JPH0218549A - 高コントラストな画像形成方法 - Google Patents
高コントラストな画像形成方法Info
- Publication number
- JPH0218549A JPH0218549A JP16956988A JP16956988A JPH0218549A JP H0218549 A JPH0218549 A JP H0218549A JP 16956988 A JP16956988 A JP 16956988A JP 16956988 A JP16956988 A JP 16956988A JP H0218549 A JPH0218549 A JP H0218549A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- denotes
- formula
- general formula
- alkyl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 43
- -1 sodium sulfite) Chemical compound 0.000 claims abstract description 123
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 34
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 28
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 claims abstract description 27
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 27
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims abstract description 20
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 16
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 7
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims abstract description 5
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 claims abstract description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 53
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 39
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 39
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 18
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 15
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 9
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 7
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 5
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 4
- 125000005415 substituted alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 claims description 4
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000001820 oxy group Chemical group [*:1]O[*:2] 0.000 claims description 3
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L sulfite Chemical class [O-]S([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000002837 carbocyclic group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000000626 sulfinic acid group Chemical group 0.000 claims description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims 1
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 12
- GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L sodium sulfite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])=O GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L 0.000 abstract description 6
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 abstract description 4
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 abstract description 3
- 235000010265 sodium sulphite Nutrition 0.000 abstract description 3
- LQGKDMHENBFVRC-UHFFFAOYSA-N 5-aminopentan-1-ol Chemical compound NCCCCCO LQGKDMHENBFVRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 abstract 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 24
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 23
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 17
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 12
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 11
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 10
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 7
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 7
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 7
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 6
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical group C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 5
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 5
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 5
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 5
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 4
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 4
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- LEQAOMBKQFMDFZ-UHFFFAOYSA-N glyoxal Chemical compound O=CC=O LEQAOMBKQFMDFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 4
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 4
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 description 4
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N Sulfurous acid Chemical compound OS(O)=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 3
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000002619 bicyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 3
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N hydrazine Substances NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 3
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 3
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 3
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 3
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 3
- ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M silver bromide Chemical compound [Ag]Br ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- ZUNKMNLKJXRCDM-UHFFFAOYSA-N silver bromoiodide Chemical compound [Ag].IBr ZUNKMNLKJXRCDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 description 3
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea group Chemical group NC(=S)N UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LUMLZKVIXLWTCI-NSCUHMNNSA-N (e)-2,3-dichloro-4-oxobut-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C(\Cl)=C(/Cl)C=O LUMLZKVIXLWTCI-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 2
- LUBJCRLGQSPQNN-UHFFFAOYSA-N 1-Phenylurea Chemical compound NC(=O)NC1=CC=CC=C1 LUBJCRLGQSPQNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RAVIQFQJZMTUBX-AWEZNQCLSA-N 1-[(3S)-3-[4-(aminomethyl)-6-(trifluoromethyl)pyridin-2-yl]oxypiperidin-1-yl]-2-(3,4-dichlorophenyl)ethanone Chemical compound NCC1=CC(=NC(=C1)C(F)(F)F)O[C@@H]1CN(CCC1)C(CC1=CC(=C(C=C1)Cl)Cl)=O RAVIQFQJZMTUBX-AWEZNQCLSA-N 0.000 description 2
- JKFYKCYQEWQPTM-UHFFFAOYSA-N 2-azaniumyl-2-(4-fluorophenyl)acetate Chemical compound OC(=O)C(N)C1=CC=C(F)C=C1 JKFYKCYQEWQPTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- REFDOIWRJDGBHY-UHFFFAOYSA-N 2-bromobenzene-1,4-diol Chemical compound OC1=CC=C(O)C(Br)=C1 REFDOIWRJDGBHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000590 4-methylphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- LRUDIIUSNGCQKF-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-1H-benzotriazole Chemical compound C1=C(C)C=CC2=NNN=C21 LRUDIIUSNGCQKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 2
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N Methylamine Chemical compound NC BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021607 Silver chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910021612 Silver iodide Inorganic materials 0.000 description 2
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SJOOOZPMQAWAOP-UHFFFAOYSA-N [Ag].BrCl Chemical compound [Ag].BrCl SJOOOZPMQAWAOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 2
- 125000004442 acylamino group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005037 alkyl phenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 2
