JPH02217339A - 透明導電ガラス - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、透明導電ガラスに関するもので。
特に耐久性に優れた透明導電ガラスに関するものである
。
。
［従来の技術］
ガラスなどの透明基体上に導電性の膜を形成したものは
、液晶表示素子の基板、冷凍ショーケースの防曇ガラス
、ＣＲＴのフェースプレートなどの帯電防止ガラス（ホ
コリが付きにく（するため）、タッチパネルガラスなど
に用いられている、その他、最近では電磁シールドガラ
スとしての用途も出てきた。これらにはＩＴＯ（錫を含
んだ酸化インジウム）、導電性Ｓｎｏｗなどが通常使わ
れている。ＩＴＯは通常真空蒸着法又はスパッタリング
法で、Ｓｎｕｇはスプレー法などで成膜される。
、液晶表示素子の基板、冷凍ショーケースの防曇ガラス
、ＣＲＴのフェースプレートなどの帯電防止ガラス（ホ
コリが付きにく（するため）、タッチパネルガラスなど
に用いられている、その他、最近では電磁シールドガラ
スとしての用途も出てきた。これらにはＩＴＯ（錫を含
んだ酸化インジウム）、導電性Ｓｎｏｗなどが通常使わ
れている。ＩＴＯは通常真空蒸着法又はスパッタリング
法で、Ｓｎｕｇはスプレー法などで成膜される。
［発明の解決しようとする課題］
ＩＴＯは、比抵抗的には最も優れた材料の一つであるが
、一般的に酸に対して溶解し、これがパターニングのと
きには利点となるが、耐久性的には劣る。一方、抵抗値
的に有利なメタル膜はその性質上、可視光線の吸収が強
（、高い透過率を得るためにはかなり薄い膜にしなけれ
ばならない、このような膜は、経時的に安定でな（酸化
により抵抗値が上昇したり、光学的特性が変化してしま
う。更に一般に酸に対しての耐久性も充分でない。
、一般的に酸に対して溶解し、これがパターニングのと
きには利点となるが、耐久性的には劣る。一方、抵抗値
的に有利なメタル膜はその性質上、可視光線の吸収が強
（、高い透過率を得るためにはかなり薄い膜にしなけれ
ばならない、このような膜は、経時的に安定でな（酸化
により抵抗値が上昇したり、光学的特性が変化してしま
う。更に一般に酸に対しての耐久性も充分でない。
酸化錫にフッ素、アンチモンなどをドープした導電性酸
化錫は、一般にスプレー法などで成膜される。この膜は
耐久性的には前述のものより優れているが、スプレー法
は原料の熱分解のために通常４００℃以上の基体加熱を
必要とし、また膜厚分布の均一性や低抵抗化が難しいと
いう問題点がある。
化錫は、一般にスプレー法などで成膜される。この膜は
耐久性的には前述のものより優れているが、スプレー法
は原料の熱分解のために通常４００℃以上の基体加熱を
必要とし、また膜厚分布の均一性や低抵抗化が難しいと
いう問題点がある。
［課題を解決するための手段］
本発明は、前述の問題点を解決すべ（なされたものであ
り、ガラス基板上に、透明導電膜、その上に保護膜を順
次積層した透明導電ガラスであって、該保護膜がＣｒと
Ｂとを含む窒化膜であることを特徴とする透明導電ガラ
スを提供するものである。
り、ガラス基板上に、透明導電膜、その上に保護膜を順
次積層した透明導電ガラスであって、該保護膜がＣｒと
Ｂとを含む窒化膜であることを特徴とする透明導電ガラ
スを提供するものである。
第１図は、本発明の実施例を示す１例の断面図である。
１１はガラス基板、１３はＩＴＯｌＳｎｕｇ。
ＺｎＯなどからなる透明導電膜、１５はＣｒとＢを含む
窒化膜からなる保護膜である。
窒化膜からなる保護膜である。
ガラス基板１１としては、フロー・トガラス、熱線吸収
ガラス等が用いられ、特に限定されない。又、合せガラ
ス、強化ガラス等も使用できる。
ガラス等が用いられ、特に限定されない。又、合せガラ
ス、強化ガラス等も使用できる。
保護膜１５は透明導電膜１３を保護するものであり、緻
