JPH02306237A - 画像形成法 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明はハロゲン化銀写真感光材料及びそれを用いた超
硬調ネガ画像形成方法に関するものであり、特に写真製
版工程に用いられるハロゲン化銀写真感光材料に適した
超硬調ネガ型写真感光材料に関するものである。
硬調ネガ画像形成方法に関するものであり、特に写真製
版工程に用いられるハロゲン化銀写真感光材料に適した
超硬調ネガ型写真感光材料に関するものである。
(従来技術)
写真製版の分野においては、印刷物の多様性、複雑性に
対処するために、オリジナル再現性の良好な写真感光材
料、安定な処理液あるいは、補充の簡易化などの要望が
ある。
対処するために、オリジナル再現性の良好な写真感光材
料、安定な処理液あるいは、補充の簡易化などの要望が
ある。
特に線画撮影工程における、原稿は写植文字、手書きの
文字、イラスト、網点化された写真などが貼り込まれて
作られる。したがって原稿には、濃度や、線巾の異なる
画像が混在し、これらの原稿を再現よく仕上げる製版カ
メラ、写真感光材料あるいは、画像形成方法が強く望ま
れている。一方、カタログや、大型ポスターの製版には
、網写真の拡大(目伸し)あるいは縮小(目縮め)が広
く行なわれ、網点を拡大して用いる製版では、線数が粗
くなりボケた点の撮影となる。縮小では原稿よりさらに
線数/インチが大きく細い点の撮影になる。従って網階
調の再現性を維持するためより一層広いラチチュードを
有する画像形成方法が要求されている。
文字、イラスト、網点化された写真などが貼り込まれて
作られる。したがって原稿には、濃度や、線巾の異なる
画像が混在し、これらの原稿を再現よく仕上げる製版カ
メラ、写真感光材料あるいは、画像形成方法が強く望ま
れている。一方、カタログや、大型ポスターの製版には
、網写真の拡大(目伸し)あるいは縮小(目縮め)が広
く行なわれ、網点を拡大して用いる製版では、線数が粗
くなりボケた点の撮影となる。縮小では原稿よりさらに
線数/インチが大きく細い点の撮影になる。従って網階
調の再現性を維持するためより一層広いラチチュードを
有する画像形成方法が要求されている。
製版用カメラの光源としては、ハロゲンランプあるいは
、キセノンランプが用いられている。これらの光源に対
してfi影感度を得るために、写真感光材料は通常オル
ソ増感が施される。ところがオルソ増悪した写真感光材
料はレンズの色収差の影響をより強く受け、そのために
画質が劣化しやすいことが判明した。またこの劣化はキ
セノンランプ光源に対してより顕著となる。
、キセノンランプが用いられている。これらの光源に対
してfi影感度を得るために、写真感光材料は通常オル
ソ増感が施される。ところがオルソ増悪した写真感光材
料はレンズの色収差の影響をより強く受け、そのために
画質が劣化しやすいことが判明した。またこの劣化はキ
セノンランプ光源に対してより顕著となる。
広いラチチュードの要望に応えるシステムとして塩臭化
銀(すくなくとも塩化銀含有率が50%以上)から成る
リス型ハロゲン化銀感光材料を、亜硫酸イオンの有効濃
度をきわめて低くした(通常Q、1−Tニル/l以下)
ハイドロキノン現像液で処理することにより、画像部と
非画像部が明瞭に区別された、高いコントラストと高い
黒化濃度をもつ線画あるいは網点画像を得る方法が知ら
れている。しかしこの方法では現像液中の亜硫酸濃度が
低いため、現像は空気酸化に対して極めて不安定であり
、液活性を安定に保つためにさまざまな努力と工夫がな
されて使用されていたり、処理スピードが著しく遅く、
作業効率を低下させているのが現状であった。
銀(すくなくとも塩化銀含有率が50%以上)から成る
リス型ハロゲン化銀感光材料を、亜硫酸イオンの有効濃
度をきわめて低くした(通常Q、1−Tニル/l以下)
ハイドロキノン現像液で処理することにより、画像部と
非画像部が明瞭に区別された、高いコントラストと高い
黒化濃度をもつ線画あるいは網点画像を得る方法が知ら
れている。しかしこの方法では現像液中の亜硫酸濃度が
低いため、現像は空気酸化に対して極めて不安定であり
、液活性を安定に保つためにさまざまな努力と工夫がな
されて使用されていたり、処理スピードが著しく遅く、
作業効率を低下させているのが現状であった。
このため、上記のような現像方法(リス現像システム)
による画像形成の不安定さを解消し、良好な保存安定性
を有する処理液で現像し、超硬調な写真特性が得られる
画像形成システムが要望され、その1つとして米国特許
4,166.742号、同4,168,977号、同4
.221. 857号、同4,224,401号、同4
,243゜739号、同4,272,606号、同4,
311.781号にみられるように、特定のアシルヒド
ラジン化合物を添加した表面潜像型ハロゲン化銀写真感
光材料を、pH11,0〜12.3で亜硫酸保恒剤を0
.15モル/2以上含み、良好な保存安定性を有する現
像液で処理して、Tが10を越える超硬調のネガ画像を
形成するシステムが提案された。この新しい画像形成シ
ステムには、従来の超硬調画像形成では塩化銀含有率の
高い塩臭化銀しか使用できなかったのに対して、沃臭化
銀や塩沃臭化銀でも使用できるという特徴がある。
による画像形成の不安定さを解消し、良好な保存安定性
を有する処理液で現像し、超硬調な写真特性が得られる
画像形成システムが要望され、その1つとして米国特許
4,166.742号、同4,168,977号、同4
.221. 857号、同4,224,401号、同4
,243゜739号、同4,272,606号、同4,
311.781号にみられるように、特定のアシルヒド
ラジン化合物を添加した表面潜像型ハロゲン化銀写真感
光材料を、pH11,0〜12.3で亜硫酸保恒剤を0
.15モル/2以上含み、良好な保存安定性を有する現
像液で処理して、Tが10を越える超硬調のネガ画像を
形成するシステムが提案された。この新しい画像形成シ
ステムには、従来の超硬調画像形成では塩化銀含有率の
高い塩臭化銀しか使用できなかったのに対して、沃臭化
銀や塩沃臭化銀でも使用できるという特徴がある。
上記画像システムはシャープな網点品質、処理安定性、
迅速性およびオリジナルの再現性という点ですぐれた性
能を示すが、近年の印刷物の多様性に対処するためにさ
らに安定でオリジナル再現性の改良されたシステムが望
まれている。
迅速性およびオリジナルの再現性という点ですぐれた性
能を示すが、近年の印刷物の多様性に対処するためにさ
らに安定でオリジナル再現性の改良されたシステムが望
まれている。
一方集版、かえし工程の作業においては、より明るい環
境下で作業を行なうことで作業能率の向上がはかられて
きており、このために実質的に名字と呼びうる環境下で
取りあつかうことのできる製版用感光材料の開発および
露光プリンターの開発が進められてきた。
境下で作業を行なうことで作業能率の向上がはかられて
きており、このために実質的に名字と呼びうる環境下で
取りあつかうことのできる製版用感光材料の開発および
露光プリンターの開発が進められてきた。
本特許で述べる明室用感光材料とは、紫外光成分を含ま
ない実質的に400nm以上の波長をもつ光をセーフラ
イト光として長時間安全に用いることのできる感光材料
のことである。
ない実質的に400nm以上の波長をもつ光をセーフラ
イト光として長時間安全に用いることのできる感光材料
のことである。
集版、かえし工程に用いられる明室用感光材料は、文字
あるいは網点画像の形成された現像処理ずみフィルムを
原稿として、これらの原稿とかえし用感光材料とを密着
露光して、ネガ像/ポジ像変換あるいはポジ像/ポジ像
変換を行なうのに利用される感光材料であるが ■ 網点画像および画像、文字画像が、おのおのその網
点面積および線巾、文字画像中に従ってネガ像/ポジ像
変換される性能を有すること■ 網点画像のトーン調節
性、文字線画像の線中調節性が可能である性能を有する
こと が要望され、それに答える明室かえし用感光材料が提供
されてきた。
あるいは網点画像の形成された現像処理ずみフィルムを
原稿として、これらの原稿とかえし用感光材料とを密着
露光して、ネガ像/ポジ像変換あるいはポジ像/ポジ像
変換を行なうのに利用される感光材料であるが ■ 網点画像および画像、文字画像が、おのおのその網
点面積および線巾、文字画像中に従ってネガ像/ポジ像
変換される性能を有すること■ 網点画像のトーン調節
性、文字線画像の線中調節性が可能である性能を有する
こと が要望され、それに答える明室かえし用感光材料が提供
されてきた。
しかるに、重ね返しによる抜文字画像形成という高度な
画像変換作業においては、明室用感光材料を用いた明室
かえし工程による従来の方法では、従来の暗室用かえし
感光材料を用いた暗室かえし工程による方法にくらべて
、抜文字画像の品質が劣化してしまうという欠点をもっ
ていた。
画像変換作業においては、明室用感光材料を用いた明室
かえし工程による従来の方法では、従来の暗室用かえし
感光材料を用いた暗室かえし工程による方法にくらべて
、抜文字画像の品質が劣化してしまうという欠点をもっ
ていた。
重ね返しによる抜文字画像形成の方法について、もうす
こし詳しく述べるならば、第1図に示すごとく、透明も
しくは半透明の貼りこみベース(イ)および(ハ)(通
常100μm程度の厚みを有するポリエチレンテレフタ
レートフィルムが使用される)のそれぞれに、文字ある
いは線画像の形成されたフィルム(線画原稿)(ロ)お
よび網点画像の形成されたフィルム(Sl1点原稿)(
ニ)を貼り込んだものとを重ね合わせて原稿とし、(ニ
)の網点原稿に返し用感光材料(ホ)の乳剤面を密着さ
せて露光を行なう。
こし詳しく述べるならば、第1図に示すごとく、透明も
しくは半透明の貼りこみベース(イ)および(ハ)(通
常100μm程度の厚みを有するポリエチレンテレフタ
レートフィルムが使用される)のそれぞれに、文字ある
いは線画像の形成されたフィルム(線画原稿)(ロ)お
よび網点画像の形成されたフィルム(Sl1点原稿)(
ニ)を貼り込んだものとを重ね合わせて原稿とし、(ニ
)の網点原稿に返し用感光材料(ホ)の乳剤面を密着さ
せて露光を行なう。
露光後現像処理をほどこし、網点画像中に線画の白ヌケ
部分を形成させる。
部分を形成させる。
このような抜文字画像の形成方法において重要な点は、
網点原稿および線画原稿おのおのの網点面積および画線
中に従ってネガ像/ポジ像変換が行なわれることが理想
である。しかし、第一図にてあきらかなどとく、網点原
稿はえし用感光材料の乳剤面に直接密着させて露光され
るのに対して、線画原稿は貼りこみベース(ハ)および
網点原稿(ニ)を中間に介して返し用感光材料に露光さ
れることになる。
網点原稿および線画原稿おのおのの網点面積および画線
中に従ってネガ像/ポジ像変換が行なわれることが理想
である。しかし、第一図にてあきらかなどとく、網点原
稿はえし用感光材料の乳剤面に直接密着させて露光され
るのに対して、線画原稿は貼りこみベース(ハ)および
網点原稿(ニ)を中間に介して返し用感光材料に露光さ
れることになる。
このため網点原稿を忠実にネガ像/ポジ像変換をする露
光量を与えると、線画原稿は貼りこみベース(ハ)およ
び網点原稿(ニ)によるスペーサーを介したピンボケ露
光となるため、線画の白ヌケ部分の線画中が狭くなって
しまう。これが抜文字画像の品質が劣化してしまう原因
である。
光量を与えると、線画原稿は貼りこみベース(ハ)およ
び網点原稿(ニ)によるスペーサーを介したピンボケ露
光となるため、線画の白ヌケ部分の線画中が狭くなって
しまう。これが抜文字画像の品質が劣化してしまう原因
である。
上記問題点を解決するためにヒドラジンを用いたシステ
ムが特開昭62−80640号、同62−235938
号、同62−235939号、同63−104046号
、同63−103235号、同63−296031号、
同63−314541号、同64−13545号、に開