- XOPOEBVTQYAOSV-UHFFFAOYSA-N butyl 3,4,5-trihydroxybenzoate Chemical compound CCCCOC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 XOPOEBVTQYAOSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 2
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 2
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 2
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 2
- 229940015043 glyoxal Drugs 0.000 description 2
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 125000004170 methylsulfonyl group Chemical group [H]C([H])([H])S(*)(=O)=O 0.000 description 2
- ZAKLKBFCSHJIRI-UHFFFAOYSA-N mucochloric acid Natural products OC1OC(=O)C(Cl)=C1Cl ZAKLKBFCSHJIRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004957 naphthylene group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 2
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M potassium bromide Chemical compound [K+].[Br-] IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001397 quillaja saponaria molina bark Substances 0.000 description 2
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 2
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930182490 saponin Natural products 0.000 description 2
- 150000007949 saponins Chemical class 0.000 description 2
- 239000003352 sequestering agent Substances 0.000 description 2
- 229940045105 silver iodide Drugs 0.000 description 2
- HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M silver monochloride Chemical compound [Cl-].[Ag+] HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M sodium bromide Chemical compound [Na+].[Br-] JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 2
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 2
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 2
- 125000001391 thioamide group Chemical group 0.000 description 2
- CNHDIAIOKMXOLK-UHFFFAOYSA-N toluquinol Chemical compound CC1=CC(O)=CC=C1O CNHDIAIOKMXOLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 2
- 150000003852 triazoles Chemical group 0.000 description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 2
- QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M (4z)-1-(3-methylbutyl)-4-[[1-(3-methylbutyl)quinolin-1-ium-4-yl]methylidene]quinoline;iodide Chemical compound [I-].C12=CC=CC=C2N(CCC(C)C)C=CC1=CC1=CC=[N+](CCC(C)C)C2=CC=CC=C12 QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 1,3-dihydrobenzimidazole-2-thione Chemical compound C1=CC=C2NC(S)=NC2=C1 YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLVACWCCJCZITJ-UHFFFAOYSA-N 1,4-dioxane-2,3-diol Chemical compound OC1OCCOC1O YLVACWCCJCZITJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SIQZJFKTROUNPI-UHFFFAOYSA-N 1-(hydroxymethyl)-5,5-dimethylhydantoin Chemical compound CC1(C)N(CO)C(=O)NC1=O SIQZJFKTROUNPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBCKMJVEAUXWJJ-UHFFFAOYSA-N 2,3-dichlorobenzene-1,4-diol Chemical compound OC1=CC=C(O)C(Cl)=C1Cl DBCKMJVEAUXWJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOZKAJLKRJDJLL-UHFFFAOYSA-N 2,4-diaminotoluene Chemical compound CC1=CC=C(N)C=C1N VOZKAJLKRJDJLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDKLKNJTMLIAFE-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1,3-oxazole-4-carbaldehyde Chemical compound FC1=CC=CC(C=2OC=C(C=O)N=2)=C1 BDKLKNJTMLIAFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDAWCLOXVUBKRW-UHFFFAOYSA-N 2-aminophenol Chemical compound NC1=CC=CC=C1O CDAWCLOXVUBKRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001340 2-chloroethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001731 2-cyanoethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C([H])([H])C#N 0.000 description 1
- MECNWXGGNCJFQJ-UHFFFAOYSA-N 3-piperidin-1-ylpropane-1,2-diol Chemical compound OCC(O)CN1CCCCC1 MECNWXGGNCJFQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004172 4-methoxyphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(OC([H])([H])[H])=C([H])C([H])=C1* 0.000 description 1
- JXRGUPLJCCDGKG-UHFFFAOYSA-N 4-nitrobenzenesulfonyl chloride Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=C(S(Cl)(=O)=O)C=C1 JXRGUPLJCCDGKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMVPXBDOWDXXEN-UHFFFAOYSA-N 4-nitrophenylhydrazine Chemical compound NNC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 KMVPXBDOWDXXEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZBQVZFITSVHAW-UHFFFAOYSA-N 5-chloro-2h-benzotriazole Chemical compound C1=C(Cl)C=CC2=NNN=C21 PZBQVZFITSVHAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WLJUQHJNPIQOMP-UHFFFAOYSA-N C(#N)BrCl Chemical compound C(#N)BrCl WLJUQHJNPIQOMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOTSJBCDFDIAHX-UHFFFAOYSA-N ClBr.[Ag].[Ag] Chemical compound ClBr.[Ag].[Ag] WOTSJBCDFDIAHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQUCIEFHOVEZAU-UHFFFAOYSA-N Diammonium sulfite Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S([O-])=O PQUCIEFHOVEZAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZGTMUACCHSMWAC-UHFFFAOYSA-L EDTA disodium salt (anhydrous) Chemical compound [Na+].[Na+].OC(=O)CN(CC([O-])=O)CCN(CC(O)=O)CC([O-])=O ZGTMUACCHSMWAC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- RYECOJGRJDOGPP-UHFFFAOYSA-N Ethylurea Chemical compound CCNC(N)=O RYECOJGRJDOGPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXRSQZLOMIGNAQ-UHFFFAOYSA-N Glutaraldehyde Chemical compound O=CCCCC=O SXRSQZLOMIGNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003803 Gold(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GMEHFXXZSWDEDB-UHFFFAOYSA-N N-ethylthiourea Chemical compound CCNC(N)=S GMEHFXXZSWDEDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FULZLIGZKMKICU-UHFFFAOYSA-N N-phenylthiourea Chemical compound NC(=S)NC1=CC=CC=C1 FULZLIGZKMKICU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- SJUCACGNNJFHLB-UHFFFAOYSA-N O=C1N[ClH](=O)NC2=C1NC(=O)N2 Chemical class O=C1N[ClH](=O)NC2=C1NC(=O)N2 SJUCACGNNJFHLB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- DWAQJAXMDSEUJJ-UHFFFAOYSA-M Sodium bisulfite Chemical compound [Na+].OS([O-])=O DWAQJAXMDSEUJJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical group C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N [(2s,3r,4s,5r,6r)-2-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-dinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-trinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-3-yl]oxy-3,5-dinitrooxy-6-(nitrooxymethyl)oxan-4-yl] nitrate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O1)O[N+]([O-])=O)CO[N+](=O)[O-])[C@@H]1[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O[C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N 0.000 description 1
- XCFIVNQHHFZRNR-UHFFFAOYSA-N [Ag].Cl[IH]Br Chemical compound [Ag].Cl[IH]Br XCFIVNQHHFZRNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 125000000738 acetamido group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)N([H])[*] 0.000 description 1