密で、硬（、かつ耐久性の高いものが要求されるが、Ｃ
ｒとＢとを含む窒化膜（ｃｒｓｘＮｙ）が、極めて硬く
ご緻密で、耐久性も高いので、本発明における保護膜１
５として好適である。
密で、硬（、かつ耐久性の高いものが要求されるが、Ｃ
ｒとＢとを含む窒化膜（ｃｒｓｘＮｙ）が、極めて硬く
ご緻密で、耐久性も高いので、本発明における保護膜１
５として好適である。
ＣｒとＢを含む窒化膜は、窒化クロムの格子中にホウ素
が入り込んで密度が高く緻密な構造になっており、この
ため、耐擦傷性や、耐酸性等の化学的耐久性も高くなっ
ていると考えられる。又、窒化物は、可視光線の一部を
吸収するため、膜厚や窒素含有量を調整することにより
、透明導電ガラス全体の可視光線透過率を制御できる。
が入り込んで密度が高く緻密な構造になっており、この
ため、耐擦傷性や、耐酸性等の化学的耐久性も高くなっ
ていると考えられる。又、窒化物は、可視光線の一部を
吸収するため、膜厚や窒素含有量を調整することにより
、透明導電ガラス全体の可視光線透過率を制御できる。
これは、例えば、窒素の存在下に、ボロン合金を反応性
スパッタリングあるいはイオンブレーティングし、窒化
膜とすることによって形成することができる。又、蒸着
法、イオンブレーティングの場合は、蒸発源として混合
窒化物をベレット化したものなどを用いれば良い、ボロ
ン（Ｂ）合金におけるＣｒとＢとの比は特に制限はない
が、Ｃｒ：Ｂが原子比で５０：５０以下、特に７０：３
０以下のす１１合でＢが含まれていることが好ましい。
スパッタリングあるいはイオンブレーティングし、窒化
膜とすることによって形成することができる。又、蒸着
法、イオンブレーティングの場合は、蒸発源として混合
窒化物をベレット化したものなどを用いれば良い、ボロ
ン（Ｂ）合金におけるＣｒとＢとの比は特に制限はない
が、Ｃｒ：Ｂが原子比で５０：５０以下、特に７０：３
０以下のす１１合でＢが含まれていることが好ましい。
これ以上Ｂの割合が多いと、窒化クロムの格子がひずん
でかえって不安定となり、耐酸性や耐擦傷性が低下する
。又、下限としては、９５：５以上、特に９０：１０以
以下が含有されるのが好ましい。これ以下だと窒化クロ
ムに対する優位性、Ｂの耐久性に対する効果が認められ
なくなる。
でかえって不安定となり、耐酸性や耐擦傷性が低下する
。又、下限としては、９５：５以上、特に９０：１０以
以下が含有されるのが好ましい。これ以下だと窒化クロ
ムに対する優位性、Ｂの耐久性に対する効果が認められ
なくなる。
保護膜１５の膜厚としてはあまり薄いと十分な化学的耐
久性、硬度、耐擦傷性等が得られに（くなり、保護膜と
しての性能が十分でなくなるので、少なくとも３０Å以
上、好ましくは１００Å以上、特に１５０Å以上が良い
、厚い方は特に制限はないが、あまり厚すぎると膜剥離
も生じやすくなるため、４００Å以下が好ましい。保護
膜の屈折率、及びこの干渉による外観変化、可視光線透
過率、生産性等を考慮して決めれば良い。
久性、硬度、耐擦傷性等が得られに（くなり、保護膜と
しての性能が十分でなくなるので、少なくとも３０Å以
上、好ましくは１００Å以上、特に１５０Å以上が良い
、厚い方は特に制限はないが、あまり厚すぎると膜剥離
も生じやすくなるため、４００Å以下が好ましい。保護
膜の屈折率、及びこの干渉による外観変化、可視光線透
過率、生産性等を考慮して決めれば良い。
ＩＴＯをはじめとして透明導電膜は比較的耐薬品性に乏
しく、ｎ出した状態で使用する場合には、耐アルカリ性
に比べて特に耐酸性に問題が生じやすいが、上記保護膜
は実用上十分な耐薬品性を付与することができる。又、
上記保護膜は、赤外域の光を反射し、熱線反射膜として
の役割を果たすことも出来る。
しく、ｎ出した状態で使用する場合には、耐アルカリ性
に比べて特に耐酸性に問題が生じやすいが、上記保護膜
は実用上十分な耐薬品性を付与することができる。又、
