JPH02110559A - 印刷材料 - Google Patents
印刷材料Info
- Publication number
- JPH02110559A JPH02110559A JP26288588A JP26288588A JPH02110559A JP H02110559 A JPH02110559 A JP H02110559A JP 26288588 A JP26288588 A JP 26288588A JP 26288588 A JP26288588 A JP 26288588A JP H02110559 A JPH02110559 A JP H02110559A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- silver halide
- compd
- hydrazine
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 47
- -1 silver halide Chemical class 0.000 claims abstract description 105
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims abstract description 50
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims abstract description 50
- 238000011161 development Methods 0.000 claims abstract description 24
- 125000003831 tetrazolyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 31
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 17
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 11
- 150000002429 hydrazines Chemical class 0.000 claims description 2
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 26
- 239000002245 particle Substances 0.000 abstract description 17
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 12
- 238000012545 processing Methods 0.000 abstract description 12
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 11
- 239000002904 solvent Substances 0.000 abstract description 4
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 229940043237 diethanolamine Drugs 0.000 abstract 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 abstract 1
- 239000011877 solvent mixture Substances 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 49
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 21
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 13
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 13
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 13
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 13
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 13
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 11
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 11
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 9
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 9
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 8
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 7
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 7
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 description 6
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 6
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 6
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910021607 Silver chloride Inorganic materials 0.000 description 5
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 5
- 150000003283 rhodium Chemical class 0.000 description 5
- HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M silver monochloride Chemical compound [Cl-].[Ag+] HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 5
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 4
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 4
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- CDAWCLOXVUBKRW-UHFFFAOYSA-N 2-aminophenol Chemical class NC1=CC=CC=C1O CDAWCLOXVUBKRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 3
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N Pyrimidine Chemical compound C1=CN=CN=C1 CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- XCFIVNQHHFZRNR-UHFFFAOYSA-N [Ag].Cl[IH]Br Chemical compound [Ag].Cl[IH]Br XCFIVNQHHFZRNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 3
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 3
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 3
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 3
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 3
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 3
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 3
- 239000004816 latex Substances 0.000 description 3
- 229920000126 latex Polymers 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 3
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 3
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea group Chemical group NC(=S)N UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzothiazole-2-thiol Chemical compound C1=CC=C2SC(S)=NC2=C1 YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WFTGTFCWWWPJAF-UHFFFAOYSA-N 1-(2,3-diphenyl-1H-tetrazol-5-yl)ethanone Chemical compound N1C(C(=O)C)=NN(C=2C=CC=CC=2)N1C1=CC=CC=C1 WFTGTFCWWWPJAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IXNKNVCYDIVHSA-UHFFFAOYSA-N 2-(4-methylphenyl)-3,5-diphenyl-1h-tetrazole Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1N1N(C=2C=CC=CC=2)N=C(C=2C=CC=CC=2)N1 IXNKNVCYDIVHSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LPYUENQFPVNPHY-UHFFFAOYSA-N 3-methoxycatechol Chemical compound COC1=CC=CC(O)=C1O LPYUENQFPVNPHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PLIKAWJENQZMHA-UHFFFAOYSA-N 4-aminophenol Chemical compound NC1=CC=C(O)C=C1 PLIKAWJENQZMHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRUDIIUSNGCQKF-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-1H-benzotriazole Chemical compound C1=C(C)C=CC2=NNN=C21 LRUDIIUSNGCQKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N Ascorbic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- ZTHYODDOHIVTJV-UHFFFAOYSA-N Propyl gallate Chemical compound CCCOC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 ZTHYODDOHIVTJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SJOOOZPMQAWAOP-UHFFFAOYSA-N [Ag].BrCl Chemical compound [Ag].BrCl SJOOOZPMQAWAOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 2
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 2
- ZOJBYZNEUISWFT-UHFFFAOYSA-N allyl isothiocyanate Chemical compound C=CCN=C=S ZOJBYZNEUISWFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 2
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003785 benzimidazolyl group Chemical group N1=C(NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 2
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 2
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 2
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 2
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 2
- GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N dodecyl benzenesulfonate;sodium Chemical compound [Na].CCCCCCCCCCCCOS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 2
- 150000002503 iridium Chemical class 0.000 description 2
- 239000006224 matting agent Substances 0.000 description 2
- 230000001404 mediated effect Effects 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 2
- CMCWWLVWPDLCRM-UHFFFAOYSA-N phenidone Chemical compound N1C(=O)CCN1C1=CC=CC=C1 CMCWWLVWPDLCRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 235000019252 potassium sulphite Nutrition 0.000 description 2
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001397 quillaja saponaria molina bark Substances 0.000 description 2
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 2
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SONJTKJMTWTJCT-UHFFFAOYSA-K rhodium(iii) chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Rh+3] SONJTKJMTWTJCT-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 229930182490 saponin Natural products 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L sodium sulfite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])=O GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 description 2
- CNHDIAIOKMXOLK-UHFFFAOYSA-N toluquinol Chemical compound CC1=CC(O)=CC=C1O CNHDIAIOKMXOLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TXUICONDJPYNPY-UHFFFAOYSA-N (1,10,13-trimethyl-3-oxo-4,5,6,7,8,9,11,12,14,15,16,17-dodecahydrocyclopenta[a]phenanthren-17-yl) heptanoate Chemical compound C1CC2CC(=O)C=C(C)C2(C)C2C1C1CCC(OC(=O)CCCCCC)C1(C)CC2 TXUICONDJPYNPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJVOHKFLBKQLIZ-UHFFFAOYSA-N (2-ethenylphenyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1=CC=CC=C1C=C NJVOHKFLBKQLIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHPBZFOKBAGZBL-UHFFFAOYSA-N (3-hydroxy-2,2,4-trimethylpentyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)C(O)C(C)(C)COC(=O)C(C)=C JHPBZFOKBAGZBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJYFRQQXXXRJHK-UHFFFAOYSA-N (4-aminophenyl) thiocyanate Chemical compound NC1=CC=C(SC#N)C=C1 NJYFRQQXXXRJHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DTCCVIYSGXONHU-CJHDCQNGSA-N (z)-2-(2-phenylethenyl)but-2-enedioic acid Chemical compound OC(=O)\C=C(C(O)=O)\C=CC1=CC=CC=C1 DTCCVIYSGXONHU-CJHDCQNGSA-N 0.000 description 1
- QDNPCYCBQFHNJC-UHFFFAOYSA-N 1,1'-biphenyl-3,4-diol Chemical compound C1=C(O)C(O)=CC=C1C1=CC=CC=C1 QDNPCYCBQFHNJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AIGNCQCMONAWOL-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoselenazole Chemical group C1=CC=C2[se]C=NC2=C1 AIGNCQCMONAWOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000355 1,3-benzoxazolyl group Chemical group O1C(=NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- OXLXSOPFNVKUMU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dioctoxy-1,4-dioxobutane-2-sulfonic acid Chemical class CCCCCCCCOC(=O)CC(S(O)(=O)=O)C(=O)OCCCCCCCC OXLXSOPFNVKUMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 1,4-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=C(N)C=C1 CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GGZHVNZHFYCSEV-UHFFFAOYSA-N 1-Phenyl-5-mercaptotetrazole Chemical compound SC1=NN=NN1C1=CC=CC=C1 GGZHVNZHFYCSEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NXVHEHXRZVQDCR-UHFFFAOYSA-N 1-n,1-n-diethyl-2-methylbenzene-1,4-diamine Chemical compound CCN(CC)C1=CC=C(N)C=C1C NXVHEHXRZVQDCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XIROXSOOOAZHLL-UHFFFAOYSA-N 2',3',4'-Trihydroxyacetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=C(O)C(O)=C1O XIROXSOOOAZHLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-tetramine Chemical compound NCCNCCNCCN VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YZDIUKPBJDYTOM-UHFFFAOYSA-N 2,5-diethylbenzene-1,4-diol Chemical compound CCC1=CC(O)=C(CC)C=C1O YZDIUKPBJDYTOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- REFDOIWRJDGBHY-UHFFFAOYSA-N 2-bromobenzene-1,4-diol Chemical compound OC1=CC=C(O)C(Br)=C1 REFDOIWRJDGBHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBILVINOJVKEHG-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-6-phenylphenol Chemical compound OC1=C(Cl)C=CC=C1C1=CC=CC=C1 XBILVINOJVKEHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZGJUJDQANIYVAL-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-4-morpholin-4-ylaniline Chemical compound C1=C(N)C(C)=CC(N2CCOCC2)=C1 ZGJUJDQANIYVAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001494 2-propynyl group Chemical group [H]C#CC([H])([H])* 0.000 description 1
- YBMTWYWCLVMFFD-UHFFFAOYSA-N 3-methylbutyl 3,4,5-trihydroxybenzoate Chemical compound CC(C)CCOC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 YBMTWYWCLVMFFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJSJAWHHGDPBOC-UHFFFAOYSA-N 4,4-dimethyl-1-phenylpyrazolidin-3-one Chemical compound N1C(=O)C(C)(C)CN1C1=CC=CC=C1 SJSJAWHHGDPBOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XKAKMCNHHNUUGN-UHFFFAOYSA-N 4-(5-methyl-3-phenyl-1H-tetrazol-2-yl)phenol Chemical compound N1C(C)=NN(C=2C=CC=CC=2)N1C1=CC=C(O)C=C1 XKAKMCNHHNUUGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006283 4-chlorobenzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1Cl)C([H])([H])* 0.000 description 1
- WWOBYPKUYODHDG-UHFFFAOYSA-N 4-chlorocatechol Chemical compound OC1=CC=C(Cl)C=C1O WWOBYPKUYODHDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004860 4-ethylphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- PCNFLKVWBDNNOW-UHFFFAOYSA-N 4-hydrazinylbenzoic acid Chemical compound NNC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 PCNFLKVWBDNNOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZFIQGRISGKSVAG-UHFFFAOYSA-N 4-methylaminophenol Chemical compound CNC1=CC=C(O)C=C1 ZFIQGRISGKSVAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000590 4-methylphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- BQCIJWPKDPZNHD-UHFFFAOYSA-N 5-bromo-2h-benzotriazole Chemical compound C1=C(Br)C=CC2=NNN=C21 BQCIJWPKDPZNHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001817 Agar Polymers 0.000 description 1
- 102000009027 Albumins Human genes 0.000 description 1
- 108010088751 Albumins Proteins 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical group [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DFQVGTFDFGVTGK-KVVVOXFISA-M ClC(C(=O)[O-])CCCCCC\C=C/CCCCCCCC.[K+] Chemical compound ClC(C(=O)[O-])CCCCCC\C=C/CCCCCCCC.[K+] DFQVGTFDFGVTGK-KVVVOXFISA-M 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPWFJAMTCNSJKK-UHFFFAOYSA-N Dodecyl gallate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 RPWFJAMTCNSJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000084 Gum arabic Polymers 0.000 description 1
- AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N Hydroxylamine Chemical compound ON AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWBJYWHLCVSVIJ-UHFFFAOYSA-N N-benzyladenine Chemical compound N=1C=NC=2NC=NC=2C=1NCC1=CC=CC=C1 NWBJYWHLCVSVIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical group C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021604 Rhodium(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- QUGNZNCOLVCQKW-UHFFFAOYSA-M S[Sn] Chemical compound S[Sn] QUGNZNCOLVCQKW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000978776 Senegalia senegal Species 0.000 description 1
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical group C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021626 Tin(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Natural products NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N [(2s,3r,4s,5r,6r)-2-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-dinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-trinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-3-yl]oxy-3,5-dinitrooxy-6-(nitrooxymethyl)oxan-4-yl] nitrate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O1)O[N+]([O-])=O)CO[N+](=O)[O-])[C@@H]1[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O[C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000205 acacia gum Substances 0.000 description 1
- 235000010489 acacia gum Nutrition 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 125000004442 acylamino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005073 adamantyl group Chemical group C12(CC3CC(CC(C1)C3)C2)* 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000008272 agar Substances 0.000 description 1
- 235000010419 agar Nutrition 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 239000000783 alginic acid Substances 0.000 description 1
- 235000010443 alginic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229920000615 alginic acid Polymers 0.000 description 1
- 229960001126 alginic acid Drugs 0.000 description 1
- 150000004781 alginic acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000004390 alkyl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 235000016720 allyl isothiocyanate Nutrition 0.000 description 1
- HTKFORQRBXIQHD-UHFFFAOYSA-N allylthiourea Chemical compound NC(=S)NCC=C HTKFORQRBXIQHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H aluminium sulfate (anhydrous) Chemical compound [Al+3].[Al+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 1
- XYXNTHIYBIDHGM-UHFFFAOYSA-N ammonium thiosulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S([O-])(=O)=S XYXNTHIYBIDHGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LNTHITQWFMADLM-UHFFFAOYSA-N anhydrous gallic acid Natural products OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 LNTHITQWFMADLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003125 aqueous solvent Substances 0.000 description 1
- 125000004391 aryl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 235000010323 ascorbic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000011668 ascorbic acid Substances 0.000 description 1
- 229960005070 ascorbic acid Drugs 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012752 auxiliary agent Substances 0.000 description 1
- QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N barium oxide Chemical compound [Ba]=O QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001864 baryta Inorganic materials 0.000 description 1
- PEKMXCRKYQVRCK-UHFFFAOYSA-N benzene-1,4-diol;phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1.OC1=CC=C(O)C=C1 PEKMXCRKYQVRCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMTXUWGBSGZXCJ-UHFFFAOYSA-N benzo[e][1,3]benzoselenazole Chemical group C1=CC=C2C(N=C[se]3)=C3C=CC2=C1 AMTXUWGBSGZXCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXNQKOAQSGJCQU-UHFFFAOYSA-N benzo[e][1,3]benzothiazole Chemical group C1=CC=C2C(N=CS3)=C3C=CC2=C1 KXNQKOAQSGJCQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMUIZUWOEIQJEH-UHFFFAOYSA-N benzo[e][1,3]benzoxazole Chemical group C1=CC=C2C(N=CO3)=C3C=CC2=C1 WMUIZUWOEIQJEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical group C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001164 benzothiazolyl group Chemical group S1C(=NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 1
- 150000001565 benzotriazoles Chemical class 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- DNSISZSEWVHGLH-UHFFFAOYSA-N butanamide Chemical compound CCCC(N)=O DNSISZSEWVHGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOPOEBVTQYAOSV-UHFFFAOYSA-N butyl 3,4,5-trihydroxybenzoate Chemical compound CCCCOC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 XOPOEBVTQYAOSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- IYCOKCJDXXJIIM-UHFFFAOYSA-N butyl prop-2-enoate;prop-2-enoic acid;styrene Chemical compound OC(=O)C=C.C=CC1=CC=CC=C1.CCCCOC(=O)C=C IYCOKCJDXXJIIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001951 carbamoylamino group Chemical group C(N)(=O)N* 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 1
- ZUIVNYGZFPOXFW-UHFFFAOYSA-N chembl1717603 Chemical compound N1=C(C)C=C(O)N2N=CN=C21 ZUIVNYGZFPOXFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- NEHMKBQYUWJMIP-NJFSPNSNSA-N chloro(114C)methane Chemical compound [14CH3]Cl NEHMKBQYUWJMIP-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- AJPXTSMULZANCB-UHFFFAOYSA-N chlorohydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C(Cl)=C1 AJPXTSMULZANCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 150000001868 cobalt Chemical class 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000011033 desalting Methods 0.000 description 1
- 125000004663 dialkyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 229960000878 docusate sodium Drugs 0.000 description 1
- 235000010386 dodecyl gallate Nutrition 0.000 description 1
- 239000000555 dodecyl gallate Substances 0.000 description 1
- 229940080643 dodecyl gallate Drugs 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000003623 enhancer Substances 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000003754 ethoxycarbonyl group Chemical group C(=O)(OCC)* 0.000 description 1
- YVRWSHBSELXXRQ-UHFFFAOYSA-N ethyl n-anilino-n-(4-methylphenyl)sulfonylcarbamate Chemical compound C=1C=C(C)C=CC=1S(=O)(=O)N(C(=O)OCC)NC1=CC=CC=C1 YVRWSHBSELXXRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- 229940074391 gallic acid Drugs 0.000 description 1
- 235000004515 gallic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 150000002343 gold Chemical class 0.000 description 1
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N hydroquinone methyl ether Natural products COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004464 hydroxyphenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001041 indolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 1
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- IIPYXGDZVMZOAP-UHFFFAOYSA-N lithium nitrate Chemical compound [Li+].[O-][N+]([O-])=O IIPYXGDZVMZOAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000001160 methoxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC(*)=O 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- DDPJROKUKMXGPW-UHFFFAOYSA-N n-(4-methylanilino)formamide Chemical compound CC1=CC=C(NNC=O)C=C1 DDPJROKUKMXGPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ILFKOROXPGVKCP-UHFFFAOYSA-N n-[4-(diethylamino)anilino]formamide Chemical compound CCN(CC)C1=CC=C(NNC=O)C=C1 ILFKOROXPGVKCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CEDQGNQFKZOLQC-UHFFFAOYSA-N n-[4-(ethylcarbamothioylamino)anilino]formamide Chemical compound CCNC(=S)NC1=CC=C(NNC=O)C=C1 CEDQGNQFKZOLQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIDHTEGXKCPFRM-UHFFFAOYSA-N n-[4-(octylamino)anilino]formamide Chemical compound CCCCCCCCNC1=CC=C(NNC=O)C=C1 JIDHTEGXKCPFRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002971 oxazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N phenylbenzene Natural products C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004437 phosphorous atom Chemical group 0.000 description 1
- 150000003057 platinum Chemical class 0.000 description 1
- 229920006289 polycarbonate film Polymers 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 229910001414 potassium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- BHZRJJOHZFYXTO-UHFFFAOYSA-L potassium sulfite Chemical compound [K+].[K+].[O-]S([O-])=O BHZRJJOHZFYXTO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000003755 preservative agent Substances 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 125000004368 propenyl group Chemical group C(=CC)* 0.000 description 1
- 235000010388 propyl gallate Nutrition 0.000 description 1
- 239000000473 propyl gallate Substances 0.000 description 1
- 229940075579 propyl gallate Drugs 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000001007 puffing effect Effects 0.000 description 1
- NDGRWYRVNANFNB-UHFFFAOYSA-N pyrazolidin-3-one Chemical class O=C1CCNN1 NDGRWYRVNANFNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000714 pyrimidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 description 1
- 125000001422 pyrrolinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002943 quinolinyl group Chemical group N1=C(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 230000005070 ripening Effects 0.000 description 1
- 150000007949 saponins Chemical class 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 1
- 125000003748 selenium group Chemical group *[Se]* 0.000 description 1
- IYKVLICPFCEZOF-UHFFFAOYSA-N selenourea Chemical compound NC(N)=[Se] IYKVLICPFCEZOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M silver bromide Chemical group [Ag]Br ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 235000010378 sodium ascorbate Nutrition 0.000 description 1
- PPASLZSBLFJQEF-RKJRWTFHSA-M sodium ascorbate Substances [Na+].OC[C@@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1[O-] PPASLZSBLFJQEF-RKJRWTFHSA-M 0.000 description 1
- 229960005055 sodium ascorbate Drugs 0.000 description 1
- NLJMYIDDQXHKNR-UHFFFAOYSA-K sodium citrate Chemical compound O.O.[Na+].[Na+].[Na+].[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O NLJMYIDDQXHKNR-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229960000999 sodium citrate dihydrate Drugs 0.000 description 1
- APSBXTVYXVQYAB-UHFFFAOYSA-M sodium docusate Chemical compound [Na+].CCCCC(CC)COC(=O)CC(S([O-])(=O)=O)C(=O)OCC(CC)CCCC APSBXTVYXVQYAB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940080264 sodium dodecylbenzenesulfonate Drugs 0.000 description 1
- FZHLWVUAICIIPW-UHFFFAOYSA-M sodium gallate Chemical compound [Na+].OC1=CC(C([O-])=O)=CC(O)=C1O FZHLWVUAICIIPW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 235000010265 sodium sulphite Nutrition 0.000 description 1
- AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L sodium thiosulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=S AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000019345 sodium thiosulphate Nutrition 0.000 description 1
- PPASLZSBLFJQEF-RXSVEWSESA-M sodium-L-ascorbate Chemical compound [Na+].OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1[O-] PPASLZSBLFJQEF-RXSVEWSESA-M 0.000 description 1
- PCTXBFQNMDKOSP-UHFFFAOYSA-M sodium;(2-carboxyphenyl) sulfate Chemical compound [Na+].OS(=O)(=O)OC1=CC=CC=C1C([O-])=O PCTXBFQNMDKOSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 235000011150 stannous chloride Nutrition 0.000 description 1
- 239000001119 stannous chloride Substances 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L sulfite Chemical class [O-]S([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000000565 sulfonamide group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 1
- 229920006027 ternary co-polymer Polymers 0.000 description 1
- WAGFXJQAIZNSEQ-UHFFFAOYSA-M tetraphenylphosphonium chloride Chemical compound [Cl-].C1=CC=CC=C1[P+](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 WAGFXJQAIZNSEQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- UEUXEKPTXMALOB-UHFFFAOYSA-J tetrasodium;2-[2-[bis(carboxylatomethyl)amino]ethyl-(carboxylatomethyl)amino]acetate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].[O-]C(=O)CN(CC([O-])=O)CCN(CC([O-])=O)CC([O-])=O UEUXEKPTXMALOB-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 150000003475 thallium Chemical class 0.000 description 1
- 125000002769 thiazolinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000335 thiazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229960001124 trientine Drugs 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C5/00—Photographic processes or agents therefor; Regeneration of such processing agents