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004466 alkoxycarbonylamino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005250 alkyl acrylate group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003973 alkyl amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000005195 alkyl amino carbonyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005115 alkyl carbamoyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005153 alkyl sulfamoyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004390 alkyl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 1
- DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H aluminium sulfate (anhydrous) Chemical compound [Al+3].[Al+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 229960004050 aminobenzoic acid Drugs 0.000 description 1
- 125000004397 aminosulfonyl group Chemical group NS(=O)(=O)* 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- XYXNTHIYBIDHGM-UHFFFAOYSA-N ammonium thiosulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S([O-])(=O)=S XYXNTHIYBIDHGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001769 aryl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005116 aryl carbamoyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005162 aryl oxy carbonyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005161 aryl oxy carbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004391 aryl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005110 aryl thio group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 1
- QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N barium oxide Chemical compound [Ba]=O QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001864 baryta Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003785 benzimidazolyl group Chemical group N1=C(NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical group C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 239000000872 buffer Substances 0.000 description 1
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 125000001951 carbamoylamino group Chemical group C(N)(=O)N* 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- AJPXTSMULZANCB-UHFFFAOYSA-N chlorohydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C(Cl)=C1 AJPXTSMULZANCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYACBZDAHNBPPB-UHFFFAOYSA-N diethyl oxalate Chemical compound CCOC(=O)C(=O)OCC WYACBZDAHNBPPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002012 dioxanes Chemical class 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 230000001804 emulsifying effect Effects 0.000 description 1
- CCIVGXIOQKPBKL-UHFFFAOYSA-M ethanesulfonate Chemical compound CCS([O-])(=O)=O CCIVGXIOQKPBKL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000003754 ethoxycarbonyl group Chemical group C(=O)(OCC)* 0.000 description 1
- 125000006627 ethoxycarbonylamino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004705 ethylthio group Chemical group C(C)S* 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 150000002344 gold compounds Chemical class 0.000 description 1
- RJHLTVSLYWWTEF-UHFFFAOYSA-K gold trichloride Chemical compound Cl[Au](Cl)Cl RJHLTVSLYWWTEF-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229940076131 gold trichloride Drugs 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000717 hydrazino group Chemical group [H]N([*])N([H])[H] 0.000 description 1
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N hydroquinone methyl ether Natural products COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 239000006224 matting agent Substances 0.000 description 1
- DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M merocyanine Chemical compound [Na+].O=C1N(CCCC)C(=O)N(CCCC)C(=O)C1=C\C=C\C=C/1N(CCCS([O-])(=O)=O)C2=CC=CC=C2O\1 DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- 125000001434 methanylylidene group Chemical group [H]C#[*] 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005447 octyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 125000003452 oxalyl group Chemical group *C(=O)C(*)=O 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1CO1 RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUBQYFYWUJJAAK-UHFFFAOYSA-N oxymethurea Chemical compound OCNC(=O)NCO QUBQYFYWUJJAAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229950005308 oxymethurea Drugs 0.000 description 1
- PLIKAWJENQZMHA-UHFFFAOYSA-N p-hydroxyphenylamine Natural products NC1=CC=C(O)C=C1 PLIKAWJENQZMHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- 125000003170 phenylsulfonyl group Chemical group C1(=CC=CC=C1)S(=O)(=O)* 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- RWPGFSMJFRPDDP-UHFFFAOYSA-L potassium metabisulfite Chemical compound [K+].[K+].[O-]S(=O)S([O-])(=O)=O RWPGFSMJFRPDDP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229940043349 potassium metabisulfite Drugs 0.000 description 1
- 235000010263 potassium metabisulphite Nutrition 0.000 description 1
- BHZRJJOHZFYXTO-UHFFFAOYSA-L potassium sulfite Chemical compound [K+].[K+].[O-]S([O-])=O BHZRJJOHZFYXTO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000019252 potassium sulphite Nutrition 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 125000003226 pyrazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005554 pyridyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005030 pyridylthio group Chemical group N1=C(C=CC=C1)S* 0.000 description 1
- 125000000714 pyrimidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003856 quaternary ammonium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000002943 quinolinyl group Chemical group N1=C(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 125000005493 quinolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 235000017281 sodium acetate Nutrition 0.000 description 1
- 229940087562 sodium acetate trihydrate Drugs 0.000 description 1
- NLJMYIDDQXHKNR-UHFFFAOYSA-K sodium citrate Chemical compound O.O.[Na+].[Na+].[Na+].[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O NLJMYIDDQXHKNR-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229960000999 sodium citrate dihydrate Drugs 0.000 description 1
- 235000010267 sodium hydrogen sulphite Nutrition 0.000 description 1
- UOULCEYHQNCFFH-UHFFFAOYSA-M sodium;hydroxymethanesulfonate Chemical compound [Na+].OCS([O-])(=O)=O UOULCEYHQNCFFH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000565 sulfonamide group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006296 sulfonyl amino group Chemical group [H]N(*)S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 150000003464 sulfur compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical class [H]S* 0.000 description 1
- 125000005147 toluenesulfonyl group Chemical group C=1(C(=CC=CC1)S(=O)(=O)*)C 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004044 trifluoroacetyl group Chemical group FC(C(=O)*)(F)F 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N urea group Chemical group NC(=O)N XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/005—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein
- G03C1/06—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein with non-macromolecular additives
- G03C1/061—Hydrazine compounds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C5/00—Photographic processes or agents therefor; Regeneration of such processing agents