上記保護膜は、赤外域の光を反射し、熱線反射膜として
の役割を果たすことも出来る。
透明導電膜１３は酸化錫を含んだ酸化インジウム（ＩＴ
Ｏ）、フッ素、アンチモンなどをドープした酸化錫、ア
ルミニウムやフッ素をドープした酸化亜鉛、ＣｄｇＳｎ
０４など透明で導電性があるものであれば構わない。膜
厚は用途に応じて、また用いる導電膜の比抵抗を考慮し
て選べば良い。
Ｏ）、フッ素、アンチモンなどをドープした酸化錫、ア
ルミニウムやフッ素をドープした酸化亜鉛、ＣｄｇＳｎ
０４など透明で導電性があるものであれば構わない。膜
厚は用途に応じて、また用いる導電膜の比抵抗を考慮し
て選べば良い。
たとえば帯電防止には数十にΩ／口から数百にΩ／口程
度のシート抵抗の膜を、電磁波シールドには数Ω／口程
度のシート抵抗の膜を用いる。膜厚が厚ければ表面抵抗
が小さくなり帯電防止や電磁波シールド性能は向上する
が、あまり厚すぎると膜はがれや膜の着色が起こってし
まう恐れがあるので、２００００Å以下が好ましい、透
明導電膜の形成法も特に限定はな（真空蒸着法、イオン
ブレーティング法、スパッタリング法、ＣＶＤ法いずれ
でも良いことはいうまでもないことである。透明導電膜
と基体との密着力は、特に透明導電膜の膜厚が厚い場合
は問題になるが、このときは透明導電膜１３と基体１と
の間に接着力向上のためにクロム等の薄膜を下地膜とし
て形成するのは好ましい、また、透明導電膜１３と保護
膜１５との間に接着性向上のための薄膜を介在させても
よい。
度のシート抵抗の膜を、電磁波シールドには数Ω／口程
度のシート抵抗の膜を用いる。膜厚が厚ければ表面抵抗
が小さくなり帯電防止や電磁波シールド性能は向上する
が、あまり厚すぎると膜はがれや膜の着色が起こってし
まう恐れがあるので、２００００Å以下が好ましい、透
明導電膜の形成法も特に限定はな（真空蒸着法、イオン
ブレーティング法、スパッタリング法、ＣＶＤ法いずれ
でも良いことはいうまでもないことである。透明導電膜
と基体との密着力は、特に透明導電膜の膜厚が厚い場合
は問題になるが、このときは透明導電膜１３と基体１と
の間に接着力向上のためにクロム等の薄膜を下地膜とし
て形成するのは好ましい、また、透明導電膜１３と保護
膜１５との間に接着性向上のための薄膜を介在させても
よい。
第２図は、本発明の他の構成例を示す断面図であり、基
板１１上に、下地膜１７、透明導電膜１３および保護膜
１５が順次積層されている。
板１１上に、下地膜１７、透明導電膜１３および保護膜
１５が順次積層されている。
下地膜１７は、ガラス基板１１との密着性を高めるため
に用いられるものであるが、吸収膜を用いて透過率を制
御したり、干渉効果を利用して色調を調整したり、ある
いは熱線反射特性を持たすこともできる。
に用いられるものであるが、吸収膜を用いて透過率を制
御したり、干渉効果を利用して色調を調整したり、ある
いは熱線反射特性を持たすこともできる。
下地膜１７としては、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｔａ、Ｓｎの
うち少なくとも１種からなる金属膜；その酸化膜又はそ
の窒化膜； Ｃｒ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｔａ、Ｓｎのうち少な
くとも１種とＢとの合金膜； Ｃｒ、 Ｔｉ、 Ｚｒ、
Ｔａ、 Ｓｎのうち少なくとも１種とＢを含む酸化膜
； Ｃｒ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｔａ。
うち少なくとも１種からなる金属膜；その酸化膜又はそ
の窒化膜； Ｃｒ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｔａ、Ｓｎのうち少な
くとも１種とＢとの合金膜； Ｃｒ、 Ｔｉ、 Ｚｒ、
Ｔａ、 Ｓｎのうち少なくとも１種とＢを含む酸化膜
； Ｃｒ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｔａ。
Ｓｎのうち少なくとも１種とＢを含む窒化膜等が好適な
例として挙げられる。
例として挙げられる。
かかる下地膜１７の膜厚としては、透過率を制御する目
的で、金属膜、合金膜、窒化膜を用いる場合には１０〜
３００人程度が好適である。干渉を利用して色調を調整
する目的で、酸化膜を用いる場合には、該下地膜の上に
形成される透明導電膜や保護膜の屈折率や膜厚にも依る
が、２０〜１００００人程度が好適でああ。
的で、金属膜、合金膜、窒化膜を用いる場合には１０〜
３００人程度が好適である。干渉を利用して色調を調整
する目的で、酸化膜を用いる場合には、該下地膜の上に
形成される透明導電膜や保護膜の屈折率や膜厚にも依る
が、２０〜１００００人程度が好適でああ。
各層の膜厚を制御することにより、種々の特性を調整す
ることができる。例えば、可視光透過率４０％、ＩＴＯ
膜表面抵抗４Ω／口の場合を例にとると、下地膜１７と
して２０人±５％のＣｒ層を形成し、透明導電膜として
８０００人±５％の１１０層を形成し、保護膜として２
００人±５％のＣｒ Ｂ Ｎ ｘ層を形成すればよい、
このように、実測した屈折率を元に各層の膜厚を選定す
ることにより、可視光の透過率、ガラス側（膜形゛成面
の反対側）の反射特性などを自由に変えることができる
。
ることができる。例えば、可視光透過率４０％、ＩＴＯ
膜表面抵抗４Ω／口の場合を例にとると、下地膜１７と
して２０人±５％のＣｒ層を形成し、透明導電膜として
８０００人±５％の１１０層を形成し、保護膜として２
００人±５％のＣｒ Ｂ Ｎ ｘ層を形成すればよい、
このように、実測した屈折率を元に各層の膜厚を選定す
ることにより、可視光の透過率、ガラス側（膜形゛成面
の反対側）の反射特性などを自由に変えることができる
。
さらに、第１図および第２図には、透明導電膜１３が単
層の場合を示したが、透明導電膜を他の膜と交互に積層
して、光の干渉効果を利用して光学的特性、色調等を調
整してデザイン性を持たせることも可能である。第４図
には透明導電膜１３を３層、他の膜１９を２層形成した
例の断面図が示されている。他の膜１９としては、特に
限定されるものでは′なく、ＴｉＯｘ、 Ｚｒ０ｔ、
５ｉ０２゜Ｓｎｕｇ等の誘電体膜、金属膜等を使用でき
る。膜の屈折率等の光学特性により、適宜の材料を選択
すれば良い。又、下地膜１７や保護膜１５と同様の膜を
用いることもできる。例えばガラス／Ｃｒ／ ＩＴＯ／
Ｃｒ層 ＩＴＯ／ ＣｒＢｘＮｙのようにすることも
できる。又、第４図には、下地膜１７の上に、透明導電
膜１３と他の膜１９を交互に積層した構成を示したが、
下地膜を介さずに、透明導電膜１３と他の膜１９を積層
し、最外層に保護膜Ｉ５を形成して、本発明の透明導電
ガラスを構成することもできる。例えば、ガラス／ Ｉ
ＴＯ／ Ｃｒ層 ＩＴＯ／ＣｒＢｘＮｙのようにするこ
ともできる。
層の場合を示したが、透明導電膜を他の膜と交互に積層
して、光の干渉効果を利用して光学的特性、色調等を調
整してデザイン性を持たせることも可能である。第４図
には透明導電膜１３を３層、他の膜１９を２層形成した
例の断面図が示されている。他の膜１９としては、特に
限定されるものでは′なく、ＴｉＯｘ、 Ｚｒ０ｔ、
５ｉ０２゜Ｓｎｕｇ等の誘電体膜、金属膜等を使用でき
る。膜の屈折率等の光学特性により、適宜の材料を選択
すれば良い。又、下地膜１７や保護膜１５と同様の膜を
用いることもできる。例えばガラス／Ｃｒ／ ＩＴＯ／
Ｃｒ層 ＩＴＯ／ ＣｒＢｘＮｙのようにすることも
できる。又、第４図には、下地膜１７の上に、透明導電
膜１３と他の膜１９を交互に積層した構成を示したが、
下地膜を介さずに、透明導電膜１３と他の膜１９を積層
し、最外層に保護膜Ｉ５を形成して、本発明の透明導電
ガラスを構成することもできる。例えば、ガラス／ Ｉ
ＴＯ／ Ｃｒ層 ＩＴＯ／ＣｒＢｘＮｙのようにするこ
ともできる。
膜１９の膜厚については、所望の光学的特性に合わせて
適宜選択すればよい。
適宜選択すればよい。
このように、透明導電膜と他の膜を交互に積層する場合
には、複数の透明導電膜の合計膜厚による抵抗値が目的
に合うようにすればよい。
には、複数の透明導電膜の合計膜厚による抵抗値が目的
に合うようにすればよい。
以上のように、透明導電膜と他の膜を交互に積層する場
合、空気側最外層には保護膜１５を形成する。
合、空気側最外層には保護膜１５を形成する。
以上、本発明の透明導電ガラスを説明したが、保護膜１
５、透明導電膜１３、下地膜１７、他の膜１９の成膜方
法としては、真空蒸着法、ＤＣ。
５、透明導電膜１３、下地膜１７、他の膜１９の成膜方
法としては、真空蒸着法、ＤＣ。
ＲＦスパッタ法、イオンブレーティング法等のいずれも
が採用できるが、特に、スパッタ法は組成変動が少なく
、又、大面積にわたり均一な膜を形成できるので、透明
導電膜１３、保護膜１５、下地膜１７、膜１９等の成膜
法として好ましい。
が採用できるが、特に、スパッタ法は組成変動が少なく
、又、大面積にわたり均一な膜を形成できるので、透明
導電膜１３、保護膜１５、下地膜１７、膜１９等の成膜
法として好ましい。
［効 果１
本発明によれば、ガラス基板上に形成したＩＴＯ等の導
電膜の上に、保護膜としてＣｒＢ、Ｎ、膜を形成するこ
とにより、酸、アルカリ、水、紫外線に対して安定な耐
候性に優れた透明導電ガラスができるのみでな（、耐擦
傷性等の物理的耐久性にも優れている。よって、液晶表
示素子やＣＲＴ等のデイスプレーのパネルや冷凍ショー
ケース用防曇ガラス、帯電防止ガラス、電磁シールドガ
ラス等の用途に好適な透明導電ガラスを提供できる。
電膜の上に、保護膜としてＣｒＢ、Ｎ、膜を形成するこ
とにより、酸、アルカリ、水、紫外線に対して安定な耐
候性に優れた透明導電ガラスができるのみでな（、耐擦
傷性等の物理的耐久性にも優れている。よって、液晶表
示素子やＣＲＴ等のデイスプレーのパネルや冷凍ショー
ケース用防曇ガラス、帯電防止ガラス、電磁シールドガ
ラス等の用途に好適な透明導電ガラスを提供できる。
又、Ｂ、Ｎの含有量を変え、屈折率や吸収率等が調節で
きるので光学設計をして外観的にもある程度の希望の透
過率、反射率、色調を得ることが可能である。このこと
は複写機の天板ガラスの帯電防止などでは透過率アップ
のため重要である。また液晶表示素子などの電極パター
ン見え防止にも応用できる。この時同時に異物などによ
る上下電極間の短絡防止（・クロストーク防止）も達成
できる。
きるので光学設計をして外観的にもある程度の希望の透
過率、反射率、色調を得ることが可能である。このこと
は複写機の天板ガラスの帯電防止などでは透過率アップ
のため重要である。また液晶表示素子などの電極パター
ン見え防止にも応用できる。この時同時に異物などによ
る上下電極間の短絡防止（・クロストーク防止）も達成
できる。
又、透明導電膜の電磁波遮蔽能を利用した場合には、単
板での電磁遮蔽ガラスを実現できる。この単板電磁遮蔽
ガラスは、従来の金属メツシュを挟み込んだ複層ガラス
と比較して非常に低価格であり、目障りな埋め込み物も
ない。
板での電磁遮蔽ガラスを実現できる。この単板電磁遮蔽
ガラスは、従来の金属メツシュを挟み込んだ複層ガラス
と比較して非常に低価格であり、目障りな埋め込み物も
ない。
施工に際しても、サツシまわりの間隔を太き（変更する
ことなしに取付けが可能となる。又、保護膜や下地膜に
熱線反射機能をもたせて多機能化を実現でき、実用上極
めて有利である。さらに、保護膜や下地膜に光の干渉効
果をもたせたり、透明導電膜と他の膜を交互に積層した
りして、デザイン性を付与することもできる。
ことなしに取付けが可能となる。又、保護膜や下地膜に
熱線反射機能をもたせて多機能化を実現でき、実用上極
めて有利である。さらに、保護膜や下地膜に光の干渉効
果をもたせたり、透明導電膜と他の膜を交互に積層した
りして、デザイン性を付与することもできる。
又、金属膜、窒化膜等の光吸収性の下地膜を形成した場
合には、膜厚をコントロールすることにより、可視光透
過率を目的に応じて任意に変化させることができる。こ
の電磁波遮蔽ガラスは、建築用のみでな（、自動車用、
航空機用などに対しても応用できる。
合には、膜厚をコントロールすることにより、可視光透
過率を目的に応じて任意に変化させることができる。こ
の電磁波遮蔽ガラスは、建築用のみでな（、自動車用、
航空機用などに対しても応用できる。
［実施例］
洗浄乾燥したフロートガラス板を、スパッタターゲット
と蒸着源が並設されたチャンバーに入れて高真空とした
のち、Ａｒガスを導入して２ｘ １０−”Ｔｏｒｒとし
、ターゲット電圧０．５ＫＶ −’Ｃ−Ｄ Ｃスパッタ
を行ない、下地層として２０人のＣｒ層を形成した。次
に基板を蒸着チャンバーに移し、０□ガスを導入して７
Ｘ １０−’Ｔｏｒｒとし、ルツボ内のＩＴＯ膜ペレ
ットを蒸発させ、透明導電膜として８０００人のＩＴＯ
膜を形成した。なお、このＩＴＯ膜の表面抵抗は４Ω／
口であった。
と蒸着源が並設されたチャンバーに入れて高真空とした
のち、Ａｒガスを導入して２ｘ １０−”Ｔｏｒｒとし
、ターゲット電圧０．５ＫＶ −’Ｃ−Ｄ Ｃスパッタ
を行ない、下地層として２０人のＣｒ層を形成した。次
に基板を蒸着チャンバーに移し、０□ガスを導入して７
Ｘ １０−’Ｔｏｒｒとし、ルツボ内のＩＴＯ膜ペレ
ットを蒸発させ、透明導電膜として８０００人のＩＴＯ
膜を形成した。なお、このＩＴＯ膜の表面抵抗は４Ω／
口であった。
次に、更にスパッタチャンバーに移し、ＣｒＢの合金タ
ーゲット［Ｃｒ： Ｂ ＝９ ： １ （原子比）］を
用いて、Ｎ、とＡｒの混合ガス（Ｎ２ ： Ａｒ＝ ７
０ ：３０）で２ Ｘ １０−”Ｔｏｒｒに雰囲気を調
整し、ターゲット電圧２ＸＶの条件でＤＣスパッタし、
保護膜として ２００人のＣｒＢｘＮｙ層（ｘ ＝０．
２．ｙ ＝ ０．５）を形成して、透明導電ガラス（
サンプルＡ）を得た。
ーゲット［Ｃｒ： Ｂ ＝９ ： １ （原子比）］を
用いて、Ｎ、とＡｒの混合ガス（Ｎ２ ： Ａｒ＝ ７
０ ：３０）で２ Ｘ １０−”Ｔｏｒｒに雰囲気を調
整し、ターゲット電圧２ＸＶの条件でＤＣスパッタし、
保護膜として ２００人のＣｒＢｘＮｙ層（ｘ ＝０．
２．ｙ ＝ ０．５）を形成して、透明導電ガラス（
サンプルＡ）を得た。
この透明導電ガラスの分光特性を第３図に示す。
次に比較例として、サンプルＡと同様にして、下地膜、
透明導電膜を形成した後、ＳｎＯ２膜（２００人）を形
成し、サンプルＢとした。
透明導電膜を形成した後、ＳｎＯ２膜（２００人）を形
成し、サンプルＢとした。
次に、比較例として、サンプルＡと同様にして、下地膜
、透明導電膜を形成した後、ＴｉＯ□膜（２００人）を
形成し、サンプルＣとした。
、透明導電膜を形成した後、ＴｉＯ□膜（２００人）を
形成し、サンプルＣとした。
又、サンプルＡと同様にして下地膜、透明導電膜を形成
しただけのものをサンプルＤとした。
しただけのものをサンプルＤとした。
これらサンプルＡ’−Ｄについて、以下の通り耐酸テス
トを行ない、その結果を表−１に示す。
トを行ない、その結果を表−１に示す。
サンプルＢ、Ｃ，Ｄに比べ、本発明の実施例のサンプル
Ａでは非常に耐薬品性が向上していることが判かる。
Ａでは非常に耐薬品性が向上していることが判かる。
耐酸テスト
ｌ規定塩酸中に、２５℃で、各供試保護膜付き透明導電
ガラスを入れ、経過時間毎に膜の状態を観察し、以下の
基準で耐酸性を評価した。
ガラスを入れ、経過時間毎に膜の状態を観察し、以下の
基準で耐酸性を評価した。
Ｏ：変化なし
×：膜の表面が荒れる
（以下余白）
表−１＝耐酸テスト結果
別に、サンプルＡＮＤについて耐アルカリ性試験（１規
定水酸化ナトリウムの常温溶液に６時間浸漬）を行なっ
たが、外観変化はほとんど認められなかった。
定水酸化ナトリウムの常温溶液に６時間浸漬）を行なっ
たが、外観変化はほとんど認められなかった。
又、別にサンプルＡ−Ｄについて耐湿性試験（５０℃×
９８％ＲＨ雰囲気に７日放置）を行なったが、どれも外
観変化は認められなかった。
９８％ＲＨ雰囲気に７日放置）を行なったが、どれも外
観変化は認められなかった。
また、砂けしゴムでコート面をひっかいても傷はつきに
くく、優れた耐久性を示した。
くく、優れた耐久性を示した。
また、実施例の透明導電ガラス（サンプルＡ）は、周波
数Ｉ Ｇｌ（ｚの電磁波に関して試験したところ、シー
ルド性能は約３５ｄＢ程度で、良好な電磁波遮蔽性能を
示した。
数Ｉ Ｇｌ（ｚの電磁波に関して試験したところ、シー
ルド性能は約３５ｄＢ程度で、良好な電磁波遮蔽性能を
示した。
第１図、第２図、および第４図は本発明の構成例の層構
成を示す断面図である。 第３図は、実施例の分光特性を示すグラフである。 １１・・・ガラス基板 １３・・・透明導電膜１５
・・・保護膜 １７・・・下地膜 １９・・・他の
膜第１図 第２因 波 優−１ｎｍｌ−一−
成を示す断面図である。 第３図は、実施例の分光特性を示すグラフである。 １１・・・ガラス基板 １３・・・透明導電膜１５
・・・保護膜 １７・・・下地膜 １９・・・他の
膜第１図 第２因 波 優−１ｎｍｌ−一−
Claims (4)
- （１）ガラス基板上に、透明導電膜、その上に保護膜を
順次積層した透明導電ガラスであつ て、該保護膜がＣｒとＢとを含む窒化膜であることを特
徴とする透明導電ガラス。 - （２）ガラス基板上に、下地膜として、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｚ
ｒ、Ｔａ、Ｓｎのうち少なくとも１種からなる金属膜、
又はその酸化膜又はその窒化膜、あるいは、Ｃｒ、Ｔｉ
、Ｚｒ、Ｔａ、Ｓｎのうち少なくとも１種とＢとの合金
膜、又は上記金属のうち少なくとも１種とＢを含む酸化
膜、又は、上記金属のうち少なくとも１種とＢを含む窒
化膜を形成し、該下地膜上に透明導電膜を形成し、その
上に、ＣｒとＢとを含む窒化膜を保護膜として形成した
ことを特徴とする透明導電ガラス。 - （３）透明導電膜を、透明導電膜と、金属あるいは誘電
体からなる他の膜を交互に積層した複数層により形成し
たことを特徴とする請求項１又は２記載の透明導電ガラ
ス。 - （４）透明導電膜が、錫を含む酸化インジウム、フッ素
又はアルミニウムを含む酸化錫、あるいは、フッ素又は
アルミニウムを含む酸化亜鉛のうち１種を主成分とする
膜であることを特徴とする請求項１〜３いずれか１項記
載の透明導電ガラス。
Priority Applications (9)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| AU30879/89A AU616736B2 (en) | 1988-03-03 | 1989-03-01 | Amorphous oxide film and article having such film thereon |
| CA000592521A CA1338431C (en) | 1988-03-03 | 1989-03-02 | Amorphous oxide film and article having such film thereon |
| US07/318,330 US5110637A (en) | 1988-03-03 | 1989-03-03 | Amorphous oxide film and article having such film thereon |
| ES198989103796T ES2041856T3 (es) | 1988-03-03 | 1989-03-03 | Pelicula amorfa de oxido y articulo que tiene dicha pelicula en su superficie. |
| DE68928474T DE68928474T2 (de) | 1988-03-03 | 1989-03-03 | Amorpher Oxid-Film und Gegenstand mit einem solchen Film |
| DE89103796T DE68906923T2 (de) | 1988-03-03 | 1989-03-03 | Amorpher Oxid-Film und Gegenstand mit einem solchen Film. |
| EP89103796A EP0331201B1 (en) | 1988-03-03 | 1989-03-03 | Amorphous oxide film and article having such film thereon |
| KR1019890002663A KR960000031B1 (ko) | 1988-03-03 | 1989-03-03 | 비정질 산화물 필름 및 표면상에 그러한 필름을 갖는 제품 |
| JP1284846A JPH02217339A (ja) | 1988-03-03 | 1989-11-02 | 透明導電ガラス |
Applications Claiming Priority (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4876588 | 1988-03-03 | ||
| JP63076202A JPH0682163B2 (ja) | 1988-03-03 | 1988-03-31 | 耐久性の優れた光学体 |
| JP63144827A JPH0626877B2 (ja) | 1988-06-14 | 1988-06-14 | 熱線遮断ガラス |
| JP26416388 | 1988-10-21 | ||
| JP27730588 | 1988-11-04 | ||
| JP63-277305 | 1988-11-04 | ||
| JP1284846A JPH02217339A (ja) | 1988-03-03 | 1989-11-02 | 透明導電ガラス |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02217339A true JPH02217339A (ja) | 1990-08-30 |
Family
ID=39683722
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1284846A Pending JPH02217339A (ja) | 1988-03-03 | 1989-11-02 | 透明導電ガラス |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5110637A (ja) |
| EP (1) | EP0331201B1 (ja) |
| JP (1) | JPH02217339A (ja) |
| KR (1) | KR960000031B1 (ja) |
| AU (1) | AU616736B2 (ja) |
| CA (1) | CA1338431C (ja) |
| DE (2) | DE68906923T2 (ja) |
| ES (1) | ES2041856T3 (ja) |
Cited By (2)
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