JPH0810317B2 - ハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents
ハロゲン化銀写真感光材料Info
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Description
解像力の画像形成方法に関するものである。
高い写真画像を形成できることは公知であり、そのよう
な写真画像の形成方法は写真製版の分野で用いられてい
る。例えば、ヒドラジン誘導体(例えば米国特許4,166,
742号、同4,168,977号、同4,211,857号、同4,224,401
号、同4,243,739号、同4,272,606号、同4,311,781号に
みられるように、特定のアシルヒドラジン化合物)を添
加した表面潜像型ハロゲン化銀写真感光材料を、pH11.0
〜12.3で亜硫酸保恒剤を0.15モル/l以上含む液で処理す
ることにより超硬調なネガ画像を得る方法が知られてい
る。
ントラストを得ることができるが、一方で特性曲線の足
切れが良いために、露光量を下げていつた時の細線がつ
きにくいという欠点が生ずる。例えば製版カメラを使用
し文字原稿を撮影する時、足切れの良い超硬調な感材で
は露光アンダーにすると急激に文字濃度が低下し文字と
して判読できなくなつてしまう。従つてこのような硬調
な感材では露光量変動に対するラチチュードが狭くなつ
しまうという欠点を持つ。
るとこのような欠点を改良することができる。つまり、
軟調な感材では露光量を下げていつた時に文字濃度が急
激に下がるようなことはなく、また、露光量を下げても
次の返し工程に使用できるくらいの濃度を有しており、
文字として使用可能な画像を得ることができる。このよ
うに、軟調な感材では低露光量側にラチチュードが広が
るという利点があるが、逆に軟調であるためにバックグ
ラウンドの濃度(Dmax)が出にくいという欠点がある。
つまり原稿の白地の部分(ネガフイルム上では黒ベタと
なる)の濃度は、特性曲線のγ値が高い程Dmaxが高くな
り、軟調な感材ではこのγ値が低いためDmaxが低いとい
う欠点を持つ。線画撮影において版下の原稿には文字濃
度の高いものや、文字濃度の低い低コントラストのも
の、あるいは、明朝体(線巾の細いもの)やゴシック体
(線巾の太いもの)、下地が着色しているような原稿等
が混在しており、これら各種の原稿はそれぞれに最適露
光量が異なつている。
きている版下を撮影しようとする場合、露光ラチチュー
ドの狭い感材では露光条件の選定が極めて難しく、時に
は1回の撮影では原稿のすべての部分を再現性よく撮影
することができず原稿を部分的に露光条件を変えてとり
分けることがあつた。
量を下げると、バックグラウンド濃度(ネガフイルム上
の黒ベタ部に相当し、Dmaxとして表わす。)が低くなつ
たり、また原稿の白い細線(黒地の中の白い線)の濃度
が低くつぶれてしまうという問題が生じ、また逆に露光
量を上げると原稿の黒い細線がつぶれてしまうという問
題が起り、このような線画撮影における露光ラチチュー
ドの広く、またバックグランドの濃度(Dmax)の高い感
材が望まれていた。
チュードが広く超硬調で高い解像力を有したハロゲン化
銀感光材料を提供することである。
共にバックグラウンドの濃度(Dmax)の高い超硬調なハ
ロゲン化銀感光材料を提供することである。
感光性ハロゲン化銀乳剤層を有し、かつ該ハロゲン化銀
乳剤層またはその乳剤層に隣接する親水性コロイド層中
に下記一般式(I)で表わされるヒドラジン化合物を含
みかつ該乳剤層と支持体との間に染料含有層を有するこ
とを特徴とする透過型のネガ型ハロゲン化銀写真感光材
料によつて達成することができた。
体について説明する。
水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、ア
リールオキシ基、アミノ基、カルバモイル基又はオキシ
カルネボニル基を表わし、G1はカルボニル基、スルホ
ニル基、スルホキシ基、 基、又はイミノメチレン基を表わし、A1、A2はともに
水素原子あるいは一方が水素原子で他方が置換もしくは
無置換のアルキルスルホニル基、又は置換もしくは無置
換のアリールスルホニル基、又は置換もしくは無置換の
アシル基を表わす。
ましくは炭素数1〜30のものであって、特に炭素数1〜
20の直鎖、分岐または環状のアルキル基である。ここで
分岐アルキル基はその中に1つまたはそれ以上のヘテロ
原子を含んだ飽和のヘテロ環を形成するように環化され
ていてもよい。またこのアルキル基は、アリール基、ア
ルコキシ基、スルホキシ基、スルホンアミド基、カルボ
ンアミド基等の置換基を有していてもよい。
または2環のアリール基または不飽和ヘテロ環基であ
る。ここで不飽和ヘテロ環基は単環または2環のアリー