- G03C5/26—Processes using silver-salt-containing photosensitive materials or agents therefor
- G03C5/29—Development processes or agents therefor
- G03C5/30—Developers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は画像形成方法に関し、特に高コントラスト写真
画像を高感度で迅速に、かつ安定して与える銀画像形成
方法に関する。
画像を高感度で迅速に、かつ安定して与える銀画像形成
方法に関する。
般に、写真製版工程では文字や網分解された写真像また
超精密写真製版工程では微細線画像の形成にコントラス
トの高い写真画像か用いられている。このための成る種
のハロゲン化銀写真感光材料では、極めてコントラスト
の高い写真画像か形成できることが知られている。
超精密写真製版工程では微細線画像の形成にコントラス
トの高い写真画像か用いられている。このための成る種
のハロゲン化銀写真感光材料では、極めてコントラスト
の高い写真画像か形成できることが知られている。
従来、例えば平均粒子径が0.2μmで粒子分布が狭く
粒子の形も揃っていて、かつ塩化銀の含有率の高い(少
なくとも50モル%以上)塩臭化銀乳剤よりなる感光材
料を亜硫酸イオン濃度が低いアルカリ性ハイドロキノン
現像液で処理することにより高いコントラスト、高鮮鋭
度、高解像力の画像、例えば、網点画像あるいは微細線
画像を得る方法が行なわれている。
粒子の形も揃っていて、かつ塩化銀の含有率の高い(少
なくとも50モル%以上)塩臭化銀乳剤よりなる感光材
料を亜硫酸イオン濃度が低いアルカリ性ハイドロキノン
現像液で処理することにより高いコントラスト、高鮮鋭
度、高解像力の画像、例えば、網点画像あるいは微細線
画像を得る方法が行なわれている。
この種のハロゲン化銀感光材料はリス型感光材料として
知られている。
知られている。
写真製版過程には連続階調の原稿を網点画像に変換する
工程、すなわち原稿の連続階調の濃度変化を、該濃度に
比例する面積を有する網点の集合に変換する過程が含ま
れている。
工程、すなわち原稿の連続階調の濃度変化を、該濃度に
比例する面積を有する網点の集合に変換する過程が含ま
れている。
このために上記リス型感光材料を使用して、交線スクリ
ーン又はコンタクトスクリーンを介して原稿の撮影を行
ない、ついで現像処理を行なうことによって、網点像を
形成させるのである。
ーン又はコンタクトスクリーンを介して原稿の撮影を行
ない、ついで現像処理を行なうことによって、網点像を
形成させるのである。
このために、微粒子でかつ粒子サイズおよび粒子の形の
そろったハロゲン化銀乳剤を含有するハロゲン化銀写真
感光材料が用いられるが、この種のハロゲン化銀感光材
料を用いた場合でも、一般白黒用現像液で処理した場合
には、網点像形成等においてリス型現像液で現像した場
合より劣る。
そろったハロゲン化銀乳剤を含有するハロゲン化銀写真
感光材料が用いられるが、この種のハロゲン化銀感光材
料を用いた場合でも、一般白黒用現像液で処理した場合
には、網点像形成等においてリス型現像液で現像した場
合より劣る。
そのため、亜硫酸イオン濃度が極めて低く、現像主薬と
してハイドロキノン単条であるリス型現像液と呼はれる
現像液で処理される。しかしながら、リス型現像液は自
動酸化を受けやすいことがら保恒性か極めて悪いため、
連続使用の際においても、現像品質を一定に保つ制御方
法が極力求められており、この現像液の保恒性を改良す
るために多大の努力がなされて来ている。
してハイドロキノン単条であるリス型現像液と呼はれる
現像液で処理される。しかしながら、リス型現像液は自
動酸化を受けやすいことがら保恒性か極めて悪いため、
連続使用の際においても、現像品質を一定に保つ制御方
法が極力求められており、この現像液の保恒性を改良す
るために多大の努力がなされて来ている。
その改良する方法として、上記リス型現像液の保恒性を
維持するために現像処理による活性度の劣化分を補償す
る補充液(処理疲労補充)と経時による酸化劣化分を補
償する補充液(経時疲労補充)とを別々の補充液を使用
して補充する、いわゆる2液分離補充方式か、写真製版
用自動現像機等で一般的に広く採用されている。しかし
ながら、上記方法は2液の補充バランスのコントロール
を制御する必要があり、装置の点および操作の点で複雑
化するという欠点を有している。
維持するために現像処理による活性度の劣化分を補償す
る補充液(処理疲労補充)と経時による酸化劣化分を補
償する補充液(経時疲労補充)とを別々の補充液を使用
して補充する、いわゆる2液分離補充方式か、写真製版
用自動現像機等で一般的に広く採用されている。しかし
ながら、上記方法は2液の補充バランスのコントロール
を制御する必要があり、装置の点および操作の点で複雑
化するという欠点を有している。
又、リス型現像は現像によって画像が現われる迄の時間
(誘導期)が長いため、迅速に画像を得ることができな
い。
(誘導期)が長いため、迅速に画像を得ることができな
い。
方、上記のリス型現像液を使わずに迅速に、かつ高コン
トラストの画像を得る方法が知られている。例えば米国
特許2,419,975号、特開昭51−16623号
及び特開昭51−20921号等に見られるように、ハ
ロゲン化銀感光材料中にヒドラジン化合物を含有せしめ
るものである。これらの方法によれは、現像液中に亜硫
酸イオン濃度を高く保つことができ、保恒性を高めた状
態で処理することができる。
トラストの画像を得る方法が知られている。例えば米国
特許2,419,975号、特開昭51−16623号
及び特開昭51−20921号等に見られるように、ハ
ロゲン化銀感光材料中にヒドラジン化合物を含有せしめ
るものである。これらの方法によれは、現像液中に亜硫
酸イオン濃度を高く保つことができ、保恒性を高めた状
態で処理することができる。
しかしながら、これらの方法はいづれも硬調な画像を得
るにはかなり高い現像液のpHが必要であり、迅速にか
つ高感度で画像を得る技術としては現像液の安定性に問
題がある。又、現像液のpHが高いためカブリが発生し
易く、このカブリを抑えるために種々の有機抑制剤を高
濃度に含有させる結果感度か犠牲になるという欠点があ
る。
るにはかなり高い現像液のpHが必要であり、迅速にか
つ高感度で画像を得る技術としては現像液の安定性に問
題がある。又、現像液のpHが高いためカブリが発生し
易く、このカブリを抑えるために種々の有機抑制剤を高
濃度に含有させる結果感度か犠牲になるという欠点があ
る。
そこで本発明の第1の目的は、硬調な画像を迅速に安定
して得られる画像形成方法を提供することである。
して得られる画像形成方法を提供することである。
本発明の第2の目的は、硬調な画像を感度損失か少なく
高感度で安定して得られる画像形成を提供することであ
る。
高感度で安定して得られる画像形成を提供することであ
る。
本発明の第3の目的は、硬調でカブリの少ない画像を与
える画像形成方法を提供することである。
える画像形成方法を提供することである。
本発明の第4の目的は、硬調で良好な網点品質を与える
画像形成方法を提供することである。
画像形成方法を提供することである。
本発明のその他の目的は本明細書の以下の記述によって
明らかになるであろう。
明らかになるであろう。
本発明の上記目的は、下記一般式〔I〕で表される化合
物を含有した感光材料を、下記一般式(■)、(III
)及び〔IV)で表されるヒドラジド化合物の少なくと
も1種の存在下で、下記(イ)、(ロ)及び(ハ)の成
分を含有する現像液で処理することを特徴とする画像形
成方法により達成される。
物を含有した感光材料を、下記一般式(■)、(III
)及び〔IV)で表されるヒドラジド化合物の少なくと
も1種の存在下で、下記(イ)、(ロ)及び(ハ)の成
分を含有する現像液で処理することを特徴とする画像形
成方法により達成される。
(イ) ジまたはトリヒドロキシベンゼン系化合物(ロ
)亜硫酸塩 (ハ)アミノ化合物 一般式CI) nl>1 式中、Qは互いに結合してベンゼン環またはナフト環を
形成してもよい炭化水素群を表す。
)亜硫酸塩 (ハ)アミノ化合物 一般式CI) nl>1 式中、Qは互いに結合してベンゼン環またはナフト環を
形成してもよい炭化水素群を表す。
Xはハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アリール基
、アルコキシ基、スルホ基またはカルボキシ基を表す。
、アルコキシ基、スルホ基またはカルボキシ基を表す。
Aは酸素原子または式−NOH基を表し、Bは水素原子
、アルキル基、アミノ基。
、アルキル基、アミノ基。
−NHR3基、 −N−R’R’、 または−0R6基
(ここでR3、R4R5及びR6は各々アルキル基、ア
リール基または飽和炭素環残基を表す。) Rl 、 R2は水素原子またはアルキル基を表す。
(ここでR3、R4R5及びR6は各々アルキル基、ア
リール基または飽和炭素環残基を表す。) Rl 、 R2は水素原子またはアルキル基を表す。
Qは0または1 、m及びnはO〜3の整数を表す。
式中、R1及びR2はアリール基またはへテロ環基を表
し、Rは有機結合基を表し、nは0〜6、mは0または
lを表し、nが2以上のときは、各Rは同しであっても
、異なっていてもよい。
し、Rは有機結合基を表し、nは0〜6、mは0または
lを表し、nが2以上のときは、各Rは同しであっても
、異なっていてもよい。
般式(III)
式中、R1は脂肪族基、芳香族基またはへテロ環基を、
R2は水素原子、置換してもよいアルコキシ基、ヘテロ
環オキシ基、アミノ基、もしくはアリールオキン基を表
し、Pl及びR2は水素原子、アシル基、またはスルフ
ィン酸基を表す。〕般弐[’lV) 菖 Ar NHNHCR+ 式中、Arは耐拡散基またはハロゲン化銀吸着促進基を
少なくとも1つ含むアリール基を表し、R1は置換アル
キル基を表す。〕 次に本発明に係る上述の一般式CI)、(n〕(III
)及び(IV)の化合物について詳述する。
R2は水素原子、置換してもよいアルコキシ基、ヘテロ
環オキシ基、アミノ基、もしくはアリールオキン基を表
し、Pl及びR2は水素原子、アシル基、またはスルフ
ィン酸基を表す。〕般弐[’lV) 菖 Ar NHNHCR+ 式中、Arは耐拡散基またはハロゲン化銀吸着促進基を
少なくとも1つ含むアリール基を表し、R1は置換アル
キル基を表す。〕 次に本発明に係る上述の一般式CI)、(n〕(III
)及び(IV)の化合物について詳述する。
一般式CI)
p1
式中のQはベンゼン環またはナンド環を形成してもよい
炭化水素群を表す。Xはハロゲン原子で例えば塩素原子
、臭素原子など、或いはシアノ基、炭素数1〜8のアル
キル基で例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基なと、アリ
ール基例えばフェニル基など、アルコキシ基としては、
炭素数1〜4の例えばメトキシ基、エトキシ基、ブトオ
キシ基など、スルホ基またはカルボキシ基は、アルカリ
金属塩、アンモニウム塩或いはフライのものであっても
よい。
炭化水素群を表す。Xはハロゲン原子で例えば塩素原子
、臭素原子など、或いはシアノ基、炭素数1〜8のアル
キル基で例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基なと、アリ
ール基例えばフェニル基など、アルコキシ基としては、
炭素数1〜4の例えばメトキシ基、エトキシ基、ブトオ
キシ基など、スルホ基またはカルボキシ基は、アルカリ
金属塩、アンモニウム塩或いはフライのものであっても
よい。
Aは酸素原子または式−NOH基でBは水素原子、アル
キル基、例えば炭素数1〜8までのもので上述のXで示
したアルキル基と同義のもの、或いはアミノ基、−NH
R’基、−NR’R5または一0R6基でR2H4、R
5及びR6は各々炭素数1〜8までの置換または未置換
のアルキル基で上述のXで示したアルキル基と同義のも
のを表し、これらアルキル基への置換基としては、例え
ばヒドロキシ基、炭素数1〜4までのアルコキシ基、例
えばメトキシ基、アリール基例えばフェニル基、アシル
基、例えばベンゾイル基などが置換されていてもよい。
キル基、例えば炭素数1〜8までのもので上述のXで示
したアルキル基と同義のもの、或いはアミノ基、−NH
R’基、−NR’R5または一0R6基でR2H4、R
5及びR6は各々炭素数1〜8までの置換または未置換
のアルキル基で上述のXで示したアルキル基と同義のも
のを表し、これらアルキル基への置換基としては、例え
ばヒドロキシ基、炭素数1〜4までのアルコキシ基、例
えばメトキシ基、アリール基例えばフェニル基、アシル
基、例えばベンゾイル基などが置換されていてもよい。
次に一般式〔I〕で表される化合物例を示すが本発明は
これに限定されるものではない。
これに限定されるものではない。
般式〔I〕の具体的化合物
−II−2
■
■
■
■
■
■
■
■
■
■
■
■
■
■
■
■
■
■
■
■
■
■
■
■
本発明に係る上述の一般式〔I〕の化合物は、例えばジ
ャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサイティー
・(J、A、C,S)第63巻、183頁(1941年
)に記載された方法により容易に合成することができる
。
ャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサイティー
・(J、A、C,S)第63巻、183頁(1941年
)に記載された方法により容易に合成することができる
。
次に一般式NI)について説明する。
般式〔■〕
式中、R1及びR2はアリール基またはへテロ環基を表
し、Rは2価の有機基を表し、nは0〜6、mは0また
は1を表す。
し、Rは2価の有機基を表し、nは0〜6、mは0また
は1を表す。
ここで、R1及びR2で表されアリール基としてはフェ
ニル基、ナフチル基等か挙げられ、ヘテロ環基としては
ピリジル基、ペンツチアゾリル基、キノリル基、チエニ
ル基等が挙げられるか、R1及びR2として好ましくは
アリール基である。R1及びR2で表されるアリール基
またはへテロ環基には種々の置換基か導入できる。置換
基としては例えはハロゲン原子(例えば塩素、フッ素な
ど)、アルコキン基(例えはメチル、エチル、ドデンル
なと)、アルコキン基(例えはメトキシ、エトキシ、イ
ソプロポキン、ブトキン、オクチルオキシ、ドデンルオ
キシなと)、アンルアミノ基(例えばアセチルアミノ、
ピバリルアミノ、ペンソイルアミノ、テトラデカノイル
アミノ、α−(2,4−ジーt−アミルフェノキン)ブ
チリルアミノなど)、スルホニルアミノ基(例えば、メ
タンスルホニルアミノ、ドデカンスルホニルアミノ、ベ
ンゼンスルホニルアミノなど)、ウレア基(例えばフェ
ニルウレア、エチルウレアなど)、チオウレア基(例え
ば、フェニルチオウレア、エチルチオウレアなど)、ヒ
ドロキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基(例えば、メ
チルアミノ、ジメチルアミノなど)、カルボキシ基、ア
ルコキシカルボニル基(例えば、エトキシカルボニル)
、カルバモイル基、スルホ基などが挙げられる。Rで表
される2価の有機基としては、例えばアルキレン基(例
えば、メチレン、エチレン、トリメチレン、テトラメチ
レンなど)、アリーレン基(例エバ、フェニレン、ナフ
チレンなど)、アラルキレン基等が挙げられるがアルキ
キル基、71J−ル基を表わす)、スルホニルMeを含
んでも良い。Rで表わされる基には種々の置換基が導入
できる。
ニル基、ナフチル基等か挙げられ、ヘテロ環基としては
ピリジル基、ペンツチアゾリル基、キノリル基、チエニ
ル基等が挙げられるか、R1及びR2として好ましくは
アリール基である。R1及びR2で表されるアリール基
またはへテロ環基には種々の置換基か導入できる。置換
