 表5に示した様に、本発明による一般式[11で示され
る化合物を含有し、且つ一般式[4]〜[6]で示され
た化合物のうちの少なくとも1つを含有した試料は、相
対感度が高く、ガンマもI6〜20と極めて硬調であり
、ドツト品質ランク、残色ランクともに比較試料に比べ
すぐれた値を示すことから、本発明により、青色、緑色
および赤色の全域感光度、ならびに亜硫酸イオン濃度の
比較的高い現像液による比較的迅速な現像がなされた場
合のガンマおよび色素汚染が改良されることが分かる。 [発明の効果] 本発明のハロゲン化銀写真感光材料は青色、緑色および
赤色の全域感光度が高く、亜硫酸イオン濃度の高い通常
の現像液を用いた迅速な現像処理によって極めて高いコ
ントラストが得られ、且つ処理後の色素汚染が極めて少
ないという効果を有する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 支持体と該支持体上に塗設された少なくとも1層のハロ
ゲン化銀乳剤層を含む親水性コロイド層を有するハロゲ
ン化銀写真感光材料において、上記ハロゲン化銀乳剤層
の少なくとも1層が下記一般式[1]、[2]、[3]
で示される化合物の少なくとも1種と下記一般式[4]
、[5]ないし[6]で示される化合物の少なくとも1
種とを含有することを特徴とするハロゲン化銀写真感光
材料。 一般式[1] ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_1及びR_2はアリール基またはヘテロ環
基を表し、Rは有機結合基を表し、nは0〜6、mは0
または1を表し、nが2以上のときは、各Rは同じであ
っても、異なっていてもよい。)一般式[2] ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_2_1は脂肪族基、芳香族基またはヘテロ
環基を、R_2_2は水素原子、置換してもよいアルコ
キシ基、ヘテロ環オキシ基、アミノ基、もしくはアリー
ルオキシ基を表し、P_1及びP_2は水素原子、アシ
ル基、またはスルフィン酸基を表す。) 一般式[3] ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Arは耐拡散基またはハロゲン化銀吸着促進基
を少なくとも1つ含むアリール基を表し、R_3_1は
置換アルキル基を表す。) 一般式[4] ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R^4^1およびR^4^2は各々置換されて
いてもよいアルキル基を表し、R^4^1およびR^4
^2の少なくとも一方はスルホアルキル基またはカルボ
キシアルキル基である。Zはアルキル基またはアラルキ
ル基を表す。U、V、WおよびYは各々水素原子、ハロ
ゲン原子、置換されていてもよいアルキル基、置換され
ていてもよいアルコキシカルボニル基、カルボキシル基
またはヒドロキシル基を表す。X^■は酸アニオンを表
す。mは1または2を表し、分子内塩が形成されるとき
、mは1である。] 一般式[5]▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R^5^1、R^5^2およびR^5^3は各
々置換されていてもよいアルキル基を表す。U、V、W
およびYは各々水素原子、ハロゲン原子、トリフルオロ
メチル基、シアノ基、カルボキシル基、アルコキシ基、
アルコキシカルボニル基、ヒドロキシル基、アシルオキ
シ基、ヒドロキシアルキル基、ヒドロキシアルコキシ基
またはフェニル基を表す。X^■は酸アニオンを表す。 nは1または2を表し、分子内塩が形成されるとき、n
は1である。] 一般式[6] ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R^6^1、R^6^2、R^6^3およびR
^6^4は各々置換されていてもよいアルキル基を表す
。U、V、WおよびYは各々水素原子、ハロゲン原子、
置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよ
いアルコキシ基、置換されていてもよいアルコキシカル
ボニル基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、シアノ基
または置換されていてもよいアシルオキシ基を表す。X
^■は酸アニオンを表す。lは1または2を表し、分子
内塩が形成されるとき、lは1である。]
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP357988A JPH0240A (ja) | 1987-10-15 | 1988-01-11 | 高コントラストハロゲン化銀写真感光材料 |
US07/287,438 US4988603A (en) | 1988-01-11 | 1988-12-21 | Method for the formation of high-contrast images using a developer comprising a hydrazine derivative |
EP19890100221 EP0324391A3 (en) | 1988-01-11 | 1989-01-07 | Method for the formation of high-contrast images |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26123087 | 1987-10-15 | ||
JP62-261230 | 1987-10-15 | ||
JP357988A JPH0240A (ja) | 1987-10-15 | 1988-01-11 | 高コントラストハロゲン化銀写真感光材料 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0240A true JPH0240A (ja) | 1990-01-05 |
Family
ID=26337205
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP357988A Pending JPH0240A (ja) | 1987-10-15 | 1988-01-11 | 高コントラストハロゲン化銀写真感光材料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0240A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN100458296C (zh) * | 2005-03-11 | 2009-02-04 | 三洋电机株式会社 | 空调装置及其控制方法、温度设定装置及其控制方法 |
US20100171546A1 (en) * | 2007-06-22 | 2010-07-08 | The Hong Kong University Of Science And Technology | Polycrystalline silicon thin film transistors with bridged-grain structures |
US9059000B2 (en) | 2004-05-11 | 2015-06-16 | International Business Machines Corporation | Methods and structures for protecting one area while processing another area on a chip |
-
1988
- 1988-01-11 JP JP357988A patent/JPH0240A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9059000B2 (en) | 2004-05-11 | 2015-06-16 | International Business Machines Corporation | Methods and structures for protecting one area while processing another area on a chip |
CN100458296C (zh) * | 2005-03-11 | 2009-02-04 | 三洋电机株式会社 | 空调装置及其控制方法、温度设定装置及其控制方法 |
US20100171546A1 (en) * | 2007-06-22 | 2010-07-08 | The Hong Kong University Of Science And Technology | Polycrystalline silicon thin film transistors with bridged-grain structures |
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