JPS6395438A - 貼り込み跡の改良された画像形成方法 - Google Patents
貼り込み跡の改良された画像形成方法Info
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/005—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein
- G03C1/06—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein with non-macromolecular additives
- G03C1/061—Hydrazine compounds
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ハロゲン化銀写真感光材料の画像形成方法に
関するものであり、特に印刷製版分野等における感光材
料として用いた場合に明室と呼び得る環境下で取り扱う
ことができ、かつ貼り込み跡の改良等良好な返し特性が
得られるハロゲン化銀写真感光材料の画像形成方法に関
するものである。
関するものであり、特に印刷製版分野等における感光材
料として用いた場合に明室と呼び得る環境下で取り扱う
ことができ、かつ貼り込み跡の改良等良好な返し特性が
得られるハロゲン化銀写真感光材料の画像形成方法に関
するものである。
近年印刷製版分野において省力化1合理化作業環境の改
善のため、従来暗室下で行われていたフィルムメーキン
グ、いわゆる返し工程作業を明るい部屋でできるように
するための技術が要求され感光材料やプリンター等の機
器の改良がなされている。
善のため、従来暗室下で行われていたフィルムメーキン
グ、いわゆる返し工程作業を明るい部屋でできるように
するための技術が要求され感光材料やプリンター等の機
器の改良がなされている。
明室取り扱い可能な感光材料としては、紫外光に冨む光
源、例えば超高圧水銀灯、メタルハライド光源、キセノ
ンランプ、ハロゲンランプ等などに感光するハロゲン化
銀写真感光材料が挙げられる。これらのハロゲン化銀写
真感光材料は、100〜300ルクスという明るい−J
GW光灯あるいは、紫外線量の少ない専用の螢光扛下で
取り扱うことができる。
源、例えば超高圧水銀灯、メタルハライド光源、キセノ
ンランプ、ハロゲンランプ等などに感光するハロゲン化
銀写真感光材料が挙げられる。これらのハロゲン化銀写
真感光材料は、100〜300ルクスという明るい−J
GW光灯あるいは、紫外線量の少ない専用の螢光扛下で
取り扱うことができる。
しかし従来の明室取り扱い可能な感光材料は、暗室下で
取り扱われる感光材料と比較して、次の性能で劣ること
が知られている。即ち、返し原稿としての網点画像と線
画像を重ねて露光する場合の線画性能(抜き文字性能)
が劣ること、また線画原稿あるいは網原稿を貼り込みベ
ース上に製版用透明テープで固定したとき、このテープ
の跡が残り (貼り込みテープ跡)、このため仕上がり
画 ′質を損なうという欠点を有し、この改良が望まれ
ていた。
取り扱われる感光材料と比較して、次の性能で劣ること
が知られている。即ち、返し原稿としての網点画像と線
画像を重ねて露光する場合の線画性能(抜き文字性能)
が劣ること、また線画原稿あるいは網原稿を貼り込みベ
ース上に製版用透明テープで固定したとき、このテープ
の跡が残り (貼り込みテープ跡)、このため仕上がり
画 ′質を損なうという欠点を有し、この改良が望まれ
ていた。
本発明の目的は、選択した光源による露光で良好な性能
、特に写真性能として返し特性における抜き文字品質の
良い、更にテープ貼り込み跡の出ないハロゲン化銀写真
感光材料の画像形成方法を提供することにある。
、特に写真性能として返し特性における抜き文字品質の
良い、更にテープ貼り込み跡の出ないハロゲン化銀写真
感光材料の画像形成方法を提供することにある。
本発明の目的は、ヒドラジン化合物及びハロゲン化銀粒
子及び該ハロゲン化銀粒子の極大感光波長より少なくと
も50nm長波に極大吸収を持つ化合物を含有するハロ
ゲン化銀写真感光材料を390〜430nmに比エネル
ギーの極大値を持つ光源にて露光する画像形成方法によ
り達成される。
子及び該ハロゲン化銀粒子の極大感光波長より少なくと
も50nm長波に極大吸収を持つ化合物を含有するハロ
ゲン化銀写真感光材料を390〜430nmに比エネル
ギーの極大値を持つ光源にて露光する画像形成方法によ
り達成される。
また、本発明の好ましい実施態様は、上述した本発明に
用いるハロゲン化銀写真感光材料が減感色素及び/また
は紫外線吸収剤を含有し、該ハロゲン化銀写真感光材料
を390〜430nmに比エネルギーの極大値を持つ光
源にて露光し、画像形成することである。
用いるハロゲン化銀写真感光材料が減感色素及び/また
は紫外線吸収剤を含有し、該ハロゲン化銀写真感光材料
を390〜430nmに比エネルギーの極大値を持つ光
源にて露光し、画像形成することである。
以下、本発明について詳述する。
本発明に用いるハロゲン化銀写真感光材料は、ヒドラジ
ン化合物を含有する。
ン化合物を含有する。
本発明に用いられるヒドラジン化合物は、好ましくは下
記一般式[1]で表される化合物である。
記一般式[1]で表される化合物である。
R’ −N−N−C−R”
式中、R1は1価の有機残基を表し、R2は水素原子ま
たは1価の有機残基を表し、Q、及びQ2は水素原子、
アルキルスルホニル基(置換基を有するものも含む)、
了り−ルスルホニル基(置換基を有するものも含む)を
表し、Xlは酸素原子またはイオウ原子を表す。一般式
[I]で表される化合物のうち、Xlが酸素原子であり
、かつR2が水素原子である化合物が更に好ましい。
たは1価の有機残基を表し、Q、及びQ2は水素原子、
アルキルスルホニル基(置換基を有するものも含む)、
了り−ルスルホニル基(置換基を有するものも含む)を
表し、Xlは酸素原子またはイオウ原子を表す。一般式
[I]で表される化合物のうち、Xlが酸素原子であり
、かつR2が水素原子である化合物が更に好ましい。
上記R1及びR2の1価の有機残基としては、芳香族残
基、複素環残基及び脂肪族残基が包含される。
基、複素環残基及び脂肪族残基が包含される。
芳香族残基としては、フェニル基、ナフチル基及びこれ
らに置換基(例えばアルキル基、アルコキシ基、アシル
ヒドラジノ基、ジアルキルアミノ基、アルコキシカルボ
ニル基、シアノ基、カルボキシル基、ニトロ基、アルキ
ルチオ基、ヒドロキシ基、スルホニル基、カルバモイル
基、ハロゲン原子、アシルアミノ基、スルホンアミド基
、チオウレア基など)のついたものを含む。置換基のつ
いたものの具体例として、例えば、4−メチルフェニル
基、4−エチルフェニル基、4−オキシエチルフェニル
基、4−ドデシルフェニル基、4−カルボキシフェニル
基、4−ジエチルアミノフェニル基、4−オクチルアミ
ノフェニル基、4−ベンジルアミノフェニル基、4−ア
セトアミド−2−メチルフエニルi、4−(3−エチル
チオウレイド)フェニル基、4− [2−(2,4−ジ
ーtert−ブチルフェノキシ)ブチルアミド]フェニ
ル基、4− [2−(2,4−ジーter t−ブチル
フェノキシ)ブチルアミド]フェニル基などを挙げるこ
とができる。
らに置換基(例えばアルキル基、アルコキシ基、アシル
ヒドラジノ基、ジアルキルアミノ基、アルコキシカルボ
ニル基、シアノ基、カルボキシル基、ニトロ基、アルキ
ルチオ基、ヒドロキシ基、スルホニル基、カルバモイル
基、ハロゲン原子、アシルアミノ基、スルホンアミド基
、チオウレア基など)のついたものを含む。置換基のつ
いたものの具体例として、例えば、4−メチルフェニル
基、4−エチルフェニル基、4−オキシエチルフェニル
基、4−ドデシルフェニル基、4−カルボキシフェニル
基、4−ジエチルアミノフェニル基、4−オクチルアミ
ノフェニル基、4−ベンジルアミノフェニル基、4−ア
セトアミド−2−メチルフエニルi、4−(3−エチル
チオウレイド)フェニル基、4− [2−(2,4−ジ
ーtert−ブチルフェノキシ)ブチルアミド]フェニ
ル基、4− [2−(2,4−ジーter t−ブチル
フェノキシ)ブチルアミド]フェニル基などを挙げるこ
とができる。
複素環残基としては、酸素、窒素、硫黄、またはセレン
原子のうち少なくとも一つを有する五員もしくは六員の
単環または縮合環で、これらに置換基がついてもよい。
原子のうち少なくとも一つを有する五員もしくは六員の
単環または縮合環で、これらに置換基がついてもよい。
具体的には例えば、ピロリン環、ピリジン環、キノリン
環、インドール環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾー
ル環、ナフトオキサゾール環、イミダゾール環、ベンゾ
イミダゾール環、チアゾリン環、チアゾール環、ベンゾ
チアゾール環、ナフトチアゾール環、セレナゾール環、
ベンゾセレナゾール環、ナフトセレナゾール環などの残
基を挙げることが出来る。
環、インドール環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾー
ル環、ナフトオキサゾール環、イミダゾール環、ベンゾ
イミダゾール環、チアゾリン環、チアゾール環、ベンゾ
チアゾール環、ナフトチアゾール環、セレナゾール環、
ベンゾセレナゾール環、ナフトセレナゾール環などの残
基を挙げることが出来る。
これらの複素環は、メチル基、エチル基環炭素数1〜4
のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基環炭素数1〜4
のアルコキシ基、フェニル基等の炭素数6〜18のアリ
ール基や、クロル、ブロム等のハロゲン原子、アルコキ
シカルボニル基、シアノ基、アミド基等で置換されてい
てもよい。
のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基環炭素数1〜4
のアルコキシ基、フェニル基等の炭素数6〜18のアリ
ール基や、クロル、ブロム等のハロゲン原子、アルコキ
シカルボニル基、シアノ基、アミド基等で置換されてい
てもよい。
脂肪族残基としては、直鎖及び分岐のアルキル基、シク
ロアルキル基及びこれらに置換基のついたもの、並びに
アルケニル基及びアルキニル基を含む。
ロアルキル基及びこれらに置換基のついたもの、並びに
アルケニル基及びアルキニル基を含む。
直鎖及び分岐のアルキル基としては、例えば炭素数1〜