基としては例えはハロゲン原子(例えば塩素、フッ素な
ど)、アルコキン基(例えはメチル、エチル、ドデンル
なと)、アルコキン基(例えはメトキシ、エトキシ、イ
ソプロポキン、ブトキン、オクチルオキシ、ドデンルオ
キシなと)、アンルアミノ基(例えばアセチルアミノ、
ピバリルアミノ、ペンソイルアミノ、テトラデカノイル
アミノ、α−(2,4−ジーt−アミルフェノキン)ブ
チリルアミノなど)、スルホニルアミノ基(例えば、メ
タンスルホニルアミノ、ドデカンスルホニルアミノ、ベ
ンゼンスルホニルアミノなど)、ウレア基(例えばフェ
ニルウレア、エチルウレアなど)、チオウレア基(例え
ば、フェニルチオウレア、エチルチオウレアなど)、ヒ
ドロキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基(例えば、メ
チルアミノ、ジメチルアミノなど)、カルボキシ基、ア
ルコキシカルボニル基(例えば、エトキシカルボニル)
、カルバモイル基、スルホ基などが挙げられる。Rで表
される2価の有機基としては、例えばアルキレン基(例
えば、メチレン、エチレン、トリメチレン、テトラメチ
レンなど)、アリーレン基(例エバ、フェニレン、ナフ
チレンなど)、アラルキレン基等が挙げられるがアルキ
キル基、71J−ル基を表わす)、スルホニルMeを含
んでも良い。Rで表わされる基には種々の置換基が導入
できる。
置換基としては例えは、 C0NHNHR4(R4は上
述したR1及びR2と同じ意味を表わす)、アルキル基
、アルコキシ基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、カルボ
キシ基、アシル基、アリール基、等が挙げられる。
述したR1及びR2と同じ意味を表わす)、アルキル基
、アルコキシ基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、カルボ
キシ基、アシル基、アリール基、等が挙げられる。
Rとして好ましくはアルキレン基である。
般式〔■〕で表される化合物のうち好ましくはR1及び
R2が置換または未置換のフェニル基であり、n=m=
lでRがアルキレン基を表わす化合物である。
R2が置換または未置換のフェニル基であり、n=m=
lでRがアルキレン基を表わす化合物である。
上記一般式〔■〕で表される代表的な化合物を以般式〔
■〕の具体的化合物 ■ ■ ■ ■ I[−4 ■ ■ ■ ■ ■ ■ ■ ■ ■ ■ ■ ■ ■ ■ ■ ■ ■ ■ ■ ■ ■ ■ ■ ■ ■ ■ ■ ■ ■ ■ ■ ■ ■ ■ 次に一般式CI[I]について説明する。
■〕の具体的化合物 ■ ■ ■ ■ I[−4 ■ ■ ■ ■ ■ ■ ■ ■ ■ ■ ■ ■ ■ ■ ■ ■ ■ ■ ■ ■ ■ ■ ■ ■ ■ ■ ■ ■ ■ ■ ■ ■ ■ ■ 次に一般式CI[I]について説明する。
R1で表される脂肪族基は、好ましくは炭素数6以上の
ものであって、特に炭素数8〜50の直鎖、分岐または
環状のアルキル基である。ここで分岐アルキル基はその
中に1つまたはそれ以上のへテロ原子を含んだ飽和のへ
テロ環を形成するように環化されてもよい。またこのア
ルキル基はアリール基、アルコキシ基、スルホキシ基等
の置換基を有してもよい。
ものであって、特に炭素数8〜50の直鎖、分岐または
環状のアルキル基である。ここで分岐アルキル基はその
中に1つまたはそれ以上のへテロ原子を含んだ飽和のへ
テロ環を形成するように環化されてもよい。またこのア
ルキル基はアリール基、アルコキシ基、スルホキシ基等
の置換基を有してもよい。
R1で表される芳香族基は単環または2環のアリール基
または不飽和へテロ環基である。ここで不飽和へテロ環
基は単環または2環のアリール基と縮合してヘテロアリ
ール基を形成してもよい。
または不飽和へテロ環基である。ここで不飽和へテロ環
基は単環または2環のアリール基と縮合してヘテロアリ
ール基を形成してもよい。
例えばベンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環、ピリミ
ジン環、イミダゾール環、ピラゾール環、キノリン環、
インキノリン環、ベンズイミダゾール環、チアゾール環
、ベンゾチアゾール環等があるが中でもベンゼン環を含
むものが好ましい。
ジン環、イミダゾール環、ピラゾール環、キノリン環、
インキノリン環、ベンズイミダゾール環、チアゾール環
、ベンゾチアゾール環等があるが中でもベンゼン環を含
むものが好ましい。
R1として特に好ましいのはアリール基である。
R1のアリール基または不飽和へテロ環基は置換されて
もよく、代表的な置換基としては、直鎖、分岐または環
状のアルキル基(好ましくは炭素数1〜20のもの)、
アラルキル基(好ましくはアルキル部分の炭素数が1〜
20の単環または2環のもの)、アルコキシ基(好まし
くは炭素数1〜20のもの)、置換アミノ基(好ましく
は炭素数1〜20のアルキル基で置換されたアミン基)
、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜30を持つも
の)、スルホンアミド基(好ましくは炭素数1〜30を
持つもの)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜30を
持つもの)、などがある。
もよく、代表的な置換基としては、直鎖、分岐または環
状のアルキル基(好ましくは炭素数1〜20のもの)、
アラルキル基(好ましくはアルキル部分の炭素数が1〜
20の単環または2環のもの)、アルコキシ基(好まし
くは炭素数1〜20のもの)、置換アミノ基(好ましく
は炭素数1〜20のアルキル基で置換されたアミン基)
、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜30を持つも
の)、スルホンアミド基(好ましくは炭素数1〜30を
持つもの)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜30を
持つもの)、などがある。
一般式(1)のR2で表される基のうち置換されてもよ
いアルコキシ基としては炭素数1〜20のものであって
、ハロゲン原子、アリール基などで置換されていてもよ
い。
いアルコキシ基としては炭素数1〜20のものであって
、ハロゲン原子、アリール基などで置換されていてもよ
い。
般式(I[I〕のR2で表される基のうち置換されても
よいアリールオキシ基またはへテロ環オキシ基としては
単環のものが好ましく、また置換基としてはハロゲン原
子、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基などがある。
よいアリールオキシ基またはへテロ環オキシ基としては
単環のものが好ましく、また置換基としてはハロゲン原
子、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基などがある。
R2で表される基のうちで好ましいものは、置換されて
もよいアルコキシ基またはアミン基である。
もよいアルコキシ基またはアミン基である。
は置換されてもよいアルキル基、アルコキシ基または−
0−、−3−、−N−基結合を含む環状構造であっても
よい。ただしR2がヒドラジノ基であることはない。
0−、−3−、−N−基結合を含む環状構造であっても
よい。ただしR2がヒドラジノ基であることはない。
一般式(III)のR1またはR2はその中にカプラー
等の不動性写真用添加剤において常用されているバラス
ト基が組み込まれているものでもよい。
等の不動性写真用添加剤において常用されているバラス
ト基が組み込まれているものでもよい。
バラスト基は10以上の炭素数を有する写真性に対して
比較的不活性な基であり、例えばアルキル基、アルコキ
シ基、フェニル基、アルキルフェニル基、フェノキシ基
、アルキルフェノキシ基などの中から選ぶことができる
。
比較的不活性な基であり、例えばアルキル基、アルコキ
シ基、フェニル基、アルキルフェニル基、フェノキシ基
、アルキルフェノキシ基などの中から選ぶことができる
。
般式〔■〕のR1またはR2はその中にハロゲン化銀粒
子表面に対する吸着を強める基が組み込まれているもの
でもよい。かかる吸着基としては、チオ尿素基、複素環
チオアミド基、メルカプト複素環基、トリアソール基な
どの米国特許第4.385゜108号に記載された基が
挙げられる。
子表面に対する吸着を強める基が組み込まれているもの
でもよい。かかる吸着基としては、チオ尿素基、複素環
チオアミド基、メルカプト複素環基、トリアソール基な
どの米国特許第4.385゜108号に記載された基が
挙げられる。
般式〔■〕で表される化合物のうち下記一般式(III
−a)で表される化合物は特に好ましい。
−a)で表される化合物は特に好ましい。
般式(I[[−a)
上記一般式(I[[−a〕中、
R3及びR1は水素原子、置換されてもよいアルキル基
(例えはメチル基、エチル基、ブチル基、ドデシル基、
2−ヒドロキシプロピル基、2−シアノエチル基、2−
クロロエチル基)、置換されてもよいフェニル基、ナフ
チル基、シクロヘキシル基、ピリジル基、ピロリジル基
(例えばフェニル基、p−メチルフェニル基、ナフチル
基、a−ヒドロキシナフチル基、シクロヘキシル基、p
−メチルシクロヘキシル基、ピリジル基、4−プロピル
−2−ピリジル基、ピロリジル基、4−メチル−2−ピ
ロリジル基)を表し、R5は水素原子または置換されて
もよいベンジル基、アルコキシ基及びアルキル基(例え
ばベンジル基、p−メチルベンジル基、メトキシ基、エ
トキシ基、エチル基、ブチル基)を表し、R6及ヒR7
は2価の芳香族基(例えばフェニレン基またはナフチレ
ン基)を表し、Yはイオウ原子または酸素原子を表し、
Lは2価の結合基(例えば−8O2CH2CH2NHS
O2NH,0CH2SO2NH,OCH=N)を表し、
R8は−NR’R″または−OR,を表し、R’、R”
及びR3は水素原子、置換されてもよいアルキル基(例
えばメチル基、エチル基、ドデシル基)、フェニル基(
例えばフェニル基、p−メチルフェニル基、p−メトキ
シフェニル基)またはナフチル基(例えばa−ナフチル
基、β−ナフチル基)を表し、m、nは0またはlを表
す。R8がOR,を表すときYはイオウ原子を表すのが
好ましい。
(例えはメチル基、エチル基、ブチル基、ドデシル基、
2−ヒドロキシプロピル基、2−シアノエチル基、2−
クロロエチル基)、置換されてもよいフェニル基、ナフ
チル基、シクロヘキシル基、ピリジル基、ピロリジル基
(例えばフェニル基、p−メチルフェニル基、ナフチル
基、a−ヒドロキシナフチル基、シクロヘキシル基、p
−メチルシクロヘキシル基、ピリジル基、4−プロピル
−2−ピリジル基、ピロリジル基、4−メチル−2−ピ
ロリジル基)を表し、R5は水素原子または置換されて
もよいベンジル基、アルコキシ基及びアルキル基(例え
ばベンジル基、p−メチルベンジル基、メトキシ基、エ
トキシ基、エチル基、ブチル基)を表し、R6及ヒR7
は2価の芳香族基(例えばフェニレン基またはナフチレ
ン基)を表し、Yはイオウ原子または酸素原子を表し、
Lは2価の結合基(例えば−8O2CH2CH2NHS
O2NH,0CH2SO2NH,OCH=N)を表し、
R8は−NR’R″または−OR,を表し、R’、R”
及びR3は水素原子、置換されてもよいアルキル基(例
えばメチル基、エチル基、ドデシル基)、フェニル基(
例えばフェニル基、p−メチルフェニル基、p−メトキ
シフェニル基)またはナフチル基(例えばa−ナフチル
基、β−ナフチル基)を表し、m、nは0またはlを表
す。R8がOR,を表すときYはイオウ原子を表すのが
好ましい。
上記
般式
表的な化合物を以下に示す。
a〕
で表される代
■
般式
%式%)
■
■
■
■
■
■
■
■
しt13
■
■
■
■
■−32
■−33
■
■
■
■
■
■
■
■
■
■
■
■
■
■
■
■
■
■
■
■
O
*NHNHCCNHCH2CH2SCH2CH2SCH
2CH20H■ 次に、上記具体的化合物のうち化合物■■−47を例に
とって、その合成法を示す。
2CH20H■ 次に、上記具体的化合物のうち化合物■■−47を例に
とって、その合成法を示す。
化合物■−45の合成
合成スキーム
(A)
■
(B)
■
化合物4−ニトロフェニルヒドラジン153gと500
mQのジエチルオキザレートを混合し、1時間還流する
。反応を進めながらエタノールを除去していき、最後に
冷却し結晶を析出させる。濾過し石油エーテルで数回洗
浄し、再結晶する。次に得られた結晶(A)のうち50
gをlooOmQのメタノールで加温溶解し、pd/C
(パラジウム・炭素)触媒下に50Ps iの加圧した
H2雰囲気で還元し、化合物(B)を得る。
mQのジエチルオキザレートを混合し、1時間還流する
。反応を進めながらエタノールを除去していき、最後に
冷却し結晶を析出させる。濾過し石油エーテルで数回洗
浄し、再結晶する。次に得られた結晶(A)のうち50
gをlooOmQのメタノールで加温溶解し、pd/C
(パラジウム・炭素)触媒下に50Ps iの加圧した
H2雰囲気で還元し、化合物(B)を得る。
この化合物(B)22gをアセトニトリル200m(2
とピリジン16gの溶液に溶かし室温で化合物(C)2
4gのアセトニトリル溶液を滴下した。不溶物を濾別後
、濾液を濃縮し再結晶精製して化合物(D )31gを
得た。
とピリジン16gの溶液に溶かし室温で化合物(C)2
4gのアセトニトリル溶液を滴下した。不溶物を濾別後
、濾液を濃縮し再結晶精製して化合物(D )31gを
得た。
化合物(D )30gを上記と同様に水添をして化合物
(E)20gを得た。
(E)20gを得た。
化合物(E)lOgをアセトニトリル100m12に溶
解しエチルインチオシアネート3.0gを加え、1時間
還流した。溶媒を留去後頁結晶精製して化合物(F)7
.0gを得た。化合物(F )5.0gをメタノール5
0m12に溶解してメチルアミン(40%水溶液8 m
(2)を加え撹拌した。メタノールを若干濃縮後、析出
した固体をとり出し再結晶精製して化合物2−45を得
た。
解しエチルインチオシアネート3.0gを加え、1時間
還流した。溶媒を留去後頁結晶精製して化合物(F)7
.0gを得た。化合物(F )5.0gをメタノール5
0m12に溶解してメチルアミン(40%水溶液8 m
(2)を加え撹拌した。メタノールを若干濃縮後、析出
した固体をとり出し再結晶精製して化合物2−45を得
た。
化合物■−47の合成
合成スキーム
(B)
(D)
(E)
化合物 2−47
化合物(B)22gをピリジン200mffに溶解し撹
拌すル中へ、p−ニトロベンゼンスルホニルクロライド
22gを加えた。反応混合物を水あけ、後析出する固体
を取り出し化合物(C)を得た。この化合物(C)を合
成スキームに従って化合物1[l−45と同様の反応に
より化合物■−47を得た。
拌すル中へ、p−ニトロベンゼンスルホニルクロライド
22gを加えた。反応混合物を水あけ、後析出する固体
を取り出し化合物(C)を得た。この化合物(C)を合
成スキームに従って化合物1[l−45と同様の反応に
より化合物■−47を得た。
次に一般式〔■〕について説明する。
一般式(1’V:l O
I
Ar NHNHCR+
一般式〔■〕中、Arは耐拡散基又はハロゲン化銀吸着
促進基を少なくとも1つを含むアリール基を表すが、耐
拡散基としてはカプラー等の不動性写真用添加剤におい
て常用されているバラスト基が好ましい。バラスト基は
8以上の炭素数を有する写真性に対して比較的不活性な
基であり、例えばアルキル基、アルコキシ基、フェニル
基、アルキルフェニル基、フェノキシ基、アルキルフェ
ノキシ基などの中から選ぶことができる。
促進基を少なくとも1つを含むアリール基を表すが、耐
拡散基としてはカプラー等の不動性写真用添加剤におい
て常用されているバラスト基が好ましい。バラスト基は
8以上の炭素数を有する写真性に対して比較的不活性な
基であり、例えばアルキル基、アルコキシ基、フェニル
基、アルキルフェニル基、フェノキシ基、アルキルフェ
