JPH023639A - ３，３―ジアリールアクリル酸アミドの製造 - Google Patents
３，３―ジアリールアクリル酸アミドの製造Info
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- JPH023639A JPH023639A JP1036464A JP3646489A JPH023639A JP H023639 A JPH023639 A JP H023639A JP 1036464 A JP1036464 A JP 1036464A JP 3646489 A JP3646489 A JP 3646489A JP H023639 A JPH023639 A JP H023639A
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- C07D295/10—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals attached to ring nitrogen atoms substituted by doubly bound oxygen or sulphur atoms
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は３．３−ジアリールアクリル酸アミドの製造方
法に関する。
法に関する。
ＥＰ ０１２０３２１ Ａ １、Ｅ Ｐ ０２０８９９
９ Ａ ＩおよびＥＰ０２１９７５６Ａ１、は或種３，
３−ジアリールアクリル酸アミドおよび該化合物の種々
の製造方法を開示している。これら化合物は殺菌活性を
示し、植物病原性菌の防除に特に適する。
９ Ａ ＩおよびＥＰ０２１９７５６Ａ１、は或種３，
３−ジアリールアクリル酸アミドおよび該化合物の種々
の製造方法を開示している。これら化合物は殺菌活性を
示し、植物病原性菌の防除に特に適する。
Ｅ Ｐ ０２９４９０７はベンゾフェノンと適当なアセ
トアミドの、好ましくはカリウム第３ブチラード、アル
カリ金属水酸化物または炭酸塩、または第３ブチルリチ
ウムのような強塩基の存在）での反応を含む該化合物の
他の製造方法を開示している。
トアミドの、好ましくはカリウム第３ブチラード、アル
カリ金属水酸化物または炭酸塩、または第３ブチルリチ
ウムのような強塩基の存在）での反応を含む該化合物の
他の製造方法を開示している。
しかし後者の方法は一般に５０％以下の収率を与える。
ここに、 ＥＰ Ｏ２９４９０７の方法において塩基と
してナトリウム第３アルコラートを使用すると９０％を
越える水準への驚くべき収率増加を得ることができるこ
とが見出された。従って本発明によれば一般式Ｉ （式中 Ｒ１ Ｒ１はＣＩ−４アルキル、Ｃ１−、アルコキシ、ＮＨよ
、ＮＨＣｌ−ａアルキル、Ｎ（Ｃ，−、アルキル）２、
Ｃｌ−４アルケニル、Ｃｌ−４アルキニル、Ｃｌ−４ア
ルケニルオキシ、Ｃｌ−４アルキニルオキシまたはＣｌ
−、シクロアルキルであり； Ｒ２はＣＩ−４アルキル、Ｃ１−４アルコキシまたはハ
ロゲンであり； Ｒ２は水素またはハロゲンであり； Ｒ４は水素、ハロゲン、Ｃ１−４アルキルまたはＣｌ−
ａアルコキシであり； Ｒ５は水素、場合によりＣ１−４アルキル、Ｃ１−４ア
ルコキシおよびハロゲンから選ばれた１またはそれ以上
のＷ換基により置換されていてもよいフェニル基、場合
により１またはそれ以上のハロゲン原子により置換され
ていてもよいＣｌ−１！アルキル基、Ｃｘ−ｑシクロア
ルキル、フェニルフェニルまたはフェノキシフェニル基
、Ｃｌ−、アルケニルまたはＣｌ−、アルキニル基（こ
れらの各々は場合によりフェニル基により置換されてい
てもよい）、またはナフチルまたはＣ５−ａシクロアル
ケニル基であり； Ｘは単結合、−０−３（０）？− Ｎ ＝ Ｎ −ＣＨＲｔ ＯＯＣＨＲｑ −−ＣＨ
Ｒ＊５（０）ｐ−−３（０）ＰＣＨＲＩ−（ＣＨ＊）、
ｌ−ＨＣ−ＣＨ−１または−Ｃ＝Ｃ−であり； Ｒ４はＣ１−４アルキル、Ｃｌ−、シクロアルキル、ベ
ンジル％ Ｃ２−４アルケニルまたばＣｌ−４アルキニ
ルであり； Ｒ７はＣ７−４アルキルであり； Ｒ６は水素、Ｃｌ−４アルキルまたはＣＩ−４アルコキ
シであり； Ｒ９は水素またはＣ１−４アルキルであり；ｐは０，１