18、好ましくは1〜8のアルキル基であって、具体的
には例えばメチル基、エチル基、イソブチル基、1−オ
クチル基等である。
18、好ましくは1〜8のアルキル基であって、具体的
には例えばメチル基、エチル基、イソブチル基、1−オ
クチル基等である。
シクロアルキル基としては、例えば炭素数3〜10のも
ので、具体的には例えばシクロプロピル基、シクロヘキ
シル基、アダマンチル基等である。アルキル基やシクロ
アルキル基に対する置換基としてはアルコキシ基(例え
ばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基
等)、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、ヒド
ロキシ基、アルキルチオ基、アミド基、アシロキシ基、
シアノ基、スルホニル基、ハロゲン原子(例えば塩素、
臭素、弗素、沃素など)、アリール基(例えばフェニル
基、ハロゲン置換フェニル基、アルキル置換フェニル基
)等であり、結局、置換されたものの具体例としては例
えば3−メトキシプロピル基、エトキシカルボニルメチ
ル基、4−クロロシクロヘキシル基、ベンジル基、p−
メチルベンジル基、p−クロロベンジル基などを挙げる
ことができる。
ので、具体的には例えばシクロプロピル基、シクロヘキ
シル基、アダマンチル基等である。アルキル基やシクロ
アルキル基に対する置換基としてはアルコキシ基(例え
ばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基
等)、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、ヒド
ロキシ基、アルキルチオ基、アミド基、アシロキシ基、
シアノ基、スルホニル基、ハロゲン原子(例えば塩素、
臭素、弗素、沃素など)、アリール基(例えばフェニル
基、ハロゲン置換フェニル基、アルキル置換フェニル基
)等であり、結局、置換されたものの具体例としては例
えば3−メトキシプロピル基、エトキシカルボニルメチ
ル基、4−クロロシクロヘキシル基、ベンジル基、p−
メチルベンジル基、p−クロロベンジル基などを挙げる
ことができる。
また、アルケニル基としては例えばアリル(allyl
)基、アルキニル基としては例えばプロパルギル基を挙
げることができる。
)基、アルキニル基としては例えばプロパルギル基を挙
げることができる。
本発明のヒドラジン化合物の好ましい具体例を以下に示
すが、本発明は何等これによって限定されるものではな
い。
すが、本発明は何等これによって限定されるものではな
い。
(I−1)1−ホルミル−2−(4−[2−(2゜4−
ジーter t−ブチルフェノキシ)ブチルアミド]フ
ェニル)ヒドラジン (r−2)1−ホルミル−2−(4−ジエチルアミノフ
ェニル)ヒドラジン (1−3)1−ホルミル−2−(p−トリル)ヒドラジ
ン (I−4)1−ホルミル−2−(4−エチルフェニル)
ヒドラジン (I−5)1−ホルミル−2−(4−アセトアミド−2
−メチルフェニル)ヒドラジン (1−6)1−ホルミル−2−(4−オキシエチルフェ
ニル)ヒドラジン (1−7)1−ホルミル−2−(4−N、N−ジヒドロ
キシエチルアミノフェニル)ヒ ドラジン (1−8)1−ホルミル−2−[4−(3−エチルチオ
ウレイド)フェニル)ヒドラジ ン (I−9)1−チオホルミル−2−+4− [2−(2
,4−ジーtert−プチルフヱノキシ)ブチルアミド
]フェニル)ヒドラジン (I−10) 1−ホルミル−2−(4−ベンジルア
ミノフェニル)ヒドラジン (I−11)1−ホルミル−2−(4−オクチルアミノ
フェニル)ヒドラジン (1−12)I−ホルミル−2−(4−ドデシルフェニ
ル)ヒドラジン (I−13)1〜アセチル−2,−(4−[2−(2゜
4−ジーter t−ブチルフェノキシ)ブチルアミド
〕フェニル)ヒドラジン (I−14)4−カルボキシフェニルヒドラジン(I−
15)1−アセチル−1−(4−メチルフェニルスルホ
ニル)−2−フェニルヒド ラジン (1−16)1−エトキシカルボニル−1〜(4−メチ
ルフェニルスルホニル)〜2−フ ェニルヒドラジン (I−17) 1−ホルミル−2−(4−ヒドロキシ
フェニル)−2〜(4−メチルフェニ ルスルホニル)−ヒドラジン (1−18)1− (4−アセトキシフェニル)−2−
ホルミル−1−(4−メチルフェニ ルスルホニル)−ヒドラジン (1−19>1−ホルミル−2−(4−ヘキサノキシフ
ェニル)−2−(4−メチルフェ ニルスルホニル)−ヒドラジン (I−20)1−ホルミル−2−(4−(テトラヒドロ
−2H−ピラン−2−イルオキシ)−フェニル)−2−
(4−メチルフェ ニルスルホニル)−ヒドラジン (1−21)1−ホルミル−2−(4−(3−ヘキシル
ウレイドフェニル)) −2−(4−メチルフェニルス
ルホニル)−ヒド ラジン (I−22)1−ホルミル−2−(4−メチルフェニル
スルホニル)−2−(4−(フェ ノキシチオカルボニルアミノ)−フェ ニルツーヒドラジン (I −23) 1− (4−エトキシチオカルボニ
ルアミノフェニル)−2−ホルミル−1− (4−メチルフェニルスルホニル)− ヒドラジン (1−24)1−ホルミル−2−(4−メチルフェニル
スルホニル) −2−(4−(3−メチル−3−フェ
ニル−2−チオウレ イド)−フェニルツーヒドラジン (1−25)1− ((4−(3−(4−(2,4−ビ
ス−t−アミルフェノキシ)−ブチル〕−ウレイド)−
フェニル))−2−ホ ルミル−1−(4−メチルフェニルス ルホニル)−ヒドラジン ヒドラジン化合物の添加位置はハロゲン化銀乳剤層及び
/または支持体上ハロゲン化銀乳剤層側にある非感光層
であるが、好ましくは、ハロゲン化銀乳剤層及び/また
はその下層である。添加量は、10−S〜10−1モル
/銀1モルが好ましく、更に好ましくは10−4〜10
−2モル/銀1モルである。
ジーter t−ブチルフェノキシ)ブチルアミド]フ
ェニル)ヒドラジン (r−2)1−ホルミル−2−(4−ジエチルアミノフ
ェニル)ヒドラジン (1−3)1−ホルミル−2−(p−トリル)ヒドラジ
ン (I−4)1−ホルミル−2−(4−エチルフェニル)
ヒドラジン (I−5)1−ホルミル−2−(4−アセトアミド−2
−メチルフェニル)ヒドラジン (1−6)1−ホルミル−2−(4−オキシエチルフェ
ニル)ヒドラジン (1−7)1−ホルミル−2−(4−N、N−ジヒドロ
キシエチルアミノフェニル)ヒ ドラジン (1−8)1−ホルミル−2−[4−(3−エチルチオ
ウレイド)フェニル)ヒドラジ ン (I−9)1−チオホルミル−2−+4− [2−(2
,4−ジーtert−プチルフヱノキシ)ブチルアミド
]フェニル)ヒドラジン (I−10) 1−ホルミル−2−(4−ベンジルア
ミノフェニル)ヒドラジン (I−11)1−ホルミル−2−(4−オクチルアミノ
フェニル)ヒドラジン (1−12)I−ホルミル−2−(4−ドデシルフェニ
ル)ヒドラジン (I−13)1〜アセチル−2,−(4−[2−(2゜
4−ジーter t−ブチルフェノキシ)ブチルアミド
〕フェニル)ヒドラジン (I−14)4−カルボキシフェニルヒドラジン(I−
15)1−アセチル−1−(4−メチルフェニルスルホ
ニル)−2−フェニルヒド ラジン (1−16)1−エトキシカルボニル−1〜(4−メチ
ルフェニルスルホニル)〜2−フ ェニルヒドラジン (I−17) 1−ホルミル−2−(4−ヒドロキシ
フェニル)−2〜(4−メチルフェニ ルスルホニル)−ヒドラジン (1−18)1− (4−アセトキシフェニル)−2−
ホルミル−1−(4−メチルフェニ ルスルホニル)−ヒドラジン (1−19>1−ホルミル−2−(4−ヘキサノキシフ
ェニル)−2−(4−メチルフェ ニルスルホニル)−ヒドラジン (I−20)1−ホルミル−2−(4−(テトラヒドロ
−2H−ピラン−2−イルオキシ)−フェニル)−2−
(4−メチルフェ ニルスルホニル)−ヒドラジン (1−21)1−ホルミル−2−(4−(3−ヘキシル
ウレイドフェニル)) −2−(4−メチルフェニルス
ルホニル)−ヒド ラジン (I−22)1−ホルミル−2−(4−メチルフェニル
スルホニル)−2−(4−(フェ ノキシチオカルボニルアミノ)−フェ ニルツーヒドラジン (I −23) 1− (4−エトキシチオカルボニ
ルアミノフェニル)−2−ホルミル−1− (4−メチルフェニルスルホニル)− ヒドラジン (1−24)1−ホルミル−2−(4−メチルフェニル
スルホニル) −2−(4−(3−メチル−3−フェ
ニル−2−チオウレ イド)−フェニルツーヒドラジン (1−25)1− ((4−(3−(4−(2,4−ビ
ス−t−アミルフェノキシ)−ブチル〕−ウレイド)−
フェニル))−2−ホ ルミル−1−(4−メチルフェニルス ルホニル)−ヒドラジン ヒドラジン化合物の添加位置はハロゲン化銀乳剤層及び
/または支持体上ハロゲン化銀乳剤層側にある非感光層
であるが、好ましくは、ハロゲン化銀乳剤層及び/また
はその下層である。添加量は、10−S〜10−1モル
/銀1モルが好ましく、更に好ましくは10−4〜10
−2モル/銀1モルである。
本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料及び/または現
像液中には、アミン化合物を含有することが好ましい。
像液中には、アミン化合物を含有することが好ましい。
本発明に好ましく用いられるアミノ化合物は、第1級〜
第4級アミンすべてを包含する。好ましいアミノ化合物
の例としてアルカノールアミン類が挙げられる。以下、
好ましい具体例を列挙するが、これらに限定されるもの
でない。
第4級アミンすべてを包含する。好ましいアミノ化合物
の例としてアルカノールアミン類が挙げられる。以下、
好ましい具体例を列挙するが、これらに限定されるもの
でない。
ジエチルアミノエタノール
ジエチルアミノブタノール
ジエチルアミノプロパン−1,2−ジオールジメチルア
ミノプロパン−L 2−ジオールジェタノールアミン ジエチルアミノ−1−プロパツール トリエタノールアミン ジプロピルアミノプロパン−1,2−ジオールジオクチ
ルアミノ−1−エタノール ジオクチルアミノプロパン−1,2−ジオールドデシル
アミノプロパン−1,2−ジオールドデシルアミノ−1
−プロパツール ドデシルアミノ−1−エタノール アミノプロパン−1,2−ジオール ジエチルアミノ−2−プロパノール ジブロバノールアミン グリシン トリエチルアミン トリエチレンジアミン アミノ化合物はハロゲン化銀写真感光材料の感光層側の