ノキシ基などの中から選ぶことができる。
ハロゲン化銀吸着促進基としてはチオ尿素基、チオウレ
タン基、複素環チオアミド基、メルカプト複素環基、ト
リアゾール基などの米国特許4,385.108号に記
載された基が挙げられる。
タン基、複素環チオアミド基、メルカプト複素環基、ト
リアゾール基などの米国特許4,385.108号に記
載された基が挙げられる。
R1は置換アルキル基を表すが、アルキル基としては、
直鎖、分岐、環状のアルキル基を表し、例えばメチル、
エチル、プロピル、ブチル、イソプロピル、ペンチル、
シクロヘキシル等の基が挙げられる。
直鎖、分岐、環状のアルキル基を表し、例えばメチル、
エチル、プロピル、ブチル、イソプロピル、ペンチル、
シクロヘキシル等の基が挙げられる。
これらのアルキル基へ導入される置換基としては、アル
コキシ(例えばメトキシ、エトキシ等)、アリール基オ
キシ(例えばフェノキシ、p−クロルフェノキシ等)、
ヘテロ環オキシ(例えばピリジルオキシ等)、メルカプ
ト、アルキルチオオ、エチルチオ等)、アリールチオ(
例えばフェニルチオ、p−クロルフェニルチオ等)、ヘ
テロ環チオ(例えば、ピリジルチオ、ピリミジルチオ、
チアジアゾリルチオ等)、アルキルスルホニル(例えば
メタンスルホニル、ブタンスルホニル等)、アリールス
ルホニル(例えばベンゼンスルホニル等)、ペテロ環ス
ルホニル(例えはピリジルスルホニル、モルホリノスル
ホニル等)、アシル(例えばアセチル、ベンゾイル等)
、シアノ、クロル、臭素、アルコキ゛/カルボニル メトキシカルボニル等)、アリールオキシカルボニル(
例えばフェノキンカルボニル等)、カルボキシ、カルバ
モイル、アルキルカルバモイル(例えは、N−メチルカ
ルバモイル、N,N−ジメチルカルバモイル等、アリー
ルカルバモイル(例えハ、N−フェニルカルバモイル等
)、アミノ、アルキルアミノ(例えは、メチルアミノ、
N,N−ジメチルアミノ等)、アリールアミノ(例えは
、フェニルアミノ、ナフチルアミノ等)、アシルアミノ
(例えばアセチルアミノ、ベンゾイルアミノ等)、アル
コキシカルボニルアミノ(例えば、エトキシカルボニル
アミノ等)、アリールオキシカルボニルアミノ(例えは
、フェノキシカルボニルアミノ等)、アシルオキシ(例
えば、アセチルオキシ、ベンゾイルオキシ等)、アルキ
ルアミノカルボニルオキシ(例えばメチルアミノカルボ
ニルオキシ等)、アリールアミノカルボニルオキシ(例
えば、フェニルアミノカルボニルオキシ等)、スルホ、
スルファモイル、アルキルスルファモイル(例えば、メ
チルスルファモイル等)、アリールスルファモイル(例
えば、フェニルスルファモイル等)等の各基が挙げられ
る。
コキシ(例えばメトキシ、エトキシ等)、アリール基オ
キシ(例えばフェノキシ、p−クロルフェノキシ等)、
ヘテロ環オキシ(例えばピリジルオキシ等)、メルカプ
ト、アルキルチオオ、エチルチオ等)、アリールチオ(
例えばフェニルチオ、p−クロルフェニルチオ等)、ヘ
テロ環チオ(例えば、ピリジルチオ、ピリミジルチオ、
チアジアゾリルチオ等)、アルキルスルホニル(例えば
メタンスルホニル、ブタンスルホニル等)、アリールス
ルホニル(例えばベンゼンスルホニル等)、ペテロ環ス
ルホニル(例えはピリジルスルホニル、モルホリノスル
ホニル等)、アシル(例えばアセチル、ベンゾイル等)
、シアノ、クロル、臭素、アルコキ゛/カルボニル メトキシカルボニル等)、アリールオキシカルボニル(
例えばフェノキンカルボニル等)、カルボキシ、カルバ
モイル、アルキルカルバモイル(例えは、N−メチルカ
ルバモイル、N,N−ジメチルカルバモイル等、アリー
ルカルバモイル(例えハ、N−フェニルカルバモイル等
)、アミノ、アルキルアミノ(例えは、メチルアミノ、
N,N−ジメチルアミノ等)、アリールアミノ(例えは
、フェニルアミノ、ナフチルアミノ等)、アシルアミノ
(例えばアセチルアミノ、ベンゾイルアミノ等)、アル
コキシカルボニルアミノ(例えば、エトキシカルボニル
アミノ等)、アリールオキシカルボニルアミノ(例えは
、フェノキシカルボニルアミノ等)、アシルオキシ(例
えば、アセチルオキシ、ベンゾイルオキシ等)、アルキ
ルアミノカルボニルオキシ(例えばメチルアミノカルボ
ニルオキシ等)、アリールアミノカルボニルオキシ(例
えば、フェニルアミノカルボニルオキシ等)、スルホ、
スルファモイル、アルキルスルファモイル(例えば、メ
チルスルファモイル等)、アリールスルファモイル(例
えば、フェニルスルファモイル等)等の各基が挙げられ
る。
ヒドラジンの水素原子はスルホニル基(例えばメタンス
ルホニル、トルエンスルホニル等)、アシル基(例えば
、アセチル、トリフルオロアセチル等)、オキザリル基
(例えば、エトキザリル等)等の置換基で置換されてい
てもよい。
ルホニル、トルエンスルホニル等)、アシル基(例えば
、アセチル、トリフルオロアセチル等)、オキザリル基
(例えば、エトキザリル等)等の置換基で置換されてい
てもよい。
上記一般式〔■〕で表される代表的な化合物としては、
以下に示すものがある。
以下に示すものがある。
般式
(IV)
の具体的化合物例
■
■
■
■
■
■
■
■
■
■
■
■
■
■
■
■
■
■
■
■
■
次に化合物IV−5の合成例について述べる。
化合物IV−5の合成
合成スキーム
■
■
※−NHNHCCH20CH2CH、OCH2CH2C
N■ ■ ■ 化合物■−45の合成法に準して化合物IV−5を得I
こ。
N■ ■ ■ 化合物■−45の合成法に準して化合物IV−5を得I
こ。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料に含まれる一般式〔
1)(I[)、 [:I[[l及び(IV)の化合物の
量は、本発明のハロゲン化銀写真感光材料中に含有され
るハロゲン化銀1モル当り、5X10−’ないし5×1
0−1モルまでが好ましく、更に好ましくは5×105
ないしI X 10−2モルの範囲である。
1)(I[)、 [:I[[l及び(IV)の化合物の
量は、本発明のハロゲン化銀写真感光材料中に含有され
るハロゲン化銀1モル当り、5X10−’ないし5×1
0−1モルまでが好ましく、更に好ましくは5×105
ないしI X 10−2モルの範囲である。
本発明の方法において、ヒドラジド化合物は感光材料及
び/又は現像液に含有させればよい。感光材料に含有さ
せる場合は3−ピラゾリドン化合物及びジ又はトリヒド
ロキシベンゼン系化合物を含有する感光性ハロゲン化銀
乳剤層及び/又は少なくとも現像時までに該乳剤層へ拡
散して移動しうる支持体上の他の塗設層の少なくとも1
層に含有させればよい。感光材料に含有させる場合、ヒ
ドラジド化合物の量はハロゲン化銀1モル当り106〜
1〇−皇モルの範囲が適当であり、好ましくはハロゲン
化銀1モル当り10−4〜1O−2モルの範囲である。
び/又は現像液に含有させればよい。感光材料に含有さ
せる場合は3−ピラゾリドン化合物及びジ又はトリヒド
ロキシベンゼン系化合物を含有する感光性ハロゲン化銀
乳剤層及び/又は少なくとも現像時までに該乳剤層へ拡
散して移動しうる支持体上の他の塗設層の少なくとも1
層に含有させればよい。感光材料に含有させる場合、ヒ
ドラジド化合物の量はハロゲン化銀1モル当り106〜
1〇−皇モルの範囲が適当であり、好ましくはハロゲン
化銀1モル当り10−4〜1O−2モルの範囲である。
その適量はハロゲン化銀の組成、粒径、化学熟成度、バ
インダーである親水性コロイドの量、安定剤、抑制剤、
促進剤等の添加剤とのバランスを考慮して任意に決める
ことができる。
インダーである親水性コロイドの量、安定剤、抑制剤、
促進剤等の添加剤とのバランスを考慮して任意に決める
ことができる。
ヒドラジド化合物を現像液へ含有させる場合、その添加
量は現像液1a当りlo−5〜10−2モル、好ましく
はIO−′〜l0−3モルであり、共存するアミノ化合
物、pH,カブリ抑制剤などのバランスのもとに適量が
決定される。
量は現像液1a当りlo−5〜10−2モル、好ましく
はIO−′〜l0−3モルであり、共存するアミノ化合
物、pH,カブリ抑制剤などのバランスのもとに適量が
決定される。
本発明の画像形成方法に用いられる感光材料及び現像液
に含まれるジまたはトリヒドロキシベンゼン化合物は次
式により表わされる化合物である。
に含まれるジまたはトリヒドロキシベンゼン化合物は次
式により表わされる化合物である。
H
上式において、R+ 、 R2及びR3は各々水素原子
、ハロゲン原子、アルキル基(置換されたアルキル基を
含む)、アリール基(置換されたアリール基を含む)、
ヘテロ環基(置換されたヘテロ環基を含む)、−0−R
,又は−S−R,を表す。
、ハロゲン原子、アルキル基(置換されたアルキル基を
含む)、アリール基(置換されたアリール基を含む)、
ヘテロ環基(置換されたヘテロ環基を含む)、−0−R
,又は−S−R,を表す。
R1は水素原子、アルキル基(置換されたアルキル基を
含む)、アリール基(置換されたアリール基を含む)、
又はヘテロ環基(置換されたヘテロ環基を含む)を表す
。nは0又は1を表す。
含む)、アリール基(置換されたアリール基を含む)、
又はヘテロ環基(置換されたヘテロ環基を含む)を表す
。nは0又は1を表す。
上記ジまたはトリヒドロキシベンゼン系化合物の具体的
な主な化合物を下記に示す。
な主な化合物を下記に示す。
CB−1) ハイドロキノン
CB−2:] クロロハイドロキノンCB−3)
ブロムハイドロキノン(B−4〕 メチルハイドロキ
ノン CB−5) 2.3−ジクロロハイドロキノン(B
6) 2.5−ジベンゾイルアミノハイドロキ
ノン CB−7) 没食子酸ブチルエステル(B−8)
没食子酸エチルエステル本化合物の感光材料中の存在位
置は感光性ハロゲン化銀乳剤層中が望ましいが、保護膜
層、中間層、下引層又は裏引層など非乳剤層中であって
も構わない。本化合物の添加は一般に水又はメタノール
、エタノール等のアルコール類、ジエチレングリコール
、トリエチレングリコール等のグリコール類、アセトン
のようなケトン類等の有機溶剤で溶解して行なえばよく
、添加量はハロゲン化銀1モル当り帆001〜0.lO
モル加えられるが、好ましくは0.005〜0.03モ
ルである。
ブロムハイドロキノン(B−4〕 メチルハイドロキ
ノン CB−5) 2.3−ジクロロハイドロキノン(B
6) 2.5−ジベンゾイルアミノハイドロキ
ノン CB−7) 没食子酸ブチルエステル(B−8)
没食子酸エチルエステル本化合物の感光材料中の存在位
置は感光性ハロゲン化銀乳剤層中が望ましいが、保護膜
層、中間層、下引層又は裏引層など非乳剤層中であって
も構わない。本化合物の添加は一般に水又はメタノール
、エタノール等のアルコール類、ジエチレングリコール
、トリエチレングリコール等のグリコール類、アセトン
のようなケトン類等の有機溶剤で溶解して行なえばよく
、添加量はハロゲン化銀1モル当り帆001〜0.lO
モル加えられるが、好ましくは0.005〜0.03モ
ルである。
本発明の方法に用いられる現像液中に含まれるジヒドロ
キシベンゼン系化合物は写真処理に広く用いられている
現像主薬であるハイドロキノンが最も好ましく、その添
加量は通常0.05〜0.5モル/Qである。
キシベンゼン系化合物は写真処理に広く用いられている
現像主薬であるハイドロキノンが最も好ましく、その添
加量は通常0.05〜0.5モル/Qである。
本発明の方法に用いられる現像液中に含まれる亜硫酸塩
はハロゲン化銀写真感光材料の現像液に通常用いられる
ものを用いることができ、その具体的な例としては亜硫
酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、亜硫
酸アンモニウム、重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸カ
リウム、ホルムアルデヒド重亜硫酸ナトリウムなどが挙
げられる。その濃度は空気酸化から現像液を保護し、か
つそれによって安定しJこ写真性能かえられるに充分な
亜硫酸イオン濃度が得られる濃度であればよく、添加量
としては0,05モル/a以上が必要であるが好ましく
は0.15モル/Q以上である。
はハロゲン化銀写真感光材料の現像液に通常用いられる
ものを用いることができ、その具体的な例としては亜硫
酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、亜硫
酸アンモニウム、重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸カ
リウム、ホルムアルデヒド重亜硫酸ナトリウムなどが挙
げられる。その濃度は空気酸化から現像液を保護し、か
つそれによって安定しJこ写真性能かえられるに充分な
亜硫酸イオン濃度が得られる濃度であればよく、添加量
としては0,05モル/a以上が必要であるが好ましく
は0.15モル/Q以上である。
更に本発明の方法に用いられる現像液中に含まれるアミ
ノ化合物は硬調化を促進し特に現像液のpHが比較的低
いレベルでも効果を強く出すことを目的に使用される。
ノ化合物は硬調化を促進し特に現像液のpHが比較的低
いレベルでも効果を強く出すことを目的に使用される。
本発明に有用なアミノ化合物は無機アミン及び有機アミ
ンの両者を包含している。有機アミンは、脂肪族アミン
、芳香族アミン、環状アミン、脂肪族−芳香族混合アミ
ン又は複素環式アミンであることができる。第1.第2
及び第3アミンならびに第4アンモニウム化合物はすべ
て有効であるということが判明した。
ンの両者を包含している。有機アミンは、脂肪族アミン
、芳香族アミン、環状アミン、脂肪族−芳香族混合アミ
ン又は複素環式アミンであることができる。第1.第2
及び第3アミンならびに第4アンモニウム化合物はすべ
て有効であるということが判明した。
本発明の目的に関して特に好ましいアルカノールアミン
は、次式により表わされる。
は、次式により表わされる。
上式において、
R1は、2〜IO個の炭素原子を有するヒドロキシアル
キル基であり、そして、R2及びR3は、それぞれ、水
素原子、l −10個の炭素原子を有するアルキル基、
2〜10個の炭素原子を有するヒドロキシアルキル基、
ベンジル基又は次式の基 :であり、上式中のnは、1
−10の整数であり、そしてX及びYは、それぞれ、水
素原子、1〜10個の炭素原子を有するアルキル基又は
2〜10個の炭素原子を有するヒドロキシアルキル基で
ある。
キル基であり、そして、R2及びR3は、それぞれ、水
素原子、l −10個の炭素原子を有するアルキル基、
2〜10個の炭素原子を有するヒドロキシアルキル基、
ベンジル基又は次式の基 :であり、上式中のnは、1
−10の整数であり、そしてX及びYは、それぞれ、水
素原子、1〜10個の炭素原子を有するアルキル基又は
2〜10個の炭素原子を有するヒドロキシアルキル基で
ある。
別の好ましい部類に属するアミノ化合物は、アルキルア
ミン、特に次式により表わされる。
ミン、特に次式により表わされる。
上式において、
R3は、1〜10個の炭素原子を有するアルキル基であ
り、そしてR5及びR6は、それぞれ、水素原子である
かもしくは1−10個の炭素原子を有するアルキル基で
ある。
り、そしてR5及びR6は、それぞれ、水素原子である
かもしくは1−10個の炭素原子を有するアルキル基で
ある。
本発明を実施するに当って使用することのできる多数の
アミン化合物のなかでも特に代表的なものの例を列挙す
ると下記の通りである。
アミン化合物のなかでも特に代表的なものの例を列挙す
ると下記の通りである。
〔C
17〕
トリエタノールアミン
ジェタノールアミン
エタノールアミン
2−ジエチルアミノ−1−エタノール
2−メチルアミノ−1−エタノール
3−ジエチルアミノ−1−プロパツール5−アミノ−1
−ペンタノール ジエチルアミン トリエチルアミン ジイソプロピルアミン 2−ジブチルアミノエタノール 1−4−シクロヘキサンビス(メチルアミン) 0−アミノ安息香酸 アミノブアニジンサルフェート 4−アミノ−1−ブタノール 3−ピロリジノ−1,2プロパンジオ ール 3−(ジメチルアミノ)−1,2−プ ロパンジオール (C−18) 14−ピペラジノビス(エタンスルホ