示されているが、充分とはいえずさらに改良が望まれて
いる。
ムが特開昭62−80640号、同62−235938
号、同62−235939号、同63−104046号
、同63−103235号、同63−296031号、
同63−314541号、同64−13545号、に開
示されているが、充分とはいえずさらに改良が望まれて
いる。
(発明の目的)
本発明の目的は、これらの問題を解決した原稿再現性の
改良された写真製版工程に用いられるハロゲン化銀感光
材料による画像形成法を提供することである。
改良された写真製版工程に用いられるハロゲン化銀感光
材料による画像形成法を提供することである。
本発明の第2の目的は、現像処理安定性の改良された写
真製版工程に用いられるハロゲン化銀感光材料による画
像形成法を提供することである。
真製版工程に用いられるハロゲン化銀感光材料による画
像形成法を提供することである。
(発“明の開示)
本発明の目的は、支持体上に少なくとも一層のハロゲン
化銀乳剤層を有し、該乳剤層又はその他の親水性コロイ
ド層にヒドラジン誘導体を含むハロゲン化銀写真感光材
料を、3ないし10員環の非ベンゾ縮環の窒素を含むヘ
テロ環化合物の存在下で現像処理することを特徴とする
画像形成法によって達成された。
化銀乳剤層を有し、該乳剤層又はその他の親水性コロイ
ド層にヒドラジン誘導体を含むハロゲン化銀写真感光材
料を、3ないし10員環の非ベンゾ縮環の窒素を含むヘ
テロ環化合物の存在下で現像処理することを特徴とする
画像形成法によって達成された。
好ましくは、前記含窒素ヘテロ環化合物は5ないし6員
環の非ベンゾ縮環不飽和ヘテロ環化合物である。
環の非ベンゾ縮環不飽和ヘテロ環化合物である。
より好ましくは、前記含窒素ヘテロ環化合物は、ピロー
ル類、イミダゾール類、ピラゾール類、トリアゾール類
、テトラゾール類、ピリジン類、チアゾール類、オキサ
ゾール類である。
ル類、イミダゾール類、ピラゾール類、トリアゾール類
、テトラゾール類、ピリジン類、チアゾール類、オキサ
ゾール類である。
特に好ましくは前記含窒素ヘテロ環化合物は、イミダゾ
ール類である。
ール類である。
本発明に用いられる含窒素ヘテロ環化合物について以下
に詳細に説明する。
に詳細に説明する。
含窒素ヘテロ化合物は、3ないし10員環非ベンゾ縮環
の窒素を含むヘテロ環化合物であり、好ましくは不飽和
ヘテロ環化合物である。不飽和ヘテロ環としてより好ま
しくは5ないし6員環化合物であり、例えば、ピロール
類、イミダゾール類、ピラゾール類、トリアゾール類、
テトラゾール類、ピリジン類、チアゾール類、オキサゾ
ール類などが挙げられ、特に好ましくはイミダゾール類
である。これら含窒素ヘテロ環化合物は置換基を有して
いてもよく、置換基としては、例えばアルキル基、アル
ケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アリール基、
置換アミノ基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、
ウレイド基、ウレタン基、アリールオキシ基、スルファ
モイル基、カルバモイル基、アルキルチオ基、アリール
チオ基、スルホニル基、スルフィニル基、ヒドロキシ基
、ハロゲン原子、シアノ基、スルホ基、アルキルオキシ
カルポニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基
、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、カルボン
アミド基、スルホンアミド基やカルボキシ基などが挙げ
られる。これら置換基は可能な場合にはさらに置換され
ていてもよい。
の窒素を含むヘテロ環化合物であり、好ましくは不飽和
ヘテロ環化合物である。不飽和ヘテロ環としてより好ま
しくは5ないし6員環化合物であり、例えば、ピロール
類、イミダゾール類、ピラゾール類、トリアゾール類、
テトラゾール類、ピリジン類、チアゾール類、オキサゾ
ール類などが挙げられ、特に好ましくはイミダゾール類
である。これら含窒素ヘテロ環化合物は置換基を有して
いてもよく、置換基としては、例えばアルキル基、アル
ケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アリール基、
置換アミノ基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、
ウレイド基、ウレタン基、アリールオキシ基、スルファ
モイル基、カルバモイル基、アルキルチオ基、アリール
チオ基、スルホニル基、スルフィニル基、ヒドロキシ基
、ハロゲン原子、シアノ基、スルホ基、アルキルオキシ
カルポニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基
、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、カルボン
アミド基、スルホンアミド基やカルボキシ基などが挙げ
られる。これら置換基は可能な場合にはさらに置換され
ていてもよい。
含窒素ヘテロ環化合物がイミダゾールの場合、1位が置
換又は無置換のアルキル基で置換されたものが特に好ま
しい。
換又は無置換のアルキル基で置換されたものが特に好ま
しい。
上記含窒素ヘテロ環化合物は感光材料中あるいは現像液
中のいずれに添加してもよいが、感光材料中に添加して
使用する場合には好ましくは置換基の炭素数の総和が6
以上であり、さらに好ましくは8以上30以下である。
中のいずれに添加してもよいが、感光材料中に添加して
使用する場合には好ましくは置換基の炭素数の総和が6
以上であり、さらに好ましくは8以上30以下である。
含窒素ヘテロ環化合物の具体例を会に示す。但し、本発
明は以下の化合物に限定されるものではない。
明は以下の化合物に限定されるものではない。
ν℃へ5O38H
Hz
I
C11゜
C3l11? ”CISH
31本発明の含窒素ヘテロ環化合物は、感光材料中に添
加して用いても、現像液に添加して用いても、あるいは
両方に添加して用いてもよい。
31本発明の含窒素ヘテロ環化合物は、感光材料中に添
加して用いても、現像液に添加して用いても、あるいは
両方に添加して用いてもよい。
感光材料に添加する場合、これらの含窒素ヘテロ環化合
物は、ハロゲン化銀乳剤層もしつはその他の親水性コロ
イド層に添加することができる。
物は、ハロゲン化銀乳剤層もしつはその他の親水性コロ
イド層に添加することができる。
添加量は、ハロゲン化X! 1モル当り1.0X10−
sモル−1,0X10−’モル、好ましくは1.OX
10−’モル〜1.0X10−”モルが望ましい、これ
らの含窒素ヘテロ環化合物は、適当な水混和性有機溶媒
、例えば、アルコール類(メタノール、エタノール、プ
ロパツール、フッ素アルコール)、ケトン類(アセトン
、メチルエチルケトン)、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルスルホキシド、メチルセルソルブなどに溶解して用
いることができる。
sモル−1,0X10−’モル、好ましくは1.OX
10−’モル〜1.0X10−”モルが望ましい、これ
らの含窒素ヘテロ環化合物は、適当な水混和性有機溶媒
、例えば、アルコール類(メタノール、エタノール、プ
ロパツール、フッ素アルコール)、ケトン類(アセトン
、メチルエチルケトン)、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルスルホキシド、メチルセルソルブなどに溶解して用
いることができる。
また、既に良く知られている乳化分散法によって、ジブ
チルフタレート、トリクレジルフォスフェート、グリセ
リルトリアセテートあるいはジエチルフタレートなどの
オイルに、酢酸エチルやミクロヘキサノンなどの補助溶
媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作成して用い
ることもできる。あるいは固体分散法として知られてい
る方法によって、レドックス化合物の粉末を水の中に、
ボールミル、コロイドミル、あるいは超音波によって゛
分散して用いることもできる。
チルフタレート、トリクレジルフォスフェート、グリセ
リルトリアセテートあるいはジエチルフタレートなどの
オイルに、酢酸エチルやミクロヘキサノンなどの補助溶
媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作成して用い
ることもできる。あるいは固体分散法として知られてい
る方法によって、レドックス化合物の粉末を水の中に、
ボールミル、コロイドミル、あるいは超音波によって゛
分散して用いることもできる。
本発明の含窒素ヘテロ環化合物を現像液に添加して用い
る場合、現像液への添加量は、5×↑〇−〜5. O
mol/I!、の範囲が望ましい。好ましは5×10−
’〜0. 5mol/ffiが望ましい。
る場合、現像液への添加量は、5×↑〇−〜5. O
mol/I!、の範囲が望ましい。好ましは5×10−
’〜0. 5mol/ffiが望ましい。
本発明に用いられるヒドラジン誘導体は、下記一般式(
1)によって表わされる化合物が好ましい。
1)によって表わされる化合物が好ましい。
一般式(1)
式中、R+ は脂肪族基または芳香族基を表わし、R2
は水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、
アリールオキシ基、アミノ基、カルバモイル基又はオキ
シカルボニル基を表わし、G1はカルボニル基、スルホ
ニル基、スルホキシ基、−P−基、又はイミノメチレン
基を表わし、11゜ A + 、A tはともに水素原子あるいは一方が水素
原子で他方が置換もしくは無置換のアルキルスル4
ホニル基、又は置換もしくは無置換のアリールスルホニ
ル基、又は置換もしくは無置換のアシル基を表わす。
は水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、
アリールオキシ基、アミノ基、カルバモイル基又はオキ
シカルボニル基を表わし、G1はカルボニル基、スルホ
ニル基、スルホキシ基、−P−基、又はイミノメチレン
基を表わし、11゜ A + 、A tはともに水素原子あるいは一方が水素
原子で他方が置換もしくは無置換のアルキルスル4
ホニル基、又は置換もしくは無置換のアリールスルホニ
ル基、又は置換もしくは無置換のアシル基を表わす。
一般式(1)において、R1で表される脂肪族基は好ま
しくは炭素数1〜30のものであって、特に炭素数1〜
20の直鎖、分岐または環状のアルキル基である。ここ
で分岐アルキル基はその中に1つまたはその以上のヘテ
ロ原子を含んだ飽和のヘテロ環を形成するように環化さ
れていてもよい、またこのアルキル基は、アリール基、
アルコキシ基、スルホキシ基、スルホンアミド基、カル
ボンアミド基等の置換基を有していてもよい。
しくは炭素数1〜30のものであって、特に炭素数1〜
20の直鎖、分岐または環状のアルキル基である。ここ
で分岐アルキル基はその中に1つまたはその以上のヘテ
ロ原子を含んだ飽和のヘテロ環を形成するように環化さ
れていてもよい、またこのアルキル基は、アリール基、
アルコキシ基、スルホキシ基、スルホンアミド基、カル
ボンアミド基等の置換基を有していてもよい。
一般式(1)においてR5で表される芳香族基は単環ま
たは2環のアリール基または不飽和ヘテ口環基である。
たは2環のアリール基または不飽和ヘテ口環基である。
ここで不飽和ヘテロ環基は単環または2環のアリール基
と縮合してヘテロアリール基を形成してもよい。
と縮合してヘテロアリール基を形成してもよい。
例えばベンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環、ピリミ
ジン環、イミダゾール環、ピラゾール環、キノリン環、
イソキノリン環、ベンズイミダゾール環、チアゾール環
、ベンゾチアゾール環等があるがなかでもベンゼン環を