塗設層(例えばハロゲン化銀乳剤層、保護層、下引層の
親水性コロイドN)の少なくとも1層及び/または現像
液中に含有させればよく、好ましい実施態様は現像液中
に含有する態様である。アミノ化合物の含有量は含有さ
せる対象、アミノ化合物の種類等によって異なるが、コ
ントラスト促進量が必要である。
ミノプロパン−L 2−ジオールジェタノールアミン ジエチルアミノ−1−プロパツール トリエタノールアミン ジプロピルアミノプロパン−1,2−ジオールジオクチ
ルアミノ−1−エタノール ジオクチルアミノプロパン−1,2−ジオールドデシル
アミノプロパン−1,2−ジオールドデシルアミノ−1
−プロパツール ドデシルアミノ−1−エタノール アミノプロパン−1,2−ジオール ジエチルアミノ−2−プロパノール ジブロバノールアミン グリシン トリエチルアミン トリエチレンジアミン アミノ化合物はハロゲン化銀写真感光材料の感光層側の
塗設層(例えばハロゲン化銀乳剤層、保護層、下引層の
親水性コロイドN)の少なくとも1層及び/または現像
液中に含有させればよく、好ましい実施態様は現像液中
に含有する態様である。アミノ化合物の含有量は含有さ
せる対象、アミノ化合物の種類等によって異なるが、コ
ントラスト促進量が必要である。
本発明の画像形成方法を適用するハロゲン化銀写真感光
材料中には、明室下で取り扱うことのできるように、ハ
ロゲン化銀粒子の感光極大波長より少なくとも50nm
長波に極大吸収を持つ化合物を含有せしめる。
材料中には、明室下で取り扱うことのできるように、ハ
ロゲン化銀粒子の感光極大波長より少なくとも50nm
長波に極大吸収を持つ化合物を含有せしめる。
上記化合物の最適な極大吸収波長は、その用いるハロゲ
ン化銀乳剤の種々の条件によっである程度変化するが、
それは分光スペクトルを測定することにより容易に見い
出すことができる。このような化合物はハロゲン化銀乳
剤層に含有せしめても良いが、より効果的には、支持体
に対して乳剤層より遠い側に位置す′る層、例えば保8
W層に含有させることが好ましい。更にハロゲン化銀乳
剤層と保護層の間の中間層に含有せしめてもよい。上記
化合物を含有する層には、塩基性モルダントや等電点の
高い酸処理ゼラチンのような、上記化合物を固定するこ
とができる物質を用いることにより、本発明の効果を一
層高めることができる。
ン化銀乳剤の種々の条件によっである程度変化するが、
それは分光スペクトルを測定することにより容易に見い
出すことができる。このような化合物はハロゲン化銀乳
剤層に含有せしめても良いが、より効果的には、支持体
に対して乳剤層より遠い側に位置す′る層、例えば保8
W層に含有させることが好ましい。更にハロゲン化銀乳
剤層と保護層の間の中間層に含有せしめてもよい。上記
化合物を含有する層には、塩基性モルダントや等電点の
高い酸処理ゼラチンのような、上記化合物を固定するこ
とができる物質を用いることにより、本発明の効果を一
層高めることができる。
ハロゲン化銀粒子の感光極大波長より少なくとも5Qn
m長波に極大吸収を持つ上記化合物は、約5■〜3 g
/ gの範囲で用いることが好ましく、また極大吸収
波長における光学濃度として0.10以上であることが
望ましい。また極大吸収波長は少なくとも50nm長波
に極大吸収を持つものであるが、充分な効果を発揮させ
るために300nm以下長波であることが好ましく、更
に200nm以下であることが好ましい。更に50〜1
100n長波の化合物及び100〜200nm長波の化
合物というように、2種以上組み合わせ含有せしめると
、より好ましい結果が得られる。これらの化合物は、例
えば下記一般式(n) −(a)、(b)、(c)及び
具体的例示化合物で表されるものであるが、勿論これら
に限定されるものではない。
m長波に極大吸収を持つ上記化合物は、約5■〜3 g
/ gの範囲で用いることが好ましく、また極大吸収
波長における光学濃度として0.10以上であることが
望ましい。また極大吸収波長は少なくとも50nm長波
に極大吸収を持つものであるが、充分な効果を発揮させ
るために300nm以下長波であることが好ましく、更
に200nm以下であることが好ましい。更に50〜1
100n長波の化合物及び100〜200nm長波の化
合物というように、2種以上組み合わせ含有せしめると
、より好ましい結果が得られる。これらの化合物は、例
えば下記一般式(n) −(a)、(b)、(c)及び
具体的例示化合物で表されるものであるが、勿論これら
に限定されるものではない。
一般式(I+) −(a)
(CHz)m+
原子団であって、X及びYは水素原子、アルキル基、シ
アノアルキル基、カルボキシアルキル基、スルホアルキ
ル基、ヒドロキシアルキル基、ハロゲン化アルキル基ま
たは置換されてもよいアルキル基或はそのナトリウム・
カリウム塩を表し、R12とR43は水素原子、ハロゲ
ン原子、アルキル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、ア
ルキルチオ基、または前記の一〇X基と同様の基を表し
、Qラム・カリウム塩で置換さたフェニル基またはスル
ホアルキル基、スルホアルコキシアルキル基、スルホア
ルキルチオアルキル基を、またLは置換されてもよいメ
チン基を表す。R,4はアルキル基、カルボキシ基、ア
ルキルオキシカルボニル基或はアシル置換、スルホ置換
、非置換のアミノ基を表す、mlは整数0.1または2
をrrk2は整数0または1をそれぞれ示す。
アノアルキル基、カルボキシアルキル基、スルホアルキ
ル基、ヒドロキシアルキル基、ハロゲン化アルキル基ま
たは置換されてもよいアルキル基或はそのナトリウム・
カリウム塩を表し、R12とR43は水素原子、ハロゲ
ン原子、アルキル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、ア
ルキルチオ基、または前記の一〇X基と同様の基を表し
、Qラム・カリウム塩で置換さたフェニル基またはスル
ホアルキル基、スルホアルコキシアルキル基、スルホア
ルキルチオアルキル基を、またLは置換されてもよいメ
チン基を表す。R,4はアルキル基、カルボキシ基、ア
ルキルオキシカルボニル基或はアシル置換、スルホ置換
、非置換のアミノ基を表す、mlは整数0.1または2
をrrk2は整数0または1をそれぞれ示す。
一般式(n)−(b)
式中R11R16,Rlll+ RHq及びR2゜は水
素源。
素源。
子、ハロゲン原子、アルキル基、ヒドロキシル基、アル
コキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、カルボキシル基
またはスルホン基或はそのナトリウム・カリウム塩を表
し、R,7はアルキル基またはカルボキシル基を表す。
コキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、カルボキシル基
またはスルホン基或はそのナトリウム・カリウム塩を表
し、R,7はアルキル基またはカルボキシル基を表す。
一般式(IL) −(c)
II
R73R14
式中R21及びR2□はアルキル基、置換アルキル基、
アリール基、アルコキシカルボニル基またカルボキシル
基を表し、R2,及びR2aはスルホン酸基もしくはカ
ルボキシル基で置換されたアルキル基またはスルホン酸
基もしくはカルボキシル基またはスルホン酸基で置換さ
だアリール基或はそのナトリウム・カリウム塩を表し、
Lは置換もしくは未置換のメチン鎖を表す0Mはナトリ
ウム、カリウムまたは水素原子を表し、m、は0または
1を表す。
アリール基、アルコキシカルボニル基またカルボキシル
基を表し、R2,及びR2aはスルホン酸基もしくはカ
ルボキシル基で置換されたアルキル基またはスルホン酸
基もしくはカルボキシル基またはスルホン酸基で置換さ
だアリール基或はそのナトリウム・カリウム塩を表し、
Lは置換もしくは未置換のメチン鎖を表す0Mはナトリ
ウム、カリウムまたは水素原子を表し、m、は0または
1を表す。
以下一般式(II)−(a)(b)(c)に係る化合物
の代表的具体例を示す。
の代表的具体例を示す。
(n−1)
(II−3)
(II−4)
(U−5)
(In−6)
N
CHzC)IzCHzSOJa
(II−7)
H
(n−8)
CHzCHzCHzCHzSOJa
(II−−9)
CHzC)lzcHzsOJa
OJa
O3Na
(IL−12)
(Ilm−13)
5O)Na
←l−14)
(In−15)
SO,Na
(IIm−16)
(II−17)
(IL−18)
(ff−19)
03Na
([−21)
(U−22)
(H,−23)
(Ir−24)
5υ3Na 、1)U3
iNa(π−26) (n −27) (In’−28) (n −29) 本発明の画像形成方法は、本発明に用いるハロ ゛ゲ
ン化銀写真感光材料を露光する光源として390 −
〜430r+mに比エネルギーの極大値を持つ光源を用
゛いる。好ましくは400〜420nmに極大値を
持つ光 l源にて露光するが、この条件に合う光源な
らば、 巧いかなる発光形式であっても良い。例え
ばフィシ ′メント有無電極の有無について限定する
ものでは ・ない。また発光電極管内に含有せしめる
発光ガスもハロゲンガス、希ガスあるいは混合体であっ
ても良い。またガスと同時に発光用金属を含有せしめて
良い。
iNa(π−26) (n −27) (In’−28) (n −29) 本発明の画像形成方法は、本発明に用いるハロ ゛ゲ
ン化銀写真感光材料を露光する光源として390 −
〜430r+mに比エネルギーの極大値を持つ光源を用
゛いる。好ましくは400〜420nmに極大値を
持つ光 l源にて露光するが、この条件に合う光源な
らば、 巧いかなる発光形式であっても良い。例え
ばフィシ ′メント有無電極の有無について限定する
ものでは ・ない。また発光電極管内に含有せしめる
発光ガスもハロゲンガス、希ガスあるいは混合体であっ
ても良い。またガスと同時に発光用金属を含有せしめて
良い。
一般にこの目的に合う光源としては超高圧水銀 1灯
メタルハライドランプの他に後記する無電極放電管の■
球形式の発光スペクトルが好ましい。この形式の発光放
電管は米国ヒユージョン(FUSION)社やその他の
光源メーカーから入手できるものであり、具体的には、
米国特許第4,254゜363号、同第4,010,4