ン酸) (C−19) 3−ピペリジノ−1.2−プロパンジ
オール なお、本発明に用いられるアミノ化合物の添加量は0,
01〜1.0モル/Qの範囲であり、好ましくは0、0
1〜0.04モル/Qである。
−ペンタノール ジエチルアミン トリエチルアミン ジイソプロピルアミン 2−ジブチルアミノエタノール 1−4−シクロヘキサンビス(メチルアミン) 0−アミノ安息香酸 アミノブアニジンサルフェート 4−アミノ−1−ブタノール 3−ピロリジノ−1,2プロパンジオ ール 3−(ジメチルアミノ)−1,2−プ ロパンジオール (C−18) 14−ピペラジノビス(エタンスルホ
ン酸) (C−19) 3−ピペリジノ−1.2−プロパンジ
オール なお、本発明に用いられるアミノ化合物の添加量は0,
01〜1.0モル/Qの範囲であり、好ましくは0、0
1〜0.04モル/Qである。
本発明の方法に用いられる現像液には5(又は6)−二
トロインダゾールを含有させることが好ましい。これは
カブリ防止にはもっとも効果的で、高感度及び硬調は維
持される。その添加量は現像液B当り0.0001〜0
.1モルの範囲が適当である。
トロインダゾールを含有させることが好ましい。これは
カブリ防止にはもっとも効果的で、高感度及び硬調は維
持される。その添加量は現像液B当り0.0001〜0
.1モルの範囲が適当である。
なお、本発明の方法に用いられる現像液の中にはジヒド
ロキシベンゼン系化合物の他に現像剤として3−ピラゾ
リドン化合物又はオルソあるいはp−アミノフェノール
化合物が含有されてもよい。
ロキシベンゼン系化合物の他に現像剤として3−ピラゾ
リドン化合物又はオルソあるいはp−アミノフェノール
化合物が含有されてもよい。
現像液のpHはlO〜12が望ましいがそのpHを維持
するため、アルカリ金属水酸化物又は炭酸塩をアルカリ
剤として添加することができる。更に、現像によるカブ
リ発生を抑制するために臭化カリウム等の無機抑制剤及
び5−メチルベンゾトリアゾール、5−クロロベンゾト
リアゾール等のトリアゾール化合物及び2−メルカプト
ベンツイミダゾール、■ー7エニルー5ーメルカプトテ
トラゾール等のメルカプト化合物等の有機カブリ防止剤
を使用することができる。更に、本発明の方法に用いら
れる現像液中には前述の成分の他に目的に応じて任意の
添加剤を使用することが出来る。例えば、溶剤、緩衝剤
、金属イオン封鎖剤、現像促進剤、粘稠剤及び乳剤層膨
潤抑制剤等である。
するため、アルカリ金属水酸化物又は炭酸塩をアルカリ
剤として添加することができる。更に、現像によるカブ
リ発生を抑制するために臭化カリウム等の無機抑制剤及
び5−メチルベンゾトリアゾール、5−クロロベンゾト
リアゾール等のトリアゾール化合物及び2−メルカプト
ベンツイミダゾール、■ー7エニルー5ーメルカプトテ
トラゾール等のメルカプト化合物等の有機カブリ防止剤
を使用することができる。更に、本発明の方法に用いら
れる現像液中には前述の成分の他に目的に応じて任意の
添加剤を使用することが出来る。例えば、溶剤、緩衝剤
、金属イオン封鎖剤、現像促進剤、粘稠剤及び乳剤層膨
潤抑制剤等である。
本発明の方法における現像処理は種々の条件で行なうこ
とができるが、現像温度は50°C以下が好ましく、特
に40°C前後が好ましく、又現像時間は3分以内に終
了することが一般的であるが、特に好ましくは2分以内
が好結果をもたらすことが多い。現像以外の処理工程と
して例えば水洗、停止、安定、定着、更に必要に応じて
前硬膜、中和等の工程を採用することは任意であり、こ
れらは適宜省略することもできる。さらにまた、これら
の処理は皿現像、枠現像などいわゆる手現像処理でも良
いし、ローラー現像、ハンガー現像など機械現像であっ
てもよい。
とができるが、現像温度は50°C以下が好ましく、特
に40°C前後が好ましく、又現像時間は3分以内に終
了することが一般的であるが、特に好ましくは2分以内
が好結果をもたらすことが多い。現像以外の処理工程と
して例えば水洗、停止、安定、定着、更に必要に応じて
前硬膜、中和等の工程を採用することは任意であり、こ
れらは適宜省略することもできる。さらにまた、これら
の処理は皿現像、枠現像などいわゆる手現像処理でも良
いし、ローラー現像、ハンガー現像など機械現像であっ
てもよい。
本発明に用いられる感光材料のハロゲン化銀乳剤には、
各種のハロゲン化銀を用いることができる。例えは塩化
銀、臭化銀、塩臭化銀、沃臭化銀又は塩沃臭化銀などで
ある。特に臭化銀及び沃臭化銀に対して本発明の効果は
顕著であり、沃化銀の少ない(Agl 5モル%以下)
高感度感光材料に対して特に効果的である。
各種のハロゲン化銀を用いることができる。例えは塩化
銀、臭化銀、塩臭化銀、沃臭化銀又は塩沃臭化銀などで
ある。特に臭化銀及び沃臭化銀に対して本発明の効果は
顕著であり、沃化銀の少ない(Agl 5モル%以下)
高感度感光材料に対して特に効果的である。
本発明の方法で使用するハロゲン化銀乳剤の調製方法は
公知の方法により親水性コロイド中に懸濁させたハロゲ
ン化銀乳剤でよく、例えば中性法、アンモニア法でのシ
ングルジェット法、ダブルジェット法なとによる乳剤調
製法が用いられる。
公知の方法により親水性コロイド中に懸濁させたハロゲ
ン化銀乳剤でよく、例えば中性法、アンモニア法でのシ
ングルジェット法、ダブルジェット法なとによる乳剤調
製法が用いられる。
本発明に用いられる感光材料のハロゲン化銀乳剤層中に
含有せしめるハロゲン化銀は平均粒子サイズ0.1〜1
.0μm1特に好ましくは0.1−0.7pmで、かつ
全粒子数の少なくとも75%、特に好ましくは80%以
上が平均粒径の帆7〜1.3倍の粒子サイズを有するハ
ロゲン化銀を含むことが好ましい。
含有せしめるハロゲン化銀は平均粒子サイズ0.1〜1
.0μm1特に好ましくは0.1−0.7pmで、かつ
全粒子数の少なくとも75%、特に好ましくは80%以
上が平均粒径の帆7〜1.3倍の粒子サイズを有するハ
ロゲン化銀を含むことが好ましい。
更に多価金属イオン(例えばイリジウム、ロジウム等)
が吸蔵されているハロゲン化銀乳剤として米国特許3,
271,157号、同3,447,927号、同3,5
31.291号などによる乳剤も使用できる。ハロゲン
化銀乳剤は、通常行なわれるイオウ化合物、塩化金酸塩
、三塩化金などのような金化合物等を用いる化学増感に
よって増感することができる。
が吸蔵されているハロゲン化銀乳剤として米国特許3,
271,157号、同3,447,927号、同3,5
31.291号などによる乳剤も使用できる。ハロゲン
化銀乳剤は、通常行なわれるイオウ化合物、塩化金酸塩
、三塩化金などのような金化合物等を用いる化学増感に
よって増感することができる。
本発明の適用されるハロゲン化銀乳剤は増感色素を用い
て所望の感光波長域に感色性を付与することができる。
て所望の感光波長域に感色性を付与することができる。
増感色素としてはシアニン、ヘミシアニン、ローダシア
ニン、メロシアニン、オキソノール、ヘミオキソノール
などのメチン色素及びスチリル色素など通常用いられる
ものを用いることができる。
ニン、メロシアニン、オキソノール、ヘミオキソノール
などのメチン色素及びスチリル色素など通常用いられる
ものを用いることができる。
上記色素は米国特許2,742,833号、同2,75
6,148号、同3,567.458号、同3,615
,517号、同3,615,519号、同3,632,
340号、同3,155,519号、同3,384,4
85号、同4,232,115号、同3,796,58
0号、同4,028゜110号、同3,752,673
号、特開昭55−45015号等の記載を参考にするこ
とができる。
6,148号、同3,567.458号、同3,615
,517号、同3,615,519号、同3,632,
340号、同3,155,519号、同3,384,4
85号、同4,232,115号、同3,796,58
0号、同4,028゜110号、同3,752,673
号、特開昭55−45015号等の記載を参考にするこ
とができる。
本発明に用いられる感光材料のハロゲン化銀写真乳剤は
硬膜剤として通常用いられる例えばアルデヒド類(ホル
ムアルデヒド、グリオキザール、グルタルアルデヒド、
ムコクロル酸等)、N−メチロール化合物(ジメチロー
ル尿素、メチロールジメチルヒダントイン等)、ジオキ
サン誘導体(2,3ジヒドロキシジオキサン等)、活性
ビニル化合物(1,3,5−トリアクリロイル−へキサ
ヒドロ−5−)リアジン、ビス(ビニルスルホニル)メ
チルエーテル等)、活性ハロゲン化物(2,4−ジクロ
ル−6−ヒドロキシ−3−トリアジン等)、等を単独又
は組合せて用いることができ、また増粘剤、マット剤、
塗布助剤等として通常用いられるものが使用できる。
硬膜剤として通常用いられる例えばアルデヒド類(ホル
ムアルデヒド、グリオキザール、グルタルアルデヒド、
ムコクロル酸等)、N−メチロール化合物(ジメチロー
ル尿素、メチロールジメチルヒダントイン等)、ジオキ
サン誘導体(2,3ジヒドロキシジオキサン等)、活性
ビニル化合物(1,3,5−トリアクリロイル−へキサ
ヒドロ−5−)リアジン、ビス(ビニルスルホニル)メ
チルエーテル等)、活性ハロゲン化物(2,4−ジクロ
ル−6−ヒドロキシ−3−トリアジン等)、等を単独又
は組合せて用いることができ、また増粘剤、マット剤、
塗布助剤等として通常用いられるものが使用できる。
又、結合剤としては通常用いられる保護コロイド性を有
する親水性結合剤を使用できる。
する親水性結合剤を使用できる。
更に本発明は目的に応じて感光材料中にカプラ、紫外線
吸収剤、蛍光増白剤、画像安定剤、酸化防止剤、潤滑剤
、金属イオン封鎖剤、乳化分散剤等として通常用いられ
るものを添加することができる。
吸収剤、蛍光増白剤、画像安定剤、酸化防止剤、潤滑剤
、金属イオン封鎖剤、乳化分散剤等として通常用いられ
るものを添加することができる。
本発明の方法に用いられる感光材料にはハロゲン化銀乳
剤層以外の層として保護層、中間層、フィルター層、ア
ンチハレーション層、下引層、補助層、イラジェーショ
ン防止層、裏引層などを有してよく、使用される支持体
としてはバライタ紙、ポリエチレン被覆紙、セルロース
アセテート、セルロースナイトレート、ポリエチレンテ
レフタレートなどがそれぞれ感光材料の使用目的に応じ
て適宜選択できる。
剤層以外の層として保護層、中間層、フィルター層、ア
ンチハレーション層、下引層、補助層、イラジェーショ
ン防止層、裏引層などを有してよく、使用される支持体
としてはバライタ紙、ポリエチレン被覆紙、セルロース
アセテート、セルロースナイトレート、ポリエチレンテ
レフタレートなどがそれぞれ感光材料の使用目的に応じ
て適宜選択できる。
感光性ハロゲン化銀乳剤層又はその他の支持体上の塗設
層にアルキルアクリレート、アルキルメタアクリレート
、アクリル酸、グリシジルアクリレート等のホモ又はコ
ポリマーからなるポリマラテックスを、写真材料の寸度
安定性の向上、膜物性の改良などの目的で含有せしめて
よい。
層にアルキルアクリレート、アルキルメタアクリレート
、アクリル酸、グリシジルアクリレート等のホモ又はコ
ポリマーからなるポリマラテックスを、写真材料の寸度
安定性の向上、膜物性の改良などの目的で含有せしめて
よい。
感光性ハロゲン化銀乳剤中に安定剤またはカブリ防止剤
として4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a、7
テトラザインデン、■−フェニルー5−メルカプトテト
ラゾール、をはしめ多くの化合物をハロゲン化銀1モル
当りlo−4〜10−1モルの量で添加することができ
る。
として4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a、7
テトラザインデン、■−フェニルー5−メルカプトテト
ラゾール、をはしめ多くの化合物をハロゲン化銀1モル
当りlo−4〜10−1モルの量で添加することができ
る。
以下、実施例により本発明を更に詳細に説明するが、こ
れらに限定されるものではない。
れらに限定されるものではない。
実施例1
沃化銀1.5モル%含有する沃臭化銀粒子を調製した。
この粒子は平均粒子0゜30μmの立方体であった。こ
れを金増感及び硫黄増感をした後、増感色素と安定剤4
−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a、7−チトラ
ザインデンとを加え、ハロゲン化銀1モルづつ含まれる
ように13個に分割した。これらの乳剤に第1表に示す
ように、本発明に係る一般式〔I〕の化合物及びヒドラ
ジド化合物を添加した。
れを金増感及び硫黄増感をした後、増感色素と安定剤4
−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a、7−チトラ
ザインデンとを加え、ハロゲン化銀1モルづつ含まれる
ように13個に分割した。これらの乳剤に第1表に示す
ように、本発明に係る一般式〔I〕の化合物及びヒドラ
ジド化合物を添加した。
更にサポニン、ホルマリン及びグリオキザールを加えて
、これらの乳剤をポリエチレンテレフタレート支持体上
に銀4.5g/m2になるように、更にこの乳剤層の上
にはゼラチンL8g/m2となるように保護層を塗布し
、乾燥して感光材料の試料を得た。
、これらの乳剤をポリエチレンテレフタレート支持体上
に銀4.5g/m2になるように、更にこの乳剤層の上
にはゼラチンL8g/m2となるように保護層を塗布し
、乾燥して感光材料の試料を得た。
これらの試料を小片に断裁し、ステップウェッジの片側
にネガ用コンタクトスクリーン(100線/インチ)を
付してタングステン光で20秒間露光した。この試料を
下記現像液及び定着液を入れたコニカ自動現像機GR−
27(コニカ株式会社製)を用いて35°Cで30秒間
現像処理を行なった。
にネガ用コンタクトスクリーン(100線/インチ)を
付してタングステン光で20秒間露光した。この試料を
下記現像液及び定着液を入れたコニカ自動現像機GR−
27(コニカ株式会社製)を用いて35°Cで30秒間
現像処理を行なった。
このようにして得られた試料をコニカデジタル濃度計P
DP−65で測定し、試料No、lの濃度3.0におけ
る感度を100として相対感度で示し、更に濃度0.3
と3.0との正接をもってガンマ表示した。又、網点品
質の評価は100倍ルーペを用いて目視観察し、網点周
辺のフリンジが少なく、かつ辺がなめらかなものを10
級とし、フリンジの多い辺のガサつきの大きいものを1
級としてlO段階法によって表示した。
DP−65で測定し、試料No、lの濃度3.0におけ
る感度を100として相対感度で示し、更に濃度0.3
と3.0との正接をもってガンマ表示した。又、網点品
質の評価は100倍ルーペを用いて目視観察し、網点周
辺のフリンジが少なく、かつ辺がなめらかなものを10
級とし、フリンジの多い辺のガサつきの大きいものを1
級としてlO段階法によって表示した。
現像液処方
エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム塩 1g亜硫酸
ナトリウム 60gハイドロキノ
ン 35g5−アミノ−1−
ペンタノール 50g臭化ナトリウム
2.5g5−メチルベンゾトリ
アゾール 0.3g■−フェニルー3−ピラ
ゾリドン 0.2g水を加えて10.とし
、水酸化ナトリウムにてpH11,5に調整する。
ナトリウム 60gハイドロキノ
ン 35g5−アミノ−1−
ペンタノール 50g臭化ナトリウム
2.5g5−メチルベンゾトリ
アゾール 0.3g■−フェニルー3−ピラ
ゾリドン 0.2g水を加えて10.とし
、水酸化ナトリウムにてpH11,5に調整する。
く定着液処方〉
(組成A)
チオ硫酸アンモニウム
(725%W/V水溶液) 24
0m(2亜硫酸すiヘリウム
17g酢酸ナトリウム・3水塩 6.5
g硼 酸
6gクエン酸ナトリウム・2水塩
2g(組成り) 純水(イオン交換水) 17tQ
硫酸(50%W/v)水溶液) 4.