ル基と結合してヘテロアリール基を形成してもよい。
ミジン環、イミダゾール環、ピラゾール環、キノリン
環、イソキノリン環、ベンズイミダゾール環、チアゾー
ル環、ベンゾチアゾール環等があるがなかでもベンゼン
環を含むものが好ましい。
ていてもよく、代表的な置換基としては、直鎖、分岐ま
たは環状のアルキル基(好ましくは炭素数1〜20のも
の)、アラルキル基(好ましくはアルキル部分の炭素数
が1〜3の単環または2環のもの)、アルコキシ基(好
ましくは炭素数1〜20のもの)、置換アミノ基(好まし
くは炭素数1〜20のアルキル基で置換されたアミノ
基)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜30を持つ
もの)、スルホンアミド基(好ましくは炭素数1〜30を
持つもの)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜30を持
つもの)などがある。
しては、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基であっ
て、ハロゲン原子、シアノ基、カルボキシ基、スルホ
基、アルコキシ基、フェニル基などの置換基を有してい
てもよい。
ル基が好ましく、例えばベンゼン環を含むものである。
このアリール基は、例えばハロゲン原子、アルキル基、
シアノ基、カルボキシル基、スルホ基などで置換されて
いてもよい。
ものが好ましく、ハロゲン原子、アリール基などで置換
されていてもよい。
た置換基としてはハロゲン原子などがある。
のアルキルアミノ基、アリールアミノ基が好ましく、ア
ルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、カルボ
キシ基などで置換されていてもよい。カルバモイル基と
しては無置換カルバモイル基、及び炭素数1〜10のアル
キルカルバモイル基、アリールカルバモイル基が好まし
く、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、カルボキシ
基などで置換されていてもよい。
キシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基が好ま
しく、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基
などで置換されていてもよい。
ボニル基の場合には、水素原子、アルキル基(例えば、
メチル基、トリフルオロメチル基、3−ヒドロキシプロ
ピル基、3−メタンスルホンアミドプロピル基など)、
アラルキル基(例えば、o−ヒドロキシベンジル基な
ど)、アリール基(例えば、フェニル基、3,5−ジクロ
ロフェニル基、o−メタンスルホンアミドフェニル基、
4−メタンスルホニルフェニル基など)などであり、特
に水素原子が好ましい。
(例えば、メチル基など)、アラルキル基(例えば、o
−ヒドロキシフェニルメチル基など)、アリール基(例
えば、フェニル基など)または置換アミノ基(例えば、
ジメチルアミノ基など)などが好ましい。
ジル基、メチルチオベンジル基などであり、G1が 基の場合には、R2としてはメトキシ基、エトキシ基、
ブトキシ基、フェノキシ基、フェニル基が好ましく、特
に、フェノキシ基が好適である。
合、好ましいR2はメチル基、エチル基、置換または無
置換のフェニル基である。
適用できる他、例えばアシル基、アシルオキシ基、アル
キルもしくはアリールオキシカルボニル基、アルケニル
基、アルキニル基やニトロ基なども適用できる。
い。
G−R2部分の原子を含む環式構造を生成させる環化反
応を生起するようなものであってもよく、具体的には一
般式(a)で表わすことができるようなものでる。
1部分を残余分枝から分裂させ得る基であり、R3はR2
から水素原子1個除いたもので、Z1がG1に対し求核攻
撃し、G1、R3、Z1で環式構造が生成可能なものであ
る。
合物が酸化等により次の反応中間体を生成したときに容
易にG1と求核反応し R1−N=N−G1−R3−Z1 R1−N=N基をG1から分裂させうる基であり、具体的
にはOH、SHまたはNHR4(R4は水素原子、アルキル基、
アリール基、−COR5、または−SO2R5であり、R5は水
素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基などを表
わす)、COOHなどのようにG1と直接反応する官能基で
あってもよく、(ここで、OH、SH、NHR4−COOHはアルカ
リ等の加水分解によりこれらの基を生成するように一時
的に保護されていてもよい)あるいは、 (R6、R7は水素原子、アルキル基、アルケニル基、ア
リール基またはヘテロ環基を表わす)のように水酸イオ