00号、同第3.993,379号、同第3,950,
670号、同第3,873,884号、同第3,790
.852号、同第3,787,705号、同第3,78
6,308号、同第 ′3.645.629号、同第
4,536.675号、同第4,422,017号、同
第4,415,838号、同第4,390,813号、
同第4゜383.203号、同第4,359.668号
、同第3,911,318号、同第3,872,349
号、同第3,983,039号、同第4,042゜35
0号、同第4.208,587号、同第4,313.9
69号、同第4,269,581号等に開示のあるもの
を挙げることができる。
メタルハライドランプの他に後記する無電極放電管の■
球形式の発光スペクトルが好ましい。この形式の発光放
電管は米国ヒユージョン(FUSION)社やその他の
光源メーカーから入手できるものであり、具体的には、
米国特許第4,254゜363号、同第4,010,4
00号、同第3.993,379号、同第3,950,
670号、同第3,873,884号、同第3,790
.852号、同第3,787,705号、同第3,78
6,308号、同第 ′3.645.629号、同第
4,536.675号、同第4,422,017号、同
第4,415,838号、同第4,390,813号、
同第4゜383.203号、同第4,359.668号
、同第3,911,318号、同第3,872,349
号、同第3,983,039号、同第4,042゜35
0号、同第4.208,587号、同第4,313.9
69号、同第4,269,581号等に開示のあるもの
を挙げることができる。
また、本発明で用いる390〜430nmに比エネルギ
ーの極大値を持つ光源とは上述の■球形式の発光スペク
トルを得るため超高圧水銀灯やメタルハライドランプ光
源の上部に390nm以下の短波をカットする吸収フィ
ルター(430nm以上の長波をカットしても、しなく
ても良い)を装着したものも含み、これにより本発明の
効果を得ることもできる。このフィルターの取付は光源
の近接上部あるいは、プリンター上部のガラス板(箋2
図に示すガラス板)を吸収フィルターガラスにする等の
方法がある。
ーの極大値を持つ光源とは上述の■球形式の発光スペク
トルを得るため超高圧水銀灯やメタルハライドランプ光
源の上部に390nm以下の短波をカットする吸収フィ
ルター(430nm以上の長波をカットしても、しなく
ても良い)を装着したものも含み、これにより本発明の
効果を得ることもできる。このフィルターの取付は光源
の近接上部あるいは、プリンター上部のガラス板(箋2
図に示すガラス板)を吸収フィルターガラスにする等の
方法がある。
本発明に係るハロゲン化銀写真窓光材料に用いるハロゲ
ン化銀は、任意の組成の塩化銀、塩臭化家長、塩沃臭化
銀等で少なくとも50モル%の塩化恨を含有することが
好ましい。ハロゲン化銀粒子の平均粒径は0.025〜
0.5μmの範囲のものが好ましく用いられるが0.0
5〜0.30μmがより好ましい。
ン化銀は、任意の組成の塩化銀、塩臭化家長、塩沃臭化
銀等で少なくとも50モル%の塩化恨を含有することが
好ましい。ハロゲン化銀粒子の平均粒径は0.025〜
0.5μmの範囲のものが好ましく用いられるが0.0
5〜0.30μmがより好ましい。
本発明に係るハロゲン化銀粒子の単分散度は、下記式(
1)で定義され、その値は5〜60が好ましく、より好
ましくは8〜30となるようiJ製する。
1)で定義され、その値は5〜60が好ましく、より好
ましくは8〜30となるようiJ製する。
本発明に係るハロゲン化銀粒子の粒径は、便宜的に立方
晶粒子の校長で表し、単分散度は粒径の標準偏差を平均
粒径で割った値を100倍した数値で表す。
晶粒子の校長で表し、単分散度は粒径の標準偏差を平均
粒径で割った値を100倍した数値で表す。
また、本発明で用い得るハロゲン化銀としては、銀、シ
ェル部に臭化銀、逆にコア部を臭化銀、シェル部を塩化
銀である塩臭化銀粒子であってもよい。このときヨード
は任意の層に5モル%以内で含有させることができる。
ェル部に臭化銀、逆にコア部を臭化銀、シェル部を塩化
銀である塩臭化銀粒子であってもよい。このときヨード
は任意の層に5モル%以内で含有させることができる。
また、少なくとも2種類の粒子を混合して用いることも
できる。例えば生乳粒子は10モル%以下の塩化銀及び
5モル%以下のヨードを含有する立方晶、八面体または
平板状の塩沃臭化銀粒子であり、副粒子はヨード5モル
%以下で塩化銀50モル%以上含有する立方晶、八面体
または平板状塩沃臭化銀粒子からなる混合粒子とするこ
とができる。
できる。例えば生乳粒子は10モル%以下の塩化銀及び
5モル%以下のヨードを含有する立方晶、八面体または
平板状の塩沃臭化銀粒子であり、副粒子はヨード5モル
%以下で塩化銀50モル%以上含有する立方晶、八面体
または平板状塩沃臭化銀粒子からなる混合粒子とするこ
とができる。
このように粒子を混合して用いる場合は、主・副粒子の
化学増感は任意であるが、副粒子は主粒子より化学増感
(イオウ増感や金増感)を控えることにより感度を低く
してもよいし、粒子径や内部にドープするロジウムなど
の貴金属の量を調節して感度を低下させてもよい、また
副粒子の内部を金でカブらせてもよいし、コア/シェル
法でコアとシェルの組成を変化させてカブらせてもよい
。
化学増感は任意であるが、副粒子は主粒子より化学増感
(イオウ増感や金増感)を控えることにより感度を低く
してもよいし、粒子径や内部にドープするロジウムなど
の貴金属の量を調節して感度を低下させてもよい、また
副粒子の内部を金でカブらせてもよいし、コア/シェル
法でコアとシェルの組成を変化させてカブらせてもよい
。
主粒子と副粒子は小粒子程よいが、例えば0.025μ
n1〜1.0μmの任意の値をとることができる。
n1〜1.0μmの任意の値をとることができる。
本発明に用いるハロゲン化銀乳剤調製時には、ロジウム
塩を添加して感度または階調をコントロールする事がで
きる。ロジウム塩の添加は一般には粒子形成時が好まし
いが、化学熟成時、乳剤塗布液調製時でも良い。
塩を添加して感度または階調をコントロールする事がで
きる。ロジウム塩の添加は一般には粒子形成時が好まし
いが、化学熟成時、乳剤塗布液調製時でも良い。
本発明に用いるハロゲン化銀乳剤に添加されるロジウム
塩は、単純な塩の他に複塩でも良い。代表的には、ロジ
ウムクロライド、ロジウムトリクロライド、ロジウムア
ンモニウムクロライドなどが用いられる。
塩は、単純な塩の他に複塩でも良い。代表的には、ロジ
ウムクロライド、ロジウムトリクロライド、ロジウムア
ンモニウムクロライドなどが用いられる。
ロジウム塩の添加量は、必要とする感度、階調により自
由に変えられΣが銀1モルに対して10−9モルから1
0−4モルの範囲が特に有用である。
由に変えられΣが銀1モルに対して10−9モルから1
0−4モルの範囲が特に有用である。
またロジウム塩を使用するときに、他の無機化合物例え
ばイリジウム塩、白金塩、タリウム塩、コバルト塩、金
塩などを併用しても良い。イリジウム塩はしばしば高照
度特性の改良の目的で、銀1モル当り10−9モルから
10−4モルの範囲まで好ましく用いることができる。
ばイリジウム塩、白金塩、タリウム塩、コバルト塩、金
塩などを併用しても良い。イリジウム塩はしばしば高照
度特性の改良の目的で、銀1モル当り10−9モルから
10−4モルの範囲まで好ましく用いることができる。
本発明において用いられるハロゲン化銀は種々の化学増
感剤によって増悪することができる。増悪剤としては、
例えば活性ゼラチン、硫黄増悪剤(チオ硫酸ソーダ、ア
リルチオカルバミド、チオ尿素、アリルイソチオシアネ
ート等)、セレン増感剤(N、N−ジメチルセレノ尿素
、セレノ尿素等)、還元増悪剤(トリエチレンテトラミ
ン、塩化第1スズ等)、例えばカリウムクロロオーライ
ト、カリウムオーリチオシアネート、カリウムクS式−
レート、2−オーロスルホベンゾチアゾールメチルクロ
ライド、アンモニウムクロロパラデート、カリウムクロ
ロプラチネート、ナトリウムクロロパラダイト等で代表
される各種貴金属増悪剤等をそれぞれ単独で、あるいは
2種以上併用して用いることができる。なお金増感剤を
使用する場合は助剤的にログンアンモンを使用すること
もできる。
感剤によって増悪することができる。増悪剤としては、
例えば活性ゼラチン、硫黄増悪剤(チオ硫酸ソーダ、ア
リルチオカルバミド、チオ尿素、アリルイソチオシアネ
ート等)、セレン増感剤(N、N−ジメチルセレノ尿素
、セレノ尿素等)、還元増悪剤(トリエチレンテトラミ
ン、塩化第1スズ等)、例えばカリウムクロロオーライ
ト、カリウムオーリチオシアネート、カリウムクS式−
レート、2−オーロスルホベンゾチアゾールメチルクロ
ライド、アンモニウムクロロパラデート、カリウムクロ
ロプラチネート、ナトリウムクロロパラダイト等で代表
される各種貴金属増悪剤等をそれぞれ単独で、あるいは
2種以上併用して用いることができる。なお金増感剤を
使用する場合は助剤的にログンアンモンを使用すること
もできる。
本発明の効果は、:$i怒色素及び/または紫外線吸収
剤を本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料中に含有せ
しめることにより、一層高めることができる。
剤を本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料中に含有せ
しめることにより、一層高めることができる。
減感色素としては下記一般式〔ユ)−(a)〜(e)で
表されるものを好ましく用いることができる。
表されるものを好ましく用いることができる。
紫外線吸収剤としては下記一般式(ff) −(f)。
(g)で表されるものを好ましく用いることができる。
これらの化合物は、米国特許第3.567.456号、
同3,615,639.同3,579,345.同3,
615,608.同3.598,596.同3,598
,955.同3,592,653.同3:582.34
3号、特公昭40−26751.同40−27332.
同43−13167、同45−8833.同47−87
46号等の明細書を参考にして合成することができる。
同3,615,639.同3,579,345.同3,
615,608.同3.598,596.同3,598
,955.同3,592,653.同3:582.34
3号、特公昭40−26751.同40−27332.