- G03C5/26—Processes using silver-salt-containing photosensitive materials or agents therefor
- G03C5/268—Processing baths not provided for elsewhere, e.g. pre-treatment, stop, intermediate or rinse baths
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、印刷材料、特にハロゲン化銀写真感光材料を
現像処理した印刷材料に関するものである。
現像処理した印刷材料に関するものである。
近年、印刷製版の分野においては、省力化及び合理化作
業環境の改善の為、暗室下で行われていたいわゆる返し
工程作業を明るい部屋でできるようにする為の技術が要
求され、感光材料、その他の材料及び装置の改良の研究
が行われている。
業環境の改善の為、暗室下で行われていたいわゆる返し
工程作業を明るい部屋でできるようにする為の技術が要
求され、感光材料、その他の材料及び装置の改良の研究
が行われている。
明室取り扱い可能な感光材料としては、紫外光に富む光
源、例えば超高圧水銀灯、メタルパライト光源、キセノ
ンランプ、ハロゲンランプ等に感光、するハロゲン化銀
写真感光材料が挙げられる。
源、例えば超高圧水銀灯、メタルパライト光源、キセノ
ンランプ、ハロゲンランプ等に感光、するハロゲン化銀
写真感光材料が挙げられる。
これらのハロゲン化銀写真感光材料は、100乃至30
0ルクスという明るい一般蛍光灯あるいは紫外線量の少
ない専用の蛍光灯下で取り扱うことができる。
0ルクスという明るい一般蛍光灯あるいは紫外線量の少
ない専用の蛍光灯下で取り扱うことができる。
ところで、このような利点を有する一方、現像処理後に
得られる黒化画像中にピンホールと言われる欠陥が認め
られる。
得られる黒化画像中にピンホールと言われる欠陥が認め
られる。
ここで言うピンホールとは、黒化画像中に約30ミクロ
ン以内で白く抜けてしまう現象で、その形状は円形もし
くは不定形であるが、あたかもピンで刺した穴状に見え
ることからつけられたものである。
ン以内で白く抜けてしまう現象で、その形状は円形もし
くは不定形であるが、あたかもピンで刺した穴状に見え
ることからつけられたものである。
そして、発生したピンホールに対してはオペ−キング(
穴埋め、画像修正作業)で対処しなければならず、著し
く作業効率を悪くしていた。
穴埋め、画像修正作業)で対処しなければならず、著し
く作業効率を悪くしていた。
二のような観点から、ピンホールの発生のない、あるい
は著しく少ない材料の開発が待たれていたのである。
は著しく少ない材料の開発が待たれていたのである。
〔発明の開示]
本発明の目的は、ハロゲン化銀写真感光材料が現像処理
されてなる印刷!材料にピンホールの発生がないもしく
は著しく少ない印刷材料を提供することにある。
されてなる印刷!材料にピンホールの発生がないもしく
は著しく少ない印刷材料を提供することにある。
上記の本発明の目的は、ヒドラジン化合物及びテトラゾ
リウム化合物の群の中から選ばれる少なくとも一種の化
合物と、感光性ハロゲン化銀粒子とを含有するハロゲン
化銀写真感光材料が現像処理されてなる印刷材料であっ
て、現像処理後オキシボロン化合物が付与されてなるこ
とを特徴とする印刷材料によって達成される。
リウム化合物の群の中から選ばれる少なくとも一種の化
合物と、感光性ハロゲン化銀粒子とを含有するハロゲン
化銀写真感光材料が現像処理されてなる印刷材料であっ
て、現像処理後オキシボロン化合物が付与されてなるこ
とを特徴とする印刷材料によって達成される。
尚、現像処理は、通常には例えば現像、定着、水洗から
なる各処理をいい、現像処理後とはこれ理槽に搬送する
工程等を挙げることができる。
なる各処理をいい、現像処理後とはこれ理槽に搬送する
工程等を挙げることができる。
そして、オキシボロン化合物を介在させる手段としては
、オキシボロン化合物を含む液体又は気体に接触処理さ
せることが考えられ、例えば第1図に示す如く、水又は
ジエチレングリコール、ジェタノールアミン、メタノー
ル、エタノール、イソプロパツール等の有機溶媒若しく
はこれらの有a溶媒と水との混合溶媒にオキシボロン化
合物を溶解せしめた溶液を作り、この溶液に含浸させた
後、乾燥処理したり、第2図に示す如く、含浸ローラー
を介して処理したり、第3図に示す如く、ノズル塗布(
ノズル角度はO〜180°の任意)と含浸ローラーとで
処理したり、第4図に示す如く、ノズルで供給されたオ
キシボロン化合物を含む溶液をローラーを介して処理し
たり、第5図に示す如く、垂直方向に搬送される現像法
のハロゲン化銀写真材料に対してその両側からノズルで
オキシボロン化合物を含む溶液を供給して処理したり、
第6図に示す如く、オキシボロン化合物を含む溶液をノ
ズルで噴霧供給して処理したり、第7図に示す如く、現
像法のハロゲン化銀写真感光材料に1!荷を与え、そし
てオキシボロン化合物を含む溶液をノズルで供給したり
、あるいは第8図に示す如く、オキシボロン化合物を含
む溶液を供給した後、光(紫外線あるいは可視光)や熱
(赤外線)、その他覚子線で処理することによって、オ
キシボロン化合物を介在させることができる。
、オキシボロン化合物を含む液体又は気体に接触処理さ
せることが考えられ、例えば第1図に示す如く、水又は
ジエチレングリコール、ジェタノールアミン、メタノー
ル、エタノール、イソプロパツール等の有機溶媒若しく
はこれらの有a溶媒と水との混合溶媒にオキシボロン化
合物を溶解せしめた溶液を作り、この溶液に含浸させた
後、乾燥処理したり、第2図に示す如く、含浸ローラー
を介して処理したり、第3図に示す如く、ノズル塗布(
ノズル角度はO〜180°の任意)と含浸ローラーとで
処理したり、第4図に示す如く、ノズルで供給されたオ
キシボロン化合物を含む溶液をローラーを介して処理し
たり、第5図に示す如く、垂直方向に搬送される現像法
のハロゲン化銀写真材料に対してその両側からノズルで
オキシボロン化合物を含む溶液を供給して処理したり、
第6図に示す如く、オキシボロン化合物を含む溶液をノ
ズルで噴霧供給して処理したり、第7図に示す如く、現
像法のハロゲン化銀写真感光材料に1!荷を与え、そし
てオキシボロン化合物を含む溶液をノズルで供給したり
、あるいは第8図に示す如く、オキシボロン化合物を含
む溶液を供給した後、光(紫外線あるいは可視光)や熱
(赤外線)、その他覚子線で処理することによって、オ
キシボロン化合物を介在させることができる。
尚、第1〜8図中、Wは水洗槽、Fは現像処理済の写真
材料、Aはオキシボロン化合物含有液槽、Nはノズル、
Rはローラーである。
材料、Aはオキシボロン化合物含有液槽、Nはノズル、
Rはローラーである。
次に、本発明の印刷材料に介在させるオキシボロン化合
物について説明する。
物について説明する。
ここでオキシボロン化合物とは、ホウ素原子にアルキレ
ンオキサイド或いはアリレンオキサイVが結合している
化合物であって、好ましい化合物として、下記−数式(
1〕で表すものを挙げることができる。
ンオキサイド或いはアリレンオキサイVが結合している
化合物であって、好ましい化合物として、下記−数式(
1〕で表すものを挙げることができる。
アルキル基、芳香基、又はへテロ環基を表す。
次に、本発明の実施に際して用いることができるオキシ
ボロン化合物の具体的な例を挙げるが、本発明はこれら
に限定されるものではない。
ボロン化合物の具体的な例を挙げるが、本発明はこれら
に限定されるものではない。
ここでRIIJI!及びRI3は、置換されてもよい又
、本発明に用いられるヒドラジン化合物には、好ましく
は下記−数式(If−a)で表される化合物がある。
、本発明に用いられるヒドラジン化合物には、好ましく
は下記−数式(If−a)で表される化合物がある。
一般式(II−a)
式中、R1は1価の有機残基を表し、eは水素原子又は
1価の有機残基を表し、01及びQ、は水素原子、アル
キルスルホニル基(置WA基を有するものも含む)、ア
リールスルホニル基(置換基を有するものも含む)を表
し、xIは酸素原子又はイオウ原子を表す、−瓜式(n
−a)で表される化合物のうち、xlが酸素原子であり
、かつR1が水素原子である化合物が特に好ましい。
1価の有機残基を表し、01及びQ、は水素原子、アル
キルスルホニル基(置WA基を有するものも含む)、ア
リールスルホニル基(置換基を有するものも含む)を表
し、xIは酸素原子又はイオウ原子を表す、−瓜式(n
−a)で表される化合物のうち、xlが酸素原子であり
、かつR1が水素原子である化合物が特に好ましい。
上記R1及びR黛の1価の有機残基としては、芳香族残
基、複素環残基及び脂肪族残基が包含される。
基、複素環残基及び脂肪族残基が包含される。
芳香族残基としては、フェニル基、ナフチル基及びこれ
らに置換基(例えばアルキル基、アルコキシ基、アシル
ヒドラジノ基、ジアルキルアミノ基、アルコキシカルボ
ニル基、シアノ基、カルボキシ基、ニトロ基、アルキル
チオ基、ヒドロキシ基、スルホニル基、カルバモイル基
、ハロゲン原子、アシルアミノ基、スルホンアミド基、
チオウレア基等)のついたものを含む、1換基のついた
ものの具体例として、例えば、4−メチルフェニル基、
4−エチルフェニル基、4−オキシエチルフェニル基、
4−ドデシルフェニル基、4−カルボキシフェニル基、
4−ジエチルアミノフェニル基、4−オクチルアミノフ
ェニル基、4−ベンジルアミノフェニル基、4−アセト
アミド−2−メチルフェニル基、4−(3−エチルチオ
ウレイド)フェニル基、4− (2−(2,4−ジーt
art−ブチルフェノキシ)ブチルアミド〕フェニルL
4−(2−(2,4−ジーtert−ブチルフェノキシ
)ブチルアミド〕フェニル基等を挙げることができる。
らに置換基(例えばアルキル基、アルコキシ基、アシル
ヒドラジノ基、ジアルキルアミノ基、アルコキシカルボ
ニル基、シアノ基、カルボキシ基、ニトロ基、アルキル
チオ基、ヒドロキシ基、スルホニル基、カルバモイル基
、ハロゲン原子、アシルアミノ基、スルホンアミド基、
チオウレア基等)のついたものを含む、1換基のついた
ものの具体例として、例えば、4−メチルフェニル基、
4−エチルフェニル基、4−オキシエチルフェニル基、
4−ドデシルフェニル基、4−カルボキシフェニル基、
4−ジエチルアミノフェニル基、4−オクチルアミノフ
ェニル基、4−ベンジルアミノフェニル基、4−アセト
アミド−2−メチルフェニル基、4−(3−エチルチオ
ウレイド)フェニル基、4− (2−(2,4−ジーt
art−ブチルフェノキシ)ブチルアミド〕フェニルL
4−(2−(2,4−ジーtert−ブチルフェノキシ
)ブチルアミド〕フェニル基等を挙げることができる。
複素環残基としては、酸素、窒素、硫黄、又はセレン原
子のうち少なくとも一つを有する五貝もしくは六員の単
環又は縮合環で、これらに置換基がついてもよい、具体
的には例えば、ピロリン環、ピリジン環、キノリン環、
インドール環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環
、ナフトオキサゾール環、イミダゾール環、ベンゾイミ
ダゾール環、チアゾリン環、チアゾール環、ベンゾチア
ゾール環、ナフトチアゾール環、セレナゾ〒ル環、ベン
ゾセレナゾール環、ナフトセレナゾール環等の残基を挙
げることが出来る。
子のうち少なくとも一つを有する五貝もしくは六員の単
環又は縮合環で、これらに置換基がついてもよい、具体
的には例えば、ピロリン環、ピリジン環、キノリン環、
インドール環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環
、ナフトオキサゾール環、イミダゾール環、ベンゾイミ
ダゾール環、チアゾリン環、チアゾール環、ベンゾチア
ゾール環、ナフトチアゾール環、セレナゾ〒ル環、ベン
ゾセレナゾール環、ナフトセレナゾール環等の残基を挙
げることが出来る。
これらの複素環は、メチル基、エチル基環炭素数1−4
のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基等jllll[
1〜4のアルコキシ基、フェニル基等の炭素数6〜18
のアリール基や、クロル、ブロム等のハロゲン原子、ア
ルコキシカルボニル基、シアノ基、アミノ基等で置換さ
れていてもよい。
のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基等jllll[
1〜4のアルコキシ基、フェニル基等の炭素数6〜18
のアリール基や、クロル、ブロム等のハロゲン原子、ア
ルコキシカルボニル基、シアノ基、アミノ基等で置換さ
れていてもよい。
脂肪族残基としては、直鎖及び分岐のアルキル基、シク
ロアルキル基及びこれらに置換基のついたもの、並びに
アルケニル及びアルキニル基を含む。
ロアルキル基及びこれらに置換基のついたもの、並びに
アルケニル及びアルキニル基を含む。
直鎖及び分岐のアルキル基としては、例えば炭素数1〜
18、好ましくは1〜8のアルキル基であって、具体的
には例えばメチル基、エチル基、イソブチル基、l−オ
クチル基等である。
18、好ましくは1〜8のアルキル基であって、具体的
には例えばメチル基、エチル基、イソブチル基、l−オ
クチル基等である。
シクロアルキル基としては、例えば炭素数3〜lOのも
ので、具体的には例えばシクロプロピル基、シクロヘキ
シル基、アダマンチル基等である。アルキル基やシクロ
アルキル基に対する置換基としてはアルコキシ基(例え
ばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基
等)、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、ヒド
ロキシ基、アルキルチオ基、アミド基、アシロキシ基、
シアノ基、スルホニル基、ハロゲン原子、アリール基(
例えばフェニル基、ハロゲンil!ff1tAフェニル
基、アルキル置換フェニル基)等であり、Wtaされた
ものの具体例としては例えば3−メトキシプロピル基、
エトキシカルボニルメチル基、4−クロロシクロヘキシ
ル基、ベンジル基、p−メチルベンジル基、p−クロロ
ベンジル基等を挙げることができる。
ので、具体的には例えばシクロプロピル基、シクロヘキ
シル基、アダマンチル基等である。アルキル基やシクロ
アルキル基に対する置換基としてはアルコキシ基(例え
ばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基
等)、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、ヒド
ロキシ基、アルキルチオ基、アミド基、アシロキシ基、
シアノ基、スルホニル基、ハロゲン原子、アリール基(
例えばフェニル基、ハロゲンil!ff1tAフェニル
基、アルキル置換フェニル基)等であり、Wtaされた
ものの具体例としては例えば3−メトキシプロピル基、
エトキシカルボニルメチル基、4−クロロシクロヘキシ
ル基、ベンジル基、p−メチルベンジル基、p−クロロ
ベンジル基等を挙げることができる。
又、アルケニル基としては例えばアリル(allyl)
基、アルキニルとしては例えばプロパルギル基を挙げる
ことができる。
基、アルキニルとしては例えばプロパルギル基を挙げる
ことができる。
尚、本発明のヒドラジン化合物の好ましい具体例を以下
に示すが、本発明は何等これによって限定されるもので
はない。
に示すが、本発明は何等これによって限定されるもので
はない。
(n−1) l−ホルミル−2−14−(2−(2,4
−ジーtert−ブチルフェノキシ)ブチルアミド〕フ
ェニル)ヒドラジン (It−2)1−ホルミル−2−(4−ジエチルアミノ
フェニル)ヒドラジン (…−3) 1−ホルミル−2−(p−トリル)ヒドラ
ジン(H〜4)!−ホルミルー2−(4−エチルフェニ
ル) ヒドラジン (If−5)1−ホルミル−2−(4,アセトアミド−
2−メチルフェニル)ヒドラジン (II−6)1−ホルミル−2−(4−オキシエチルフ
ェニル)ヒドラジン (II−7)1−ホルミル−2−(4−N、lj−ジヒ
ドロキシエチルアミノフヱニル)ヒドラジン (II−8)1−ホルミル−2−(4−(3−エチルチ
オウレイド)フェニル)ヒドラジン (II−9)!−チオホルミルー2− +4− (2
−(2,4−ジーtart−ブチルフェノキシ)ブチル
アミドフェニル)ヒドラジン (■−10) l−ホルミル−2−(4−ベンジルアミ
ノフェニル)ヒドラジン (!l−11)1−ホルミル−2−(4−オクチルアミ
ノフェニル) ヒドラジン (■−12)1−ホルミル−2−(4−ドデシルフェニ
ル)ヒドラジン (It−L3)1−アセチル−2−(4−2−2,4−
ジーter t−ブチルフェノキシ)ブチルアミド〕フ
ェニル)ヒドラジン (n−14)4−カルボキシフェニルヒドラジン(U−
15)l−7(! チル−1−(4−メチル7 エニル
ス)Ltホニル)−2−フェニルヒドラジン (II−16)1−エトキシカルボニル−1−(4−メ
チルフェニルスルホニル)−2−フェニルヒドラジン(
n −17) 1−ホルミル−2−(4−ヒドロキシフ
ェニノリ2−(4−メチルフェニルスルホニル)−ヒド
ラジン (If−180−(4−アセトキシフェニル)−2−ホ
ルミル−1−(4−メチルフェニルスルホニル)−ヒド
ラジン (n−19)1−ホルミル−2−(4−ヘキサノキシフ
ェニル)−2−(4−メチルフェニルスルホニル)−ヒ
ドラジン (II −20) l−ホルミル−2−〔4−テトラヒ
ドロ−2H−ピラン−2−イルオキシ)−フェニル)
−2−(4−メチルフェニルスルホニル)−ヒドラジン
(■−λIN−ホルミルー2−(4−(3−へキシルウ
レイドフェニル) )−2−(4−メチルフェニルスル
ホニル)−ヒドラジン (n−22)1−ホルミル−2−(4−メチルフェニル
スルホニル)−2−(4−(フェノキシチオカルボニル
アミノ)−フェニル〕−ヒドラジン(II −23)
1− (4−エトキシチオカルボニルアミノフェニル)
−2−ホルミル−1−(4−メチルフェニルスルホニル
)−ヒドラジン (n−24)1−ホルミル−2−(4−メチルフェニル
スルホニル)−2−(4−(3−メチル−3−フェニル
−2−チオウレイド)−フェニル〕−ヒドラジン (n−25)l−((4〜(3−(4−(2,4−ビス
−ドアミルフェノキシ)−ブチル)ウレイド)フェニル
)1−2−ホルミル−1−(4−メチルフェニルスルホ
ニル)−ヒドラジン(II −26) (n −28) (■−29) (II −30) ■ (II −36) (II −32) (II −37) (II−33) (n −38) (II −34) (■−39) (■−35) (以下余白) (II−40) (It −41) (If−42) (II −43) (ロー44) (II −53) u −54) (■−55) ■−56) (■−45) (n(6) (■−47) (■−48) ([1−49) CIl、01l (■ (n−58) (It −59) 上記−触式(n−a)で表されるヒドラジン化合物の添
加位置はハロゲン化浪乳剤層及び/又は支持体上のハロ
ゲン化銀乳剤層側にある非感光層であるが、好ましくは
ハロゲン化銀乳剤眉及び/又はその下層である。
−ジーtert−ブチルフェノキシ)ブチルアミド〕フ
ェニル)ヒドラジン (It−2)1−ホルミル−2−(4−ジエチルアミノ
フェニル)ヒドラジン (…−3) 1−ホルミル−2−(p−トリル)ヒドラ
ジン(H〜4)!−ホルミルー2−(4−エチルフェニ
ル) ヒドラジン (If−5)1−ホルミル−2−(4,アセトアミド−
2−メチルフェニル)ヒドラジン (II−6)1−ホルミル−2−(4−オキシエチルフ
ェニル)ヒドラジン (II−7)1−ホルミル−2−(4−N、lj−ジヒ
ドロキシエチルアミノフヱニル)ヒドラジン (II−8)1−ホルミル−2−(4−(3−エチルチ
オウレイド)フェニル)ヒドラジン (II−9)!−チオホルミルー2− +4− (2
−(2,4−ジーtart−ブチルフェノキシ)ブチル
アミドフェニル)ヒドラジン (■−10) l−ホルミル−2−(4−ベンジルアミ
ノフェニル)ヒドラジン (!l−11)1−ホルミル−2−(4−オクチルアミ
ノフェニル) ヒドラジン (■−12)1−ホルミル−2−(4−ドデシルフェニ
ル)ヒドラジン (It−L3)1−アセチル−2−(4−2−2,4−
ジーter t−ブチルフェノキシ)ブチルアミド〕フ
ェニル)ヒドラジン (n−14)4−カルボキシフェニルヒドラジン(U−
15)l−7(! チル−1−(4−メチル7 エニル
ス)Ltホニル)−2−フェニルヒドラジン (II−16)1−エトキシカルボニル−1−(4−メ
チルフェニルスルホニル)−2−フェニルヒドラジン(
n −17) 1−ホルミル−2−(4−ヒドロキシフ
ェニノリ2−(4−メチルフェニルスルホニル)−ヒド
ラジン (If−180−(4−アセトキシフェニル)−2−ホ
ルミル−1−(4−メチルフェニルスルホニル)−ヒド
ラジン (n−19)1−ホルミル−2−(4−ヘキサノキシフ
ェニル)−2−(4−メチルフェニルスルホニル)−ヒ
ドラジン (II −20) l−ホルミル−2−〔4−テトラヒ
ドロ−2H−ピラン−2−イルオキシ)−フェニル)
−2−(4−メチルフェニルスルホニル)−ヒドラジン
(■−λIN−ホルミルー2−(4−(3−へキシルウ
レイドフェニル) )−2−(4−メチルフェニルスル
ホニル)−ヒドラジン (n−22)1−ホルミル−2−(4−メチルフェニル
スルホニル)−2−(4−(フェノキシチオカルボニル
アミノ)−フェニル〕−ヒドラジン(II −23)
1− (4−エトキシチオカルボニルアミノフェニル)
−2−ホルミル−1−(4−メチルフェニルスルホニル
)−ヒドラジン (n−24)1−ホルミル−2−(4−メチルフェニル
スルホニル)−2−(4−(3−メチル−3−フェニル
−2−チオウレイド)−フェニル〕−ヒドラジン (n−25)l−((4〜(3−(4−(2,4−ビス
−ドアミルフェノキシ)−ブチル)ウレイド)フェニル
)1−2−ホルミル−1−(4−メチルフェニルスルホ
ニル)−ヒドラジン(II −26) (n −28) (■−29) (II −30) ■ (II −36) (II −32) (II −37) (II−33) (n −38) (II −34) (■−39) (■−35) (以下余白) (II−40) (It −41) (If−42) (II −43) (ロー44) (II −53) u −54) (■−55) ■−56) (■−45) (n(6) (■−47) (■−48) ([1−49) CIl、01l (■ (n−58) (It −59) 上記−触式(n−a)で表されるヒドラジン化合物の添
加位置はハロゲン化浪乳剤層及び/又は支持体上のハロ
ゲン化銀乳剤層側にある非感光層であるが、好ましくは
ハロゲン化銀乳剤眉及び/又はその下層である。
そして、添加量は10−’〜10柑モル/銀1モルが好
ましく、さらに好ましくは101〜1O−1モル/恨1
モルである。
ましく、さらに好ましくは101〜1O−1モル/恨1
モルである。
又、本発明に用いられるテトラゾリウム化合物について
説明する。
説明する。
このテトラゾリウム化合物の好ましいものとして、次の
一般式(n−b)、(El−c)又は〔■−d)で示さ
れるものがある。
一般式(n−b)、(El−c)又は〔■−d)で示さ
れるものがある。
一般式(■−b〕
一般式(■−C〕
一般式(II−d)
式中、R+、 Rs、 Ra、 Rs、 Rs、 Rv
、 R+*及びR11は、それぞれアルキル基(例えば
メチル基、エチル&、7”ロピル基、ドデシル基等)、
アルケニル基(例えばビニル基、アリル基、プロペニル
基等)、アリール基(例えばフェニル基、トリル基、ヒ
ドロキシフェニル基、カルボキシフェニル基、アミノフ
ェニル基、メルカプトフェニル基、α−ナフチル基、β
−ナフチル基、ヒドロキシナフチル基、カルボキシナフ
チル基、アミノナフチル基等)、及び複素環基(例えば
チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、オキサシリル基、
ピリミジニル基、ピリジル基等)から選ばれる基を表し
、これらはいずれも金属キレートあるいは錯体を形成す
るような基でもよい。
、 R+*及びR11は、それぞれアルキル基(例えば
メチル基、エチル&、7”ロピル基、ドデシル基等)、
アルケニル基(例えばビニル基、アリル基、プロペニル
基等)、アリール基(例えばフェニル基、トリル基、ヒ
ドロキシフェニル基、カルボキシフェニル基、アミノフ
ェニル基、メルカプトフェニル基、α−ナフチル基、β
−ナフチル基、ヒドロキシナフチル基、カルボキシナフ
チル基、アミノナフチル基等)、及び複素環基(例えば
チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、オキサシリル基、
ピリミジニル基、ピリジル基等)から選ばれる基を表し
、これらはいずれも金属キレートあるいは錯体を形成す
るような基でもよい。
12t、R4及びR1は、それぞれアリル基、置換基を
有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいナフチ
ル基、複素環基、アルキル基(例えばメチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、メルカプトメチル基、メチ
ルカプトエチル基等)、ヒドロキシ基、カルボキシル基
又はその塩、アルコキシカルボニル基(例えばメトキシ
カルボニル基、エトキシカルボニル基等)、アミノ基(
例えばアミノ基、エチルアミノ基、アニリノ基等)、メ
ルカプト基、ニトロ基、又は水素原子から選ばれる基を
表し、Dは2価の芳香族基を表わし、Eはアルキレン基
、アリレン基、アラルキレン基から選ばれる基を表し、
X−はアニオンを表し、iは1又は2の整数を表す、た
だし化合物が分子内塩を形成する場合nはlである。
有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいナフチ
ル基、複素環基、アルキル基(例えばメチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、メルカプトメチル基、メチ
ルカプトエチル基等)、ヒドロキシ基、カルボキシル基
又はその塩、アルコキシカルボニル基(例えばメトキシ
カルボニル基、エトキシカルボニル基等)、アミノ基(
例えばアミノ基、エチルアミノ基、アニリノ基等)、メ
ルカプト基、ニトロ基、又は水素原子から選ばれる基を
表し、Dは2価の芳香族基を表わし、Eはアルキレン基
、アリレン基、アラルキレン基から選ばれる基を表し、
X−はアニオンを表し、iは1又は2の整数を表す、た
だし化合物が分子内塩を形成する場合nはlである。
次に、前記−数式(11−b)、(l[−c)又は(I
I−d)で表されるテトラゾリウム化合物の具体例を示
すが、本発明はこれらのみに限定されるものではない。
I−d)で表されるテトラゾリウム化合物の具体例を示
すが、本発明はこれらのみに限定されるものではない。
(II−61) 2−(ベンゾチアゾール−2,イル)
−3−フェニル−5−ドデシル−2トチトラゾリウム(
II−62) 2.3〜ジフェニル−5−(4−L−オ
クチルオキシフェニル)−2トチトラゾリウム (II−63) 2,3.5−トリフェニル−2■−
テトラゾリウム (n−64) 2.3.5−)す(ρ−カルボキシエ
チルフェニル)−2■−テトラゾリウム (n−65) 2−(ベンゾチアゾール−2−イル)
−3−フェニル−5−(O−クロロフェニル)−2H−
テトラゾリウム (n−66) 2.3−ジフェニル−2■−テトラゾ
リウム(II−67) 2.3−ジフェニル−5−メ
チル−2H−テトラゾリウム (■−68) 3−(p−ヒドロキシフェニル)−5
−メチル−2−フェニル−2H−テトラゾリウム(It
−69) 2.3−ジフェニル−5−エチル−2H−
テトラゾリウム (−II−TO) 2.3−ジフェニル−5−n−ヘ
キシル−2トチトラゾリウム (II−71) 5−シアノ−2,3−ジフ二ニルー
2トチトラゾリウム (II−72) 2− (ベンゾチアゾール−2−イ
ル)−5−フェニル−3−(4−トリル)−2トチトラ
ゾリウム (■−73) 2−(ベンゾチアゾール−2−イル)
−5−(4−クロロフェニル)−3−(4−ニトロフェ
ニル)−2トチトラゾリウム (■−74)5−エトキシカルボニル−2,3−ジ(3
−ニトロフェニル)−2トチトラゾリウム (II−75) 5−アセチル−2,3−ジ(p−エ
トキシフェニル)−2トチトラゾリウム (n−76) 2.5−ジフェニル−3−(p−トリ
ル)−2H−テトラゾリウム (II−77) 2.5−ジフェニル−3−(ρ−ヨ
ードフェニル)−2トチトラゾリウム (n−78) 2.3−ジフェニル−5−(ρ−ジフ
ェニル)−2H−テトラゾリウム (■−79) 5−(p−ブロモフェニル)−2−フ
ェニル−3(2,4,6−)リクロロフェニル)−2H
−テトラゾリウム (n−80) 3−(ρ−ヒドロキシフェニル) −
5−(p−二トロフェニル)−2−フェニル−2H−テ
トラゾリウム (II−81) 5−(3,4−ジメトキシフェニル
)−3−(2エトキシフエニル)=2−(4−メトキシ
フェニル)−2トチトラゾリウム (II −82) 5− (4−シアノフェニル)−
2,3−ジフェニル−2トチトラゾリウム (■−83) 3−(、−アセトアミドフェニル)−
2,5−ジフェニル−2H−テトラゾリウム (■−84)5−アセチル−2,3−ジフェニル−2H
−テトラゾリウム (n−85) 5−(フラン−2−イル)−2,3−
ジフェニル2トチトラゾリウム (II−86) 5〜(チオフェン−2−イル)−2
,3−ジフェニル−2トチトラゾリウム (■−87) 2.3−ジフェニル−5−(ピリド−
4−イル)−21−テトラゾリウム (It−88) 2.3−ジフェニル−5−(キノー
ル−2−イル)−2トチトラゾリウム (II−89) 2.3−ジフェニル−5−(ベンゾ
オキサゾール−2−イル)−2トチトラゾリウム (n −90) 2.3.5− トリ(p−エチルフ
ェニル)−2■テトラゾリウム (II−91) 2,3.5−トリ(p−アリルフェ
ニル)−21テトラゾリウム (II−92) 2,3.5−トリ(p−ヒドロキシ
エチルオキシエトキシフェニル)−2トチトラゾリウム (II−93) 2.3.5−トリ(p−ドデシルフ
ェニル)−211テトラゾリウム (n−94) 2,3.5〜トリ(ρ−ベンジルフェ
ニル)−2H−テトラゾリウム 前記−数式(n−b)ないし〔■−C〕におけるX−で
表されるアニオンとしてはハロゲンイオン、例えばCI
L−を挙げることができる。
−3−フェニル−5−ドデシル−2トチトラゾリウム(
II−62) 2.3〜ジフェニル−5−(4−L−オ
クチルオキシフェニル)−2トチトラゾリウム (II−63) 2,3.5−トリフェニル−2■−
テトラゾリウム (n−64) 2.3.5−)す(ρ−カルボキシエ
チルフェニル)−2■−テトラゾリウム (n−65) 2−(ベンゾチアゾール−2−イル)
−3−フェニル−5−(O−クロロフェニル)−2H−
テトラゾリウム (n−66) 2.3−ジフェニル−2■−テトラゾ
リウム(II−67) 2.3−ジフェニル−5−メ
チル−2H−テトラゾリウム (■−68) 3−(p−ヒドロキシフェニル)−5
−メチル−2−フェニル−2H−テトラゾリウム(It
−69) 2.3−ジフェニル−5−エチル−2H−
テトラゾリウム (−II−TO) 2.3−ジフェニル−5−n−ヘ
キシル−2トチトラゾリウム (II−71) 5−シアノ−2,3−ジフ二ニルー
2トチトラゾリウム (II−72) 2− (ベンゾチアゾール−2−イ
ル)−5−フェニル−3−(4−トリル)−2トチトラ
ゾリウム (■−73) 2−(ベンゾチアゾール−2−イル)
−5−(4−クロロフェニル)−3−(4−ニトロフェ
ニル)−2トチトラゾリウム (■−74)5−エトキシカルボニル−2,3−ジ(3
−ニトロフェニル)−2トチトラゾリウム (II−75) 5−アセチル−2,3−ジ(p−エ
トキシフェニル)−2トチトラゾリウム (n−76) 2.5−ジフェニル−3−(p−トリ
ル)−2H−テトラゾリウム (II−77) 2.5−ジフェニル−3−(ρ−ヨ
ードフェニル)−2トチトラゾリウム (n−78) 2.3−ジフェニル−5−(ρ−ジフ
ェニル)−2H−テトラゾリウム (■−79) 5−(p−ブロモフェニル)−2−フ
ェニル−3(2,4,6−)リクロロフェニル)−2H
−テトラゾリウム (n−80) 3−(ρ−ヒドロキシフェニル) −
5−(p−二トロフェニル)−2−フェニル−2H−テ
トラゾリウム (II−81) 5−(3,4−ジメトキシフェニル
)−3−(2エトキシフエニル)=2−(4−メトキシ
フェニル)−2トチトラゾリウム (II −82) 5− (4−シアノフェニル)−
2,3−ジフェニル−2トチトラゾリウム (■−83) 3−(、−アセトアミドフェニル)−
2,5−ジフェニル−2H−テトラゾリウム (■−84)5−アセチル−2,3−ジフェニル−2H
−テトラゾリウム (n−85) 5−(フラン−2−イル)−2,3−
ジフェニル2トチトラゾリウム (II−86) 5〜(チオフェン−2−イル)−2
,3−ジフェニル−2トチトラゾリウム (■−87) 2.3−ジフェニル−5−(ピリド−
4−イル)−21−テトラゾリウム (It−88) 2.3−ジフェニル−5−(キノー
ル−2−イル)−2トチトラゾリウム (II−89) 2.3−ジフェニル−5−(ベンゾ
オキサゾール−2−イル)−2トチトラゾリウム (n −90) 2.3.5− トリ(p−エチルフ
ェニル)−2■テトラゾリウム (II−91) 2,3.5−トリ(p−アリルフェ
ニル)−21テトラゾリウム (II−92) 2,3.5−トリ(p−ヒドロキシ
エチルオキシエトキシフェニル)−2トチトラゾリウム (II−93) 2.3.5−トリ(p−ドデシルフ
ェニル)−211テトラゾリウム (n−94) 2,3.5〜トリ(ρ−ベンジルフェ
ニル)−2H−テトラゾリウム 前記−数式(n−b)ないし〔■−C〕におけるX−で
表されるアニオンとしてはハロゲンイオン、例えばCI
L−を挙げることができる。
本発明に使用するテトラゾリウム化合物は、1種を用い
てもよく、又、2種以上を任意の比率で組み合わせて併
用することもできる。
てもよく、又、2種以上を任意の比率で組み合わせて併
用することもできる。
本発明の好ましい一つの実施態様として、本発明に係わ
るテトラゾリウム化合物をハロゲン化銀乳剤層中に添加
することが挙げられる。又、本発明の別の好ましい実施
態様においては、ハロゲン化銀乳剤層に直接隣接する非
感光性親水性コロイド層、又は中間層を介して隣接する
非感光性親水性コロイド層に添加される。
るテトラゾリウム化合物をハロゲン化銀乳剤層中に添加
することが挙げられる。又、本発明の別の好ましい実施
態様においては、ハロゲン化銀乳剤層に直接隣接する非
感光性親水性コロイド層、又は中間層を介して隣接する
非感光性親水性コロイド層に添加される。
又、別の態様としては、本発明に係わるテトラゾリウム
化合物を適当な有m溶媒、例えばメタノール、エタノー
ル等のアルコール類やエーテル類、エステル類等に溶解
してオーバーコート法等により感光材料のハロゲン化銀
乳剤層側の最外層になる部分に直接塗布して感光材料に
含有せしめてもよい。
化合物を適当な有m溶媒、例えばメタノール、エタノー
ル等のアルコール類やエーテル類、エステル類等に溶解
してオーバーコート法等により感光材料のハロゲン化銀
乳剤層側の最外層になる部分に直接塗布して感光材料に
含有せしめてもよい。
又11本発明に係わるテトラゾリウム化合物は本発明の
感光材料に含有されるハロゲン化311モル当りlXl
0−’モルから10モルまで、特に2X10−’モルか
ら2X10−’モルまでの範囲で用いるのが好ましい。
感光材料に含有されるハロゲン化311モル当りlXl
0−’モルから10モルまで、特に2X10−’モルか
ら2X10−’モルまでの範囲で用いるのが好ましい。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料の好ましい層構成と
しては、支持体上の支持体側からもっとも近い層として
ハロゲン化銀乳剤層を設ける。
しては、支持体上の支持体側からもっとも近い層として
ハロゲン化銀乳剤層を設ける。
その上層に染料層として、下層のハロゲン化銀乳剤層が
有する感光極大より長波に吸収極大をもつ化合物を含む
層が塗布されたものを挙げることができる。上記二層の
上下あるいは中間には、下引層、中間層あるいは保護層
などの層が設けられていてもよい。
有する感光極大より長波に吸収極大をもつ化合物を含む
層が塗布されたものを挙げることができる。上記二層の
上下あるいは中間には、下引層、中間層あるいは保護層
などの層が設けられていてもよい。
本発明の好ましい実施l梯は、上述のハロゲン化銀乳剤
層中にヒドラジン化合物が含有され、その上層に塗布さ
れる該ハロゲン化銀粒子の感光極大より5On−長波に
吸収種火をもつ化合物を含む層中に金属酸化物を含有さ
せる方法である。
層中にヒドラジン化合物が含有され、その上層に塗布さ
れる該ハロゲン化銀粒子の感光極大より5On−長波に
吸収種火をもつ化合物を含む層中に金属酸化物を含有さ
せる方法である。
尚、金属酸化物を含む層は感光材料の支持体からもうと
も違い層でよ(、言いかえれば最外層に存在させるのが
もっとも好ましい、この最外層は、乳剤層側が好ましい
が、バッキング層側でもよい。
も違い層でよ(、言いかえれば最外層に存在させるのが
もっとも好ましい、この最外層は、乳剤層側が好ましい
が、バッキング層側でもよい。
層の最外層中に含有させる金属酸化物は、酸化インジウ
ム、酸化スズ或いはアンチモン原子又はリン原子をドー
プした金属酸化物のいづれか又はこれらの組合わせを用
いることができる。
ム、酸化スズ或いはアンチモン原子又はリン原子をドー
プした金属酸化物のいづれか又はこれらの組合わせを用
いることができる。
本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料に用いるハロゲ
ン化銀は、任意の組成の塩化銀、塩臭化銀、塩沃臭化銀
等で、少なくとも50モル%の塩化銀を含有することが
好ましい、ハロゲン化銀粒子の平均粒径は0.025〜
0.5p−の範囲のものが好ましく用いられるが、0.
05〜0.30μ−がより好ましい。
ン化銀は、任意の組成の塩化銀、塩臭化銀、塩沃臭化銀
等で、少なくとも50モル%の塩化銀を含有することが
好ましい、ハロゲン化銀粒子の平均粒径は0.025〜
0.5p−の範囲のものが好ましく用いられるが、0.
05〜0.30μ−がより好ましい。
本発明に係るハロゲン化銀粒子の単分散度は、下記式(
1)で定義され、その値は5〜60が好ましく、より好
ましくは8〜30となるよう調製する。
1)で定義され、その値は5〜60が好ましく、より好
ましくは8〜30となるよう調製する。
本発明に係るハロゲン化銀粒子の粒径は、便宜的に立方
晶粒子の穂長で表し、単分散度は粒径の標準偏差を平均
粒径で割った値を100倍した数値で表す。
晶粒子の穂長で表し、単分散度は粒径の標準偏差を平均
粒径で割った値を100倍した数値で表す。
ここでriは粒径、niは粒径riの粒子の個数、7は
粒径の平均を表す。
粒径の平均を表す。
又、本発明で用い得るハロゲン化銀としては、少なくと
も2層の多層積層構造を有するタイプのものを好ましく
用いることができる0例えばコア2部に塩化銀、シェル
部に臭化銀、逆にコア部を臭化銀、シェル部を塩化銀で
ある塩臭化銀粒子であってもよい、このときヨードは任
意の眉に5%モル以内で含有させることができる。
も2層の多層積層構造を有するタイプのものを好ましく
用いることができる0例えばコア2部に塩化銀、シェル
部に臭化銀、逆にコア部を臭化銀、シェル部を塩化銀で
ある塩臭化銀粒子であってもよい、このときヨードは任
意の眉に5%モル以内で含有させることができる。
又、少なくとも2種類の粒子を混合して用いることもで
きる0例えば粒子は10モル%以下の塩化銀及び5モル
%以下のヨードを含有する立方晶、八面体又は平板状の
塩沃臭化銀粒子であり、粒子はヨード5モル%以下で塩
化銀50モル%以上含有する立方晶、八面体又は平板状
塩沃臭化銀粒子からなる混合粒子とすることができる。
きる0例えば粒子は10モル%以下の塩化銀及び5モル
%以下のヨードを含有する立方晶、八面体又は平板状の
塩沃臭化銀粒子であり、粒子はヨード5モル%以下で塩
化銀50モル%以上含有する立方晶、八面体又は平板状
塩沃臭化銀粒子からなる混合粒子とすることができる。
このように粒子を混合して用いる場合は、主・副粒子の
化学増感は任意であるが、副粒子は主粒子より化学増感
(イオウ増感や金増感)を控えることにより感度を低く
してもよいし、粒子径や内部にドープするロジウムなど
の貴金属の量を調節して感度を低下させてもよい、又、
コア/シェル法でコアとシェルの組成を変化させて例え
ば内部に金を用いてカブらせてもよい、主粒子と副粒子
は小粒子程よいが、例えば0.025μst〜1.0μ
−の任意の値をとることができる。
化学増感は任意であるが、副粒子は主粒子より化学増感
(イオウ増感や金増感)を控えることにより感度を低く
してもよいし、粒子径や内部にドープするロジウムなど
の貴金属の量を調節して感度を低下させてもよい、又、
コア/シェル法でコアとシェルの組成を変化させて例え
ば内部に金を用いてカブらせてもよい、主粒子と副粒子
は小粒子程よいが、例えば0.025μst〜1.0μ
−の任意の値をとることができる。
本発明に用いるハロゲン化銀乳剤調製時には、ロジウム
塩を添加して感度又は階調をコントロールする事ができ
る。ロジウム塩の添加は一般には粒子形成時が好ましい
が、化学熟成時、乳剤塗布液調製時でも良い。
塩を添加して感度又は階調をコントロールする事ができ
る。ロジウム塩の添加は一般には粒子形成時が好ましい
が、化学熟成時、乳剤塗布液調製時でも良い。
本発明に用いるハロゲン化銀乳剤に添加されるロジウム
塩は、単純な塩の他に複塩でも良い0代表的には、ロジ
ウムクロライド、ロジウムトリクロライド、ロジウムア
ンモニウムクロライドなどが用いられる。
塩は、単純な塩の他に複塩でも良い0代表的には、ロジ
ウムクロライド、ロジウムトリクロライド、ロジウムア
ンモニウムクロライドなどが用いられる。
ロジウム塩の添加量は、必要とする感度、階調により自
由に変えられるが、111モルに対して1O−9モルか
ら1O−4モルの範囲が特に有用である。
由に変えられるが、111モルに対して1O−9モルか
ら1O−4モルの範囲が特に有用である。
又、ロジウム塩を使用するときに、他の無機化合物例え
ばイリジウム塩、白金塩、タリウム塩、コバルト塩、金
塩などを併用しても良い、イリジウム塩はしばしば高照
度特性の改良の目的で、恨1モル当り10−9モルから
1O−4モルの範囲まで好ましく用いることができる。
ばイリジウム塩、白金塩、タリウム塩、コバルト塩、金
塩などを併用しても良い、イリジウム塩はしばしば高照
度特性の改良の目的で、恨1モル当り10−9モルから
1O−4モルの範囲まで好ましく用いることができる。
本発明において用いられるハロゲン化銀は種々の化学増
感剤によって増悪することができる。増感剤としては、
例えば活性ゼラチン、硫黄増悪剤(チオ硫酸ソーダ、ア
リルチオカルバミド、チオ尿素、アリルイソチオシアネ
ート等)、セレン増感剤(N、N−ジメチルセレン尿素
、セレノ尿素等)、還元増感剤(トリエチレンテトラミ
ン、塩化第1スズ等)、例えばカリウムクロロオーライ
ト、カリウムオーリチオシアネート、カリウムクロロオ
ーレート、2−オーロスルホベンゾチアゾールメチルク
ロライド、アンモニウムクロロパラデート、カリ、ウム
クロロブラチネート、 ナトリウムクロロバラダイト等
で代表される各種貴金属増感剤等をそれぞれ単独で、あ
るいは2種以上併用して用いることができる。尚、金増
感剤を使用する場合は助剤的にロダンアンモンを使用す
ることもできる。
感剤によって増悪することができる。増感剤としては、
例えば活性ゼラチン、硫黄増悪剤(チオ硫酸ソーダ、ア
リルチオカルバミド、チオ尿素、アリルイソチオシアネ
ート等)、セレン増感剤(N、N−ジメチルセレン尿素
、セレノ尿素等)、還元増感剤(トリエチレンテトラミ
ン、塩化第1スズ等)、例えばカリウムクロロオーライ
ト、カリウムオーリチオシアネート、カリウムクロロオ
ーレート、2−オーロスルホベンゾチアゾールメチルク
ロライド、アンモニウムクロロパラデート、カリ、ウム
クロロブラチネート、 ナトリウムクロロバラダイト等
で代表される各種貴金属増感剤等をそれぞれ単独で、あ
るいは2種以上併用して用いることができる。尚、金増
感剤を使用する場合は助剤的にロダンアンモンを使用す
ることもできる。
本発明は、減感色素及び/又は紫外線吸収剤を本発明に
係るハロゲン化銀写真感光材料中に含有せしめることに
より、その効果を一層高めることができる。
係るハロゲン化銀写真感光材料中に含有せしめることに
より、その効果を一層高めることができる。
又、本発明に用いられるハロゲン化銀乳剤は、例えば米
国特許第2.444.607号、同第2,716,06
2号、同第3.512,982号、西独国出願公告第1
.189゜380号、同第2,058,626号、同第
2.118,411号、特公昭43−4133号、米国
特許第3,342.596号、特公昭47−4417号
、西独間出願公告第2.149,789号、特公昭39
−2825号、特公昭49−13566号等の各明細書
又は公報に記載されている化合物、好ましくは例えば5
.6− )リメチレンー7−ヒドロキシーS−トリアゾ
ロ(1,5−a)ピリミジン、5.6−チトラメチレン
=7−ヒドロキシ−S−トリアゾロ(1,5−a)
ピリミジン、5−メチル−7−ヒドロキシ−8−トリア
ゾロ(1,5−a) ピリミジン、5−メチル−7−ヒ
ドロキシ−3−)リアゾロ(1,5−a) ピリミジ
ン、7−ヒドロキシ−Sトリアシロン(1,5−8)ピ
リミジン、5−メチル−6−ブロモーフーヒドロキシー
s−トリアゾロ(15−a) ピリミジン、没食子酸
エステル(例えば没食子酸イソアミル、没食子酸ドデシ
ル、没食子酸プロピル、没食子酸ナトリウム)、メルカ
プタン類(1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール
、2−メルカプトベンゾチアゾール)、ベンゾトリアゾ
ール類(5−ブロムベンゾトリアゾール、5−メチルベ
ンゾトリアゾール)、ベンツイミダゾール類(6−ニド
ロペンツイミダゾール)等を用いて安定化することがで
きる。
国特許第2.444.607号、同第2,716,06
2号、同第3.512,982号、西独国出願公告第1
.189゜380号、同第2,058,626号、同第
2.118,411号、特公昭43−4133号、米国
特許第3,342.596号、特公昭47−4417号
、西独間出願公告第2.149,789号、特公昭39
−2825号、特公昭49−13566号等の各明細書
又は公報に記載されている化合物、好ましくは例えば5
.6− )リメチレンー7−ヒドロキシーS−トリアゾ
ロ(1,5−a)ピリミジン、5.6−チトラメチレン
=7−ヒドロキシ−S−トリアゾロ(1,5−a)
ピリミジン、5−メチル−7−ヒドロキシ−8−トリア
ゾロ(1,5−a) ピリミジン、5−メチル−7−ヒ
ドロキシ−3−)リアゾロ(1,5−a) ピリミジ
ン、7−ヒドロキシ−Sトリアシロン(1,5−8)ピ
リミジン、5−メチル−6−ブロモーフーヒドロキシー
s−トリアゾロ(15−a) ピリミジン、没食子酸
エステル(例えば没食子酸イソアミル、没食子酸ドデシ
ル、没食子酸プロピル、没食子酸ナトリウム)、メルカ
プタン類(1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール
、2−メルカプトベンゾチアゾール)、ベンゾトリアゾ
ール類(5−ブロムベンゾトリアゾール、5−メチルベ
ンゾトリアゾール)、ベンツイミダゾール類(6−ニド
ロペンツイミダゾール)等を用いて安定化することがで
きる。
本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料及び/又は現像
液中には、アミノ化合物を含有することが好ましい。
液中には、アミノ化合物を含有することが好ましい。
本発明に好ましく用いられるアミノ化合物は、第1級〜
第4級アミンすべてを包含する。好ましいアミノ化合物
の例としてアルカノールアミン類が挙げられる。以下、
好ましい具体例を列挙するが、これらに限定されるもの
ではない。
第4級アミンすべてを包含する。好ましいアミノ化合物
の例としてアルカノールアミン類が挙げられる。以下、
好ましい具体例を列挙するが、これらに限定されるもの
ではない。
ジエチルアミノエタノール
ジエチルアミノブタノール
ジエチルアミノプロパン−1,2−ジオールジメチルア
ミノプロパン−12−ジオールジェタノールアミン ジエチルアミノ−1−プロパノール トリエタノールアミン ジプロピルアミノプロパン−1,2−ジオールジオクチ
ルアミノ−1−エタノール ジオクチルアミノプロパン−12−ジオールドデシルア
ミノプロパン−1,2−ジオールドデシルアミノ−1−
プロパツール ドデシルアミノ−1−エタノール アミノブロバン−12−ジオール ジエチルアミノ−2−プロパノール ジブロバノールアミン グリシン トリエチルアミン トリエチレンジアミン アミノ化合物はハロゲン化銀写真感光材料の感光層側の
塗設層(例えばハロゲン化銀乳剤層、保護層、下引層の
親水性コロイド層)の少なくとも1層及び/又は現像液
中に含有させればよく、好ましい実施態様は現像液中に
含有する態様である。
ミノプロパン−12−ジオールジェタノールアミン ジエチルアミノ−1−プロパノール トリエタノールアミン ジプロピルアミノプロパン−1,2−ジオールジオクチ
ルアミノ−1−エタノール ジオクチルアミノプロパン−12−ジオールドデシルア
ミノプロパン−1,2−ジオールドデシルアミノ−1−
プロパツール ドデシルアミノ−1−エタノール アミノブロバン−12−ジオール ジエチルアミノ−2−プロパノール ジブロバノールアミン グリシン トリエチルアミン トリエチレンジアミン アミノ化合物はハロゲン化銀写真感光材料の感光層側の
塗設層(例えばハロゲン化銀乳剤層、保護層、下引層の
親水性コロイド層)の少なくとも1層及び/又は現像液
中に含有させればよく、好ましい実施態様は現像液中に
含有する態様である。
アミノ化合物の含有量は含有させる対象、アミノ化合物
の種類等によって異なるが、コントラスト促進量が必要
である。
の種類等によって異なるが、コントラスト促進量が必要
である。
又、現像性を高める為に、フェニドンやハイドロキノン
のような現像主薬、ベンゾトリアゾールのような抑制剤
を乳剤側に含有せしめることができる。あるいは処理液
の処理能力を上げる為に、パフキング層に現像主薬や抑
制剤を含有せしめることができる。
のような現像主薬、ベンゾトリアゾールのような抑制剤
を乳剤側に含有せしめることができる。あるいは処理液
の処理能力を上げる為に、パフキング層に現像主薬や抑
制剤を含有せしめることができる。
本発明に特に有利に用いられる親木性コロイドはゼラチ
ンであるが、ゼラチン以外の親水性コロイドとしては、
例えばコロイド状アルブミン、寒天、アラビアゴム、ア
ルギン酸、加水分解されたセルロースアセテート、アク
リルアミド、イミド化ポリアミド、ポリビニルアルコー
ル、加水分解されたポリビニルアセテート、ゼラチン誘
導体、例えば米国特許第2.614,928号、同第2
.525.753号の各明細書に記載されている如きフ
ェニルカルバミルゼラチン、アシル化ゼラチン、フタル
化ゼラチン、あるいは米国特許第2,548,520号
、同第2.831,767号の各明細書に記載されてい
る如きアクリル酸スチレン、アクリル酸エステル、メタ
クリル酸、メタクリル酸エステルのエチレン基を持つ重
合可能な単量体をゼラチンにグラフト重合したもの等を
挙げることができ、これらの親水性コロイドはハロゲン
化銀を含有しない層、例えばハレーション防止層、保護
層、中間層等にも適用できる。
ンであるが、ゼラチン以外の親水性コロイドとしては、
例えばコロイド状アルブミン、寒天、アラビアゴム、ア
ルギン酸、加水分解されたセルロースアセテート、アク
リルアミド、イミド化ポリアミド、ポリビニルアルコー
ル、加水分解されたポリビニルアセテート、ゼラチン誘
導体、例えば米国特許第2.614,928号、同第2
.525.753号の各明細書に記載されている如きフ
ェニルカルバミルゼラチン、アシル化ゼラチン、フタル
化ゼラチン、あるいは米国特許第2,548,520号
、同第2.831,767号の各明細書に記載されてい
る如きアクリル酸スチレン、アクリル酸エステル、メタ
クリル酸、メタクリル酸エステルのエチレン基を持つ重
合可能な単量体をゼラチンにグラフト重合したもの等を
挙げることができ、これらの親水性コロイドはハロゲン
化銀を含有しない層、例えばハレーション防止層、保護
層、中間層等にも適用できる。
本発明に用いる支持体としては、例えばバライタ紙、ポ
リエチレン被覆紙、ポリプロピレン合成紙、ガラス板、
セルロースアセテート、セルロースナイトレート、例え
ばポリエチレンテレフタレート等のポリエステルフィル
ム、ポリアミドフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポ
リカーボネートフィルム、ポリスチレンフィルム等が代
表的ftものとして包含される。これらの支持体は、そ
れぞれハロゲン化銀写真感光材料の使用目的に応じて適
宜選択きれる。
リエチレン被覆紙、ポリプロピレン合成紙、ガラス板、
セルロースアセテート、セルロースナイトレート、例え
ばポリエチレンテレフタレート等のポリエステルフィル
ム、ポリアミドフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポ
リカーボネートフィルム、ポリスチレンフィルム等が代
表的ftものとして包含される。これらの支持体は、そ
れぞれハロゲン化銀写真感光材料の使用目的に応じて適
宜選択きれる。
本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料の現像に用いら
れる現像主薬としては次のものが挙げられる。
れる現像主薬としては次のものが挙げられる。
HO−(CH−CH)、−OH型現像主薬の代表的なも
のとしては、ハイドロキノンがあり、その他にカテコー
ル、ピロガロール及びその誘導体ならびにアスコルビン
酸、クロロハイドロキノン、ブロモハイドロキノン、メ
チルハイドロキノン、2.3−ジブロモハイドロキノン
、2.5−ジエチルハイドロキノン、カテコール、4−
クロロカテコール、4−フェニル−カテコール、3−メ
トキシ−カテコール、4−アセチル−ピロガロール、ア
スコルビン酸ソーダ等があ又、8G−(CI−CH)、
−NH,型現像剤としては、オルト及びパラのアミノフ
ェノールが代表的なもので、4−アミノフェノール、2
−アミノ−6−フェニルフェノール、2−アミノ−4−
クロロ−6−フェニルフェノール、N−メチル−p−ア
ミノフェノール等がある。
のとしては、ハイドロキノンがあり、その他にカテコー
ル、ピロガロール及びその誘導体ならびにアスコルビン
酸、クロロハイドロキノン、ブロモハイドロキノン、メ
チルハイドロキノン、2.3−ジブロモハイドロキノン
、2.5−ジエチルハイドロキノン、カテコール、4−
クロロカテコール、4−フェニル−カテコール、3−メ
トキシ−カテコール、4−アセチル−ピロガロール、ア
スコルビン酸ソーダ等があ又、8G−(CI−CH)、
−NH,型現像剤としては、オルト及びパラのアミノフ
ェノールが代表的なもので、4−アミノフェノール、2
−アミノ−6−フェニルフェノール、2−アミノ−4−
クロロ−6−フェニルフェノール、N−メチル−p−ア
ミノフェノール等がある。
更に、H,N−(CH−CH) 、 −Nut型現像現
像剤ては例えば4−アミノ−2−メチル−N、N−ジエ
チルアニリン、2.4−ジアミノ−H,N−ジエチルア
ニリン、ト(4−アミノ−3−メチルフェニル)−モル
ホリン、p−フェニレンジアミン等がある。
像剤ては例えば4−アミノ−2−メチル−N、N−ジエ
チルアニリン、2.4−ジアミノ−H,N−ジエチルア
ニリン、ト(4−アミノ−3−メチルフェニル)−モル
ホリン、p−フェニレンジアミン等がある。
ヘテロ環型現像剤としては、l−フェニル−3−ピラゾ
リドン、1−フェニル−4,4−ジメチル−3−ピラゾ
リドン、■−フェニルー4−メチルー4−ヒドロキシメ
チル−3−ピラゾリドンのような3−ピラゾリドン類、
1−7エニルー4−アミノ−5−ピラゾロン、5−アミ
ノラウシル等を挙げることができる。
リドン、1−フェニル−4,4−ジメチル−3−ピラゾ
リドン、■−フェニルー4−メチルー4−ヒドロキシメ
チル−3−ピラゾリドンのような3−ピラゾリドン類、
1−7エニルー4−アミノ−5−ピラゾロン、5−アミ
ノラウシル等を挙げることができる。
その他、↑、■、ジェームス著ザ・セオリイ・オブ・ザ
・ホトグラフィック・プロセス第4版(The↑heo
ry of the Photograhic Pr
ocess FourthEditlon)第291〜
334頁及びジャーナル・オプ・ザ・アメリカン・ケミ
カル・ソサエティ(Journalof Lha As
erican Chemical 5ociety)第
73巻、第3.100頁(1951)に記載されている
如き現像剤が本発明に有効に使用し得るものである。こ
れらの現像剤は単独で使用しても2種以上組み合わせて
もよいが、2種以上を組み合わせて用いる方が好ましい
、又、本発明にかかる感光材料の現像に使用する現像液
には保恒剤として、例えば亜硫酸ソーダ、亜硫酸カリ等
の亜硫酸塩を用いても本発明の効果が損なわれることは
ない、又、保恒剤としてヒドロキシルアミン、ヒドラジ
ド化合物を用いることができ、この場合その使用量は現
像液1ffi当たり5〜500gが好ましく、より好ま
しくは20〜200gである。
・ホトグラフィック・プロセス第4版(The↑heo
ry of the Photograhic Pr
ocess FourthEditlon)第291〜
334頁及びジャーナル・オプ・ザ・アメリカン・ケミ
カル・ソサエティ(Journalof Lha As
erican Chemical 5ociety)第
73巻、第3.100頁(1951)に記載されている
如き現像剤が本発明に有効に使用し得るものである。こ
れらの現像剤は単独で使用しても2種以上組み合わせて
もよいが、2種以上を組み合わせて用いる方が好ましい
、又、本発明にかかる感光材料の現像に使用する現像液
には保恒剤として、例えば亜硫酸ソーダ、亜硫酸カリ等
の亜硫酸塩を用いても本発明の効果が損なわれることは
ない、又、保恒剤としてヒドロキシルアミン、ヒドラジ
ド化合物を用いることができ、この場合その使用量は現
像液1ffi当たり5〜500gが好ましく、より好ま
しくは20〜200gである。
又、現像液には有i溶媒としてグリコール類を含有させ
てもよく、そのようなグリコール類としてはエチレング
リコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコー
ル、トリエチレングリコール、1.4〜ブタンジオール
、1.5−ベンタンジオール等があるが、ジエチレング
リコールが好ましく用いられる。そしてこれらグリコー
ル類の好ましい使用量は現像液11当たり5〜500g
で、より好ましくは20〜200gである。これらのを
機溶媒は単独でも併用しても用いることができる。
てもよく、そのようなグリコール類としてはエチレング
リコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコー
ル、トリエチレングリコール、1.4〜ブタンジオール
、1.5−ベンタンジオール等があるが、ジエチレング
リコールが好ましく用いられる。そしてこれらグリコー
ル類の好ましい使用量は現像液11当たり5〜500g
で、より好ましくは20〜200gである。これらのを
機溶媒は単独でも併用しても用いることができる。
本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料は、現像抑制剤
を含んだ現像液を用いて現像処理することにより、極め
て保存安定性に優れた感光材料を得ることができる。
を含んだ現像液を用いて現像処理することにより、極め
て保存安定性に優れた感光材料を得ることができる。
上記の組成になる現像液のpH値は好ましくは9〜13
であるが、保恒性及び写真特性上からpH値は10〜1
2の範囲が更に好ましい、現像液中の陽イオンについて
は、ナトリウムよりカリウムイオンの比率が高い程現像
液の活性度を高めることができるので好ましい。
であるが、保恒性及び写真特性上からpH値は10〜1
2の範囲が更に好ましい、現像液中の陽イオンについて
は、ナトリウムよりカリウムイオンの比率が高い程現像
液の活性度を高めることができるので好ましい。
本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料は、種々の条件
で処理することができる。処理温度は、例えば現像温度
は50℃以下が好ましく、特に25°C〜40″C前後
が好ましく、又、現像時間は2分以内に終了することが
一般的であるが、特に好ましくは10秒〜50秒が好結
果をもたらすことが多い、又、現像以外の処理工程、例
えば水洗、停止、安定、定着、更に、必要に応じて前硬
膜、中和等の工程を採用することは任意であり、これら
は適宜省略することもできる。更に、又、これらの処理
は皿現象、枠現像などいわゆる手現像処理でも、ローラ
ー現像、ハンガー現像等のi械現像であってもよい。
で処理することができる。処理温度は、例えば現像温度
は50℃以下が好ましく、特に25°C〜40″C前後
が好ましく、又、現像時間は2分以内に終了することが
一般的であるが、特に好ましくは10秒〜50秒が好結
果をもたらすことが多い、又、現像以外の処理工程、例
えば水洗、停止、安定、定着、更に、必要に応じて前硬
膜、中和等の工程を採用することは任意であり、これら
は適宜省略することもできる。更に、又、これらの処理
は皿現象、枠現像などいわゆる手現像処理でも、ローラ
ー現像、ハンガー現像等のi械現像であってもよい。
(実施例)
以下実施例によって本発明を具体的に説明する。
尚、当然のことではあるが、本発明は以下述べる実施例
に限定されるものではない。
に限定されるものではない。
実施例−1
pH3,0の酸性雰囲気下でコントロールダブルジェッ
ト法によりロジウムを銀1モル当たり10−’モル含有
する下記表−1に示す平均粒径、ハロゲン化銀組成、分
散度の粒子を作成した0粒子の成長は、ベンジルアデニ
ンを1%のゼラチン水溶液ll当たり30mg含有する
系で行った。銀とハライドの混合後6−メチルー4−ヒ
ドロキシ−1,3,3a、7テトラザインデンをハロゲ
ン化銀1モル当たり600mg加え、その後水洗、脱塩
した。
ト法によりロジウムを銀1モル当たり10−’モル含有
する下記表−1に示す平均粒径、ハロゲン化銀組成、分
散度の粒子を作成した0粒子の成長は、ベンジルアデニ
ンを1%のゼラチン水溶液ll当たり30mg含有する
系で行った。銀とハライドの混合後6−メチルー4−ヒ
ドロキシ−1,3,3a、7テトラザインデンをハロゲ
ン化銀1モル当たり600mg加え、その後水洗、脱塩
した。
次いで、ハロゲン化銀1モル当たす60++gの6−メ
チル−4−ヒドロキシ−1,3,3a、7−チトラザイ
ンデンを加えた後、イオウ増感をした。イオウ増感後安
定剤として6−メチル−4−ヒドロキシ−1,3,3a
、?−テトラザインデンを加えた。
チル−4−ヒドロキシ−1,3,3a、7−チトラザイ
ンデンを加えた後、イオウ増感をした。イオウ増感後安
定剤として6−メチル−4−ヒドロキシ−1,3,3a
、?−テトラザインデンを加えた。
(ハロゲン化銀乳剤層)
前記各乳剤に添加剤を下記の付量になるよう調整添加し
、特開昭59−19941号の実施例−1になるラテッ
クス下引処理した(100μ閣厚さ)ポリエチレンテレ
フタレート支持体上に塗布した。
、特開昭59−19941号の実施例−1になるラテッ
クス下引処理した(100μ閣厚さ)ポリエチレンテレ
フタレート支持体上に塗布した。
ラテックスポリマー:スチレン−ブチルアクリレート−
アクリル酸3元共重合 ポリマー 1.0 g/
−2テトラフエニルホスホニウムクロライド30
請g / m * サポニン 200 編gノ11
!ポリエチレングリコール 1100III/1
1!ドデシルベンゼンスルホン酸ナ トリウム 100 mg/−8 200mg/m” 100 ■g / s t 200 mg7m’ 500 mg/s” )の化合物 表−1に示す。
アクリル酸3元共重合 ポリマー 1.0 g/
−2テトラフエニルホスホニウムクロライド30
請g / m * サポニン 200 編gノ11
!ポリエチレングリコール 1100III/1
1!ドデシルベンゼンスルホン酸ナ トリウム 100 mg/−8 200mg/m” 100 ■g / s t 200 mg7m’ 500 mg/s” )の化合物 表−1に示す。
30 置g/鶴t
スルホン酸
30 sg/m”
等電点4.9)
1.5 g/醜2
5メルカプトチ
30 mg/鶴2
2.8 g/■8
2−メルカプトベンツイミダゾール−5ハイドロキノン
フェμトン
スチレン−マレイン酸重合体
没食子酸ブチルエステル
ヒドラジン〔−数式(n −a)
5−メチルベンゾトリアゾール
イナートオセインゼラチン(
1−(p−アセチルアミドフェニル)
トラゾール
銀量
(乳剤層保護IIA)
乳剤層保護膜として、下記の付量になるよう調製塗布し
た。
た。
弗素化ジオクチルスルホコハク酸エステル300 ■
g / II m マット剤:ポリメタクリル酸メチル(平均粒径3.5
、u II) 100 sg
/m”硝酸リチウム塩 30 ■g
/−3酸処理ゼラチン(等電点7.0) 1.2
g/曽tコロイダルシリカ 50 −
87−諺スチレンーマレイン酸共重合体 100 m
g/s”媒染剤 クエン酸 サポニン ベンゾトリアゾール 硝酸リチウム塩 バッキング染料 −g/m” 1111/s” mg/m” ms/m” cut C1− (バッキング層) 添加剤を下記付量になるよう乳剤層とは反対側の支持体
上に塗布した。
g / II m マット剤:ポリメタクリル酸メチル(平均粒径3.5
、u II) 100 sg
/m”硝酸リチウム塩 30 ■g
/−3酸処理ゼラチン(等電点7.0) 1.2
g/曽tコロイダルシリカ 50 −
87−諺スチレンーマレイン酸共重合体 100 m
g/s”媒染剤 クエン酸 サポニン ベンゾトリアゾール 硝酸リチウム塩 バッキング染料 −g/m” 1111/s” mg/m” ms/m” cut C1− (バッキング層) 添加剤を下記付量になるよう乳剤層とは反対側の支持体
上に塗布した。
ハイドロキノン 100 sg/
s”フェニドン 30 sg
/−雪ラテックスポリマー:ブチルアクリレート−スチ
レン共重合体 0.5 g/■3スチレン
−マレイン酸共重合体100 曽g / m tSO
5に オセインゼラチン (バッキング層保護膜) O3K 0Ja 2.0g/霞重 添加剤を下記付量になるよう調製塗布した。
s”フェニドン 30 sg
/−雪ラテックスポリマー:ブチルアクリレート−スチ
レン共重合体 0.5 g/■3スチレン
−マレイン酸共重合体100 曽g / m tSO
5に オセインゼラチン (バッキング層保護膜) O3K 0Ja 2.0g/霞重 添加剤を下記付量になるよう調製塗布した。
ジオクチルスルホコハク酸エステル
300ag/*”
マット剤:ポリメタクリル酸メチル(平均粒径 4.0
ITa 100mg/s
”コロイダルシリカ 30鵬g /
m lオセインゼラチン(等電点4.9) 1.
1g/s+”弗素化ドデシルベンゼンスルホン酸 ナトリウム 50mg/−露取上
のようにして得られた試料を露光し、下記に示す現像液
、定着液を使用して現像処理した。
ITa 100mg/s
”コロイダルシリカ 30鵬g /
m lオセインゼラチン(等電点4.9) 1.
1g/s+”弗素化ドデシルベンゼンスルホン酸 ナトリウム 50mg/−露取上
のようにして得られた試料を露光し、下記に示す現像液
、定着液を使用して現像処理した。
(n先方法)
400〜420n−に比エネルギーの極大を持つ17球
」と呼ばれる米国ヒユージョン(FUSION)製の無
電極放電光源、または350〜380n−に比エネルギ
ーの極大を持つFD球」と呼ばれる従来の光源をガラス
板下に装着し、ガラス面上に、抜き文字品質を評価でき
るように原稿と感光材料を載せ露光した。
」と呼ばれる米国ヒユージョン(FUSION)製の無
電極放電光源、または350〜380n−に比エネルギ
ーの極大を持つFD球」と呼ばれる従来の光源をガラス
板下に装着し、ガラス面上に、抜き文字品質を評価でき
るように原稿と感光材料を載せ露光した。
く現像液処方〉
ハイドロキノン
1−フェニル−4,4−ジメチル−3−ピラゾリドン
臭化ナトリウム
5−メチルベンゾトリアゾール
5−ニトロイミダゾール
ジエチルアミノプロパン−1,2−
0,4g
g
0.3g
0.05 g
ジオール
亜硫酸カリウム 905−スルホサリ
チル酸ナトリウム 75エチレンジアミン四酢酸ナト
リウム 水でIIlに仕上げた。
チル酸ナトリウム 75エチレンジアミン四酢酸ナト
リウム 水でIIlに仕上げた。
pHは、苛性ソーダで11.5とした。
〈定着液処方〉
(&l成A)
チオ硫酸アンモニウム(72,5wt%亜硫酸ナトリウ
ム 酢酸ナトリウム・3水塩 水溶液) 240sj! 7 g 6.58 硼酸 6gクエン酸ナト
リウム・2水塩 2g酢酸(901% 水溶液
) 13.6 wbl(&ll成り) 純水(イオン交換水)17 曽l 硫酸(501% の水溶液) 4.7 g
硫酸アルミニウム(A j! tOz換算含量が8.1
wt% の水溶液) 26.5 g定着
液の使用時に水500s l中に上記組成A、組成りの
順に溶かし、1eに仕上げて用いた。この定着液のpH
は約4.3であった。
ム 酢酸ナトリウム・3水塩 水溶液) 240sj! 7 g 6.58 硼酸 6gクエン酸ナト
リウム・2水塩 2g酢酸(901% 水溶液
) 13.6 wbl(&ll成り) 純水(イオン交換水)17 曽l 硫酸(501% の水溶液) 4.7 g
硫酸アルミニウム(A j! tOz換算含量が8.1
wt% の水溶液) 26.5 g定着
液の使用時に水500s l中に上記組成A、組成りの
順に溶かし、1eに仕上げて用いた。この定着液のpH
は約4.3であった。
く現像処理条件〉
(工 稈) (温 度) (時 間)現像 40℃
15秒 定着 35°C10秒 水洗 常温 10秒 くオキシボロン化合物介在処理〉 そして、上記のようにして現像処理されたハロゲン化銀
写真材料を、前記した第1図〜第8図の処理法を採用し
て、オキシボロン化合物の介在処理を行なった。
15秒 定着 35°C10秒 水洗 常温 10秒 くオキシボロン化合物介在処理〉 そして、上記のようにして現像処理されたハロゲン化銀
写真材料を、前記した第1図〜第8図の処理法を採用し
て、オキシボロン化合物の介在処理を行なった。
評価は以下のようにして行い、結果を表−1に示した。
(写真性能評価方法)
(1)ピンホール改良性能
貼り込み用ベース上に綱フィルムを載せて、更に綱フィ
ルムの周辺を透明な製版用スコッチテープで固定してお
き、露光現像処理した後、ピンホールの発生がないとき
を’5」、iも発生が多くて悪いレベルをrl」として
5段階評価した。
ルムの周辺を透明な製版用スコッチテープで固定してお
き、露光現像処理した後、ピンホールの発生がないとき
を’5」、iも発生が多くて悪いレベルをrl」として
5段階評価した。
(2)抜き文字品質は、50%の網点面積を持つ部分が
、返し用感光材料に50%の網点面積となる適正露光し
たとき、線画フィルム上の50μ請の線巾が再現される
画質を言い、非常に良い抜き文字画質を「5」とし、最
も悪いレベルを「1」として5段階評価をした。
、返し用感光材料に50%の網点面積となる適正露光し
たとき、線画フィルム上の50μ請の線巾が再現される
画質を言い、非常に良い抜き文字画質を「5」とし、最
も悪いレベルを「1」として5段階評価をした。
得られた結果を表−1に示す。
(以下余白)
第1図〜第8図は、本発明に係る印刷材料におけるオキ
シボロン化合物介在処理の概略図である。 W・・・水洗槽、F・・・写真材料、 A・・・オキシボロン化合物含有液槽、N・・・ノズル
、R・・・ローラー 第5図 第6図 第7図 第8図 第2図 第3図 第4図
シボロン化合物介在処理の概略図である。 W・・・水洗槽、F・・・写真材料、 A・・・オキシボロン化合物含有液槽、N・・・ノズル
、R・・・ローラー 第5図 第6図 第7図 第8図 第2図 第3図 第4図
Claims (1)
- ヒドラジン化合物及びテトラゾリウム化合物の群の中か
ら選ばれる少なくとも一種の化合物と感光性ハロゲン化
銀粒子とを含有するハロゲン化銀写真感光材料が現像処
理されてなる印刷材料であって、現像処理後オキシボロ
ン化合物が付与されてなることを特徴とする印刷材料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26288588A JPH02110559A (ja) | 1988-10-20 | 1988-10-20 | 印刷材料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26288588A JPH02110559A (ja) | 1988-10-20 | 1988-10-20 | 印刷材料 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02110559A true JPH02110559A (ja) | 1990-04-23 |
Family
ID=17381975
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26288588A Pending JPH02110559A (ja) | 1988-10-20 | 1988-10-20 | 印刷材料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02110559A (ja) |
-
1988
- 1988-10-20 JP JP26288588A patent/JPH02110559A/ja active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2639984B2 (ja) | ピンホールの改良されたハロゲン化銀写真感光材料 | |
GB1600573A (en) | Process for forming high-contrast silver images | |
JPH02110559A (ja) | 印刷材料 | |
JPS6149654B2 (ja) | ||
JP2515115B2 (ja) | ネガ型ハロゲン化銀写真感光材料 | |
US5306598A (en) | Silver halide photographic emulsions and elements for use in helium/neon laser and light-emitting diode exposure | |
JPH02110560A (ja) | 印刷材料 | |
JP2835612B2 (ja) | ピンホールの改良されたハロゲン化銀写真感光材料 | |
JPS6395438A (ja) | 貼り込み跡の改良された画像形成方法 | |
JPH0573215B2 (ja) | ||
JP2811311B2 (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
JP3306536B2 (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料の現像処理方法 | |
JPH04257850A (ja) | 明室取り扱い可能uv感光性直接ポジハロゲン化銀写真材料 | |
JPH02120851A (ja) | ピンホールの改良されたハロゲン化銀写真感光材料 | |
JPH02110558A (ja) | 印刷材料 | |
JPH01179940A (ja) | 超硬調なネガ画像形成方法 | |
JP2824714B2 (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法 | |
JPH0342452B2 (ja) | ||
JPH0232330A (ja) | ピンホールの改良されたハロゲン化銀写真感光材料 | |
JPH06236038A (ja) | 平版印刷材料 | |
JPH01205160A (ja) | 硬調現像法 | |
JPH0232329A (ja) | ピンホールの改良されたハロゲン化銀写真感光材料 | |
JPH02103532A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
JPH0359649A (ja) | 帯電防止処理をしたハロゲン化銀写真感光材料 | |
JPH0687143B2 (ja) | 貼り込み跡の改良された画像形成方法 |