ンや亜硫酸イオン等のような求核剤と反応することでG
1と反応することが可能になる官能基であってもよい。
たは6員のものが好ましい。一般式(a)で表わされる
もののうち、好ましいものとしては一般式(b)及び
(c)で表わされるものを挙げることができる。
くは炭素数1〜12のもの)アルケニル基(好ましくは炭
素数2〜12のもの)アリール基(好ましくは炭素数6〜
12のもの)などを表わし、同じでも異ってもよい。Bは
置換基を有してもらい5員環または6員環を完成するの
に必要な原子であり、m、nは0または1であり、(n
+m)は1または2である。
シクロヘキセン環、シクロヘプテン環、ベンゼン環、ナ
フタレン環、ピリジン環、キノリン環などである。
ル基、アリール基またはハロゲン原子などを表わし、同
じでも異なってもよい。
アリール基を表わす。
得る構造の限りにおいて互いに結合して環を形成しても
よい。
たはアルキル基でありRc 3は好ましくはアルキル基また
はアリール基である。
または2を、qが2のときpは0または1を、qが3の
ときpは0または1を表わし、qが2または3のときCR
c 1Rc 2は同じでも異なってもよい。
ニル基およびアリールスルホニル基(好ましくはフェニ
ルフルホニル基又はハメットの置換基定数の和が−0.5
以上となるように置換されたフェニルスルホニル基)、
炭素数20以下のアシル基(好ましくはベンゾイル基、又
はハメットの置換基定数の和が−0.5以上となるように
置換されたベンゾイル基、あるいは直鎖又は分岐状又は
環状の無置換及び置換脂肪族アシル基(置換基としては
例えばハロゲン原子、エーテル基、スルホンアミド基、
カルボンアミド基、水酸基、カルボキシ基、スルホン酸
基が挙げられる。)) A1、A2としては水素原子が最も好ましい。
不動性写真用添加剤において常用されているバラスト基
が組み込まれているものでもよい。バラスト基は8以上
の炭素数を有する写真性に対して比較的不活性な基であ
り、例えばアルキル基、アルコキシ基、フェニル基、ア
ルキルフェニル基、フェノキシ基、アルキルフェノキシ
基などの中から選ぶことができる。
粒子表面に対する吸着を強める基が組み込まれているも
のでもよい。かかる吸着基としては、チオ尿素基、複素
環チオアミド基、メルカプト複素環基、トリアゾール基
などの米国特許第4,385,108号、同4,459,347号、特開昭
59-195,233号、同59-200,231号、同59-201,045号、同59
-201,046号、同59-201,047号、同59-201,048号、同59-2
01,049号、特開昭61-170,733号、同61-270,744号、同62
-948号、特願昭62-67,508号、同62-67,501号、同62-67,
510号に記載された基があげられる。
す。但し本発明は以下の化合物に限定されるものではな
い。
のものの他に、RESEARCH DISCLOSURE Item23516(1983
年11月号、P.346)およびそこに引用された文献の他、
米国特許4,080,207号、同4,269,929号、同4,276,364
号、同4,278,748号、同4,385,108号、同4,459,347号、
同4,560,638号、同4,478,928号、英国特許2,011,391B、
特開昭60-179734号、特開昭61-170,733号、同61-270,74
4号、同62-948号、EP217,310号、特願昭61-175,234号、
同61-251,482号、同61-268,249号、同61-276,283号、同
62-67,508号、同62-67,529号、同62-67,510号、同62-5
8,513号、同62-130,819号、同62-143,469号、同62-166,
117号に記載されたものを用いることができる。
ロゲン化銀1モルあたり1×10-6モルないし5×10-2モ
ル含有されるのが好ましく、特に1×10-5モルないし2
×10-2モルの範囲が好ましい添加量である。
光吸収を持つものが用いられる。これらの染料はハロゲ
ン化銀乳剤層の下部、即ち支持体に近い側の親水性コロ
イド層中に媒染剤とともに添加して固定して用いるのが
好ましい。
ているがいくつかを次にあげる。本発明はこれらに限定
されるものではない。
〜(IIf)で表わされる染料を挙げることができる。
はベンツオキサゾール、の複素環核を形成するに必要な
非金属原子群を表わす。
酸、イソオキサゾロン、3−オキシチオナフテンまたは
1,3−インダンジオンを形成するに必要な原子群を表わ
す。Rは置換または未置換のアルキル基、R1、R2、R
3及びR4は水素原子、アルコキシ基、ジアルキルアミノ
基またはスルフオン基R5は水素原子またはハロゲン原
子、Mは水素原子、ナトリウム原子またはカリウム原
子、Xは陰イオン、m、n1及びn3は1または2を表わ
す。但しmが1のときは分子内塩を形成する。〕 一般式IIe 一般式IIf 〔式中Yはアルキル基、たまはカルボキシル基R6、
R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13、14、R15、
R16及びR17は水素原子、アルキル基、ヒドロキシル
基、アミノ基、アシルアミノ基カルボキシル基またはス
ルフオン基を表わす。但しR12とR13とは互に結合して
ベンゼン環を形成してもよい。〕 一般式(I)〜(V)の染料の中でも酸性基(スルホ
ン基、カルボキシル基、等)染料が好ましい。
ばメタノール、エタノール、プロパノールなど)、アセ
トン、メチルセロソルブ、など、あるいはこれらの混合
溶媒〕に溶解して本発明の非感光性の親水性コロイド層
用塗布液中に添加される。
る。
特に10-3g/m2〜0.5g/m2の範囲に好ましい量を見い出す
ことができる。
-2,548,564、US-2,882,156、US-3,444,138等に記載のも
のが使用される。
有結合できる基(例えばアルデヒド基、クロロアルカノ
イル基、クロロアルキル基、ビニルスルホニル基、ピリ
ジニウムプロピオニル基、ビニルカルボニル基、アルキ
ルスルホノキシ基など)を有するポリマー 例えば (2) 下記一般式(IIIa)で表わされるモノマーの繰
り返し単位と他のエチレン性不飽和モノマーの繰り返し
単位とからなるコポリマーと、架橋剤(例えばビスアル
カンスルホネート、ビスアレンスルホネート)との反応
生成物。
〜R5の少くとも2つが結合してヘテロ環を形成しても
よい。
む。) (3) 下記一般式(IIIb)で表わされるポリマー 一般式(IIIb) x;約0.25〜約5モル% y;約0〜約90モル% z;約10〜約99モル% A;エチレン性不飽和結合を少なくとも2つもつモノマ
ー B;共重合可能なエチレン性不飽和モノマー Q;N,P R1,R2,R3;アルキル基、環状炭化水素基、またR1〜
R3の少くとも二つは結合して環を形成してもよい。
(b)及び(c)から成るコポリマー 一般式(IIIc) X;水素原子、アルキル基またはハロゲン原子。(アル
キル基は置換されていてもよい。) (b) アルリル酸エステル (c) アクリルニトリル (5) 下記一般式(IIId)で表わされるくり返し単位
を1/3以上有する水不溶性のポリマー一般式(IIId) R1,R2,R3;それぞれアルキル基を表わし、R1〜R3
の炭素数の総和が12以上のもの。(アルキル基は置換さ
れていてもよい。) X;アニオン 媒染剤の添加量としては5〜1000mg/m2好ましくは20
〜500mg/m2である。媒染剤の具体例を以下に示すが本発
明はこれらに限定されるものではない。
-197943記載のものを使用することができる。これらの
染料は媒染剤を必要とせず、微結晶分散状態で添加さ
れ、実質的に非拡散性である。また現像処理工程で脱色
し無色となる。
2または染料粒子のサイズとしては1μm以下好ましく
は0.1μm以下である。
くは非置換のアルキル、又はベンジルを表わし、 R1及びR2は、それぞれ独立に、置換若しくは非置換
のアルキル若しくはアリールを表わすか、又は、R5,
R6,N及びそれらが結合している炭素原子と一緒になつ
て、ジュロリジル環を完結するに必要な原子群を表わ
し、 R3およびR7は、それぞれ独立に、H、置換若しくは
非置換アルキル、アリール、アルコキシ、水素、又はア
セトアミドを表わし、 R4は、置換若しくは非置換のアルキル、アルコキシ
カルボニル、アリール、アシル、又はアミドを表わし、 R5及びR6は、それぞれ独立に、Hを表わすか、又
は、R5はR1と一緒になつて、又はR6はR2と一緒にな
つて、炭素環を完結するに必要な原子群を表わし、 R8は、CO2H又はNHSO2R9(ただし、R9は置換若し
くは非置換のアルキル若しくはアリールを表わす)であ
り、 xは1又は2であり、そして、 nは0又は1である) を有するメロスチリルアリーリデンである。
染料を固定化するのに重要である。
炭素を含有し得る。このような基の例には、アセチル、
ベンゾイル、メチル、エチル、プロピル、メトキシカル
ボキシル、エトキシカルボキシル、ブトキシカルボキシ
ル、フルオロアルキル、ドデシル、及びオクタデシルが
含まれる。アリール基は、6〜20個の炭素を含有し、更
に広範囲の種々の基で置換され得る。このような置換及
び非置換アリール基の例には、上記のようなアルキル置
換基を有するフエニル及びナフチルが含まれる。
のではない。
イドとしては、ゼラチンを用いるのが有利であるが、そ
れ以外の親水性コロイドも用いることができる。たとえ
ばゼラチン誘導体、ゼラチンと他の高分子とのグラフト
ポリマー、アルブミン、カゼイン等の蛋白質;ヒドロキ
シエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、セ
ルロース硫酸エステル類等の如きセルロース誘導体、ア
ルギン酸ソーダ、澱粉誘導体などの糖誘導体、ポリビニ
ルアルコール、ポリビニルアルコール部分アセタール、
ポリ−N−ビニルピロリドン、ポリアクリル酸、ポリメ
タクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリビニルイミダゾ
ール、ポリビニルピラゾール等の単一あるいは共重合体
の如き多種の合成親水性高分子物質を用いることができ
る。
ラチンを用いてもよく、ゼラチン加水分解物、ゼラチン
酵素分解物も用いることができる。
れていなくてもよいが、化学増感されていてもよい。ハ
ロゲン化銀乳剤の化学増感の方法として、硫黄増感、還
元増感及び貴金属増感法が知られており、これらのいず
れをも単独で用いても、又併用して化学増感してもよ
い。
化合物、主として金錯塩を用いる。金以外の貴金属、た
とえば白金、パラジウム、イリジウム等の錯塩を含有し
ても差支えない。その具体例は米国特許2,448,060号、
英国特許618,061号などに記載されている。
物のほか、種々の硫黄化合物、たとえばチオ硫酸塩、チ
オ尿素類、チアゾール類、ローダニン類等を用いること
ができる。
ミジンスルフイン酸、シラン化合物などを用いることが
できる。
分光増感色素を添加してもよい。
あるいは写真処理中のカブリを防止しあるいは写真性能
を安定させる目的で、種々の化合物を含有させることが
できる。すなわちアゾール類たとえばベンゾチアゾリウ
ム塩、ニトロインダゾール類、クロロベンズイミダゾー
ル類、ブロモベンズイミダゾール類、メルカプトチアゾ
ール類、メルカプトベンゾチアゾール類、ヘルカプトチ
アジアゾール類、アミノトリアゾール類、ベンゾチアゾ
ール類、ニトロベンゾトリアゾール類、など;メルカプ
トピリミジン類;メルカプトトリアジン類;たとえばオ
キサゾリンチオンのようなチオケト化合物;アザインデ
ン類、たとえばトリアザインデン類、テトラアザインデ
ン類(特に4−ヒドロキシ置換(1,3,3a,7)テトラザイ
ンデン類)、ペンタアザインデン類など;ベンゼンチオ
スルフオン酸、ベンゼンスルフイン酸、ベンゼンスルフ
オン酸アミド等のようなカブリ防止剤または安定剤とし
ては知られた多くの化合物を加えることがてきる。これ
らのものの中で、好ましいのはベンゾトリアゾール類
(例えば、5−メチル−ベンゾトリアゾール)及びニト
ロインダゾール類(例えば5−ニトロインダゾール)で
ある。また、これらの化合物を処理液に含有させてもよ
い。
無機または有機の硬膜剤を含有してよい。例えば活性ビ
ニル化合物(1,3,5−トリアクリロイル−ヘキサヒドロ
−s−トリアジン、ビス(ビニルスルホニル)メチルエ
ーテル、N,N′−メチレンビス−〔β−(ビニルスルホ
ニル)プロピオンアミド〕など)、活性ハロゲン化合物
(2,4−ジクロル−6−ヒドロキシ−s−トリアジンな
ど)、ムコハロゲン酸類(ムコクロル酸など)、N−カ
ルバモイルピリジニウム塩類((1−モルホリ)カルボ
ニル−3−ピリジニオ)メタンスルホナートなど)、ハ
ロアミジニウム塩類(1−(1−クロロ−1−ピリジノ
メチレン)ピロリジニウム、2−ナフタレンスルホナー
トなど)を単独または組合せて用いることができる。な
かでも、特開昭53-41220、同53-57257、同59-162546、
同60-80846に記載の活性ビニル化合物および米国特許3,
325,287号に記載の活性ハロゲン化物が好ましい。
他の親水性コロイド層には塗布助剤、帯電防止、スベリ
性改良、乳化分散、接着防止及び写真特性改良(例え
ば、現像促進、硬調化、増感)等種々の目的で、種々の
界面活性剤を含んでもよい。
イド誘導体(例えばポリエチレングリコール、ポリエチ
レングリコール/ポリプロピレングリコール縮合物、ポ
リエチレングリコールアルキルエーテル類又はポリエチ
レングリコールアルキルアリールエーテル類、ポリエチ
レングリコールエステル類、ポリエチレングリコールソ
ルビタンエステル類、ポリアルキレングリコールアルキ
ルアミン又はアミド類、シリコーンのポリエチレンオキ
サイド付加物類)、グリシドール誘導体(例えばアルケ
ニルコハク酸ポリグリセリド、アルキルフエノールポリ
グリセリド)、多価アルコールの脂肪酸エステル類、糖
のアルキルエステル類などの非イオン性界面活性剤;ア
ルキルカルボン酸塩、アルキルスルフオン酸塩、アルキ
ルベンゼンスルフオン酸塩、アルキルナフタレンスルフ
オン酸塩、アルキル硫酸エステル類、アルキルリン酸エ
ステル類、N−アシル−N−アルキルタウリン類、スル
ホコハク酸エステル類、スルホアルキルポリオキシエチ
レンアルキルフエニルエーテル類、ポリオキシエチレン
アルキルリン酸エステル類などのような、カルボキシ
基、スルホ基、ホスホ基、硫酸エステル基、リン酸エス
テル基等の酸性基を含むアニオン界面活性剤;アミノ酸
類、アミノアルキルスルホン酸類、アミノアルキル硫酸
又はリン酸エステル類、アルキルベタイン類、アミンオ
キシド類などの両性界面活性剤;アルキルアミン塩類、
脂肪族あるいは芳香族第4級アンモニウム塩類、ピリジ
ニウム、イミダゾリウムなどの複素環第4級アンモニウ
ム塩類、及び脂肪族又は複素環を含むホスホニウム又は
スルホニウム塩類などのカチオン界面活性剤を用いるこ
とができる。
特公昭58-9412号公報に記載された分子量600以上のポリ
アルキレンオキサイド類である。又、寸度安定性の為に
ポリアルキルアクリレートの如きポリマーラテックスを
含有せしめることができる。
染現像の促進剤としては、特開昭53-77616、同54-3773
2、同53-137,133、同60-140,340、同60-14959、などに
開示されている化合物の他、N又はS原子を含む各種の
化合物が有効である。
が異なるが1.0×10-3〜0.5g/m2、好ましくは5.0×10-3
〜0.1g/m2の範囲で用いるのが望ましい。これらの促進
剤は適当な溶媒(H2O)メタノールやエタノールなど
のアルコール類、アセトン、ジメチルホルムアミド、メ
チルセルソルブなど)に溶解して塗布液に添加される。
特性を得るには、従来の伝染現像液や米国特許第2,419,
975号に記載されたpH13に近い高アルカリ現像液を用い
る必要はなく、安定な現像液を用いることができる。
としての亜硫酸イオンを0.15モル/l以上含み、pH10.5〜
12.3、特にpH11.0〜12.0の現像液によつて充分に超硬調
のネガ画像を得ることができる。
限はなく、例えばジヒドロキシベンゼン類(例えばハイ
ドロキノン)、3−ピラゾリドン類(例えば1−フエニ
ル−3−ピラゾリドン、4,4−ジメチル−1−フエニル
−3−ピラゾリドン)、アミノフエノール類(例えばN
−メチル−p−アミノフエノール)などを単独あるいは
組み合わせてもちいることができる。
してジヒドロキシベンゼン類を、補助現像主薬として3
−ピラゾリドン類またはアミノフエノール類を含む現像
液で処理されるのに適している。好ましくはこの現像液
においてジヒドロキシベンゼン類は0.05〜0.5モル/l、
3−ピラゾリドン類またはアミノフエノール類は0.06モ
ル/l以下の範囲で併用される。
ミン類を現像液に添加することによつて現像速度を高
め、現像時間の短縮化を実現することもできる。
塩、ホウ酸塩、及びリン酸塩の如きpH緩衝剤、臭化物、
沃化物、及び有機カブリ防止剤(特に好ましくはニトロ
インダゾール類またはベンゾトリアゾール類)の如き現
像抑制剤ないし、カブリ防止剤などを含むことができ
る。又必要に応じて、硬水軟化剤、溶解助剤、色調剤、
現像促進剤、界面活性剤(とくに好ましくは前述のポリ
アルキレンオキサイド類)、消泡剤、硬膜剤、フイルム
の銀汚れ防止剤(例えば2−メルカプトベンズイミダゾ
ールスルホン酸類など)を含んでもよい。
ことができる。定着剤としてはチオ硫酸塩、チオシアン
酸塩のほか、定着剤としての効果が知られている有機硫
黄化合物を用いることができる。定着液には硬膜剤とし
て水溶性アルミニウム塩などを含んでもよい。
間に選ばれる。
発明の方法により、感光材料を自動現像機に入れてから
出てくるまでのトータルの処理時間を90秒〜120秒に設
定しても、充分に超硬調のネガ階調の写真特性が得られ
る。
347号に記載の化合物を用いることができる。現像液中
に添加する溶解助剤として特願昭60-109,743号に記載の
化合物を用いることができる。さらに現像液に用いるpH
緩衝剤として特開昭60-93,433号に記載の化合物あるい
は特開昭62-186966に記載の化合物を用いることができ
る。
は所謂フアーマー減力液、エチレンジアミン四酢酸第二
鉄塩、過マンガン酸カリ、過硫酸アンモニウム減力液
(コダツクR−5)、第二セリウム塩減力液が挙げられ
る。
℃の温度で、数秒ないし数10分特に数分内の時間で終了
できることが好ましい。本発明の製版用感材を用いれば
この条件の範囲内で十分に広い減力巾を得ることができ
る。
ている銀画像に作用させる。
版用感材を浸たして液を攪拌したり、減力液を筆、ロー
ラーなどによつて製版用感材の表面に付与するなどの方
法が利用できる。
製)を用いて線巾100μの白線と黒線の入つた原稿を作
成した。白線とは、周囲が黒ベタで、黒地の中に線の部
分が白くなつているものであり、また黒線とは周囲が白
地で中に黒線が入つているものである。これらの黒線お
よび白線の線巾は原稿を反射型ミクロデンシトメーター
で線巾方向にスキヤンすることにより光学濃度=0.6の
ところの線巾がそれぞれ100μであることで確認した。
このようにして得られた白線および黒線の入つた手動写
植ペーパーの原稿を反射型製版カメラDSC-351(大日本
スクリーン(株)製)を用いて、実施例記載の試料に撮
影したのち現像処理を行なつた。製版カメラの露光秒類
を変えて露光し白線再現の限界露光量および黒線再現の
限界露光量をそれぞれ求めこの2者の差を露光ラチチュ
ードとした。つまり露光量を下げていくと原稿の黒線
(ネガフイルム上では白線となる)は再現するが、原稿
の白線(ネガフイルム上では黒線となる)は線巾が細く
かつ濃度が低くなつてしまい、これ以下の露光量では白
線が再現しなくなるような下限の露光量が見つかる。ま
た同様に露光量を上げていくと原稿の白線は良好である
が黒線がつぶれてしまうような上限の露光量がみつか
る。このようにして求められた上限と下限の露光量差
(ΔlogE)を線画露光ラチチュードとした。この露光量
差は値の大きい方がラチチュードが広く好ましい。白線
および黒線の限界点は、現像処理後のネガフイルムを透
過型ミクロデンシトメーターで線巾方向にスキヤンし光
学濃度=1.5のところで求めた線巾が10μ以下(次工程
に使用できないような線巾)となるところとした。
(下限の露光量) として表わすことができる。この方法により評価した線
画露光ラチチュードの値は0.8以上であることが好まし
い。
高い方が好ましい。この黒ベタ部分の濃度が問題となる
のは低露光量側であり、原稿の白線の再現する限界露光
量(下限の露光量)における黒ベタ部の透過濃度をマク
ベス濃度計TD-504で測定し、この値を実技Dmaxとした。
曲線の、fog+濃度2.0の所の露光量の対数(logE)を読
みとり、感度を求めた。
現像した。
の一方の側に染料含有層、ハロゲン化銀乳剤層、保護層
の3層を塗布し他方の側にバツキング層を塗布した。
単分散塩沃臭化銀乳剤(変動係数0.13 沃化銀0.1モル
% 臭化銀30モル%沃度は粒子表面にリツチ)を調製し
た。この塩沃臭化銀乳剤はAg1モル当り5×10-6モルの
(NH4)3RhCl6及び5×10-7モルのK3IrCl6の存在下で
粒子形成を行なつたのち、通常の方法で脱塩後チオ硫酸
ナトリウムとカリウムクロロオーレートにて金硫黄増感
を施した。この乳剤に増感色素として1−(2−ヒドロ
キシエトキシエチル)−3−(ピリジン−2−イル)−
5−〔(3−スルホブチル−5−クロロ−2−ベンゾオ
キサゾリニデン)エチリデン〕−2−チオヒダントイン
カリウム塩を3×10−4モル/モルAg、さらに、安定剤
として4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a,7−テトラ
ザインデンを1.5g、クロルハイドロキノンを2g、レゾル
シンアルドキシムを2g、1−フエニル−5−メルカプト
テトラゾールを0.1gそれぞれ銀1モル当たり添加しさら
に膜質良化剤及び硬膜剤としてポリエチルアクリレート
の分散物及びビニルスルホン系硬膜剤 CH2=CHSO2CH2CONH(CH2)2NHCOCH2SO2CH=CH2および表
−1記載のヒドラジン化合物を加えポリエチレンテレフ
タレートフイルム上に銀3.5g/m2になる様に塗布した。
μのポリエチルメタクリレート50mg/m2 メタノールシ
リカ0.15g/m2ポリアクリルアミド200mg/m2 塗布助剤と
して下記構造式で示されるフツ素系界面活性剤 とドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを含む層を塗
布した。
画露光ラチチュードがいずれも良好であることがわか
る。
いずれも極めて低い。(試料No.1、6、9) 染料を使用せずヒドラジン化合物のみを含有する試料
は感度、実技Dmaxは良好であるが線画露光ラチチュード
が不可である。(試料No.2)。
染料を使用しない試料No.1に比較し線画露光ラチチュー
ドは向上しているが、ヒドラジン化合物を含む試料の方
が染料使用による線画露光ラチチュード良化効果が大き
い。これは予想外の効果であつた。
びハロゲン化銀乳剤層の処方を変更して試料を作成し
た。バツキング層は実施例−1と同じものを使用した。
ル)エーテル 70mg/m2 界面活性剤 TritonX-200(Rohm & Haas社製)30m
g/m2 染料および媒染剤は表−2記載のものを使用。
25μの立方体単分散沃臭化銀乳剤(変動係数0.15、沃化
銀0.5モル%、ヨード分布は均一)を調製した。この沃
臭化銀乳剤にはK3IrCl6を4×10-7モル/Agモル含有す
るよう添加した。
その後50℃に保ち増感色素として5,5′−ジクロロ−9