同43−13167、同45−8833.同47−87
46号等の明細書を参考にして合成することができる。
一般式(ll)−(a)
IO
一般式〔工)−(b)
〔式中R11及びRJ2は水素またはハロゲン原子、シ
アノ基またはニトロ基を表す。また、R71とR42と
で芳香族環を形成してもよい。RJ3及びR,4はそれ
ぞれアルキル基、低級アルケニル基、フェニル基または
低級ヒドロキシアルキル基を表しまたR3.及びR3□
が水素原子以外の場合にはアリール基であってもよ(m
、は1〜4の正の整数、R8,は低級アルキル基または
スルホン化低級アルキル基を表し、Xlは酸アニオンを
表す〕以下余白 一般式〔瓜)−(C) 〔式中、R,4及びR,ffはそれぞれ水素原子または
ニトロ基、R38及びR39は低級アルキル基、アリル
基またはフェニル基、ZIはニトロペンゾチアソ゛−ル
卆亥、ニトロベンツ゛オキサソ゛−ル核、ニトロベツゾ
セレナゾール核、イミダゾ〔4・5−b〕キノキサリン
核、3・3−ジメチル−3H−ピロロ〔2・3−b〕ピ
リジン核、3・3−ジアルキル−3H−ニトロインドー
ル核、チアゾロ〔4・5−b〕キノリン核、ニトロキノ
リン核、ニトロチアゾール核、ニトロナフトチアゾール
核、ニトロオキサゾール核、ニトロナフトオキサゾール
核、ニトロセレナゾール核、ニトロナフトセレナソール
核またはニトロピリジン核を形成するこめに必要な原子
群、X2はアニオン、m、及びnはそれぞれ1または2
を表す。ただし化合物が分子内塩を形成する場合はnは
1を表す〕 一般式(IL) −(d) 〔式中R4゜、 R4,L R,□及びR43はそ
れぞれ水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキ
シ基、アリールオキシ基またはニトロ基、R44は水素
原子、アルキル基またはニトロ基を表す。21は非置換
またはそれぞれ低級アルキル基、フェニル基、チェニル
基、ハロゲン原子、アルコキシ基、ヒドロキシ基、シア
ノ基、アルキルスルフォニル基、アルコキシカルボニル
基、フェニルスルフォニル基、トリフルオロメチル基で
置換されたチアゾール核、ベンゾチアゾール核、ナフト
チアゾール核、オキサゾール核、ベンゾオキサゾール核
、ナフトオキサゾール核、セレナゾール核、ベンゾセレ
ナゾール核、ナフトセレナゾール核、チアゾリン核、ピ
リジン核、キノリン核、イソキノリン核、3.3−ジア
ルキル−3H−インドール核、イミダゾール核、ベンゾ
イミダゾール核またはナフトイミダゾール核を形成する
に必要な原子群を表し、L、及びL2はそれぞれ非置換
または低級アルキル基もしくは了り−ル基でW換された
メチン鎖を表し、R4S及びR4&はそれぞれ非置換も
しくは置換基を有するアルキル基、アルケニル基、了り
−ル基、スルホアルキル基またはアラルキル基、X2は
アニオン、m6及びnはそれぞれ1または2を表す。た
だし化合物が分子内塩を形成する場合はnは1を表す〕 一般式〔瓜L−(13) 〔式中R4を及びR49はそれぞれアルキル基、R4s
は了り−ル基を表す。L、及びL2はそれぞれ非置換ま
たは低級アルキル基もしくは了り−ル基で置換されたメ
チン鎖を表し2.はチアゾール核、ベンゾチアゾール核
、ナフトチアゾール核、オキサゾール核、ベンズオキサ
ゾール核、ナフトオキサゾール核、セレナゾール核、ベ
ンゾセレナゾール核、ナフトセレナゾール核、チアゾリ
ン核、ピリジン核、キノリン核、3・3−ジアルキルイ
ンドレニン核、イミダゾール核、イミダゾ〔4・5−b
〕キノキサリン核を形成するために必要な原子群、X2
はアニオン、m、は1〜3の正の整数、mllは1また
は2を表す〕 一般式〔工)−(f) 〔式中R1はアルキル、ヒドロキシアルキル、シアノア
ルキル、スルホアルキル基を表しZ4はオキサゾール、
チアゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾール、
イミダゾール、ベンツイミダゾール環を、Aはピロール
環、ピロリジン環を形成するに必要な原子群を表す。〕 一般式〔工)−(g) 〔式中R、sj+ R52+ Rtx* R54はア
ルキル基、ヒドロキシアルキル基、シアノ基、アルキル
シアノ基、アルコキシ基またはスルホアルキル基を表す
。Rツ、及びRff&はスルホン酸基、アルキルスルホ
ン酸基を表す、〕 次に、本発明に好ましく用いられる減感色素及び紫外線
吸収剤の具体的例示化合物を示すが、これらに限定され
るものではない。(尚以下例示の[−1〜ニー36の中
には、前掲の一般式に該当しないものもある。またpt
sは、パラトルエンスルホン酸基を示す。) (ゴー1) CzHs CzHs(IL−
2) 、 (l−3) (JL−4) (!L −5) bHs CzHs (ニー7) CHzCHzOH ■ (ニー8) CHzCHCHz ([−9) bHs (IL−10) (t−11) (、[−12) (IL−13) に−14) (ニー15) (TfL−16) (亙−17) (] −18) (J−19) (ニー20) (X−21) (t−22) (ニー23) (t−26) (i −27) zns 唾 (Jll−28) CH。
アノ基またはニトロ基を表す。また、R71とR42と
で芳香族環を形成してもよい。RJ3及びR,4はそれ
ぞれアルキル基、低級アルケニル基、フェニル基または
低級ヒドロキシアルキル基を表しまたR3.及びR3□
が水素原子以外の場合にはアリール基であってもよ(m
、は1〜4の正の整数、R8,は低級アルキル基または
スルホン化低級アルキル基を表し、Xlは酸アニオンを
表す〕以下余白 一般式〔瓜)−(C) 〔式中、R,4及びR,ffはそれぞれ水素原子または
ニトロ基、R38及びR39は低級アルキル基、アリル
基またはフェニル基、ZIはニトロペンゾチアソ゛−ル
卆亥、ニトロベンツ゛オキサソ゛−ル核、ニトロベツゾ
セレナゾール核、イミダゾ〔4・5−b〕キノキサリン
核、3・3−ジメチル−3H−ピロロ〔2・3−b〕ピ
リジン核、3・3−ジアルキル−3H−ニトロインドー
ル核、チアゾロ〔4・5−b〕キノリン核、ニトロキノ
リン核、ニトロチアゾール核、ニトロナフトチアゾール
核、ニトロオキサゾール核、ニトロナフトオキサゾール
核、ニトロセレナゾール核、ニトロナフトセレナソール
核またはニトロピリジン核を形成するこめに必要な原子
群、X2はアニオン、m、及びnはそれぞれ1または2
を表す。ただし化合物が分子内塩を形成する場合はnは
1を表す〕 一般式(IL) −(d) 〔式中R4゜、 R4,L R,□及びR43はそ
れぞれ水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキ
シ基、アリールオキシ基またはニトロ基、R44は水素
原子、アルキル基またはニトロ基を表す。21は非置換
またはそれぞれ低級アルキル基、フェニル基、チェニル
基、ハロゲン原子、アルコキシ基、ヒドロキシ基、シア
ノ基、アルキルスルフォニル基、アルコキシカルボニル
基、フェニルスルフォニル基、トリフルオロメチル基で
置換されたチアゾール核、ベンゾチアゾール核、ナフト
チアゾール核、オキサゾール核、ベンゾオキサゾール核
、ナフトオキサゾール核、セレナゾール核、ベンゾセレ
ナゾール核、ナフトセレナゾール核、チアゾリン核、ピ
リジン核、キノリン核、イソキノリン核、3.3−ジア
ルキル−3H−インドール核、イミダゾール核、ベンゾ
イミダゾール核またはナフトイミダゾール核を形成する
に必要な原子群を表し、L、及びL2はそれぞれ非置換
または低級アルキル基もしくは了り−ル基でW換された
メチン鎖を表し、R4S及びR4&はそれぞれ非置換も
しくは置換基を有するアルキル基、アルケニル基、了り
−ル基、スルホアルキル基またはアラルキル基、X2は
アニオン、m6及びnはそれぞれ1または2を表す。た
だし化合物が分子内塩を形成する場合はnは1を表す〕 一般式〔瓜L−(13) 〔式中R4を及びR49はそれぞれアルキル基、R4s
は了り−ル基を表す。L、及びL2はそれぞれ非置換ま
たは低級アルキル基もしくは了り−ル基で置換されたメ
チン鎖を表し2.はチアゾール核、ベンゾチアゾール核
、ナフトチアゾール核、オキサゾール核、ベンズオキサ
ゾール核、ナフトオキサゾール核、セレナゾール核、ベ
ンゾセレナゾール核、ナフトセレナゾール核、チアゾリ
ン核、ピリジン核、キノリン核、3・3−ジアルキルイ
ンドレニン核、イミダゾール核、イミダゾ〔4・5−b
〕キノキサリン核を形成するために必要な原子群、X2
はアニオン、m、は1〜3の正の整数、mllは1また
は2を表す〕 一般式〔工)−(f) 〔式中R1はアルキル、ヒドロキシアルキル、シアノア
ルキル、スルホアルキル基を表しZ4はオキサゾール、
チアゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾール、
イミダゾール、ベンツイミダゾール環を、Aはピロール
環、ピロリジン環を形成するに必要な原子群を表す。〕 一般式〔工)−(g) 〔式中R、sj+ R52+ Rtx* R54はア
ルキル基、ヒドロキシアルキル基、シアノ基、アルキル
シアノ基、アルコキシ基またはスルホアルキル基を表す
。Rツ、及びRff&はスルホン酸基、アルキルスルホ
ン酸基を表す、〕 次に、本発明に好ましく用いられる減感色素及び紫外線
吸収剤の具体的例示化合物を示すが、これらに限定され
るものではない。(尚以下例示の[−1〜ニー36の中
には、前掲の一般式に該当しないものもある。またpt
sは、パラトルエンスルホン酸基を示す。) (ゴー1) CzHs CzHs(IL−
2) 、 (l−3) (JL−4) (!L −5) bHs CzHs (ニー7) CHzCHzOH ■ (ニー8) CHzCHCHz ([−9) bHs (IL−10) (t−11) (、[−12) (IL−13) に−14) (ニー15) (TfL−16) (亙−17) (] −18) (J−19) (ニー20) (X−21) (t−22) (ニー23) (t−26) (i −27) zns 唾 (Jll−28) CH。
(IL−29)
SO,Na
(IL−31)
(皿−32)
503Na 5U)Na
(t−33)
(IIL−34)
(ニー35)
(瓜−36)
また本発明に用いられるハロゲン化銀乳剤は、例えば米
国特許第2,444.607号、同第2,716.06
2号、同第3,512,982号、西独国出願公告第1
,189゜380号、同第2,058,626号、同第
2.118,411号、特公昭43−4133号、米国
特許第3,342.596号、特公昭47−4417号
、西独間出願公告第2.149,789号、特公昭39
−2825号、特公昭49−13566号等の各明細書
または公報に記載されている化合物、好ましくは、例え
ば5.6−)リメチレン−7−ヒドロキシーS−)リア
ゾロ(1,5−a) ピリミジン、5.6−チトラメチ
レンー7−ヒドロキシーS−トリアゾロ (1,5−a
) ピリミジン、5−メチル−7−ヒドロキシ−3−)
リアゾロ(1,5−a)ピリミジン、7−ヒドロキシ−
3−)リアゾロ(1,5−a)ピリミジン、5−メチル
−6−プロモーフ−ヒドロキシ−S−)リアゾロ(1゜
5−a)ピリミジン、没食子酸エステル(例えば没食子
酸イソアミル、没食子酸ドデシル、没食子酸プロピル、
没食子酸ナトリウム)、メルカプタン頚(1−フェニル
−5−メルカプトテトラゾール、2−メルカプトベンツ
チアゾール)、ベンゾトリアゾール類(5−ブロムベン
ツトリアゾール、5−メチルベンツトリアゾール)、ベ
ンツイミダゾール1i7(6−ニドロペンツイミダゾー
ル)等ヲ用いて安定化することができる。
国特許第2,444.607号、同第2,716.06
2号、同第3,512,982号、西独国出願公告第1
,189゜380号、同第2,058,626号、同第
2.118,411号、特公昭43−4133号、米国
特許第3,342.596号、特公昭47−4417号
、西独間出願公告第2.149,789号、特公昭39
−2825号、特公昭49−13566号等の各明細書
または公報に記載されている化合物、好ましくは、例え
ば5.6−)リメチレン−7−ヒドロキシーS−)リア
ゾロ(1,5−a) ピリミジン、5.6−チトラメチ
レンー7−ヒドロキシーS−トリアゾロ (1,5−a
) ピリミジン、5−メチル−7−ヒドロキシ−3−)
リアゾロ(1,5−a)ピリミジン、7−ヒドロキシ−
3−)リアゾロ(1,5−a)ピリミジン、5−メチル