または２であり；そして ｎは！ないし１０の整数である） の３，３−ジアリールアクリル酸アミドの製造方法であ
って、式■ （式中ＡおよびＢは上記の意味を有する）のベンゾフェ
ノンと式■ ｃＨ，ＣＯＱ （ＩＩＩ）（式中Ｑは上記
の意味を有する） のアセトアミドを塩基の存在下に反応させることによる
前記製造方法において、使用塩基がナトリウム第３アル
コラートであることを特徴とする前記製造方法が提供さ
れる。
してナトリウム第３アルコラートを使用すると９０％を
越える水準への驚くべき収率増加を得ることができるこ
とが見出された。従って本発明によれば一般式Ｉ （式中 Ｒ１ Ｒ１はＣＩ−４アルキル、Ｃ１−、アルコキシ、ＮＨよ
、ＮＨＣｌ−ａアルキル、Ｎ（Ｃ，−、アルキル）２、
Ｃｌ−４アルケニル、Ｃｌ−４アルキニル、Ｃｌ−４ア
ルケニルオキシ、Ｃｌ−４アルキニルオキシまたはＣｌ
−、シクロアルキルであり； Ｒ２はＣＩ−４アルキル、Ｃ１−４アルコキシまたはハ
ロゲンであり； Ｒ２は水素またはハロゲンであり； Ｒ４は水素、ハロゲン、Ｃ１−４アルキルまたはＣｌ−
ａアルコキシであり； Ｒ５は水素、場合によりＣ１−４アルキル、Ｃ１−４ア
ルコキシおよびハロゲンから選ばれた１またはそれ以上
のＷ換基により置換されていてもよいフェニル基、場合
により１またはそれ以上のハロゲン原子により置換され
ていてもよいＣｌ−１！アルキル基、Ｃｘ−ｑシクロア
ルキル、フェニルフェニルまたはフェノキシフェニル基
、Ｃｌ−、アルケニルまたはＣｌ−、アルキニル基（こ
れらの各々は場合によりフェニル基により置換されてい
てもよい）、またはナフチルまたはＣ５−ａシクロアル
ケニル基であり； Ｘは単結合、−０−３（０）？− Ｎ ＝ Ｎ −ＣＨＲｔ ＯＯＣＨＲｑ −−ＣＨ
Ｒ＊５（０）ｐ−−３（０）ＰＣＨＲＩ−（ＣＨ＊）、
ｌ−ＨＣ−ＣＨ−１または−Ｃ＝Ｃ−であり； Ｒ４はＣ１−４アルキル、Ｃｌ−、シクロアルキル、ベ
ンジル％ Ｃ２−４アルケニルまたばＣｌ−４アルキニ
ルであり； Ｒ７はＣ７−４アルキルであり； Ｒ６は水素、Ｃｌ−４アルキルまたはＣＩ−４アルコキ
シであり； Ｒ９は水素またはＣ１−４アルキルであり；ｐは０，１
または２であり；そして ｎは！ないし１０の整数である） の３，３−ジアリールアクリル酸アミドの製造方法であ
って、式■ （式中ＡおよびＢは上記の意味を有する）のベンゾフェ
ノンと式■ ｃＨ，ＣＯＱ （ＩＩＩ）（式中Ｑは上記
の意味を有する） のアセトアミドを塩基の存在下に反応させることによる
前記製造方法において、使用塩基がナトリウム第３アル
コラートであることを特徴とする前記製造方法が提供さ
れる。
アルコラートはいかなる第３アルコールから誘導されて
もよいが、良好な結果が式■ （Ｒ）ｓＣ−ＯＨ（ＩＶ） （式中各Ｒは独立に炭素原子数１ないし４のアルキル基
である） の化合物で得られている。好ましくは基Ｒの２つはメチ
ル基でありそして残りのＲはメチル、エチル、プロピル
またはブチル基である０式Ｉの化合物の収率の点から優
れた結果がアミルアルコールおよびブチルアルコールか
ら誘導されたアルコラートで得られている。アルコラー
トはその場で調製してもまたはそのものとして添加して
もよく、そして既知方法で、例えばトルエンのような不
活性溶剤の存在下での水素化ナトリウムと第３アルコー
ルの反応により製造しうる。
もよいが、良好な結果が式■ （Ｒ）ｓＣ−ＯＨ（ＩＶ） （式中各Ｒは独立に炭素原子数１ないし４のアルキル基
である） の化合物で得られている。好ましくは基Ｒの２つはメチ
ル基でありそして残りのＲはメチル、エチル、プロピル
またはブチル基である０式Ｉの化合物の収率の点から優
れた結果がアミルアルコールおよびブチルアルコールか
ら誘導されたアルコラートで得られている。アルコラー
トはその場で調製してもまたはそのものとして添加して
もよく、そして既知方法で、例えばトルエンのような不
活性溶剤の存在下での水素化ナトリウムと第３アルコー
ルの反応により製造しうる。
本発明による方法はトルエン、ベンゼン、ジエチルエー
テル、ジグライム、テトラヒドロフラン、Ｎ、Ｎ−ジメ
チルホルムアミドのような不活性溶剤の存在下で実施さ
れる。１つの反応成分の過剰も溶剤として役立ちうる。