含むものが好ましい。
ジン環、イミダゾール環、ピラゾール環、キノリン環、
イソキノリン環、ベンズイミダゾール環、チアゾール環
、ベンゾチアゾール環等があるがなかでもベンゼン環を
含むものが好ましい。
Rt として特に好ましいものはアリール基である。
R5のアリール基または不飽和ヘテロ環基は置換されて
いてもよく、代表的な置換基としては、例えばアルキル
基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アル
コキシ基、アリール基、置換アミノ基、アシルアミノ基
、スルホニルアミノ基、ウレイド基、ウレタン基、アリ
ールオキシ基、スルファモイル基、カルバモイル基、ア
ルキルチオ基、アリールチオ基、スルホニル基、スルフ
ィニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、ス
ルホ基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシ
カルボニル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、ア
シルオキシ基、カルボンアミド基、スルホンアミド基や
カルボキシル基、リン酸アミド基、ジアシルアミノ基、
イミド基などが挙げられ、好ましい置換基としては直鎖
、分岐または環状のアルキル基(好ましくは炭素数1〜
20のもの)、アラルキル基(好ましくはアルキル部分
の炭素数が1〜3の単環または2環のもの)、アルコキ
シ基(好ましくは炭素数」〜20のもの)、置換アミノ
基(好ましくは炭素数1〜20のアルキル基で置換され
たアミノ基)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜
30を持つもの)、スルホンアミド基(好ましくは炭素
数1〜30を持つもの)、ウレイド基(好ましくは炭素
数1〜30を持つもの)、リン酸アミド基(好ましくは
炭素数1〜30のもの)などである。
いてもよく、代表的な置換基としては、例えばアルキル
基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アル
コキシ基、アリール基、置換アミノ基、アシルアミノ基
、スルホニルアミノ基、ウレイド基、ウレタン基、アリ
ールオキシ基、スルファモイル基、カルバモイル基、ア
ルキルチオ基、アリールチオ基、スルホニル基、スルフ
ィニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、ス
ルホ基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシ
カルボニル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、ア
シルオキシ基、カルボンアミド基、スルホンアミド基や
カルボキシル基、リン酸アミド基、ジアシルアミノ基、
イミド基などが挙げられ、好ましい置換基としては直鎖
、分岐または環状のアルキル基(好ましくは炭素数1〜
20のもの)、アラルキル基(好ましくはアルキル部分
の炭素数が1〜3の単環または2環のもの)、アルコキ
シ基(好ましくは炭素数」〜20のもの)、置換アミノ
基(好ましくは炭素数1〜20のアルキル基で置換され
たアミノ基)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜
30を持つもの)、スルホンアミド基(好ましくは炭素
数1〜30を持つもの)、ウレイド基(好ましくは炭素
数1〜30を持つもの)、リン酸アミド基(好ましくは
炭素数1〜30のもの)などである。
一般式(T)においてRtで表わされるアルキル基とし
ては、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基であって、
ハロゲン原子、シアノ基、カルボキシ基、スルホ基、ア
ルコキシ基、フェニル基、スルホニル基などの置換基を
有していてもよい。
ては、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基であって、
ハロゲン原子、シアノ基、カルボキシ基、スルホ基、ア
ルコキシ基、フェニル基、スルホニル基などの置換基を
有していてもよい。
アリール基としては単環または2環のアリール基が好ま
しく、例えばベンゼン環を含むものである。このアリー
ル基は、例えばハロゲン原子、アルキル基、シアノ基、
カルボキシル基、スルホ基、スルホニル基などでW換さ
れていてもよい。
しく、例えばベンゼン環を含むものである。このアリー
ル基は、例えばハロゲン原子、アルキル基、シアノ基、
カルボキシル基、スルホ基、スルホニル基などでW換さ
れていてもよい。
アルコキシ基としては炭素数1〜8のアルコキシ基のも
のが好ましく、ハロゲン原子、アリール基などで置換さ
れていてもよい。
のが好ましく、ハロゲン原子、アリール基などで置換さ
れていてもよい。
アリールオキシ基としては単環のものが好ましく、また
置換基としてはハロゲン原子などである。
置換基としてはハロゲン原子などである。
アミノ基としては無置換アミノ基及び、炭素数1〜10
のアルキルアミノ基、アリールアミノ基力IjFましく
、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カ
ルボキシ基などで置換されていてもよい。
のアルキルアミノ基、アリールアミノ基力IjFましく
、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カ
ルボキシ基などで置換されていてもよい。
カルバモイル基としては、無置換カルバモイル基及び炭
素数1〜10のアルキルカルバモイル基、アリールカル
バモイル基が好ましく、アルキル基、ハロゲン原子、シ
アノ基、カルボキシ基などで置換されていてもよい。
素数1〜10のアルキルカルバモイル基、アリールカル
バモイル基が好ましく、アルキル基、ハロゲン原子、シ
アノ基、カルボキシ基などで置換されていてもよい。
オキシカルボニル基としては、炭素数1〜1゜のアルコ
キシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基が好ま
しく、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基
などで置換されていてもよい。
キシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基が好ま
しく、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基
などで置換されていてもよい。
R,で表わされる基のうち好ましいものは、G1がカル
ボニル基の場合には、水素原子、アルキル基(例えば、
メチル基、トリフルオロメチル基、3−ヒドロキシプロ
ピル基、3−メタンスルホンアミドプロピル基、フェニ
ルスルホニルメチル基など)、アラルキル基(例えば、
0−ヒドロキシベンジル基など)、アリール基(例えば
、フェニルL3.5−ジクロロフェニル基、o−メタン
スルホンアミドフェニル基、4−メタンスルホニルフェ
ニル基など)などであり、特に水素原子が好ましい。
ボニル基の場合には、水素原子、アルキル基(例えば、
メチル基、トリフルオロメチル基、3−ヒドロキシプロ
ピル基、3−メタンスルホンアミドプロピル基、フェニ
ルスルホニルメチル基など)、アラルキル基(例えば、
0−ヒドロキシベンジル基など)、アリール基(例えば
、フェニルL3.5−ジクロロフェニル基、o−メタン
スルホンアミドフェニル基、4−メタンスルホニルフェ
ニル基など)などであり、特に水素原子が好ましい。
またG1がスルホニル基の場合には、R2はアルキル基
(例えば、メチル基など)、アラルキル基(例えば、0
−ヒドロキシフェニルメチル基など)、アリール基(例
えば、フェニル基など)または置換アミノ基(例えば、
ジメチルアミノ基など)などが好ましい。
(例えば、メチル基など)、アラルキル基(例えば、0
−ヒドロキシフェニルメチル基など)、アリール基(例
えば、フェニル基など)または置換アミノ基(例えば、
ジメチルアミノ基など)などが好ましい。
G1がスルホキシ基の場合、好ましいR2はシアノベン
ジル基、メチルチオベンジル基などであメトキシ基、エ
トキシ基、ブトキシ基、フェノキシ基、フェニル基が好
ましく、特に、フェノキシ基が好適である。
ジル基、メチルチオベンジル基などであメトキシ基、エ
トキシ基、ブトキシ基、フェノキシ基、フェニル基が好
ましく、特に、フェノキシ基が好適である。
G1かN−置換または無置換イミノメチレン基の場合、
好ましいR2はメチル基、エチル基、置換または無置換
のフェニル基である。
好ましいR2はメチル基、エチル基、置換または無置換
のフェニル基である。
Rtの置換基としては、R1に関して列挙した置換基が
適用できる。
適用できる。
一般式(1)のGとしてはカルボニル基が最も好ましい
。
。
又、R2はGt Rz部分を残余分子から分裂させ、
G 1Rz部分の原子を含む環式構造を生成させる環
化反応を生起するようなものであってもよく、具体的に
は一般式(a)で表わすことができるようなものである
。
G 1Rz部分の原子を含む環式構造を生成させる環
化反応を生起するようなものであってもよく、具体的に
は一般式(a)で表わすことができるようなものである
。
一般式(a)
−R,−Z。
式中、Z、はG1に対し求核的に攻撃し、G、4.−Z
、部分を残余分子から分裂させ得る基であり、R1はR
2から水素原子1細隙いたもので、ZlがG、に対し求
核攻撃し、G1、R1、 Z、で環式構造が生成可能なものである。
、部分を残余分子から分裂させ得る基であり、R1はR
2から水素原子1細隙いたもので、ZlがG、に対し求
核攻撃し、G1、R1、 Z、で環式構造が生成可能なものである。
さらに詳細には、Zlは一般式(1)ヒドラジン化合物
が酸化等により次の反応中間体を生成したときに容易に
G、と求核反応し R,−N藁N−G、−R1−Z。
が酸化等により次の反応中間体を生成したときに容易に
G、と求核反応し R,−N藁N−G、−R1−Z。
R,−N−N基を01から分裂させうる基であり、具体
的にはOH%SHまたはNHR4(R4は水素原子、ア
ルキル基、アリールTi−1−COR,、または−SO
よR2であり、R1は水素原子、アルキル基、アリール
基、ヘテロ環基などを表す〉、C0ORなどのようにG
、と直接反応する官能基であってもよく (ここで、O
H,SH,、NHR4、−COOHはアルカリ等の加水
分解によりこれらの基を生成するように一時的に保護さ
れていてもよい)、あるいは、 CRi、CRh (Rh、R1は水素原子、アルキル基、アルケニル基、
アリール基またはヘテロ環基を表す)のように水酸イオ
ンや亜硫酸イオン等のような求核剤を反応することでG
1と反応することが可能になる官能基であってもよい。
的にはOH%SHまたはNHR4(R4は水素原子、ア
ルキル基、アリールTi−1−COR,、または−SO
よR2であり、R1は水素原子、アルキル基、アリール
基、ヘテロ環基などを表す〉、C0ORなどのようにG
、と直接反応する官能基であってもよく (ここで、O
H,SH,、NHR4、−COOHはアルカリ等の加水
分解によりこれらの基を生成するように一時的に保護さ
れていてもよい)、あるいは、 CRi、CRh (Rh、R1は水素原子、アルキル基、アルケニル基、
アリール基またはヘテロ環基を表す)のように水酸イオ
ンや亜硫酸イオン等のような求核剤を反応することでG
1と反応することが可能になる官能基であってもよい。
また、Gt 、Rz 、Z+で形成される環としては5
員または6員のものが好ましい。
員または6員のものが好ましい。
一般式(a)で表されるもののうち、好ましいものとし
ては一般式(b)及び(C)で表されるものを挙げるこ
とができる。
ては一般式(b)及び(C)で表されるものを挙げるこ
とができる。
一般式(b)
式中、R2−R1は水素原子、アルキル基(好ましくは
炭素数1〜12のもの)、アルケニル基(好ましくは炭
素数2〜12のもの)、了り−ル基(好ましくは炭素数
6〜12のもの)などを表し、同じでも異なってもよい
、Bは置換基を有してもよい5員環または6員環を完成
するのに必要な原子であり、m、nはOまたば1であり
、(n+m)は1または2である。
炭素数1〜12のもの)、アルケニル基(好ましくは炭
素数2〜12のもの)、了り−ル基(好ましくは炭素数
6〜12のもの)などを表し、同じでも異なってもよい
、Bは置換基を有してもよい5員環または6員環を完成
するのに必要な原子であり、m、nはOまたば1であり
、(n+m)は1または2である。
Bで形成される5員たまは6員環としては、例えば、シ
クロヘキセン環、シクロヘプテン環、べンゼン環、ナフ
タレン環、ピリジン環、キノリン環などである。
クロヘキセン環、シクロヘプテン環、べンゼン環、ナフ
タレン環、ピリジン環、キノリン環などである。
Zlは一触式(a)と同義である。
一般式(C)
Rc
ルケニル基、アリール基またはハロゲン原子などを表し
、同じでも異なってもよい。
、同じでも異なってもよい。
R6は水素原子、アルキル基、アルケニル基、またはア
リール基を表す。
リール基を表す。
pはOまたは1を表し、qは1〜4を表す。
核攻撃し得る構造の限りにおいて互いに結合して環を形
成してもよい。
成してもよい。
子、またはアルキル基であり、Rcは好ましくはアルキ
ル基またはアリール基である。
ル基またはアリール基である。
qは好ましくは1〜3を表し、qが1のときpはOまた
は1を、qが2のときpは0または1を、qが3のとき
pはOまたは1を表し、qが2またZ、は一般式(a)
と同義である。
は1を、qが2のときpは0または1を、qが3のとき
pはOまたは1を表し、qが2またZ、は一般式(a)
と同義である。
A+ 、Axは水素原子、炭素数20以下のアルキルス
ルホニル基およびアリールスルホニル基(好ましくはフ
ェニルスルホニル基又はハメツ′トの置換基定数の和が
−0,5以上となるように置換されたフェニルスルホニ
ル基)、炭素数20以下のアシル基(好ましくはベンゾ
イル基、又はパノットの置換基定数の和が−0.5以上
となるように置換されたベンゾイル基、あるいは直鎖又
は分岐状又は環状の無置換及び置換脂肪族アシル基(1
換基としては例えばハロゲン原子、エーテル基、スルホ
ンアミド基、カルボンアミド基、水酸基、カルボキシ基
、スルホン酸基が挙げられる。))A、 、Aよとして
は水素原子が最も好ましい。
ルホニル基およびアリールスルホニル基(好ましくはフ
ェニルスルホニル基又はハメツ′トの置換基定数の和が
−0,5以上となるように置換されたフェニルスルホニ
ル基)、炭素数20以下のアシル基(好ましくはベンゾ
イル基、又はパノットの置換基定数の和が−0.5以上
となるように置換されたベンゾイル基、あるいは直鎖又
は分岐状又は環状の無置換及び置換脂肪族アシル基(1
換基としては例えばハロゲン原子、エーテル基、スルホ
ンアミド基、カルボンアミド基、水酸基、カルボキシ基
、スルホン酸基が挙げられる。))A、 、Aよとして
は水素原子が最も好ましい。
一般式(1)のR1またはR,はその中にカプラー等の
不動性写真用添加剤において常眉されているバラスト基
が組み込まれているものでもよい。
不動性写真用添加剤において常眉されているバラスト基
が組み込まれているものでもよい。
バラスト基は8以上の炭素数を有する写真性に対して比
較的不活性な基であり、例えばアルキル基、アルコキシ
基、フェニル基、アルキルフェニル基、フェノキシ基、
アルキルフェノキシ基などの中から選ぶことができる。
較的不活性な基であり、例えばアルキル基、アルコキシ
基、フェニル基、アルキルフェニル基、フェノキシ基、
アルキルフェノキシ基などの中から選ぶことができる。
一般弐N)のR,またはR2はその中にハロゲン化銀粒
子表面に対する吸着を強める基が組み込まれているもの
でもよい、かかる吸着基としては、チオ尿素基、複素環
チオアミド基、メルカプト複素環基、トリアゾール基な
どの米国特許第4゜385.108号、同4,459.
347号、特開昭59−195,233号、同59−2
00゜231号、同59−201,045号、同59−
201.046号、同59−201.047号、同59
−201.048号、同59−201.049号、特開
昭61−170,733号、同61−270,744号
、同62−948号、特願昭62−67.508号、同
62−67.501号、同62−67.510号に記載
された基があげられる。
子表面に対する吸着を強める基が組み込まれているもの
でもよい、かかる吸着基としては、チオ尿素基、複素環
チオアミド基、メルカプト複素環基、トリアゾール基な
どの米国特許第4゜385.108号、同4,459.
347号、特開昭59−195,233号、同59−2
00゜231号、同59−201,045号、同59−
201.046号、同59−201.047号、同59
−201.048号、同59−201.049号、特開
昭61−170,733号、同61−270,744号
、同62−948号、特願昭62−67.508号、同
62−67.501号、同62−67.510号に記載
された基があげられる。
−a式(I)で示される化合物の具体例を以下に示す、
但し本発明は以下の化合物に限定されるものではない。
但し本発明は以下の化合物に限定されるものではない。
C宜Hs
H
I−8)
l−15)
H
T−16)
!−17)
H
C鵞Hs
’l−25)
1−27>
T−36)
!−37)
!−39)
しE
T−44)
!−46)
1i8)
J−53)
本発明に用いられるヒドラジン誘導体としては、上記の
ものの他に、RESEARCII DISCLOSIJ
RE I tem23516 (1983年11月号、
p、346)およびそこに引用された文献の他、米国特
許4. 080.207号、同4,269.,929号
、同4゜276.364号、同4.278,748号、
同4.385,108号、同4,459,347号、同
4,560,638号、同4,478,928号、英国
特許2,011,391B、特開昭60−179734
号、同62−270,948号、同63−29,751
号、特開昭61〜170゜733号、同61−270,
744号、同62−948号、EP217,310号、
特願昭61−175.234号、同61−251,48
2号、同61−268,249号、同61−276.2
83号、同62−67528号、同62−67゜509
号、同62−67.510号、同62−58.513号
、同62−130,819号、同62−143,467
号、同62−166.117号、またはUS4,686
,167号、特開昭62−178,246号、特開昭6
3−234,244号、同63−234,245号、同
63−234.246号、同63−294,552号、
同63−306,438号、特願昭62−166゜11
7号、同62−247.478号、同63−105.6
82号、同63−114,118号、同63−110.
051号、同63−114,119号、同116,23
9号、同63−147゜339号、同63−179,7
60号、同63−229.163号、特願平1−18,
377号、同1−18,378号、同1−18,379
号、同1−15,755号、同1−16.814号、同
1−40,792号、同1−42,615号、同1−4
2,616号に記載されたものを用いることができる。
ものの他に、RESEARCII DISCLOSIJ
RE I tem23516 (1983年11月号、
p、346)およびそこに引用された文献の他、米国特
許4. 080.207号、同4,269.,929号
、同4゜276.364号、同4.278,748号、
同4.385,108号、同4,459,347号、同
4,560,638号、同4,478,928号、英国
特許2,011,391B、特開昭60−179734
号、同62−270,948号、同63−29,751
号、特開昭61〜170゜733号、同61−270,
744号、同62−948号、EP217,310号、
特願昭61−175.234号、同61−251,48
2号、同61−268,249号、同61−276.2
83号、同62−67528号、同62−67゜509
号、同62−67.510号、同62−58.513号
、同62−130,819号、同62−143,467
号、同62−166.117号、またはUS4,686
,167号、特開昭62−178,246号、特開昭6
3−234,244号、同63−234,245号、同
63−234.246号、同63−294,552号、
同63−306,438号、特願昭62−166゜11
7号、同62−247.478号、同63−105.6
82号、同63−114,118号、同63−110.
051号、同63−114,119号、同116,23
9号、同63−147゜339号、同63−179,7
60号、同63−229.163号、特願平1−18,
377号、同1−18,378号、同1−18,379
号、同1−15,755号、同1−16.814号、同
1−40,792号、同1−42,615号、同1−4
2,616号に記載されたものを用いることができる。
本発明において、ヒドラジン誘導体を写真感光材料中に
含有させるときには、ハロゲン化銀乳剤層に含有させる
のが好ましいがそれ以外の非感光性の親水性コロイド層
(例えば保護層、中間層、フィルタ一層、ハレーション
防止層など)に含有させでもよい、具体的には使用する
化合物が水溶性の場合には水?8液として、また難水溶
性の場合にはアルコール類、エステル類、ケトン類など
の水と混和しうる有機溶媒の溶液として、親水性コロイ
ド溶液に添加すればよい、ハロゲン化銀乳剤層に添加す
る場合は化学熟成の開始から塗布前までの任意の時期に
行ってよいが、化学熟成終了後から塗布前の間に添加す
るのが好ましい、特に塗布のために用窓された塗布液中
に添加するのがよい。
含有させるときには、ハロゲン化銀乳剤層に含有させる
のが好ましいがそれ以外の非感光性の親水性コロイド層
(例えば保護層、中間層、フィルタ一層、ハレーション
防止層など)に含有させでもよい、具体的には使用する
化合物が水溶性の場合には水?8液として、また難水溶
性の場合にはアルコール類、エステル類、ケトン類など
の水と混和しうる有機溶媒の溶液として、親水性コロイ
ド溶液に添加すればよい、ハロゲン化銀乳剤層に添加す
る場合は化学熟成の開始から塗布前までの任意の時期に
行ってよいが、化学熟成終了後から塗布前の間に添加す
るのが好ましい、特に塗布のために用窓された塗布液中
に添加するのがよい。
本発明のヒドラジン誘W体の含有量はハロゲン化銀乳剤
の粒子径、ハロゲン組成、化学増悪の方法と程度、該化
合物を含有させる層とハロゲン化銀乳剤層の関係、カブ
リ防止化合物の種類などに応じて最適の量を選択するこ
とが望ましく、その選択のための試験の方法は当業者の
よく知るところである。in常は好ましくはハロゲン化
銀1モル当り10−’モルないしlXl0−’モル、特
に10−’ないし4X10−”モルの範囲で用いられる
。
の粒子径、ハロゲン組成、化学増悪の方法と程度、該化
合物を含有させる層とハロゲン化銀乳剤層の関係、カブ
リ防止化合物の種類などに応じて最適の量を選択するこ
とが望ましく、その選択のための試験の方法は当業者の
よく知るところである。in常は好ましくはハロゲン化
銀1モル当り10−’モルないしlXl0−’モル、特
に10−’ないし4X10−”モルの範囲で用いられる
。
本発明に用いられるハロゲン化銀乳剤は塩化銀、塩臭化
銀、沃臭化銀、沃塩臭化銀等どの組成でもかまわない。
銀、沃臭化銀、沃塩臭化銀等どの組成でもかまわない。
本発明に用いられるハロゲン化銀の平均粒子サイズは微
粒子(例えば0.7μ以下)の方が好ましく、特に0.
5μ以下が好ましい0粒子サイズ分布は基本的には制限
はないが、°ji1分散である方が好ましい、ここでい
う単分散とはrn量もしくは粒子数で少なくともその9
5%が平均粒子サイズの±40%以内の大きさを持つ粒
子群から構成されていることをいう。
粒子(例えば0.7μ以下)の方が好ましく、特に0.
5μ以下が好ましい0粒子サイズ分布は基本的には制限
はないが、°ji1分散である方が好ましい、ここでい
う単分散とはrn量もしくは粒子数で少なくともその9
5%が平均粒子サイズの±40%以内の大きさを持つ粒
子群から構成されていることをいう。
写真乳剤中のハロゲン化銀粒子は立方体、八面体のよう
な規則的(reεular)な結晶体を有するものでも
よく、また球状、板状などのような変則的(irreg
ular)な結晶を持つもの、あるいはこれらの結晶形
の複合形を持つものであつてもよい。
な規則的(reεular)な結晶体を有するものでも
よく、また球状、板状などのような変則的(irreg
ular)な結晶を持つもの、あるいはこれらの結晶形
の複合形を持つものであつてもよい。
ハロゲン化銀粒子は内部と表層が均一な相から成゛って
いても、異なる相からなっていてもよい。
いても、異なる相からなっていてもよい。
別々に形成した2種以上のハロゲン化銀乳剤を混合して
使用してもよい。
使用してもよい。
本発明に用いるハロゲン化銀乳剤にはノ\ロゲン化銀粒
子の形成または物理熟成の過程においてカドミウム塩、
亜硫酸塩、鉛塩、クリラム塩、ロジウム塩もしくはその
鉛塩、イリジウム塩もしくはその錯塩などを共存させて
もよい。
子の形成または物理熟成の過程においてカドミウム塩、
亜硫酸塩、鉛塩、クリラム塩、ロジウム塩もしくはその
鉛塩、イリジウム塩もしくはその錯塩などを共存させて
もよい。
本発明の乳剤層又は、その他の親水性フロイド/!に、
フィルター染料として、あるいはイラジェーション防
止その他、積々の目的で、水溶性染料を含有してもよい
。フィルター染料としては、写真感度をさらに低めるた
めの染料、好ましくは、ハロゲン化銀の固有恣度城に分
元吸収孫大を有する紫外線吸収剤や、明室感光材料とし
て取り扱われる際のセーフライト元に対する安全性金高
めるための、主としてJjOnmNΔ00nmの領域に
実質的な光吸収をもつ染料が用いられる。
フィルター染料として、あるいはイラジェーション防
止その他、積々の目的で、水溶性染料を含有してもよい
。フィルター染料としては、写真感度をさらに低めるた
めの染料、好ましくは、ハロゲン化銀の固有恣度城に分
元吸収孫大を有する紫外線吸収剤や、明室感光材料とし
て取り扱われる際のセーフライト元に対する安全性金高
めるための、主としてJjOnmNΔ00nmの領域に
実質的な光吸収をもつ染料が用いられる。
これらの染料は、目的に応じて乳剤層に添加するか、あ
るいはハロゲン化銀乳剤層の上部、即ち、支持体に関し
てハロゲン化銀乳剤層よシ遠くの非感光性親水性コロイ
ド層に媒染剤とともに添加して固定して用いるのが好筐
しい。
るいはハロゲン化銀乳剤層の上部、即ち、支持体に関し
てハロゲン化銀乳剤層よシ遠くの非感光性親水性コロイ
ド層に媒染剤とともに添加して固定して用いるのが好筐
しい。
染料のモル吸光係数により異なるが、通常lθy 7m
2〜/ f /+o ”の範囲で添加される。好まし
くijj 017〜100797m でるる。
2〜/ f /+o ”の範囲で添加される。好まし
くijj 017〜100797m でるる。
染料の具体例は特厩昭&/−2091&?号に詳しく記
載されているが、いくつか金欠にあげる。
載されているが、いくつか金欠にあげる。
S Q 3K S Q 3に
b L73 N a
上記染料は適当な溶媒〔例えば水、アルコール(例えば
メタノール、エタノール、プロ・ξノールなど)、アセ
トン、メチルセロンルブ、など、あるいはこれらの混合
溶媒〕に溶解して本発明の非感光性の親水性コロイド層
用塗布液中に添加される。
メタノール、エタノール、プロ・ξノールなど)、アセ
トン、メチルセロンルブ、など、あるいはこれらの混合
溶媒〕に溶解して本発明の非感光性の親水性コロイド層
用塗布液中に添加される。
写真乳剤の結合剤または保護コロイドとしては、ゼラチ
ンを用いるのが有利であるが、それ以外の親水性コロイ
ドも用いることができる。たとえばゼラチン誘導体、ゼ
ラチンと他の高分子とのグラフトポリマー、アルブミン
、カゼイン等の蛋白質;ヒドロキシエチルセルロース、
カルボキシメfルセルロース、セルロース硫酸エステル
ff等ノ如!セルロース誘導体、アルギン酸ンーダ、澱
粉−導体などのEii誘導体、ポリビニルアルコール、
ポリビニルアルコール部分アセタール、ポ17 j’
J−ビニルピロリド/、ポリアクリル酸、ポリメタクリ
ル酸、ポリアクリルアミド、ポリビニルイミダゾール、
ポリビニルピラゾール等の単一あるいは共重合体の如き
多種の合成親水性高分子物質を用いることができる。
ンを用いるのが有利であるが、それ以外の親水性コロイ
ドも用いることができる。たとえばゼラチン誘導体、ゼ
ラチンと他の高分子とのグラフトポリマー、アルブミン
、カゼイン等の蛋白質;ヒドロキシエチルセルロース、
カルボキシメfルセルロース、セルロース硫酸エステル
ff等ノ如!セルロース誘導体、アルギン酸ンーダ、澱
粉−導体などのEii誘導体、ポリビニルアルコール、
ポリビニルアルコール部分アセタール、ポ17 j’
J−ビニルピロリド/、ポリアクリル酸、ポリメタクリ
ル酸、ポリアクリルアミド、ポリビニルイミダゾール、
ポリビニルピラゾール等の単一あるいは共重合体の如き
多種の合成親水性高分子物質を用いることができる。
ゼラチンとしては石灰処理ゼラチンのほか、酸処理ゼラ
チン全綱いてもよく、ゼラチン加水分解物、ゼラチン醪
素分解物も用りることができる。
チン全綱いてもよく、ゼラチン加水分解物、ゼラチン醪
素分解物も用りることができる。
本発明の方法で用いる・・ロゲン化銀乳剤は化学増感さ
れていなくてもよいが、化学増感されていてもよい。ハ
ロゲン化銀乳剤の化学増感の方法として、硫黄増感、還
元増感及び貴金属増感法が知られており、これらのいず
れtも単独で用いても、又併用して化学増感してもよい
。
れていなくてもよいが、化学増感されていてもよい。ハ
ロゲン化銀乳剤の化学増感の方法として、硫黄増感、還
元増感及び貴金属増感法が知られており、これらのいず
れtも単独で用いても、又併用して化学増感してもよい
。
貴金属増感法のうち金増感法はその代表的なもので金化
合物、主として金錯塩を用いる。全以外の貴金属、たと
えば白金、パラジウム、イリジウム等の錯塩を含有して
も差支えない。その具体例は米国特許コ、≠弘r、ot
o蛛 英11i1特許J/r、O11号などに記載され
ている。
合物、主として金錯塩を用いる。全以外の貴金属、たと
えば白金、パラジウム、イリジウム等の錯塩を含有して
も差支えない。その具体例は米国特許コ、≠弘r、ot
o蛛 英11i1特許J/r、O11号などに記載され
ている。
硫黄増感剤としては、ゼラチン中に含まれる硫黄化合物
のほか、植々の硫黄化合物、たとえばチオ硫酸塩、チオ
尿素類、チアゾール類、ローダニン類等を用いるこ七が
できる。
のほか、植々の硫黄化合物、たとえばチオ硫酸塩、チオ
尿素類、チアゾール類、ローダニン類等を用いるこ七が
できる。
還元増感剤としては■−すず塩、アミン類、ホルムアミ
ジンスルフィン酸、シラス化@物なトt−用いることが
できる。
ジンスルフィン酸、シラス化@物なトt−用いることが
できる。
本発明で用いられるハロゲン化銀乳剤層には、公知の分
光増感色素を添加してもよい。
光増感色素を添加してもよい。
本発明の感光材料には、感光材料の製造工程、保存中わ
るいは写真処理中のカブリを防止しあるいは写真性能を
安定化させる目的で、種々の化会物を含有させることが
できる。すなわちアゾール類たとえばベンゾデアゾリウ
ム塩、ニドロイ/ダゾール類、クロロベンズイミダゾー
ル類、グaモベンズイミダゾール類、メルカプトチアゾ
ール類、メルカプトベンゾチアゾール頷、メルカプトチ
アジアゾール類、アミノトリアゾール類、べ/ゾテアゾ
ールI’A、ニドaベンゾトリアゾール類、など;メル
カプトピリミジン類;メルカプトトリアジン類;たとえ
ばオキサゾリンチオンのようなチオケト化合物;アザイ
ンデン剪、たとえばトリアザインデン埴、テトラアザイ
ンデン類(特にμmヒト0キシt’t9(/、J、ja
17)テトラザインデン類)、ペンタアザインデン頌な
ど;ぺ/゛ゼンテオスルフオン酸ベンゼンスルフィン酸
、ベンゼンスルフオン酸アミド等のようなカプリ防止剤
または安定剤として知られた多くの化合物を加えること
ができる。これらのものの中で、好筐しいのけベンゾト
リアゾール類(例えば、!−メチルーベ/シトリアゾー
ル)及びニドロイ/ダゾール類゛ (例えば!−ニトロ
インダゾール)である。また、これらの化合物を処理液
に含有させてもよい。
るいは写真処理中のカブリを防止しあるいは写真性能を
安定化させる目的で、種々の化会物を含有させることが
できる。すなわちアゾール類たとえばベンゾデアゾリウ
ム塩、ニドロイ/ダゾール類、クロロベンズイミダゾー
ル類、グaモベンズイミダゾール類、メルカプトチアゾ
ール類、メルカプトベンゾチアゾール頷、メルカプトチ
アジアゾール類、アミノトリアゾール類、べ/ゾテアゾ
ールI’A、ニドaベンゾトリアゾール類、など;メル
カプトピリミジン類;メルカプトトリアジン類;たとえ
ばオキサゾリンチオンのようなチオケト化合物;アザイ
ンデン剪、たとえばトリアザインデン埴、テトラアザイ
ンデン類(特にμmヒト0キシt’t9(/、J、ja
17)テトラザインデン類)、ペンタアザインデン頌な
ど;ぺ/゛ゼンテオスルフオン酸ベンゼンスルフィン酸
、ベンゼンスルフオン酸アミド等のようなカプリ防止剤
または安定剤として知られた多くの化合物を加えること
ができる。これらのものの中で、好筐しいのけベンゾト
リアゾール類(例えば、!−メチルーベ/シトリアゾー
ル)及びニドロイ/ダゾール類゛ (例えば!−ニトロ
インダゾール)である。また、これらの化合物を処理液
に含有させてもよい。
本発明の写真感光材料には、写真乳剤層その他の親水性
コロイド層に無機または有機の硬膜剤を含有してよい。
コロイド層に無機または有機の硬膜剤を含有してよい。
例えばクロム塩(クロムミョウバン、など)、アルデヒ
ド類、ゲルタールアルデヒドなど)、N−メチロール化
合物(ジメチロール尿素、など)、ジオ中サン誘導体、
活性ビニル化合物(/、J、t−)リアクリaイル−へ
キサヒドロ−5−)’Jアジン、7.3−ビニルスルホ
ニル−一−プロ/ζノールなど)、活性I・ロゲ/化合
物(コ、≠−ジクロルー6−ヒドaキシ−5−1−リア
ジ/など)、ムコハロゲン酸類、などを単独または組み
合わせて用いることができる。
ド類、ゲルタールアルデヒドなど)、N−メチロール化
合物(ジメチロール尿素、など)、ジオ中サン誘導体、
活性ビニル化合物(/、J、t−)リアクリaイル−へ
キサヒドロ−5−)’Jアジン、7.3−ビニルスルホ
ニル−一−プロ/ζノールなど)、活性I・ロゲ/化合
物(コ、≠−ジクロルー6−ヒドaキシ−5−1−リア
ジ/など)、ムコハロゲン酸類、などを単独または組み
合わせて用いることができる。
本発明を用いて作られる感光材料の写真乳剤層または他
の親水性コロイド層には塗布助剤、帯電防止、スベリ性
改良、乳化分散、接着防止及び写真特性改良(例えば、
現像促進、硬調化、増感)等種々の目的で、種々の界面
活性剤金倉んでもよい。
の親水性コロイド層には塗布助剤、帯電防止、スベリ性
改良、乳化分散、接着防止及び写真特性改良(例えば、
現像促進、硬調化、増感)等種々の目的で、種々の界面
活性剤金倉んでもよい。
例えばサポニン(ステロイド系)、アルキレンオキサイ
ド銹導体(例えばポリエチレングリコール、ポリエチレ
ングリコール/ポリプロピレングリコール縮合物、ポリ
エチレングリコールアルキルエーテル類又はポリエチレ
ングリコールアルキル・アリールエーテル類、ポリエテ
レ/グリコールエステル頷、ポリエチレングリコールソ
ルビタンエステル類、ポリアルキレングリコールアルキ
ルアミン又はアミド類、シリコーンのポリエチレンオキ
サイド付加物類)、グリシドール誘導体(例えばアルケ
ニルコノ・り酸ポリグリセリド、アルキルフェノールポ
リグリセリド)、多価アルコールの脂肪酸エステル類、
糖のアルキルエステル頌などの非イオン性界面活性剤;
アルキルカル「ン酸塩、アルキルスル7オノ酸塩、アル
キルベンゼンスルフォン酸塩、アルキルナフタレンスル
フォン酸塩、アルキル硫酸エステル類、アルキルリン酸
エステルL N−アシル−N−アルキルタウリン類、ス
ルホコハク酸エステル類、スルホアルキルポリオキシエ
チレンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレ
ンアルキルリン酸エステル類などのような、カルボキシ
基、スルホ基、ホスホ基、硫酸エステル基、υ/酸エス
テル基等の酸性基を含むアニオン界面活性剤;アミノ酸
類、アミノアルキルスルホン酸類、アミノアルキル硫酸
又はリン酸エステル類、アルキルタウリン類、アミンオ
キシド類などの両性界面活性剤;アルキルアミン塩類、
脂肪族あるいは芳香族第弘級アンモニウム塩類、ピリジ
ニウム、イミダゾリウムなどの複素環筒≠級アンモニウ
ム塩類、及び脂肪族又は複素環を含むホスホニウム又は
スルホニウム塩類などのカチ面ン界而活性剤を用いるこ
とができる。
ド銹導体(例えばポリエチレングリコール、ポリエチレ
ングリコール/ポリプロピレングリコール縮合物、ポリ
エチレングリコールアルキルエーテル類又はポリエチレ
ングリコールアルキル・アリールエーテル類、ポリエテ
レ/グリコールエステル頷、ポリエチレングリコールソ
ルビタンエステル類、ポリアルキレングリコールアルキ
ルアミン又はアミド類、シリコーンのポリエチレンオキ
サイド付加物類)、グリシドール誘導体(例えばアルケ
ニルコノ・り酸ポリグリセリド、アルキルフェノールポ
リグリセリド)、多価アルコールの脂肪酸エステル類、
糖のアルキルエステル頌などの非イオン性界面活性剤;
アルキルカル「ン酸塩、アルキルスル7オノ酸塩、アル
キルベンゼンスルフォン酸塩、アルキルナフタレンスル
フォン酸塩、アルキル硫酸エステル類、アルキルリン酸
エステルL N−アシル−N−アルキルタウリン類、ス
ルホコハク酸エステル類、スルホアルキルポリオキシエ
チレンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレ
ンアルキルリン酸エステル類などのような、カルボキシ
基、スルホ基、ホスホ基、硫酸エステル基、υ/酸エス
テル基等の酸性基を含むアニオン界面活性剤;アミノ酸
類、アミノアルキルスルホン酸類、アミノアルキル硫酸
又はリン酸エステル類、アルキルタウリン類、アミンオ
キシド類などの両性界面活性剤;アルキルアミン塩類、
脂肪族あるいは芳香族第弘級アンモニウム塩類、ピリジ
ニウム、イミダゾリウムなどの複素環筒≠級アンモニウ
ム塩類、及び脂肪族又は複素環を含むホスホニウム又は
スルホニウム塩類などのカチ面ン界而活性剤を用いるこ
とができる。
特に本発明において好1しく用いられる界面活性剤は特
公昭zr−yali号公報に記載された分子量t00以
上のポリアルキレ/オキサイド類である。又、寸度安定
性の為にポリアルキルアクリレートの如きポリマーラテ
ックスを含有せしめることができる。
公昭zr−yali号公報に記載された分子量t00以
上のポリアルキレ/オキサイド類である。又、寸度安定
性の為にポリアルキルアクリレートの如きポリマーラテ
ックスを含有せしめることができる。
本発明に用いるのに適した現像促進剤らるいは造核伝染
現像の促進剤としては、特開昭!3−774/乙、同J
弘−3773λ、同!J−/37゜/331、同40−
/グ0.!弘01同乙0−1l弘りJり、などに開示さ
れている化せ物の他、N又はS原子を含む各種の化合物
が有効である。
現像の促進剤としては、特開昭!3−774/乙、同J
弘−3773λ、同!J−/37゜/331、同40−
/グ0.!弘01同乙0−1l弘りJり、などに開示さ
れている化せ物の他、N又はS原子を含む各種の化合物
が有効である。
次に具体利金列挙する。
これらの促進剤は、化合物の種類によって最適添加量が
異なるが/、0×10 〜0 、117m2、好まし
くFij 、 O×/ 0−3〜0 、 / S’/m
2の範囲で用いるのが望ましい。これらの促進剤は適当
な溶媒(H2O)メタノールやエタノールなどのアルコ
ール類、アセト/、ジメチルホルムアミド、メチルセル
ソルブなど)に8解して塗布液に添加される。
異なるが/、0×10 〜0 、117m2、好まし
くFij 、 O×/ 0−3〜0 、 / S’/m
2の範囲で用いるのが望ましい。これらの促進剤は適当
な溶媒(H2O)メタノールやエタノールなどのアルコ
ール類、アセト/、ジメチルホルムアミド、メチルセル
ソルブなど)に8解して塗布液に添加される。
これらの添加剤を複数の種類を併用してもよい。
本発明のハロゲン化銀感光材料を用いて超硬調の写真特
性を得るには、従来の伝染現像液や米国特許第2.弘l
り、り7j号に記載されたpH/3に近い高アルカリ現
像it用いる必要はなく、安定な現像液を用いることが
で、きる。
性を得るには、従来の伝染現像液や米国特許第2.弘l
り、り7j号に記載されたpH/3に近い高アルカリ現
像it用いる必要はなく、安定な現像液を用いることが
で、きる。
すなわち、本発明のハロゲン化銀感光材料は、保恒剤と
しての亜硫酸イオンfO,Ijモルフ1以上含み、pH
/ 0 、 j”/ 2 、 j、特にpH//、0−
/λ、Oの現像液によって充分に超硬調のネガ画像を得
ることができる。
しての亜硫酸イオンfO,Ijモルフ1以上含み、pH
/ 0 、 j”/ 2 、 j、特にpH//、0−
/λ、Oの現像液によって充分に超硬調のネガ画像を得
ることができる。
本発明の方法において用いうる現像主薬には特別な制限
はなく、例えばジヒドロキシベンゼン類C例、tば−・
イドロキノン)、3−ピラゾリドン類(例えば/−フェ
ニル−3−ピラゾリドン、弘。
はなく、例えばジヒドロキシベンゼン類C例、tば−・
イドロキノン)、3−ピラゾリドン類(例えば/−フェ
ニル−3−ピラゾリドン、弘。
μmジメチル−l−フェニル−3−ピラゾリドン)、ア
ミンフェノール類(例えばN−メチル−p−アミノフェ
ノール)などを単独あるいは組み合わせてもちいること
ができる。
ミンフェノール類(例えばN−メチル−p−アミノフェ
ノール)などを単独あるいは組み合わせてもちいること
ができる。
本発明のハロゲン化銀感光材料は特に、主現像主薬とし
てジヒドロキクベンゼン類を、補助現像主薬として3−
ピラゾリドン類またはアミンフェノール類を含む現像液
で処理されるのに適している。好ましくはこの現像液に
おいてジヒドロキシベンゼン類ll1O,OJ〜0.j
モル/113−ピラゾリドン類またはアミノフェノール
類ff、、0 、0tモル/l以下の範囲で併用される
。
てジヒドロキクベンゼン類を、補助現像主薬として3−
ピラゾリドン類またはアミンフェノール類を含む現像液
で処理されるのに適している。好ましくはこの現像液に
おいてジヒドロキシベンゼン類ll1O,OJ〜0.j
モル/113−ピラゾリドン類またはアミノフェノール
類ff、、0 、0tモル/l以下の範囲で併用される
。
また米国特許4Lコ6タタλり号に記載されているよう
に、アミン類を現像液に添加することによって現像速度
を高め、現像時間の短縮化を実現することもできる。
に、アミン類を現像液に添加することによって現像速度
を高め、現像時間の短縮化を実現することもできる。
現像液にはその他、アルカリ金属の亜硫酸塩、炭酸塩、
ホウ酸塩、及びリン酸塩の如きpH緩衝剤、臭化物、沃
化物、及び有機カプリ防止剤(特に好ましくはニトロイ
ンダゾール類またはベンゾトリアゾール類)のクロき現
像抑制剤ないし、カプリ防止剤などを含むことができる
。又必要に応じて、硬水軟化剤、溶解助剤、色調剤、現
像促進剤、界面活性剤(とくに好ましくは前述のポリア
ルキレンオキサイド類)、消泡剤、硬膜剤、2フイルム
の銀汚れ防止剤(例えば2−メルカプトベンズイミダゾ
ールスルホン酸類など)を含んでもよい。
ホウ酸塩、及びリン酸塩の如きpH緩衝剤、臭化物、沃
化物、及び有機カプリ防止剤(特に好ましくはニトロイ
ンダゾール類またはベンゾトリアゾール類)のクロき現
像抑制剤ないし、カプリ防止剤などを含むことができる
。又必要に応じて、硬水軟化剤、溶解助剤、色調剤、現
像促進剤、界面活性剤(とくに好ましくは前述のポリア
ルキレンオキサイド類)、消泡剤、硬膜剤、2フイルム
の銀汚れ防止剤(例えば2−メルカプトベンズイミダゾ
ールスルホン酸類など)を含んでもよい。
定着液としては一般に用いられる組成のものを用いるこ
とができる。定着剤としてはチオ硫酸塩、チオシアン酸
塩のほか、定着剤としての効果が知られている有機硫黄
化合物を用いることができる。
とができる。定着剤としてはチオ硫酸塩、チオシアン酸
塩のほか、定着剤としての効果が知られている有機硫黄
化合物を用いることができる。
定着液には硬膜剤として水溶性アルミニウム塩などを含
んでもよい。
んでもよい。
本発明の方法における処理温度は普通/r’cからto
ecの間に選ばれる。
ecの間に選ばれる。
写真処理には自動現像t’*’を用いるのが好ましいが
、本発明の方法により、感光材料金自動現像機に入れて
から出てくるまでのトータルの処理時間をりO秒〜ノ、
20秒に設定しても、充分に超硬調のネガ階調の写真特
性が得られる。
、本発明の方法により、感光材料金自動現像機に入れて
から出てくるまでのトータルの処理時間をりO秒〜ノ、
20秒に設定しても、充分に超硬調のネガ階調の写真特
性が得られる。
本発明の現像液に#i銀汚れ防止剤として特開昭!t−
1弘、3417号に記載の化合物を用いることができる
。現像液中に添加する溶解助剤として特願昭JO−10
り、71.Lj号に記載の化合物を用いることができる
。さらに現像液に用いるp I−1緩衝剤として特開昭
tO−73.弘33号に記載の化合物あるいはlf8原
員昭C1−譲り沼に記載の化合物を用いることができる
。
1弘、3417号に記載の化合物を用いることができる
。現像液中に添加する溶解助剤として特願昭JO−10
り、71.Lj号に記載の化合物を用いることができる
。さらに現像液に用いるp I−1緩衝剤として特開昭
tO−73.弘33号に記載の化合物あるいはlf8原
員昭C1−譲り沼に記載の化合物を用いることができる
。
以下実施例により、本発明の詳細な説明する。
実施例1
(感光性乳剤の潤製)
50℃に保ったゼラチン水溶液にitモル当り4 X
10−’モルの6塩化イリジウム(III)カリおよび
アンモニアの存在下で、硝酸銀水溶液と沃化カリウム、
臭化カリウムの水溶液を同時に60分間で加えその間の
p、Agを7.8に保つことにより、平均粒子サイズ0
.28μで、平均ヨウ化銀含有10.3モル%の立方体
単分散乳剤を11製した。この乳剤をフロキュレーシッ
ン法により、脱塩を行いその後に、銀1モル当り40g
の不活性ゼラチンを加えた後50°Cに保ち増感色素と
して5.5′−ジクロロ−9−エチル−3,3′ビス(
3−スルフォブロピル)オキサカルボシアニンと、1!
1モル当り10−’モルのKli液に加え、15分分間
時させた後降温した。
10−’モルの6塩化イリジウム(III)カリおよび
アンモニアの存在下で、硝酸銀水溶液と沃化カリウム、
臭化カリウムの水溶液を同時に60分間で加えその間の
p、Agを7.8に保つことにより、平均粒子サイズ0
.28μで、平均ヨウ化銀含有10.3モル%の立方体
単分散乳剤を11製した。この乳剤をフロキュレーシッ
ン法により、脱塩を行いその後に、銀1モル当り40g
の不活性ゼラチンを加えた後50°Cに保ち増感色素と
して5.5′−ジクロロ−9−エチル−3,3′ビス(
3−スルフォブロピル)オキサカルボシアニンと、1!
1モル当り10−’モルのKli液に加え、15分分間
時させた後降温した。
(感光乳剤層の塗布)
この乳剤を再溶解し、40℃にて、次のヒドラジン誘導
体を添加し、メチルハイドロキノン0゜02モル/Ag
モル、表1に示した本発明の含窒素ヘテロ環化合物、 7、 I X 10づモル/^gモル 更に5−メチルベンズトリアゾール、4−ヒドロキシ−
1,3,3a、7−チトラザインデン、下記化合物(イ
)、(ロ)及びゼラチンに対して30wt%のポリエチ
ルアクリレート及びゼラチン硬化剤として下記化合物(
ハ゛)を添加し、塩化ビニリデン共重合体からなる下塗
層(0,5μ)を有するポリエチレンテレフタレートフ
ィルム(150μ)上に[!513.4g/rrfとな
るよう塗布した。
体を添加し、メチルハイドロキノン0゜02モル/Ag
モル、表1に示した本発明の含窒素ヘテロ環化合物、 7、 I X 10づモル/^gモル 更に5−メチルベンズトリアゾール、4−ヒドロキシ−
1,3,3a、7−チトラザインデン、下記化合物(イ
)、(ロ)及びゼラチンに対して30wt%のポリエチ
ルアクリレート及びゼラチン硬化剤として下記化合物(
ハ゛)を添加し、塩化ビニリデン共重合体からなる下塗
層(0,5μ)を有するポリエチレンテレフタレートフ
ィルム(150μ)上に[!513.4g/rrfとな
るよう塗布した。
<1:1.)
15.0mg/ボ
(ハ)
書
C11z=C11S(hclItcllclIis(h
CH−CHzゼラチンに対して2.0wt% (保護層の塗布) この上に保護層として、ゼラチン1.5g/rrr、ポ
リメチルメタクリレート粒子(平均粒径2.5μ)0.
3g/%、下記の方法で作成したAgC1微粒子(0,
08μ)をAg量で0.3g/n?になるように、次の
界面活性剤を用いて塗布した。
CH−CHzゼラチンに対して2.0wt% (保護層の塗布) この上に保護層として、ゼラチン1.5g/rrr、ポ
リメチルメタクリレート粒子(平均粒径2.5μ)0.
3g/%、下記の方法で作成したAgC1微粒子(0,
08μ)をAg量で0.3g/n?になるように、次の
界面活性剤を用いて塗布した。
CIl□C00C*Il+3
■
ClIC0OC4Hl 2
5OJa 37
mg/ rriCaF+wsO□NCII□C00K C311? 2. 5■/イ
これらの試料を、3200’″にのタングステン光で光
学クサビおよびコンタクトスクリーン(富士フィルム、
150Lチエーンドツト型)を通して露光後、次の現像
液−■で34”30秒間現像し、定着、水洗、乾燥した
。
mg/ rriCaF+wsO□NCII□C00K C311? 2. 5■/イ
これらの試料を、3200’″にのタングステン光で光
学クサビおよびコンタクトスクリーン(富士フィルム、
150Lチエーンドツト型)を通して露光後、次の現像
液−■で34”30秒間現像し、定着、水洗、乾燥した
。
得られたサンプルの網階調の測定結果を表1に示した。
NM階調は次式で表わした。
*網階調=95%の網点面積率を与える露光量(ffi
ogE95χ)−5χの網点面積率を与える露光量(l
ogE5χ) 網点品質は、視覚的に5段階評価した。5段階評価は、
「5」が最も良く、rl、が最も悪い品質を示す、製版
用網点原版としては、「5」、「4」が実用可能で、「
3」が実用可能な限界レヘルであり、「2」、rl、は
実用不可能な品質である。
ogE95χ)−5χの網点面積率を与える露光量(l
ogE5χ) 網点品質は、視覚的に5段階評価した。5段階評価は、
「5」が最も良く、rl、が最も悪い品質を示す、製版
用網点原版としては、「5」、「4」が実用可能で、「
3」が実用可能な限界レヘルであり、「2」、rl、は
実用不可能な品質である。
結果を表2に示した0本発明のサンプルは、高い網点品
質をもち、また網階調の広い網点画像を与えた。
質をもち、また網階調の広い網点画像を与えた。
現像液−■
実施例−2
実施例−1のサンプルを実施例−1と同様に露光後、製
版用自動現像機FC660F型(富士写真フィルム■製
)に、実施例−1の現像液−■を充填し、次の3条件で
34゛cで30秒現像し、定着、水洗、乾燥した。
版用自動現像機FC660F型(富士写真フィルム■製
)に、実施例−1の現像液−■を充填し、次の3条件で
34゛cで30秒現像し、定着、水洗、乾燥した。
〔A〕自動現像機に充填した現像液の温度が34℃に達
したのち、直ちに現像処理を行う。
したのち、直ちに現像処理を行う。
(新鮮液による現像)
(B)自動現像機に現像液を充填したまま、4日間放置
した液で現像処理を行う、(空気疲労液による現像) 〔C〕自動現像機に現像液を充填したのち、富士フィル
ムGRAN[lEX GA−100フイルムを50.8
csX61.Ocmのサイズで50%の面積が現像され
るように露光し、1日に200枚処理し、5日間繰り返
し液で現像処理を行う、処理枚数1枚当り現像液−!を
1oOcc補充する。(大量処理疲労液による現像) 得られた写真型を表−2に示した。処理ランニング安定
性の点でCB)や(C)で得られる写真性が(A)の写
真性と差がないことが望ましい。
した液で現像処理を行う、(空気疲労液による現像) 〔C〕自動現像機に現像液を充填したのち、富士フィル
ムGRAN[lEX GA−100フイルムを50.8
csX61.Ocmのサイズで50%の面積が現像され
るように露光し、1日に200枚処理し、5日間繰り返
し液で現像処理を行う、処理枚数1枚当り現像液−!を
1oOcc補充する。(大量処理疲労液による現像) 得られた写真型を表−2に示した。処理ランニング安定
性の点でCB)や(C)で得られる写真性が(A)の写
真性と差がないことが望ましい。
表−2の結果かられかるように本発明の化合物を用いる
と、処理ランニング安定性が思いもかけずに良くなった
。
と、処理ランニング安定性が思いもかけずに良くなった
。
表2
実施例2
50℃に保ったゼラチン水溶液に銀1モル当り5.0X
10−’モルの(NII4) JhCj! &の存在下
で、硝M銀水溶液と塩化ナトリウム水溶液を同時に混合
したのち、当業界でよく知られた方法にて、可溶性塩を
除去したのちにゼラチンを加え、化学熟成せずに安定化
剤として2−メチル−4−ヒドロキシ−1,3,3a、
7−をテトラアザインデンを添加した。この乳剤は平均
粒子サイズが0. 15μの立方晶形をした単分散乳剤
であった。
10−’モルの(NII4) JhCj! &の存在下
で、硝M銀水溶液と塩化ナトリウム水溶液を同時に混合
したのち、当業界でよく知られた方法にて、可溶性塩を
除去したのちにゼラチンを加え、化学熟成せずに安定化
剤として2−メチル−4−ヒドロキシ−1,3,3a、
7−をテトラアザインデンを添加した。この乳剤は平均
粒子サイズが0. 15μの立方晶形をした単分散乳剤
であった。
この乳剤に次のヒドラジン化合物を添加し49+ag/
ポ ポリエチルアクリレートラテックスを固形分で対ゼラチ
ン30wt%添加し、硬膜剤として、1.3−ビニルス
ルホニル−2−プロバノールヲ加工、ポリエステル支持
体上に3.8g/nfのAg量になる様に塗布した。ゼ
ラチンは1. 8g/rrfであった。この上に保護層
としてゼラチン1.5g/ボと、マット剤として、ポリ
メチルメタクリレート粒子(平均粒径2.5μ)0.3
g/イ、さらに塗布助剤として次の界面活性剤、安定剤
、および紫外吸収染料を含む保護層を塗布し、乾燥した
。
ポ ポリエチルアクリレートラテックスを固形分で対ゼラチ
ン30wt%添加し、硬膜剤として、1.3−ビニルス
ルホニル−2−プロバノールヲ加工、ポリエステル支持
体上に3.8g/nfのAg量になる様に塗布した。ゼ
ラチンは1. 8g/rrfであった。この上に保護層
としてゼラチン1.5g/ボと、マット剤として、ポリ
メチルメタクリレート粒子(平均粒径2.5μ)0.3
g/イ、さらに塗布助剤として次の界面活性剤、安定剤
、および紫外吸収染料を含む保護層を塗布し、乾燥した
。
界面活性剤
CIl□C00CJ+z
CtlCOOCiH+ 3
■
SO3Na 37 mg
/ rrfC,F、?SO□NCII□COOに CJ? 2.5■/ボ安定剤 チオクト酸 2.1+ag/rrl
紫外吸収染料 このサンプルに大日本スクリーンQ!t3!!l明室プ
リンターJ)−607で、第1図に示すような原稿を通
して画像露光し38 ”C20秒、表3に示す本発明の
現像液で現像処理し、定着、水洗、乾燥したのち、抜き
文字画質の評価を行った。
/ rrfC,F、?SO□NCII□COOに CJ? 2.5■/ボ安定剤 チオクト酸 2.1+ag/rrl
紫外吸収染料 このサンプルに大日本スクリーンQ!t3!!l明室プ
リンターJ)−607で、第1図に示すような原稿を通
して画像露光し38 ”C20秒、表3に示す本発明の
現像液で現像処理し、定着、水洗、乾燥したのち、抜き
文字画質の評価を行った。
抜文字画質5とは第1図の如き原稿を用いて50%の網
点面積が返し用感光材料上に50%の網点面積となる様
な適正露光した時30μm巾の文字が再現される画質を
言い非常に良好な抜文字画質である。−力抜文字画質1
とは同様な適正露光を与えた時150μm巾以上の文字
しか再現することのできない画質を言い良くない抜文字
画質であり、5と1の間に官能評価で4〜2のランクを
設けた。3以上が実用し得るレベルである。
点面積が返し用感光材料上に50%の網点面積となる様
な適正露光した時30μm巾の文字が再現される画質を
言い非常に良好な抜文字画質である。−力抜文字画質1
とは同様な適正露光を与えた時150μm巾以上の文字
しか再現することのできない画質を言い良くない抜文字
画質であり、5と1の間に官能評価で4〜2のランクを
設けた。3以上が実用し得るレベルである。
結果を表4に示した。本発明のサンプルは抜き文字画質
が優れる。
が優れる。
表 4
、図面の簡単な説明
第1図は、重ね返しによる抜文字画像形成を行なう場合
の、露光時構成を示したものであり各符号は以下のもの
を示す。
の、露光時構成を示したものであり各符号は以下のもの
を示す。
(イ)透明もしくは半透明の貼りこみベース(ロ)線画
原稿(なお黒色部分は線画を示す)(ハ)i3明もしく
は半透明の貼りこみベース(ニ)網点原稿(なお黒色部
分は網点を示す)(ネ)返し用感光材料 特許出願人 富士写真フィルム株式会社手続補正書 1.事件の表示 平成1年特願第1213r6号
2、発明の名称 画像形成法 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人性 所 神奈
川県南足柄市中沼210番地名 称(520)富士写真
フィルム株式会社4、 補正の対象 明細書の「発明
の詳細な説明」の欄 5、補正の内容 明細書の「発明の詳細な説明」の項の記載を下記の通り
補正する。
原稿(なお黒色部分は線画を示す)(ハ)i3明もしく
は半透明の貼りこみベース(ニ)網点原稿(なお黒色部
分は網点を示す)(ネ)返し用感光材料 特許出願人 富士写真フィルム株式会社手続補正書 1.事件の表示 平成1年特願第1213r6号
2、発明の名称 画像形成法 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人性 所 神奈
川県南足柄市中沼210番地名 称(520)富士写真
フィルム株式会社4、 補正の対象 明細書の「発明
の詳細な説明」の欄 5、補正の内容 明細書の「発明の詳細な説明」の項の記載を下記の通り
補正する。
1)第12頁の5.の化学構造式中を
■ 」
と補正する。
2)第15頁の39.の化学構造式を
と補正する。
3)第35頁のl−24)の化学構造式をと補正する。
4)第35頁の1−25)の化学構造式をと補正する。
5)第36頁の1−28)の化学構造式を」
と補正する。
6)第76頁の化学構造式
と補正する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)支持体上に少なくとも一層のハロゲン化銀乳剤層を
有し、該乳剤層又はその他の親水性コロイド層にヒドラ
ジン誘導体を含むハロゲン化銀写真感光材料を、3ない
し10員環の非ベンゾ縮環の窒素を含むヘテロ環化合物
の存在下で現像処理することを特徴とする画像形成法。 2)含窒素ヘテロ環化合物が5ないし6員環の非ベンゾ
縮環不飽和ヘテロ環化合物であることを特徴とする特許
請求の範囲第(1)項記載のハロゲン化銀写真感光材料
。 3)含窒素ヘテロ環化合物が、ピロール類、イミダゾー
ル類、ピラゾール類、トリアゾール類、テトラゾール類
、ピリジン類、チアゾール類、オキサゾール類であるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第(1)項記載のハロゲ
ン化銀写真感光材料。 4)含窒素ヘテロ環化合物が、イミダゾール類であるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第(1)項記載のハロゲ
ン化銀写真感光材料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1128386A JP2813747B2 (ja) | 1989-05-22 | 1989-05-22 | 画像形成法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1128386A JP2813747B2 (ja) | 1989-05-22 | 1989-05-22 | 画像形成法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02306237A true JPH02306237A (ja) | 1990-12-19 |
JP2813747B2 JP2813747B2 (ja) | 1998-10-22 |
Family
ID=14983532
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1128386A Expired - Fee Related JP2813747B2 (ja) | 1989-05-22 | 1989-05-22 | 画像形成法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2813747B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7265135B2 (en) * | 2001-03-29 | 2007-09-04 | Ortho-Mcneil Pharmaceutical, Inc. | 2-oxy, 2-amino, and 2-thio-imidazole compounds |
US7279491B2 (en) | 2002-10-23 | 2007-10-09 | Janssen Pharmaceutica N.V. | Phenylpiperidines and phenylpyrrolidines |
US7414047B2 (en) | 2002-10-23 | 2008-08-19 | Janssen Pharmaceutica N.V. | Piperazinyl and diazapanyl benzamides and benzthioamides |
US7687499B2 (en) | 2005-09-16 | 2010-03-30 | Janssen Pharmaceutica Nv | Cyclopropyl amines as modulators of the histamine H3 receptor |
WO2013008172A1 (en) * | 2011-07-12 | 2013-01-17 | Ecole D'ingenieurs Et D'architectes De Fribourg | Zwitterionic liquid as co-catalyst for the enzymatic esterification |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4830502A (ja) * | 1971-08-23 | 1973-04-21 | ||
JPS5814664A (ja) * | 1981-07-17 | 1983-01-27 | Ricoh Co Ltd | 記録方法 |
JPS5952815A (ja) * | 1982-08-19 | 1984-03-27 | ウエスチングハウス エレクトリツク コ−ポレ−シヨン | セルロ−ス無し変圧器コイルおよびその製造方法 |
JPS6054662A (ja) * | 1983-09-06 | 1985-03-29 | Q P Corp | くきわかめの処理方法 |
JPS622301A (ja) * | 1985-06-27 | 1987-01-08 | Meidensha Electric Mfg Co Ltd | プラントの制御装置 |
JPS63124045A (ja) * | 1986-11-14 | 1988-05-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | 超硬調ネガ型ハロゲン化銀写真感光材料 |
JPS649610A (en) * | 1987-07-01 | 1989-01-12 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Manufacture of electric double-layer capacitor |
-
1989
- 1989-05-22 JP JP1128386A patent/JP2813747B2/ja not_active Expired - Fee Related
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JPS649610A (en) * | 1987-07-01 | 1989-01-12 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Manufacture of electric double-layer capacitor |
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US7279491B2 (en) | 2002-10-23 | 2007-10-09 | Janssen Pharmaceutica N.V. | Phenylpiperidines and phenylpyrrolidines |
US7414047B2 (en) | 2002-10-23 | 2008-08-19 | Janssen Pharmaceutica N.V. | Piperazinyl and diazapanyl benzamides and benzthioamides |
US7687499B2 (en) | 2005-09-16 | 2010-03-30 | Janssen Pharmaceutica Nv | Cyclopropyl amines as modulators of the histamine H3 receptor |
US7910582B2 (en) | 2005-09-16 | 2011-03-22 | Janssen Pharmaceutica Nv | Cyclopropyl amines as modulators of the histamine H3 receptor |
US8026242B2 (en) | 2005-09-16 | 2011-09-27 | Carruthers Nicholas I | Cyclopropyl amines as modulators of the histamine H3 receptor |
WO2013008172A1 (en) * | 2011-07-12 | 2013-01-17 | Ecole D'ingenieurs Et D'architectes De Fribourg | Zwitterionic liquid as co-catalyst for the enzymatic esterification |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2813747B2 (ja) | 1998-10-22 |
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