−6−プロモーフ−ヒドロキシ−S−)リアゾロ(1゜
5−a)ピリミジン、没食子酸エステル(例えば没食子
酸イソアミル、没食子酸ドデシル、没食子酸プロピル、
没食子酸ナトリウム)、メルカプタン頚(1−フェニル
−5−メルカプトテトラゾール、2−メルカプトベンツ
チアゾール)、ベンゾトリアゾール類(5−ブロムベン
ツトリアゾール、5−メチルベンツトリアゾール)、ベ
ンツイミダゾール1i7(6−ニドロペンツイミダゾー
ル)等ヲ用いて安定化することができる。
また現像性を高めるために、フェニドンやハイドロキノ
ンのような現像主薬、ベンゾトリアゾールのような抑制
剤を乳剤側に含有せしめることができる。あるいは処理
液の処理能力を上げるために、パフキング層に現像主薬
や抑制剤を含有せしめることができる。
ンのような現像主薬、ベンゾトリアゾールのような抑制
剤を乳剤側に含有せしめることができる。あるいは処理
液の処理能力を上げるために、パフキング層に現像主薬
や抑制剤を含有せしめることができる。
本発明に特に有利に用いられる親水性コロイドはゼラチ
ンであるが、ゼラチン以外の親水性コロイドとしては、
例えばコロイド状アルブミン、寒天、アラビアゴム、ア
ルギン酸、加水分解されたセルロースアセテート、アク
リルアミド、イミド化ポリアミド、ポリビニルアルコー
ル、加水分解されたポリビニルアセテート、ゼラチン誘
導体、例えば米国特許第2.614,928号、同第2
,525,753号の各明細書に記載されている如きフ
ェニルカルバミルゼラチン、アシル化ゼラチン、フタル
化ゼラチン、あるいは米国特許第2.548,520号
、同第2,831.767号の各明細書に記載されてい
る如きアクリル酸スチレン、アクリル酸エステル、メタ
クリル酸、メタクリル酸エステル等のエチレン基を持つ
重合可能な単量体をゼラチンにグラフト重合したもの等
を挙げることができ、これらの親水性コロイドはハロゲ
ン化銀を含有しない層、例えばハレーション防止層、保
護層、中間層等にも適用できる。
ンであるが、ゼラチン以外の親水性コロイドとしては、
例えばコロイド状アルブミン、寒天、アラビアゴム、ア
ルギン酸、加水分解されたセルロースアセテート、アク
リルアミド、イミド化ポリアミド、ポリビニルアルコー
ル、加水分解されたポリビニルアセテート、ゼラチン誘
導体、例えば米国特許第2.614,928号、同第2
,525,753号の各明細書に記載されている如きフ
ェニルカルバミルゼラチン、アシル化ゼラチン、フタル
化ゼラチン、あるいは米国特許第2.548,520号
、同第2,831.767号の各明細書に記載されてい
る如きアクリル酸スチレン、アクリル酸エステル、メタ
クリル酸、メタクリル酸エステル等のエチレン基を持つ
重合可能な単量体をゼラチンにグラフト重合したもの等
を挙げることができ、これらの親水性コロイドはハロゲ
ン化銀を含有しない層、例えばハレーション防止層、保
護層、中間層等にも適用できる。
本発明に用いる支持体としては、例えばバライタ紙、ポ
リエチレン被覆紙、ポリプロピレン合成紙、ガラス板、
セルロースアセテート、セルロースナイトレート、例え
ばポリエチレンテレフタレート等のポリエステルフィル
ム、ポリアミドフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポ
リカーボネートフィルム、ポリスチレンフィルム等が代
表的なものとして包含される。これらの支持体は、それ
ぞれハロゲン化銀写真感光材料の使用目的に応じて適宜
選択される。
リエチレン被覆紙、ポリプロピレン合成紙、ガラス板、
セルロースアセテート、セルロースナイトレート、例え
ばポリエチレンテレフタレート等のポリエステルフィル
ム、ポリアミドフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポ
リカーボネートフィルム、ポリスチレンフィルム等が代
表的なものとして包含される。これらの支持体は、それ
ぞれハロゲン化銀写真感光材料の使用目的に応じて適宜
選択される。
本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料の現像に用いら
れる現像主薬としては次のものが挙げられる。HO−(
CH= CH) 、 −OH型現像主薬の代表的なもの
としては、ハイドロキノンがあり、その他にカテコール
、ピロガロール及びその誘導体ならびにアスコルビン酸
、クロロハイドロキノン、ブロモハイドロキノン、メチ
ルハイドロキノン、2.3−ジブロモハイドロキノン、
2.5−ジエチルハイドロキノン、カテコール、4−ク
ロロカテコール、4−フェニル−カテコール、3−メト
キシ−カテコール、4−アセチル−ピロガロール、アス
コルビン酸ソーダ等がある。
れる現像主薬としては次のものが挙げられる。HO−(
CH= CH) 、 −OH型現像主薬の代表的なもの
としては、ハイドロキノンがあり、その他にカテコール
、ピロガロール及びその誘導体ならびにアスコルビン酸
、クロロハイドロキノン、ブロモハイドロキノン、メチ
ルハイドロキノン、2.3−ジブロモハイドロキノン、
2.5−ジエチルハイドロキノン、カテコール、4−ク
ロロカテコール、4−フェニル−カテコール、3−メト
キシ−カテコール、4−アセチル−ピロガロール、アス
コルビン酸ソーダ等がある。
また、HO−(CH= CH) 11− NH,型現像
剤としては、オルト及びバラのアミノフェノールが代表
的なもので、4−アミノフェノール、2−アミノ−6−
フェニルフェノール、2−アミノ−4−クロロ−6−フ
ェニルフェノール、N−メチル−p−アミノフェノール
等がある。
剤としては、オルト及びバラのアミノフェノールが代表
的なもので、4−アミノフェノール、2−アミノ−6−
フェニルフェノール、2−アミノ−4−クロロ−6−フ
ェニルフェノール、N−メチル−p−アミノフェノール
等がある。
更に、H2N−(CH=CH)、−NtIf型現像剤と
しては例えば4−アミノ−2−メチル−N、N−ジエチ
ルアニリン、2,4−ジアミノ−N、N−ジエチルアニ
リン、N−(4−アミノ−3−メチルフェニル)−モル
ホリン、p−フェニレンジアミン等がある。
しては例えば4−アミノ−2−メチル−N、N−ジエチ
ルアニリン、2,4−ジアミノ−N、N−ジエチルアニ
リン、N−(4−アミノ−3−メチルフェニル)−モル
ホリン、p−フェニレンジアミン等がある。
ペテロ環型現像剤としては、1−フェニル−3−ピラゾ
リドン、1−フェニル−4,4−ジメチル−3−ピラゾ
リドン、1−フェニル−4−メチル−4−ヒドロキシメ
チル−3−ピラゾリドンのような3−ピラゾリドン類、
1−フェニル−4−アミノ−5−ピラゾロン、5−アミ
ノウラシル等を挙げることができる。
リドン、1−フェニル−4,4−ジメチル−3−ピラゾ
リドン、1−フェニル−4−メチル−4−ヒドロキシメ
チル−3−ピラゾリドンのような3−ピラゾリドン類、
1−フェニル−4−アミノ−5−ピラゾロン、5−アミ
ノウラシル等を挙げることができる。
その他、T、H,ジェームス著ザ・セオリイ・オブ・ザ
・ホトグラフィック・プロセス第4版(The The
ory of the Photographic P
roccssFourth Edition)第291
〜334頁及びジャーナル・オブ・ジ・アメリカン・ケ
ミカル・ソサエティ(Journal of the
American Chemical 5ociety
)第73巻、第3.100頁(1951)に記載されて
いるごとき現像剤が本発明に有効に使用し得るものであ
る。これらの現像剤は単独で使用しても2種以上組み合
わせてもよいが、2種以上を組み合わせて用いる方が好
ましい。また本発明に係る感光材料の現像に使用する現
像液には保恒剤として、例えば亜硫酸ソーダ、亜硫酸カ
リ、等の亜硫酸塩を用いても、本発明の効果が損なわれ
ることはない。
・ホトグラフィック・プロセス第4版(The The
ory of the Photographic P
roccssFourth Edition)第291
〜334頁及びジャーナル・オブ・ジ・アメリカン・ケ
ミカル・ソサエティ(Journal of the
American Chemical 5ociety
)第73巻、第3.100頁(1951)に記載されて
いるごとき現像剤が本発明に有効に使用し得るものであ
る。これらの現像剤は単独で使用しても2種以上組み合
わせてもよいが、2種以上を組み合わせて用いる方が好
ましい。また本発明に係る感光材料の現像に使用する現
像液には保恒剤として、例えば亜硫酸ソーダ、亜硫酸カ
リ、等の亜硫酸塩を用いても、本発明の効果が損なわれ
ることはない。
また保恒剤としてヒドロキシルアミン、ヒドラジド化合
物を用いることができ、この場合その使用量は現像液1
1当たり5〜500 gが好ましく、より好ましくは2
0〜200gである。
物を用いることができ、この場合その使用量は現像液1
1当たり5〜500 gが好ましく、より好ましくは2
0〜200gである。
また現像液には有機溶媒としてグリコール類を含有させ
てもよく、そのようなグリコール類としてはエチレング
リコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコー
ル、トリエチレングリコール、1.4−ブタンジオール
、1,5−ベンタンジオール等があるが、ジエチレング
リコールが好ましく用いられる。そしてこれらグリコー
ル類の好ましい使用量は現像液11当たり5〜500g
で、より好ましくは20〜200gである。これらの有
機溶媒は単独でも併用しても用いることができる。
てもよく、そのようなグリコール類としてはエチレング
リコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコー
ル、トリエチレングリコール、1.4−ブタンジオール
、1,5−ベンタンジオール等があるが、ジエチレング
リコールが好ましく用いられる。そしてこれらグリコー
ル類の好ましい使用量は現像液11当たり5〜500g
で、より好ましくは20〜200gである。これらの有
機溶媒は単独でも併用しても用いることができる。
本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料は、上記の如き
現像抑制剤を含んだ現像液を用いて現像処理することに
より極めて保存安定性に優れた感光材料を得ることがで
きる。
現像抑制剤を含んだ現像液を用いて現像処理することに
より極めて保存安定性に優れた感光材料を得ることがで
きる。
上記の組成になる現像液のpH値は好ましくは9〜13
であるが、保恒性及び写真特性上からpH値は10〜1
2の範囲が更に好ましい。現像液中の陽イオンについて
は、ナトリウムよりカリウムイオンの比率が高い程現像
液の活性度を高めることができるので好ましい。
であるが、保恒性及び写真特性上からpH値は10〜1
2の範囲が更に好ましい。現像液中の陽イオンについて
は、ナトリウムよりカリウムイオンの比率が高い程現像
液の活性度を高めることができるので好ましい。
本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料は、種々の条件
で処理することができる。処理温度は、例えば現像温度
は50℃以下が好ましく、特に25℃〜40℃前後が好
ましく、また現像時間は2分以内に終了することが一般
的であるが、特に好ましくは10秒〜50秒が好効果を
もたらすことが多い。また現像以外の処理工程、例えば
水洗、停止、安定、定着、更に必要に応じて前硬膜、中
和等の工程を採用することは任意であり、これらは適宜
省略することもできる。更にまた、これらの処理は皿現
像、枠場像などいわゆる平場像処理でも、ローラー現像
、ハンガー現像など機械現像であってもよい。
で処理することができる。処理温度は、例えば現像温度
は50℃以下が好ましく、特に25℃〜40℃前後が好
ましく、また現像時間は2分以内に終了することが一般
的であるが、特に好ましくは10秒〜50秒が好効果を
もたらすことが多い。また現像以外の処理工程、例えば
水洗、停止、安定、定着、更に必要に応じて前硬膜、中
和等の工程を採用することは任意であり、これらは適宜
省略することもできる。更にまた、これらの処理は皿現
像、枠場像などいわゆる平場像処理でも、ローラー現像
、ハンガー現像など機械現像であってもよい。
以下実施例によって本発明を具体的に説明する。
なお、当然のことではあるが、本発明は以下述べる実施
例に限定されるものではない。