−エチル−3,3′−ビス−(3−スルフオプロピル)オ
キサカルボシアニンを10mg/m2と、銀1モル当り10-3モ
ルのヨウ化カリ溶液を加え15分間経時させた後降温し
た。
1,3,3a,7−テトラザインデン、5−メチルベンズトリア
ゾール、下記化合物(a)及び(b) をそれぞれ5mg/m2塗布される横添加した。またポリエチ
ルアクリレートの分散物及びビニルスルホン系硬膜剤を
加えポリエチレンテレフタレートフイルム上に銀3.5g/m
2になる様に塗布した。この上に保護層としてゼラチン
1.2g/m2、粒子サイズ約3μの不定型なSiO2マツト剤40m
g/m2、メタノールシリカ0.1g/m2、ポリアクリルアミド1
00mg/m2、ハイドロキノン20mg/m2とシリコーンオイル及
び塗布助剤として下記構造式で示されるフツ素界面活性
剤 C8F17SO2NCH2COOK C3H7 とドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを含む層を同
時に塗布した。
表−2に示す量を乳剤中に添加し塗布した。
処理し感度、実技Dmax、線画露光ラチチュードを評価し
た。
を有する本発明の試料は感度、Dmax、線画露光ラチチュ
ードがいずれも良好であることがわかる。
を表−3記載のものに変更し、かつ保護層にも染料を添
加することにより試料No.23〜29を作成した。保護層添
加の染料の種類と量は表−3に記載した。
用いた。
モルの6塩化イリジウム(III)カリおよびアンモニア
の存在下で、硝酸銀水溶液と沃化カリウム臭化カリウム
の水溶液を同時に60分間で加えその間のpAgを7.8に保つ
ことにより、平均粒子サイズ0.28μで、平均ヨウ化銀含
有量0.3モル%の立方体単分散乳剤を調製した。この乳
剤をフロキユレーシヨン法により、脱塩を行いその後
に、50℃に保ち増感色素として5,5′−ジクロロ−9−
エチル−3,3′−ビス−(3−スルフオプロピル)オキ
サカルボシアニンを15mg/m2と銀1モル当り2×10-3モ
ルのヨウ化カリウム溶液を加えたあとチオ硫酸ナトリウ
ムにて硫黄増感を行なつたこの乳剤に安定剤として4−
ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a,7−テトラザインデン
0.7g/Ag1モル、5−メチルベンズトリアゾール0.1g/Ag1
モル、ハイドロキノン4.5g/Ag1モルそれぞれ加えたのち
下記化合物を200mg/m2添加し塗布Ag量が3.5g/m2になる
よう塗布した。
モル/モルAg添加した。従つて試料No.23〜29はすべて
ヒドラジン化合物を含む試料である。
り下層)に添加することにより線画露光ラチチラードが
向上し、保護層添加では何ら効果のないことがわかる。
また保護層に染料を添加することは感度低下を招き好ま
しくない。
しさえすれば線画露光ラチチュードが向上する。
Claims (1)
- 【請求項1】支持体上に少なくとも一層の感光性ハロゲ
ン化銀乳剤層を有し、該ハロゲン化銀乳剤層またはその
乳剤層に隣接する親水性コロイド層中に下記一般式
(I)で表わされるヒドラジン化合物を含み、かつ該乳
剤層と該支持体との間に染料含有層を有することを特徴
とする透過型のネガ型ハロゲン化銀写真感光材料。 一般式(I) 式中、R1は脂肪族基または芳香族基を表わし、R2は水
素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリ
ールオキシ基、アミノ基、カルバモイル基又はオキシカ
ルボニル基を表わし、G1はカルボニル基、スルホニル
基、スルホキシ基、 基、又はイミノメチレン基を表わし、A1、A2はともに
水素原子あるいは一方が水素原子で他方が置換もしくは
無置換のアルキルスルホニル基、又は置換もしくは無置
換のアリールスルホニル基、又は置換もしくは無置換の
アシル基を表わす。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP63278083A JPH0810317B2 (ja) | 1988-11-02 | 1988-11-02 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
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JPH0810317B2 true JPH0810317B2 (ja) | 1996-01-31 |
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Family Applications (1)
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