テル、ジグライム、テトラヒドロフラン、Ｎ、Ｎ−ジメ
チルホルムアミドのような不活性溶剤の存在下で実施さ
れる。１つの反応成分の過剰も溶剤として役立ちうる。
成分の反応性により、反応は冷却して、室温で、または
反応混合物の還流温度までの昇温で実施しうる。一般に
反応は１０°ないし１５０℃の範囲の温度で行なわれる
。
反応混合物の還流温度までの昇温で実施しうる。一般に
反応は１０°ないし１５０℃の範囲の温度で行なわれる
。
ナトリウムアルコラートの過剰（好ましくは１．５〜２
倍）およびまたはアセトアミドの過剰が有利である。後
者は回収して再び反応に供給することができる。
倍）およびまたはアセトアミドの過剰が有利である。後
者は回収して再び反応に供給することができる。
本発明による方法は一般式！のすべての化合物の製造に
使用しうるが、 基Ａにおいて： Ｒ２がＣＩ−４アルコキシ、Ｃ１−４アルキルまたはア
ミノであり、 ＲｔがＣ１−４アルコキシ、Ｃｌ−４アルキルまたはハ
ロゲンであり、 Ｒ１が水素またはハロゲンであり、 基已において： Ｒ４が水素またはハロゲンであり、 Ｒ３が水素、フェニルまたはハロフェニルであり、 Ｘが単結合または一〇−であり、 そしてＱがモルホリノ基（基中Ｒ１およびＲ９は共に水
素である）を表わす式Ｉの化合物に特に有用である。ハ
ロゲンまたは八日置換基は弗素、塩素、臭素または沃素
原子でありうるが、好ましくは塩素または臭素原子であ
る。
使用しうるが、 基Ａにおいて： Ｒ２がＣＩ−４アルコキシ、Ｃ１−４アルキルまたはア
ミノであり、 ＲｔがＣ１−４アルコキシ、Ｃｌ−４アルキルまたはハ
ロゲンであり、 Ｒ１が水素またはハロゲンであり、 基已において： Ｒ４が水素またはハロゲンであり、 Ｒ３が水素、フェニルまたはハロフェニルであり、 Ｘが単結合または一〇−であり、 そしてＱがモルホリノ基（基中Ｒ１およびＲ９は共に水
素である）を表わす式Ｉの化合物に特に有用である。ハ
ロゲンまたは八日置換基は弗素、塩素、臭素または沃素
原子でありうるが、好ましくは塩素または臭素原子であ
る。
基Ａにおいてフェニル環における置換は好ましくは３お
よび４位または３．４および５位にあり、該置換の特に
好ましい例は３，４−ジメトキシ、３−エトキシ−４−
メトキシ、３−クロロ−４−メトキシ、３−ブロモ−４
−メトキシ、３−メチル−４−メトキシ、３−エチル−
４−メトキシ、３−プロピル−４−メトキシ、３．４−
ジメチル、３−アミノ−４−メトキシ、３．５−ジクロ
ロ−４−アミノおよび３−メトキシ−４−メチルである
。勿論、フェニル環の３．４−ジメトキシ置換が特に好
ましい。
よび４位または３．４および５位にあり、該置換の特に
好ましい例は３，４−ジメトキシ、３−エトキシ−４−
メトキシ、３−クロロ−４−メトキシ、３−ブロモ−４
−メトキシ、３−メチル−４−メトキシ、３−エチル−
４−メトキシ、３−プロピル−４−メトキシ、３．４−
ジメチル、３−アミノ−４−メトキシ、３．５−ジクロ
ロ−４−アミノおよび３−メトキシ−４−メチルである
。勿論、フェニル環の３．４−ジメトキシ置換が特に好
ましい。
本発明による方法を次の実施例により更に説明する。
例１
４−クロロ−３’、４’−ジメトキシベンゾフェノン（
６，２９ｇ、２５ミリモル）、ナトリウム第３アミラー
）（５，５０ｇ、５０ミリモル）、アセチルモルホリン
（２３，９０ｇ、１８５ミリモル）および無水トルエン
（５０ｍ）を還流下８時間攪拌した。冷却後、溶液を水
で２回洗滌し、乾燥し、そしてトルエンを回転蒸発器で
留去した。粘稠残渣を５０″Ｃでジイソプロピルエーテ
ル（４０ｍ）と撹拌すると物質が固化した。室温で冷え
た後、粗生成物を砕き、吸引濾過し、ジイソプロピルエ
ーテル（２Ｘ５ｄ）で洗滌し、そして乾燥した。
６，２９ｇ、２５ミリモル）、ナトリウム第３アミラー
）（５，５０ｇ、５０ミリモル）、アセチルモルホリン
（２３，９０ｇ、１８５ミリモル）および無水トルエン
（５０ｍ）を還流下８時間攪拌した。冷却後、溶液を水
で２回洗滌し、乾燥し、そしてトルエンを回転蒸発器で
留去した。粘稠残渣を５０″Ｃでジイソプロピルエーテ
ル（４０ｍ）と撹拌すると物質が固化した。室温で冷え
た後、粗生成物を砕き、吸引濾過し、ジイソプロピルエ
ーテル（２Ｘ５ｄ）で洗滌し、そして乾燥した。
収量：８．１ｇ＝理論的Ｔｌｃ−純粋生成物の８３．５
％。
％。
例２
水素化ナトリウム（２０％のパラフィン油；２．２５ｇ
、７５ミルモル）を無水トルエン（５０Ｉｄ）と還流下
に撹拌し、そして第３７ミルアルコール（７，２５ｇ、
８２．５ミリモル）を３０分以内に滴加した。溶液が１
００″Ｃに冷えた時、４−（４−クロロフェノキシ）−
３’、４’−ジメトキシベンゾフェノン（９，２２ｇ、
２５ミリモル）およびアセチルモルホリン（１６，１７
ｇ、１２５ミリモル）を添加しそして混合物を還流下８
時間攪拌した。
、７５ミルモル）を無水トルエン（５０Ｉｄ）と還流下
に撹拌し、そして第３７ミルアルコール（７，２５ｇ、
８２．５ミリモル）を３０分以内に滴加した。溶液が１
００″Ｃに冷えた時、４−（４−クロロフェノキシ）−
３’、４’−ジメトキシベンゾフェノン（９，２２ｇ、
２５ミリモル）およびアセチルモルホリン（１６，１７
ｇ、１２５ミリモル）を添加しそして混合物を還流下８
時間攪拌した。
室温に冷却後溶液を水（２Ｘ１００ｄ）で洗滌し、乾燥
しそしてシリカゲル（５０ｇ）を充填したカラム上に適
用した。生成物をトルエン（２００ｄ）およびトルエン
−アセトン混合物（各２００ｄ；９０：１０，８０：２
０，７０：３０）で溶離させた。Ｒｆ値０．４７（トル
エン−アセトン７０：３０）の物質を含むフラクション
を結合しそして回転蒸発器で濃縮した。粗収量：トルエ
ンを含む粘稠油１１ｇ、この油をジイソプロピルエーテ
ル（３（ｌｄ）と攪拌するに所望の生成物が徐々に晶出
した。
しそしてシリカゲル（５０ｇ）を充填したカラム上に適
用した。生成物をトルエン（２００ｄ）およびトルエン
−アセトン混合物（各２００ｄ；９０：１０，８０：２
０，７０：３０）で溶離させた。Ｒｆ値０．４７（トル
エン−アセトン７０：３０）の物質を含むフラクション
を結合しそして回転蒸発器で濃縮した。粗収量：トルエ
ンを含む粘稠油１１ｇ、この油をジイソプロピルエーテ
ル（３（ｌｄ）と攪拌するに所望の生成物が徐々に晶出
した。
収１：８．７ｇ＝理論値の７２．５％。
融点：１１５〜１２７℃０
異性体比Ｅ／Ｚ ： ４５１５５゜
例３
水素化ナトリウム（２０％のパラフィン油；３、Ｏｇ、
１００モル）を無水トルエン（７，０）ｌ）と攪拌しそ
して無水トルエン（３０ｍｆｆｉ）中の第３ブタノール
（８，１５ｇ、１１０ミリモル）の溶液を滴加した。溶
液が澄んだ後、４−クロロ−３’、４’−ジメトキシベ
ンゾフェノン（１３，８４ｇ１５０ミリモル）およびア
セチルモルホリン（１９，３７ｇ、１５０ミリモル）を
添加しそして反応混合物を攪拌しつつ８時間還流させた
。溶液が室温に冷えた時、水で２回洗滌し、乾燥しそし
て回転蒸発器で濃縮した。それにより２４．９ ｇの粘
稠油が得られ、これはジイソプロピルエーテル（５０ｄ
）中で攪拌すると徐々に結晶化した。イソプロパツール
／ジイソプロピルエーテルから再結晶。
１００モル）を無水トルエン（７，０）ｌ）と攪拌しそ
して無水トルエン（３０ｍｆｆｉ）中の第３ブタノール
（８，１５ｇ、１１０ミリモル）の溶液を滴加した。溶
液が澄んだ後、４−クロロ−３’、４’−ジメトキシベ
ンゾフェノン（１３，８４ｇ１５０ミリモル）およびア
セチルモルホリン（１９，３７ｇ、１５０ミリモル）を
添加しそして反応混合物を攪拌しつつ８時間還流させた
。溶液が室温に冷えた時、水で２回洗滌し、乾燥しそし
て回転蒸発器で濃縮した。それにより２４．９ ｇの粘
稠油が得られ、これはジイソプロピルエーテル（５０ｄ
）中で攪拌すると徐々に結晶化した。イソプロパツール
／ジイソプロピルエーテルから再結晶。
収量：１９．Ｏｇ−理論値の９２．８％。
融点：１２３〜１４５℃０
代理人の氏名 川原１）−穂
Claims (7)
- （１）一般式 I ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中 Ａは▲数式、化学式、表等があります▼を表わし、 Ｂは▲数式、化学式、表等があります▼を表わし、 Ｑは▲数式、化学式、表等があります▼または ▲数式、化学式、表等があります▼を表わし、 Ｒ＿１はＣ＿１＿−＿４アルキル、Ｃ＿１＿−＿４アル
コキシ、ＮＨ＿２ＮＨＣ＿１＿−＿４アルキル、Ｎ（Ｃ
＿１＿−＿４アルキル）＿２、Ｃ＿３＿−＿４アルケニ
ル、Ｃ＿３＿−＿４アルキニル、Ｃ＿３＿−＿４アルケ
ニルオキシ、Ｃ＿３＿−＿４アルキニルオキシまたはＣ
＿３＿−＿６シクロアルキルであり； Ｒ＿２はＣ＿１＿−＿４アルキル、Ｃ＿１＿−＿４アル
コキシまたはハロゲンであり； Ｒ＿３は水素またはハロゲンであり； Ｒ＿４は水素、ハロゲン、Ｃ＿１＿−＿４アルキルまた
はＣ＿１＿−＿４アルコキシであり； Ｒ＿５は水素、場合によりＣ＿１＿−＿４アルキル、Ｃ
＿１＿−＿４アルコキシおよびハロゲンから選ばれた１
またはそれ以上の置換基により置換されていてもよいフ
ェニル基、場合により１またはそれ以上のハロゲン原子
により置換されていてもよい Ｃ＿１＿−＿１＿２アルキル基、Ｃ＿３＿−＿７シクロ
アルキル、フェニルフェニルまたはフェノキシフェニル
基、Ｃ＿２＿−＿６アルケニルまたはＣ＿２＿−＿６ア
ルキニル基（これらの各々は場合によりフェニル基によ
り置換されていてもよい）、またはナフチルまたはＣ＿
５＿−＿８シクロアルケニル基であり；Ｘは単結合、−
Ｏ−、−Ｓ（Ｏ）＿ｐ−、 −Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨＲ＿９Ｏ−、−ＯＣＨＲ＿９−、−
ＣＨＲ＿９Ｓ（Ｏ）＿ｐ−、−Ｓ（Ｏ）＿ｐＣＨＲ＿９
−−（ＣＨ＿２）＿ｎ−、−ＨＣ＝ＣＨ−、または−Ｃ
≡Ｃ−であり； Ｒ＿６はＣ＿１＿−＿４アルキル、Ｃ＿３＿−＿７シク
ロアルキル、ベンジル、Ｃ＿３＿−＿４アルケニルまた
はＣ＿３＿−＿４アルキニルであり； Ｒ＿７はＣ＿１＿−＿４アルキルであり； Ｒ＿８は水素、Ｃ＿１＿−＿４アルキルまたはＣ＿１＿
−＿４アルコキシであり； Ｒ＿９は水素またはＣ＿１＿−＿４アルキルであり；ｐ
は０、１または２であり；そしてｎは１ないし１０の整
数である） の３，３−ジアリールアクリル酸アミドの製造方法であ
って、式II ▲数式、化学式、表等があります▼（II） （式中ＡおよびＢは上記の意味を有する） のベンゾフェノンと式III ＣＨ＿３ＣＯＱ（III） （式中Ｑは上記の意味を有する） のアセトアミドを塩基の存在下に反応させることによる
前記製造方法において、使用塩基がナトリウム第３アル
コラートであることを特徴とする前記製造方法。 - （２）ナトリウム第３アルコラートが一般式IV（Ｒ）＿
３Ｃ−ＯＨ（IV） （式中各Ｒは独立に炭素原子数１ないし４のアルキル基
である） のアルコールから誘導されることを特徴とする特許請求
の範囲第１項記載の方法。 - （３）ナトリウム第３アルコラートがアミルアルコール
またはブチルアルコールから誘導されることを特徴とす
る特許請求の範囲第１または２項記載の方法。 - （４）過剰のナトリウムアルコラートが存在することを
特徴とする特許請求の範囲第１〜３項のいずれか記載の
方法。 - （５）式IIIのアセトアミドが過剰に存在することを特
徴とする特許請求の範囲第１〜４項のいずれか記載の方
法。 - （６）不活性溶剤を使用することを特徴とする特許請求
の範囲第１〜５項のいずれか記載の方法。 - （７）反応温度が１０°ないし１５０℃の範囲である特
許請求の範囲第１〜６項のいずれか記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3805235.0 | 1988-02-19 | ||
| DE3805235A DE3805235A1 (de) | 1988-02-19 | 1988-02-19 | Verfahren zur herstellung von 3,3-diarylacrylsaeureamiden |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH023639A true JPH023639A (ja) | 1990-01-09 |
| JP2573872B2 JP2573872B2 (ja) | 1997-01-22 |
Family
ID=6347757
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1036464A Expired - Lifetime JP2573872B2 (ja) | 1988-02-19 | 1989-02-17 | ３，３ージアリールアクリル酸アミドの製造 |
Country Status (11)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4920222A (ja) |
| EP (1) | EP0329256B1 (ja) |
| JP (1) | JP2573872B2 (ja) |
| KR (1) | KR970011285B1 (ja) |
| CN (1) | CN1019971C (ja) |
| AT (1) | ATE105286T1 (ja) |
| BR (1) | BR8900689A (ja) |
| DE (2) | DE3805235A1 (ja) |
| ES (1) | ES2056188T3 (ja) |
| HK (1) | HK1000116A1 (ja) |
| IL (1) | IL89331A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5421067A (en) * | 1977-07-15 | 1979-02-16 | Keigo Kishimoto | Ash receiving chute with damper for refuse incinerator |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3817711A1 (de) * | 1988-05-25 | 1989-11-30 | Shell Int Research | Verfahren zur herstellung von 3,3-diphenylacrylsaeureamiden |
| US5071166A (en) * | 1990-01-12 | 1991-12-10 | Thomas Marino | Environmentally designed transportable holding tank |
| AU660205B2 (en) | 1991-12-23 | 1995-06-15 | Virbac, Inc | Systemic control of parasites |
| IL106122A (en) * | 1992-07-10 | 1997-04-15 | Shell Int Research | Preparation of 3, 3-diaryl acrylic acid amides |
| CN101637176B (zh) * | 2009-08-27 | 2013-09-18 | 深圳诺普信农化股份有限公司 | 农药悬浮剂 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3128574C2 (de) * | 1981-07-20 | 1984-03-29 | Deutsche Texaco Ag, 2000 Hamburg | Verfahren zur Herstellung von N-substituierten Acryl- und Methacrylamiden |
| CS244440B2 (en) * | 1983-02-28 | 1986-07-17 | Celamerck Gmbh & Co Kg | Method of acrylic acids' new amides production |
| DE3536029A1 (de) * | 1985-10-09 | 1987-04-09 | Celamerck Gmbh & Co Kg | Neue acrylsaeureamide |
| EP0219756B1 (de) * | 1985-10-09 | 1994-01-05 | Shell Internationale Researchmaatschappij B.V. | Neue Acrylsäureamide |
| DE3719488A1 (de) * | 1987-06-11 | 1988-12-29 | Shell Agrar Gmbh & Co Kg | Verfahren zur herstellung von 3,3-diarylacrylsaeureamiden |
| DE3817711A1 (de) * | 1988-05-25 | 1989-11-30 | Shell Int Research | Verfahren zur herstellung von 3,3-diphenylacrylsaeureamiden |
-
1988
- 1988-02-19 DE DE3805235A patent/DE3805235A1/de not_active Withdrawn
-
1989
- 1989-01-30 US US07/302,938 patent/US4920222A/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-02-16 ES ES89200378T patent/ES2056188T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1989-02-16 EP EP89200378A patent/EP0329256B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-02-16 AT AT8989200378T patent/ATE105286T1/de not_active IP Right Cessation
- 1989-02-16 DE DE68915025T patent/DE68915025T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1989-02-16 KR KR1019890001790A patent/KR970011285B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1989-02-17 IL IL89331A patent/IL89331A/xx not_active IP Right Cessation
- 1989-02-17 BR BR898900689A patent/BR8900689A/pt not_active IP Right Cessation
- 1989-02-17 JP JP1036464A patent/JP2573872B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1989-02-17 CN CN89100850A patent/CN1019971C/zh not_active Expired - Lifetime
-
1997
- 1997-07-18 HK HK97101581A patent/HK1000116A1/xx not_active IP Right Cessation
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5421067A (en) * | 1977-07-15 | 1979-02-16 | Keigo Kishimoto | Ash receiving chute with damper for refuse incinerator |
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| EP0329256A1 (en) | 1989-08-23 |
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| IL89331A (en) | 1993-06-10 |
| ATE105286T1 (de) | 1994-05-15 |
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| US4920222A (en) | 1990-04-24 |
| IL89331A0 (en) | 1989-09-10 |
| CN1019971C (zh) | 1993-03-03 |
| DE3805235A1 (de) | 1989-08-31 |
| HK1000116A1 (en) | 1997-12-05 |
| DE68915025T2 (de) | 1994-08-25 |
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