例に限定されるものではない。
実施例−1
p H3,0の酸性雰囲気下でコンドロールドダブルジ
ェット法によりロジウムを2艮1モル当たり10−5モ
ル含有する下記表−■に示す平均粒径、ハロゲン化銀組
成単分散度の粒子を作成した。粒子の成長は、ベンジル
アデニンを1%のゼラチン水溶液11当たり30mg含
有する系で行った。銀とハライドの混合後6−メチルー
4−ヒドロキシ−1゜3、3a、 7−チトラザインデ
ンをハロゲン化銀1モル当たり600mg加え、その後
水洗、脱塩した。
ェット法によりロジウムを2艮1モル当たり10−5モ
ル含有する下記表−■に示す平均粒径、ハロゲン化銀組
成単分散度の粒子を作成した。粒子の成長は、ベンジル
アデニンを1%のゼラチン水溶液11当たり30mg含
有する系で行った。銀とハライドの混合後6−メチルー
4−ヒドロキシ−1゜3、3a、 7−チトラザインデ
ンをハロゲン化銀1モル当たり600mg加え、その後
水洗、脱塩した。
次いで、ハロゲン化銀1モル当たり60mgの6−メチ
ル−4−ヒドロキシ−1,3,3a、 7−チトラザ
インデンを加えた後、イオウ増感をした。イオウ増感後
安定剤として6−メチル−4−ヒドロキシ−1,3,3
a、 7−チトラザインデンを加えた。
ル−4−ヒドロキシ−1,3,3a、 7−チトラザ
インデンを加えた後、イオウ増感をした。イオウ増感後
安定剤として6−メチル−4−ヒドロキシ−1,3,3
a、 7−チトラザインデンを加えた。
(ハロゲン化銀乳剤層)
前記各乳剤に添加剤を下記の付量になるよう調製添加し
、特開昭59−19941号の実施例−1によるラテン
クス下引処理した(100μm厚さ)ポリエチレンテレ
フタレート支持体上に塗布した。
、特開昭59−19941号の実施例−1によるラテン
クス下引処理した(100μm厚さ)ポリエチレンテレ
フタレート支持体上に塗布した。
ラテックスポリマー:スチレン−ブチルアクリレート−
アクリル酸3元共重合ポリマー
1.0 g /ボテドラフェニルホスホニウムクロ
ライド30 mg/耐 サポニン 200 mg/rr
lポリエチレングリコール 100 mg/r
rlドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム100
mg/rrr ハイドロキノン 200 mg/r
dフェニドン 100 mg/耐
スチレン−マレイン酸共重合体 200 IIIg/
rd没食子酸ブチルエステル 500 mg/
mヒドラジン化合物 表−■に示す5−メ
チルベンゾトリアゾール 30 mg/rrf減感
色素または紫外線吸収染料 表−■に示す2−メルカプ
トベンツイミダゾール−5−スルホン酸
30 mg/rr?イナートオセインゼラチン
(等電点439)1.5 g /ボ 1−(p−アセチルアミドフェニル)−5メルカプトテ
トラゾール 30 mg/m銀M
2.8g/m(乳剤層保護膜) 乳剤層保護膜として、下記の付量になるよう調製塗布し
た。
アクリル酸3元共重合ポリマー
1.0 g /ボテドラフェニルホスホニウムクロ
ライド30 mg/耐 サポニン 200 mg/rr
lポリエチレングリコール 100 mg/r
rlドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム100
mg/rrr ハイドロキノン 200 mg/r
dフェニドン 100 mg/耐
スチレン−マレイン酸共重合体 200 IIIg/
rd没食子酸ブチルエステル 500 mg/
mヒドラジン化合物 表−■に示す5−メ
チルベンゾトリアゾール 30 mg/rrf減感
色素または紫外線吸収染料 表−■に示す2−メルカプ
トベンツイミダゾール−5−スルホン酸
30 mg/rr?イナートオセインゼラチン
(等電点439)1.5 g /ボ 1−(p−アセチルアミドフェニル)−5メルカプトテ
トラゾール 30 mg/m銀M
2.8g/m(乳剤層保護膜) 乳剤層保護膜として、下記の付量になるよう調製塗布し
た。
弗素化ジオクチルスルホコハク酸エステル300 r
ng/m マット剤:ポリメタクリル酸メチル(平均粒径3.5μ
m) 100 mg/m硝酸リチウ
ム塩 30mg/l+?酸処理ゼラチ
ン(等電点7.0) 1.2 g / rrrコ
ロイダルシリカ 50 lng/g5
0nm長波に吸収極大を持つ化合物 表−1に示す スチレン−マレイン酸共重合体 100 mg/m媒
染剤 (バッキング層) 添加剤を下記付量になるよう乳剤層とは反対側の支持体
上に塗布した。
ng/m マット剤:ポリメタクリル酸メチル(平均粒径3.5μ
m) 100 mg/m硝酸リチウ
ム塩 30mg/l+?酸処理ゼラチ
ン(等電点7.0) 1.2 g / rrrコ
ロイダルシリカ 50 lng/g5
0nm長波に吸収極大を持つ化合物 表−1に示す スチレン−マレイン酸共重合体 100 mg/m媒
染剤 (バッキング層) 添加剤を下記付量になるよう乳剤層とは反対側の支持体
上に塗布した。
ハイドロキノン 100 mg/m
フェニドン 30 mglrd
ラテックスポリマー:ブチルアクリレート−スチレン共
重合体 0.5g/イスチレンーマレイン酸
共重合体 100 mg/rrfクエン酸
40 mg/イサボニン
200 mg/イベンゾトリアゾール
100 mg/rr?硝酸リチウム塩
30 mg/mバッキング染料 (b) (c) So、Na オセインゼラチン 2.0 g / r
rr(バンキング層保護膜) 添加剤を下記付量になるよう調製塗布した。
フェニドン 30 mglrd
ラテックスポリマー:ブチルアクリレート−スチレン共
重合体 0.5g/イスチレンーマレイン酸
共重合体 100 mg/rrfクエン酸
40 mg/イサボニン
200 mg/イベンゾトリアゾール
100 mg/rr?硝酸リチウム塩
30 mg/mバッキング染料 (b) (c) So、Na オセインゼラチン 2.0 g / r
rr(バンキング層保護膜) 添加剤を下記付量になるよう調製塗布した。
ジオクチルスルホコハク酸エステル
300 mg/rrf
マント剤:ポリメタクリル酸メチル(平均粒径4.Op
m) 100 mg/ n?コロ
イダルシリカ 30 mg/nfオセ
インゼラチン(等電点4.9) 1.1 g /
rr?弗素化ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム
50 mg/rr?以上の
ようにして得られた試料を表−■に示す光源にて露光し
下記に示す現像液、定着液を使用して現像処理した。
m) 100 mg/ n?コロ
イダルシリカ 30 mg/nfオセ
インゼラチン(等電点4.9) 1.1 g /
rr?弗素化ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム
50 mg/rr?以上の
ようにして得られた試料を表−■に示す光源にて露光し
下記に示す現像液、定着液を使用して現像処理した。
(露光方法)
第1図(a)に示すスペクトル(400〜420nmに
比エネルギーの極大を持つ)を持つ「7球」と呼ばれる
米国ヒユージョン(FUSION)製の無電極放電光源
、または第1図(b)に示すスペクトル(350〜38
0nmに比エネルギーの極大を持つ)を持つ「0球」と
呼ばれる従来の光源をガラス板下に装着し、ガラス面上
には第2図に示すように貼り込み跡、抜き文字品質を評
価できるように原稿と感光材料を載せ(ガラス面より順
に、6.カントマスクフィルム、5.貼り込みベース、
4.vA画ポジ像が形成されたフィルム、3.貼り込み
ベース、2.網点画像が形成されたフィルム、1.返し
用感光材料)露光した。
比エネルギーの極大を持つ)を持つ「7球」と呼ばれる
米国ヒユージョン(FUSION)製の無電極放電光源
、または第1図(b)に示すスペクトル(350〜38
0nmに比エネルギーの極大を持つ)を持つ「0球」と
呼ばれる従来の光源をガラス板下に装着し、ガラス面上
には第2図に示すように貼り込み跡、抜き文字品質を評
価できるように原稿と感光材料を載せ(ガラス面より順
に、6.カントマスクフィルム、5.貼り込みベース、
4.vA画ポジ像が形成されたフィルム、3.貼り込み
ベース、2.網点画像が形成されたフィルム、1.返し
用感光材料)露光した。
く現像液処方〉
ハイドロキノン 25 gl−
フェニル−4,4−ジメチル−3−ピラゾリドン
0.4g臭化ナトリウム
3g5−メチルベンゾトリアゾール
0.3 g5−ニトロインダゾール 0.0
5 gジエチルアミノプロパン−1,2−ジオール0
g 亜硫酸カリウム 90 g5−スル
ホサリチル酸ナトリウム 75 gエチレンジアミン
四酢酸ナトリウム 2g水で11に仕上げた。
フェニル−4,4−ジメチル−3−ピラゾリドン
0.4g臭化ナトリウム
3g5−メチルベンゾトリアゾール
0.3 g5−ニトロインダゾール 0.0
5 gジエチルアミノプロパン−1,2−ジオール0
g 亜硫酸カリウム 90 g5−スル
ホサリチル酸ナトリウム 75 gエチレンジアミン
四酢酸ナトリウム 2g水で11に仕上げた。
pHは、苛性ソーダで11.5とした。
〈定着液処方〉
(組成A)
チオ硫酸アンモニウム(72,5%H/V水溶液)24
0 ml 亜硫酸ナトリウム 17 g酢酸ナ
トリウム・3水塩 6.5g硼酸
6gクエン酸ナトリウム・2水塩
2g酢酸(90%W/W水溶液)
13.6m l(組成り) 純水(イオン交換水) 11m1硫酸(
50%W/Wの水溶液) 4.7 g硫酸ア
ルミニウム(AAz(h換算含量が8.1%Wへの水溶
液) 26.5 g定着液の使用時に水5
00m j2中に上記組成A、組成りの順に溶かし、1
1に仕上げて用いた。
0 ml 亜硫酸ナトリウム 17 g酢酸ナ
トリウム・3水塩 6.5g硼酸
6gクエン酸ナトリウム・2水塩
2g酢酸(90%W/W水溶液)
13.6m l(組成り) 純水(イオン交換水) 11m1硫酸(
50%W/Wの水溶液) 4.7 g硫酸ア
ルミニウム(AAz(h換算含量が8.1%Wへの水溶
液) 26.5 g定着液の使用時に水5
00m j2中に上記組成A、組成りの順に溶かし、1
1に仕上げて用いた。
この定着液のpHは約4.3であった。
〈現像処理条件〉
(工程) (温度) (時間)現像
40℃ 15秒定着 35℃
10秒水洗 常温 10秒 評価は以下のようにして行い、結果を表−■に示した。
40℃ 15秒定着 35℃
10秒水洗 常温 10秒 評価は以下のようにして行い、結果を表−■に示した。
(写真性能評価方法)
(1) 貼り込み跡
図−2において貼り込み用ベース上に網フィルムを載せ
て、更に網フィルムの周辺を透明な製版用スコッチテー
プで固定しておき、露光現像処理した後このテープ跡(
貼り込み跡)がないときを「5」、跡が目立ち最も悪い
レベルを「1」として5段階評価をした。
て、更に網フィルムの周辺を透明な製版用スコッチテー
プで固定しておき、露光現像処理した後このテープ跡(
貼り込み跡)がないときを「5」、跡が目立ち最も悪い
レベルを「1」として5段階評価をした。
(2) 抜き文字品質
抜き文字品質は、第2図における網フィルムの50%の
網点面積を持つ部分が、返し用感光材料に50%の網点
面積となるように適正露光したとき、第2図における線
画フィルム上の50μmの線巾が再現される画質を言い
、非常に良い抜き文字画質を「5」とし、最も悪いレベ
ルを「1」として5段階評価をした。
網点面積を持つ部分が、返し用感光材料に50%の網点
面積となるように適正露光したとき、第2図における線
画フィルム上の50μmの線巾が再現される画質を言い
、非常に良い抜き文字画質を「5」とし、最も悪いレベ
ルを「1」として5段階評価をした。
表−■より、ヒドラジン化合物及びハロゲン化銀粒子を
含有し、該ハロゲン化銀粒子の極大感光波長より50n
m長波に吸収極大を持つ化合物を含有するハロゲン化銀
写真感光材料を通常の光源に385nm以下の短波をカ
ットする吸収フィルターを装着したもので露光すると(
試料Nt14)、 従来の光源で露光した比較試料(患
1〜3)に比べて貼り込み跡性能が良くなることがわか
る。更に、上記ハロゲン化銀写真感光材料に減感色素及
び/または紫外線吸収剤を添加した試料を400〜42
0nmに比エネルギーの極大値を持つ「7球」で露光す
ると(試料隘5〜9)著しく抜き文字品質が良好で貼り
込み跡のない銀画像が得られることが理解できる。
含有し、該ハロゲン化銀粒子の極大感光波長より50n
m長波に吸収極大を持つ化合物を含有するハロゲン化銀