7g硫酸アルミニウム (i203換算含量が8.1%W/Vの水溶液) 2
6.5g定着液の使用時に水500m12中に上記組成
A1組成りの順に溶かし、1(2に仕上げて用いた。こ
の定表1から明らかなように、本発明の化合物を組合せ
ることにより、硬調で、かつ高品質の網点が形成できる
ことがわかる。
0m(2亜硫酸すiヘリウム
17g酢酸ナトリウム・3水塩 6.5
g硼 酸
6gクエン酸ナトリウム・2水塩
2g(組成り) 純水(イオン交換水) 17tQ
硫酸(50%W/v)水溶液) 4.
7g硫酸アルミニウム (i203換算含量が8.1%W/Vの水溶液) 2
6.5g定着液の使用時に水500m12中に上記組成
A1組成りの順に溶かし、1(2に仕上げて用いた。こ
の定表1から明らかなように、本発明の化合物を組合せ
ることにより、硬調で、かつ高品質の網点が形成できる
ことがわかる。
実施例2
臭化銀含有率が6モル%、ロジウムが銀1モル当りI
X 10−6モル含有した塩臭化銀乳剤(平均粒径0.
22μm)を調製した。
X 10−6モル含有した塩臭化銀乳剤(平均粒径0.
22μm)を調製した。
この乳剤を4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a
、7テトラザインデンの存在下で硫黄増感をしたのち、
それぞれ第2表に示したごとく、本発明に係る般式(I
)及びヒドラジド化合物を添加した。
、7テトラザインデンの存在下で硫黄増感をしたのち、
それぞれ第2表に示したごとく、本発明に係る般式(I
)及びヒドラジド化合物を添加した。
更にサポニン及びムコクロル酸を加えてからポリエチレ
ンテレフタレート支持体上に銀が3.5g/m2になる
よう均一塗布してから、その上層にゼラチンが1.5g
/m2になるよう保護層を設け、塗布乾燥して試料とし
た。これらの試料を小片に断裁し、ステップウェッジを
付してタングステン光で30秒間露光した。この試料を
下記現像液を入れたコニカ自動現像機GR−27(コニ
カ株式会社製)を用いて35°Cで30秒間現像処理を
行なった。
ンテレフタレート支持体上に銀が3.5g/m2になる
よう均一塗布してから、その上層にゼラチンが1.5g
/m2になるよう保護層を設け、塗布乾燥して試料とし
た。これらの試料を小片に断裁し、ステップウェッジを
付してタングステン光で30秒間露光した。この試料を
下記現像液を入れたコニカ自動現像機GR−27(コニ
カ株式会社製)を用いて35°Cで30秒間現像処理を
行なった。
このようにして得られた試料と実施例1方法で評価した
。
。
現像液処方
エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム塩亜硫酸ナトリウ
ム ハイドロキノン ■−フェニルー4−メチルー4−ヒドロキシメチル−3
−ピラゾリドン 5−メチルベンゾトリアゾール 臭化カリウム トリエタノールアミン ■−フェニルー5−メルカプトテトラゾール水を加えて
14とし、水酸化カリウムでpHに調整する。
ム ハイドロキノン ■−フェニルー4−メチルー4−ヒドロキシメチル−3
−ピラゾリドン 5−メチルベンゾトリアゾール 臭化カリウム トリエタノールアミン ■−フェニルー5−メルカプトテトラゾール水を加えて
14とし、水酸化カリウムでpHに調整する。
と同じ
g
0g
5g
0.3g
0.3g
g
0g
1.0g
12.3
表2から明らかなように、本発明の化合物を組合せて用
いると硬調で高感度の写真特性が得られることが分かる
。
いると硬調で高感度の写真特性が得られることが分かる
。
本発明の方法により、迅速にかつ安定に、カブリが少な
く硬調な画像及び良好な網点品質の画像を得ることがで
きる。
く硬調な画像及び良好な網点品質の画像を得ることがで
きる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 下記一般式〔 I 〕で表される化合物を含有した感光性
ハロゲン化銀乳剤層を有する感光材料を、下記一般式〔
II〕、〔III〕及び〔IV〕で表されるヒドラジド化合物
の少なくとも1種の存在下で下記(イ)、(ロ)及び(
ハ)の成分を含有する現像液で処理することを特徴とす
る画像形成方法。 (イ)ジまたはトリヒドロキシベンゼン系化合物 (ロ)亜硫酸塩 (ハ)アミノ化合物 一般式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Qは互いに結合してベンゼン環またはナフト環
を形成してもよい炭化水素群を表す。 Xはハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アリール基
、アルコキシ基、スルホ基またはカルボキシ基を表す。 Aは酸素原子または式=NOH基を表し、Bは水素原子
、アルキル基、アミノ基、−NHR^3基、−N−R^
4R^5、または−OR^6基(ここでR^3、R^4
、R^5及びR^6は各々アルキル基、アリール基また
は飽和炭素環残基を表す。) R^1、R^2は水素原子またはアルキル基を表す。 lは0または1、m及びnは0〜3の整数を表す。〕 一般式〔II〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R_1及びR_2はアリール基またはヘテロ環
基を表し、Rは有機結合基を表し、nは0〜6、mは0
または1を表し、nが2以上のときは、各Rは同じであ
っても、異なっていてもよい。〕一般式〔III〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R_1は脂肪族基、芳香族基またはヘテロ環基
を、R_2は水素原子、置換してもよいアルコキシ基、
ヘテロ環オキシ基、アミノ基、もしくはアリールオキシ
基を表し、P_1及びP_2は水素原子、アシル基、ま
たはスルフィン酸基を表す。〕一般式〔IV〕▲数式、化
学式、表等があります▼ 〔式中、Arは耐拡散基またはハロゲン化銀吸着促進基
を少なくとも1つ含むアリール基を表し、R_1は置換
アルキル基を表す。〕
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16956988A JPH0218549A (ja) | 1988-07-06 | 1988-07-06 | 高コントラストな画像形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16956988A JPH0218549A (ja) | 1988-07-06 | 1988-07-06 | 高コントラストな画像形成方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0218549A true JPH0218549A (ja) | 1990-01-22 |
Family
ID=15888903
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16956988A Pending JPH0218549A (ja) | 1988-07-06 | 1988-07-06 | 高コントラストな画像形成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0218549A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0534596A2 (en) * | 1991-08-06 | 1993-03-31 | Mitsui Petrochemical Industries, Ltd. | Novel hydrazine compound, process for the preparation of the same, and non-linear optical organic material |
-
1988
- 1988-07-06 JP JP16956988A patent/JPH0218549A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0534596A2 (en) * | 1991-08-06 | 1993-03-31 | Mitsui Petrochemical Industries, Ltd. | Novel hydrazine compound, process for the preparation of the same, and non-linear optical organic material |
US5445888A (en) * | 1991-08-06 | 1995-08-29 | Mitsui Petrochemical Industries, Ltd. | Hydrazine compound, process for the preparation of the same, and nonlinear optical organic material |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4988603A (en) | Method for the formation of high-contrast images using a developer comprising a hydrazine derivative | |
JP3240334B2 (ja) | 黒白ハロゲン化銀写真感光材料の現像処理方法 | |
JPH0252A (ja) | 高コントラストな画像形成方法 | |
JPH0218549A (ja) | 高コントラストな画像形成方法 | |
JP2814137B2 (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
JP2756720B2 (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
JP3225382B2 (ja) | 黒白ハロゲン化銀写真感光材料用現像液組成物 | |
JPH0610750B2 (ja) | 画像形成方法 | |
JP2515140B2 (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
JP2835634B2 (ja) | 高コントラストなハロゲン化銀写真感光材料 | |
JP3289154B2 (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
JP2683748B2 (ja) | 高感度で高コントラストなハロゲン化銀写真感光材料 | |
JPH0240A (ja) | 高コントラストハロゲン化銀写真感光材料 | |
JPH02287534A (ja) | 高コントラストハロゲン化銀写真感光材料 | |
JPH02291547A (ja) | 高コントラストハロゲン化銀写真感光材料 | |
JPH01220973A (ja) | 高コントラストな画像形成方法 | |
JPH0456842A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
EP0382455A1 (en) | High-contrast silver halide photographic material | |
JP2847542B2 (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
JP2922258B2 (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
JP2791797B2 (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
JPH0344630A (ja) | 高コントラストハロゲン化銀写真感光材料 | |
JP3306536B2 (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料の現像処理方法 | |
JPH0456843A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
JPH0477732A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 |