写真感光材料を通常の光源に385nm以下の短波をカ
ットする吸収フィルターを装着したもので露光すると(
試料Nt14)、 従来の光源で露光した比較試料(患
1〜3)に比べて貼り込み跡性能が良くなることがわか
る。更に、上記ハロゲン化銀写真感光材料に減感色素及
び/または紫外線吸収剤を添加した試料を400〜42
0nmに比エネルギーの極大値を持つ「7球」で露光す
ると(試料隘5〜9)著しく抜き文字品質が良好で貼り
込み跡のない銀画像が得られることが理解できる。
なお大日本スクリーン社製明室プリンターP−627F
Mの光源上部にコダック力う−プリンティングフィルタ
ーCP−2Bを装着し表−■の試料N114を露光した
結果は試料11h4の結果と同様であった・ 実施例−2 実施例−1と同様にして試料を作成したが、ここでは、
主・副の2種類のハロゲン化銀粒子を混合して用いた。
Mの光源上部にコダック力う−プリンティングフィルタ
ーCP−2Bを装着し表−■の試料N114を露光した
結果は試料11h4の結果と同様であった・ 実施例−2 実施例−1と同様にして試料を作成したが、ここでは、
主・副の2種類のハロゲン化銀粒子を混合して用いた。
主粒子は平均粒径0.12μm、単分散度15、ヨード
2モル%を含む立方晶沃臭化銀粒子で、粒子内部にロジ
ウムを10−5モル含有する。
2モル%を含む立方晶沃臭化銀粒子で、粒子内部にロジ
ウムを10−5モル含有する。
また副粒子は平均粒径0.08μm、単分散度15で、
内部にロジウムを2X10−’モル含有し、主粒子より
感度が低い臭化銀2モル%含有の立方晶の塩臭化銀粒子
であった。主粒子1に対して副粒子10の割合で混合し
て、実施例−1の試料覧10と同様な添加剤を加えて試
料を作成し、露光し、現像処理した。上記の如き混合粒
子法で性能を評価すると、抜き文字、貼り込み跡性能と
もランク「5」より良い性能でかつ濃度が高く、写真製
品用フィルムの湿式減力適性を有するものであることが
わかった。
内部にロジウムを2X10−’モル含有し、主粒子より
感度が低い臭化銀2モル%含有の立方晶の塩臭化銀粒子
であった。主粒子1に対して副粒子10の割合で混合し
て、実施例−1の試料覧10と同様な添加剤を加えて試
料を作成し、露光し、現像処理した。上記の如き混合粒
子法で性能を評価すると、抜き文字、貼り込み跡性能と
もランク「5」より良い性能でかつ濃度が高く、写真製
品用フィルムの湿式減力適性を有するものであることが
わかった。
実施例−3
実施例−2と同様にして、主・副2種類の混合粒子法で
試料を作成した。副粒子は0.05μmの粒径のとき金
でカブらせて、更にシエリングした。
試料を作成した。副粒子は0.05μmの粒径のとき金
でカブらせて、更にシエリングした。
それ以外は、実施例−2と同様とした。この試料も抜き
文字、貼り込み跡性能ともランク「5」より良い性能で
、実施例−2より濃度が高<、減力性能のよいものであ
った。
文字、貼り込み跡性能ともランク「5」より良い性能で
、実施例−2より濃度が高<、減力性能のよいものであ
った。
実施例−4
実施例−3と同様にして、主・副2種類の混合粒子法で
試料を作成した。ここでは副粒子を0.05μmまで臭
化銀の組成で調製し、ここで核酸分解化合物のベンジル
アデニンを加えた後塩化銀でシエリングし、ロジウムを
2X10−5モル%含有する平均粒径0.09μmの粒
子を調製した。その他は全〈実施例−3と同様にして試
料を作成し、露光・現像処理した結果、性能は実施例−
3より抜き文字性能及び貼り込み跡性能がよ(、また濃
度の高い性能を有していた。
試料を作成した。ここでは副粒子を0.05μmまで臭
化銀の組成で調製し、ここで核酸分解化合物のベンジル
アデニンを加えた後塩化銀でシエリングし、ロジウムを
2X10−5モル%含有する平均粒径0.09μmの粒
子を調製した。その他は全〈実施例−3と同様にして試
料を作成し、露光・現像処理した結果、性能は実施例−
3より抜き文字性能及び貼り込み跡性能がよ(、また濃
度の高い性能を有していた。
実施例−5
実施例−2と同様にして試料を作成したが、ここでは主
・副の2種類のハロゲン化銀粒子を混合して用いた。主
粒子は厚さ0.05μm、平均粒径0.4μmの平板状
の、ヨードを2モル%含有する沃臭化銀粒子であった。
・副の2種類のハロゲン化銀粒子を混合して用いた。主
粒子は厚さ0.05μm、平均粒径0.4μmの平板状
の、ヨードを2モル%含有する沃臭化銀粒子であった。
得られた性能を評価した結果、実施例−3と同様な性能
を示すものであった。
を示すものであった。
実施例−6
実施例−2と同様にして試料を作成したが、ここではポ
リエチレンテレフタレートでラミネートした紙支持体上
に塗布した。このとき乳剤中に、沸点150℃以上の高
沸点溶媒(ジオクチルフタレート)に溶かした螢光増白
剤を30mg/m添加し、塗布銀量を13mg/ボとし
た。その他は実施例−2を変更せずに試料を作成した。
リエチレンテレフタレートでラミネートした紙支持体上
に塗布した。このとき乳剤中に、沸点150℃以上の高
沸点溶媒(ジオクチルフタレート)に溶かした螢光増白
剤を30mg/m添加し、塗布銀量を13mg/ボとし
た。その他は実施例−2を変更せずに試料を作成した。
得られた試料は抜き文字性能、貼り込み跡はランク「5
」に値する性能であり、紙支持体を使用した場合にも適
用できることがわかった。
」に値する性能であり、紙支持体を使用した場合にも適
用できることがわかった。
上述のように、本発明の画像形成方法によれば選択した
光源による露光で良好な性能、特に写真性能として返し
特性における抜き文字品質の良い、更にテープ貼り込み
跡の出ないハロゲン化銀写真感光材料の画像形成ができ
る。
光源による露光で良好な性能、特に写真性能として返し
特性における抜き文字品質の良い、更にテープ貼り込み
跡の出ないハロゲン化銀写真感光材料の画像形成ができ
る。
第1図(a)は、本発明に用いる「V球」と呼ばれる無
電極放電光源のスペクトルであり、第1図(b)は、「
D球」と呼ばれる従来の光源のスペクトルである。第2
図は、抜き文字返し作業時の原稿と感光材料の関係を示
す図である。 1・・・返し用感光材料、2・・・網点画像が形成され
たフィルム、3,5・・・貼り込みベース、4・・・線
画ポジ像が形成されたフィルム、6・・・カットマスク
フィルム。 特許出願人 小西六写真工業株式会社代理人弁理士
高 月 亨(a) V昧 (b) ’D球 第1図 第2vA
電極放電光源のスペクトルであり、第1図(b)は、「
D球」と呼ばれる従来の光源のスペクトルである。第2
図は、抜き文字返し作業時の原稿と感光材料の関係を示
す図である。 1・・・返し用感光材料、2・・・網点画像が形成され
たフィルム、3,5・・・貼り込みベース、4・・・線
画ポジ像が形成されたフィルム、6・・・カットマスク
フィルム。 特許出願人 小西六写真工業株式会社代理人弁理士
高 月 亨(a) V昧 (b) ’D球 第1図 第2vA
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、ヒドラジン化合物及びハロゲン化銀粒子、及び該ハ
ロゲン化銀粒子の極大感光波長より少なくとも50nm
長波に極大吸収を持つ化合物を含有するハロゲン化銀写
真感光材料を、 390〜430nmに比エネルギーの極大値を持つ光源
にて露光することを特徴とする画像形成方法。 2、上記ハロゲン化銀写真感光材料が減感色素及び/ま
たは紫外線吸収剤を含有し、該ハロゲン化銀写真感光材
料を390〜430nmに比エネルギーの極大値を持つ
光源にて露光することを特徴とする特許請求の範囲第1
項に記載の画像形成方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61241600A JPH0687144B2 (ja) | 1986-10-11 | 1986-10-11 | 貼り込み跡の改良された画像形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61241600A JPH0687144B2 (ja) | 1986-10-11 | 1986-10-11 | 貼り込み跡の改良された画像形成方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6395438A true JPS6395438A (ja) | 1988-04-26 |
JPH0687144B2 JPH0687144B2 (ja) | 1994-11-02 |
Family
ID=17076727
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61241600A Expired - Fee Related JPH0687144B2 (ja) | 1986-10-11 | 1986-10-11 | 貼り込み跡の改良された画像形成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0687144B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01161341A (ja) * | 1987-12-18 | 1989-06-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料の現像方法 |
JPH02124558A (ja) * | 1988-11-02 | 1990-05-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
JPH02198441A (ja) * | 1989-01-27 | 1990-08-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
JPH02198442A (ja) * | 1989-01-27 | 1990-08-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59177536A (ja) * | 1983-03-29 | 1984-10-08 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
JPS59193447A (ja) * | 1983-04-18 | 1984-11-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 明室用ハロゲン化銀写真感光材料 |
-
1986
- 1986-10-11 JP JP61241600A patent/JPH0687144B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59177536A (ja) * | 1983-03-29 | 1984-10-08 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
JPS59193447A (ja) * | 1983-04-18 | 1984-11-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 明室用ハロゲン化銀写真感光材料 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01161341A (ja) * | 1987-12-18 | 1989-06-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料の現像方法 |
JPH02124558A (ja) * | 1988-11-02 | 1990-05-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
JPH02198441A (ja) * | 1989-01-27 | 1990-08-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
JPH02198442A (ja) * | 1989-01-27 | 1990-08-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0687144B2 (ja) | 1994-11-02 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |