KR101677572B1 - 열 특성을 갖는 스택을 구비하고 고 굴절률의 층을 포함하는 기재 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 박막 다층 코팅을 갖는 주 면 상에 제공된 투명 기재(10)로서, 상기 박막 다층 코팅은 특히 은 또는 은을 함유하는 금속 합금을 주원료로 한, 적외선 및/또는 태양 복사선에서 반사 특성을 갖는 금속 기능 층(40)과, 2개의 반사 방지 필름(20, 60)을 포함하고, 상기 필름 각각은 적어도 2개의 유전 층(22, 24, 26; 62, 64, 66, 68)을 포함하고, 상기 기능 층(40)은 2개의 반사 방지 필름(20, 60) 사이에 위치하는, 투명 기재(10)에 있어서,
각 반사 방지 필름(20, 60)은 상기 기능 층(40)과 접촉하거나 이에 가까이 위치한 적어도 하나의 고 굴절률의 유전 층(24, 64)을 포함하는 것을 특징으로 한다.

Description

열 특성을 갖는 스택을 구비하고 고 굴절률의 층을 포함하는 기재{SUBSTRATE PROVIDED WITH A STACK WITH THERMAL PROPERTIES AND COMPRISING HIGH REFRACTIVE INDEX LAYERS}
본 발명은 특히 유리와 같은 강성 광물성 물질로 만들어진 투명 기재에 관한 것으로, 상기 기재는 긴 파장의 태양 복사선 및/또는 적외선 복사선 상에서 작용할 수 있는 금속 유형의 기능층을 포함하는 박막 다층 코팅으로 코팅될 수 있다.
본 발명은 더 구체적으로 단열 및/또는 태양 보호 글레이징(glazing) 유닛을 제작하기 위한 그러한 기재의 이용에 관한 것이다. 이들 글레이징 유닛은 특히, 공기-조절 부하(air-conditioning load)를 감소시키고 및/또는 과열을 방지하고("태양 제어" 글레이징이라 불림) 및/또는 빌딩 및 차량 승객 구획에서 글레이징 표면의 사용이 점점 더 증가함에 의해 야기되는 외부로 방사된 에너지량을 감소시키기 위해("저-E" 또는 "저-방사율" 글레이징이라 불림), 빌딩에 설비하고 차량에 설비하도록 의도될 수 있다.
그러한 글레이징은 또한 예를 들어 가열 글레이징 또는 전기 변색(electrochromic) 글레이징과 같은 특정 기능을 갖는 글레이징 유닛에 일체화될 수 있다.
그러한 특성을 기재에 제공하기 위해 알려진 한가지 유형의 다층 코팅은 적외선 및/또는 태양 복사선에서 반사 특성을 갖는 금속 기능 층, 특히 은 또는 은을 함유하는 금속 합금을 주원료로 한 금속 기능 층으로 이루어져 있다.
이러한 유형의 다층 코팅에서, 기능 층은 이에 따라 2개의 반사 방지 필름들 사이에 위치되고, 이러한 2개의 반사 방지 필름 각각은 일반적으로 여러 개의 층들을 포함하고, 이러한 여러 개의 층들 각각은 질화물 유형, 특히 실리콘 질화물 또는 알루미늄 질화물의 유전 물질, 또는 산화물 유형의 유전 물질로 만들어진다. 광학적 관점에서, 금속 기능 층의 측면에 접하는(flank) 이들 필름의 목적은 이러한 금속 기능 층을 "반사 방지"하는 것이다.
그러나, 블록커 필름(blocker film)은 종종 하나 또는 각각의 반사 방지 필름과 금속 기능 층 사이에 삽입되고, 블록커 필름은 기재 방향으로 기능 층 아래에 위치되고, 벤딩(bending) 및/또는 템퍼링(tempering) 유형의 선택적 고온 열 처리 동안 상기 기능 층을 보호하고, 기재로부터 대향측 상의 기능 층 상에 위치된 블록커 필름은 상부 반사 방지 필름의 증착 동안 그리고 벤딩 및/또는 템퍼링 유형의 선택적 고온 열 처리 동안 임의의 열화(degradation)로부터 이러한 층을 보호한다.
기재와 금속 기능 층 사이에 위치한, 예를 들어 니오븀 산화물 또는 티타늄 산화물로 만들어진 높은 굴절률의 유전층이 금속 기능 층을 "반사 방지"할 수 있게 한다는 것이 예를 들어, 특허 출원 EP 678 484로부터 알려져 있다.
광학 특성을 더 개선시키기 위해, 하나의 해결책은 금속 기능 층의 각 면 상에 높은 굴절률의 유전층을 이용하는 것이다.
그러나, 이러한 높은 굴절률의 물질은 낮은 굴절률의 물질에 대한 것만큼 높은 비율로 증착될 수 없어서, 한 편으로 증착이 연속적으로 수행될 때 제조 프로세스 문제를 제기하고, 다른 한 편으로 박막 증착 기계의 효율(동작 시간의 단위마다 생성되는 코팅된 기재의 수에 관해)을 감소시킬 필요가 있는 경우 증가된 생산비의 문제를 제기한다.
더욱이, 예를 들어 소위 "마그네트론" 프로세스를 이용한 반응 스퍼터링, 특히 반응 마그네트론 스퍼터링에 의해 이들 물질을 증착하는데 사용된 타깃은 일반적으로 저 굴절률의 물질을 증착시키기 위한 타깃보다 더 비싸다.
따라서 이러한 유형의 물질이 금속 기능층의 각 면 상에 존재할 때 고 굴절률의 물질의 양을 최소화하는 것이 필요하다.
이 해결책은 특히 반사시, 특히 적색이 아닌 허용가능한 칼라를 얻을 수 있게 한다.
본 발명의 목적은, 단일 기능층을 포함하는 새로운 유형의 다층 코팅을 개발함으로써 종래 기술의 결점을 해결하는데 성공하는 것이며, 상기 코팅은 낮은 시트 저항(그러므로 낮은 방사율), 특히 층의 측면(대향 측면 상에, 즉 "기재 측") 상의 반사시 높은 광 투과율 및 비교적 중성 칼라를 갖고, 이러한 특성은 바람직하게 다층 코팅이 벤딩 및/또는 템퍼링 및/또는 어닐링 유형의 하나 이상의 고온 열 처리를 거치는 지의 여부에 상관없이 제한된 범위 내에서 유지된다.
다른 중요한 목적은 다층 코팅을 제공하는 것인데, 상기 다층 코팅은 단일 기능층을 포함하고, 가시도에서 낮은 광 반사율을 가지면서, 특히 반사시 특히 적색이 아닌 허용가능한 칼라를 갖는다.
따라서, 본 발명의 하나의 주제는, 가장 넓은 허용범위에서, 제1항에 기재된 유리 기재이다. 이 기재는, 특히 은 또는 은을 함유하는 금속 합금을 주원료로 하고, 적외선 및/또는 태양 복사선에서 반사 특성을 갖는 금속 기능층과, 2개의 반사 방지 필름을 포함하는 박막 다층 코팅을 갖는 주면 상에 제공되며, 상기 필름 각각은 적어도 2개의 유전층을 포함하고, 상기 기능층은 2개의 반사 방지 필름 사이에 위치하고, 한 편으로 기능층은 선택적으로 하위(subjacent) 반사 방지 필름 사이에 위치한 언더블록커(underblocker) 필름 바로 위에 증착되고, 다른 한 편으로 기능층은 선택적으로 기능층과 상위(superjacent) 반사 방지 필름 사이에 위치한 오버블록커(overblocker) 필름 바로 아래에 증착된다. 본 발명에 따라,
- 각 반사 방지 필름은 기능층과 접촉하거나 이에 가까이 위치한 적어도 하나의 고 굴절률의 유전층을 포함하고,
- 고 굴절률의 유전층 또는 하위 반사 방지 필름에 있거나 이에 위치한 모든 고 굴절률 유전층의 총 광학적 두께는 이러한 하위 반사 방지 필름의 총 광학적 두께의 30 내지 75%를 나타내고,
- 고 굴절률의 유전층 또는 상위 반사 방지 필름에 있거나 이에 위치한 모든 고 굴절률 유전층의 총 광학적 두께는 이러한 상위 반사 방지 필름의 총 광학적 두께의 10 내지 60%를 나타낸다.
본 발명의 정황에서 "필름"이라는 용어는, 필름 내에 상이한 물질의 단일 층 또는 여러 층일 수 있다는 것을 의미하도록 이해되어야 한다.
본 발명에서 "고 굴절률의 유전층"이라는 용어는, 구성 물질이 2.2 이상이거나 심지어 2.3 이상인 550nm의 파장에서 측정된 굴절률을 갖는 층을 의미하도록 이해되어야 한다. 이 파장에서 측정된 이러한 굴절률은 박막 다층 코팅 분야에서 통상적인 물질에 대한 문헌에서 일반적으로 잘 알려져 있다.
본 발명에서 "접촉하는"이라는 용어는, 고 굴절률 층과 금속 기능층 사이에 어떠한 층도 삽입되지 않는다는 것을 의미한다. 이 경우에, 그러므로 어떠한 블록커 필름도 없다.
본 발명에서 "가까운"이라는 용어는, 고 굴절률 층과 금속 기능 층 사이에 삽입된 층(또는 모든 층)의 10nm를 초과하는 물리적 두께 없이 고 굴절률 층과 금속 기능 층 사이에 적어도 하나의 층이 삽입된다는 것을 의미하도록 이해된다.
본 발명에서 "광학적 두께"라는 용어는, 일반적으로, 550nm에서 측정된 굴절률과 층의 물리적(또는 실제) 두께를 곱한 값을 의미하도록 이해된다.
본 발명에서 "총 광학적 두께"라는 용어는, 해당 층의 모든 광학적 두께의 합을 의미하는 것으로, 각 광학적 두께는 전술한 바와 같이 550nm에서 측정된 굴절률과 층의 물리적(또는 실제) 두께를 곱한 값이라는 것을 의미하도록 이해된다.
따라서, 하위 반사 방지 필름의 총 광학적 두께는, 기재와 금속 기능층 사이, 또는 존재한다면 기재와 언더블록커 필름 사이에 위치하는 이러한 필름의 유전층의 모든 광학적 두께의 합으로부터 형성된다.
마찬가지로, 상위 반사 방지 필름의 총 광학적 두께는 금속 기능층 위에, 기재로부터의 대향 면 상에, 또는 이것이 존재하는 경우 오버블록커 필름의 상부 상에 위치하는 이러한 필름의 유전층의 모든 광학적 두께의 합으로부터 형성된다.
사실상, 본 발명에 따라, 하위 또는 상위 반사 방지 필름 내에서, 고 굴절률 유전층의 광학적 두께, 이것이 고유의 고 굴절률 유전층이거나, 또는 여러개의 고 굴절률 유전층이 존재하는 경우 모든 고 굴절률의 유전층의 광학적 두께의 합은,
- 하위 반사 방지 필름의 경우에, 이러한 하위 반사 방지 필름의 총 광학적 두께의 30 내지 75%의 값, 또는 35 내지 55%의 값이고,
- 하위 반사 방지 필름의 경우에, 이러한 상위 반사 방지 필름의 총 광학적 두께의 10 내지 60%의 값이거나, 심지어 15 내지 35%의 값이다.
그러므로, 고 굴절률의 물질이 이러한 층의 각 면 상에서 금속 기능층과 접촉하거나 이에 가까이 위치되고, 이러한 고 굴절률의 물질이 너무 높은 양(이에 따라 백분율 범위의 마지막에 있는 값)을 갖지 않고도 충분한 양(따라서 백분율 범위의 시작에서의 값)이라는 것이 본 발명에 따라 필수적이다.
그러나, 특정한 불균형은 한 편으로, 상위 반사 방지 필름과 하위 반사 방지 필름에서의 고 굴절률 물질의 최소 두께 사이(각각 10% 및 30%, 또는 심지어 각각 15% 및 35%), 및 다른 한 편으로 상위 반사 방지 필름과 하위 반사 방지 필름에서의 고 굴절률 물질의 최대 두께 사이(각각 60% 및 75%, 또는 심지어 각각 35% 및 55%)에서 관찰되었다.
그러므로, 고 굴절률의 물질에서의 본 발명에 따른 이러한 분배 때문에, 고 굴절률 층의 두께를 한정하는 것이 가능하다. 이러한 층은 하위 필름에서 적어도 5nm, 또는 심지어 적어도 8nm의 물질적 두께를 가질 수 있고, 최대 25nm, 또는 최대 20nm, 또는 16nm, 또는 14nm의 물리적 두께를 가질 수 있고, 이들 모든 최소값이 이들 최대값과 조합될 수 있다.
특히, 한 편으로, 이에 따라 하위 반사 방지 필름에 있거나 이에 위치하는 고 굴절률 유전층 또는 모든 고 굴절률의 유전층의 총 광학적 두께는 15 내지 65nm의 값 사이에 있거나, 18 내지 50nm의 값 사이에 있고, 다른 한 편으로, 상위 반사 방지 필름에 있거나 이에 위치하는 고 굴절률의 유전층 또는 모든 고 굴절률의 유전층의 총 광학적 두께는 이에 따라 8 내지 60nm의 값 사이에 있거나, 12 내지 35nm의 값 사이에 있고, 하위 반사 방지 필름의 경우에 이들 범위가 상위 반사 방지 필름에 대한 이들 값과 조합될 수 있다.
더욱이, 놀랍게도, 고 굴절률의 유전 층의 고 굴절률 물질이, 상위 반사 방지 필름에 있거나 이에 위치한 고 굴절률의 유전 층 또는 모든 고 굴절률의 유전 층의 총 광학적 두께에 대한 하위 반사 방지 필름에 있거나 이에 위치한 고 굴절률의 유전층 또는 모든 고 굴절률의 유전층의 총 광학적 두께의 비율이 1.1 내지 5의 값, 또는 1.2 내지 4의 값이거나, 1.3 내지 3.8의 값이 되는 방식으로, 우선적으로 주로 금속 기능층의 하위 유전 필름에 있다는 것이 드러났다. R로서 아래에 정의된 이러한 비율은 특히 1.4 또는 1.5일 수 있다.
각 고 굴절률의 유전 층의 구성 물질은 바람직하게 티타늄 산화물, 니오븀 산화물, 또는 지르코늄으로 도핑되고, 선택적으로 또한 Al로 도핑된 실리콘 질화물로부터 선택된다.
냉온 반응식 마그네트론 스퍼터링에 의해 증착된 박막 형태의 티타늄 산화물(TiO2)은 층의 결정도에 따라(예를 들어 층이 냉온 또는 고온으로 증착되는 지의 여부와 같은 증착 상태에 따른) 550nm에서 2.35 내지 2.5의 굴절률을 갖는다 - 예를 들어 저널 응용 표면 과학, 175-176(2001) 페이지 276-280에 공개된 "Spectroellipsometric characterization of materials for multilayer coatings"라는 제목의 문헌에서 굴절률을 참조.
박막 형태의 니오븀 산화물(Nb2O5)은, 저널 고체 박막, 516(2008) 페이지 8096-8100에 공개된 "Characterization of sputtered and annealed niobium oxide films using spectroscopic ellipsometry, Rutherford backscattering spectrometry and X-ray diffraction"이라는 제목의 문헌에 따라 550nm에서 2.25 내지 2.40의 굴절률을 가질 수 있다.
독자는, 또한 반사 방지 필름에 대해 Si3N4:Zr 층의 생성을 개시하고 페이지 12에서 Zr 내용에 따라 Si3N4:Zr의 굴절률(및 페이지 3의 TiO2 및 Nb2O5의 굴절률)을 제공하는 특허 출원 EP 1 656 328 A2를 인용할 수 있다.
본 발명에 따른 고 굴절률의 층은 엄격히 화학양론일 필요가 없다 - 고 굴절률의 층은 산화물의 경우에 산소에 관해 서브화학양론(substoichiometric) 또는 슈퍼화학양론(superstoichimetric)이고, 및/또는 질화물의 경우에 질소의 관해 서브화학양론 또는 슈퍼화학양론일 수 있다.
더욱이, 높은 광 투과율, 반사시 중성 칼라와 비교적 높은 선택도{즉, 글레이징의 태양 인자(SF)에 대한 글레이징의 가시부에서의 광 투과율(TL)의 비율은 S=TLVis/SF이다)를 얻기 위해, 상위 반사 방지 필름의 nm 단위의 광학적 두께에 대한 하위 반사 방지 필름의 nm 단위의 광학적 두께의 비율(E)은 바람직하게 0.4≤E≤0.9, 또는 0.5≤E≤0.8이 된다. 하나의 특정한 실시예에서, 상기 하위 반사 방지 필름 및 상기 상위 반사 방지 필름 각각은 선택적으로 알루미늄과 같은 적어도 하나의 다른 요소로 도핑된, 실리콘 질화물을 주원료로 한 적어도 하나의 유전층을 포함한다.
하나의 특정한 실시예에서, 기재로부터 가장 멀리 떨어져 있는 최종 층 또는 하위 반사 방지 필름의 오버코트(overcoat)는 선택적으로 알루미늄과 같은 적어도 하나의 다른 요소로 도핑된, 특히 아연 산화물을 주원료로 한, 산화물-주원료의 습식 층이다.
하나의 특정한 실시예에서, 하위 반사 방지 필름은 특히 실리콘 질화물 및/또는 알루미늄 질화물을 주원료로 한 적어도 하나의 질화물-주원료의 유전층, 및 혼합된 산화물로 만들어진 적어도 하나의 비결정인 매끄러운 층을 포함하고, 상기 매끄러운 층은 결정의 상위 습식 층과 접촉한다.
바람직하게, 언더블록커 필름 및/또는 오버블록커 필름은 0.2nm≤e≤1.8nm가 되도록 물리적 두께를 갖는 니켈 또는 티타늄을 주원료로 한 얇은 층을 포함한다.
하나의 특정한 버전에서, 적어도 하나의 얇은 니켈-주원료의 층, 특히 오버블록커 필름의 적어도 하나의 얇은 니켈-주원료의 층은 바람직하게 80중량% Ni 및 20중량% Cr을 포함하는 크로뮴을 포함한다.
다른 특정한 버전에서, 적어도 하나의 얇은 니켈-주원료의 층, 특히 오버블록커 필름의 적어도 하나의 얇은 니켈-주원료의 층은 바람직하게 50중량% Ni 및 50중량% Ti를 포함하는 티타늄을 포함한다.
더욱이, 언더블록커 필름 및/또는 오버블록커 필름은, 박막 다층 코팅을 갖는 기재가 코팅의 증착 이후에 벤딩 및/또는 템퍼링 열 처리를 거치는 경우 금속 형태로 존재하는 적어도 하나의 얇은 니켈-주원료의 층을 포함할 수 있고, 이 층은, 박막 다층 코팅을 갖는 기재가 코팅이 증착된 후에 적어도 하나의 벤딩 및/또는 템퍼링 열 처리를 거치는 경우 적어도 부분적으로 산화된다.
언더블록커 필름의 얇은 니켈-주원료의 층 및/또는 오버블록커 필름의 얇은 니켈-주원료의 층은 상기 층(들)이 존재할 때 바람직하게 기능층과 직접 접촉한다.
기재로부터 가장 멀리 떨어져 있는 최종 층 또는 상위 반사 방지 필름의 오버코트는 바람직하게 서브화학양론적으로 증착된 산화물을 주원료로 하고, 특히 선택적으로 최대 10중량%의 양으로 다른 요소에 의해 도핑된, 티타늄 산화물(TiOx)을 주원료로 하거나 주석 아연 산화물(SnZnOx)을 주원료로 한다.
이에 따라 다층 코팅은 최종 층 또는 오버코트, 즉 보호층을 포함할 수 있다.
이러한 보호층은 바람직하게 0.5 내지 10nm의 물리적 두께를 갖는다.
본 발명에 따른 글레이징은 선택적으로 적어도 하나의 다른 기재와 결합된, 본 발명에 따른 다층 코팅을 지지하는 기재를 병합한다. 각 기재는 세척되거나 채색(tint)될 수 있다. 적어도 하나의 기재는 특히 벌크-채색된(bulk-tinted) 유리로 만들어질 수 있다. 착색 유형의 선택은 일단 그 제조가 완료되었으면 글레이징에 대해 바람직한 광 투과율의 레벨 및/또는 비색계 외관에 따를 것이다.
본 발명에 따른 글레이징은, 특히 열가소성 폴리머의 적어도 하나의 시트와 유리 유형의 적어도 2개의 강성 기재를 결합한 적층된 구조를 가질 수 있어서, 다음의 유형, 즉 유리/박막 다층 코팅/시트(들)/유리의 구조를 갖는다. 폴리머는 특히 폴리비닐 부티랄(PVB), 에틸렌-비닐 아세테이트(EVA), 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET) 또는 폴리비닐 클로라이드(PVC)를 주원료로 할 수 있다.
더욱이, 글레이징은 유리/박막 다층 코팅/폴리머 시트(들)의 유형의 구조를 가질 수 있다.
본 발명에 따른 글레이징은 박막 다층 코팅이 손상되지 않고도 열 처리를 거칠 수 있다. 선택적으로, 상기 글레이징은 벤딩 및/또는 템퍼링된다.
글레이징은 다층 코팅을 갖는 단일 기재로서 벤딩 및/또는 템퍼링될 수 있다. 이것은 "모노리식(monolithic)" 글레이징으로 지칭된다. 글레이징이 특히 차량 윈도우를 형성하기 위해 벤딩되면, 박막 다층 코팅은 바람직하게 적어도 부분적으로 비평면(nonplanar)인 면 상에 있다.
글레이징은 또한 다중-글레이징 유닛, 특히 이중-글레이징 유닛일 수 있으며, 다층 코팅을 지지하는 적어도 기재는 벤딩 및/또는 템퍼링될 수 있다. 다중-글레이징 구조가 중간의 가스-충진 공동을 향하는 면 상에 위치되는 것이 바람직하고, 다층 코팅은 폴리머 시트와 접촉할 수 있다.
글레이징은 또한 가스-충진 공동에 의해 쌍으로(pairwise) 분리된 3개의 유리 시트로 구성된 3중-글레이징 유닛일 수 있다. 3중-글레이징 구조에서, 다층 코팅을 지지하는 기재는, 태양광선의 입사 방향이 증가하는 면의 수의 순서로 면을 통과한다는 것을 고려할 때 면(2) 및/또는 면(5) 상에 있을 수 있다.
글레이징이 모노리식 글레이징, 또는 이중-글레이징, 3중-글레이징 또는 적층된 글레이징 유형의 다중 글레이징일 때, 적어도 다층 코팅을 지지하는 기재는 벤딩 또는 템퍼링된 유리로 만들어질 수 있고, 이 기재가 다층 코팅의 증착 이전 또는 이후에 벤딩 또는 템퍼링될 수 있다.
이 글레이징이 이중-글레이징 유닛으로서 장착될 때, 바람직하게 선택도(S≥1.3 또는 심지어 S≥ 1.4, 또는 S≥1.5 또는 심지어 S>1.5)를 갖는다.
본 발명은 또한 선택도(S≥1.3 또는 심지어 S> 1.4, 또는 S≥1.5 또는 심지어 S>1.5)를 갖는, 이중 글레이징을 제작하기 위해 본 발명에 따른 기재의 이용에 관한 것이다.
본 발명에 따른 기재는 특히 가열 글레이징 또는 전기 변색 글레이징 또는 조명 디바이스 또는 디스플레이 디바이스 또는 광전지 패널의 투명 전극을 제작하는데 사용될 수 있다.
유리하게, 본 발명은 이에 따라 다중 글레이징 구조, 특히 이중-글레이징 구조, 높은 선택도(S ≥ 1.35), 낮은 방사율(εN ≤ 3%), 및 미적으로 매력적인 외관(TLVIS ≥ 70% ; RLVIS ≤ 25%, 반사시 중성 칼라)을 갖는 단일 기능 층을 포함하는 박막 다층 코팅을 제작할 수 있게 한다.
본 발명에 따른 단일 기능층을 포함하는 다층 코팅은 유사한 특성을 갖는 2개의 기능층을 포함하는 다층 코팅보다 비용이 적게 제작된다.
도 1은 기재(10) 상에 증착된 본 발명에 따른 단일 기능 층을 포함하는 다층 코팅(12)을 도시한 도면.
도 2는 2개의 유리 시트로부터 형성된 이중-글레이징 유닛(DGU)(1)의 제작을 도시한 도면.
본 발명의 세부사항 및 장점은, 첨부된 도 1 및 도 2에 의해 도시된 다음의 비제한적인 예로부터 나타날 것이며, 도 1은 기재(10) 상에 증착된 본 발명에 따른 단일 기능 층을 포함하는 다층 코팅(12)을 도시하며, 기능 층은 언더블록커 필름 및 오버블록커 필름을 갖고, 코팅은 더욱이 선택적 보호 필름을 갖고, 도 2는 2개의 유리 시트로부터 형성된 이중-글레이징 유닛(DGU)(1)의 제작을 도시하며, 각 유리 시트는 기재(10, 30)를 구성하고, 상기 시트는 중간 가스-충진 공동(15)에 의해 분리된다.
도면에서 좌측에서 우측으로 향하는 이중 화살표에 의해 도시된 빌딩에 들어가는 태양광선의 입사 방향을 고려할 때 빌딩 내부쪽으로 가장 멀리 있는 시트인, 유리 시트들 중 하나는 기재(10)로 구성되고, 상기 기재(10)는 중간 가스-충진 공동쪽으로 향하는 내부 면(9) 상에서 아래에 설명되는 단일 기능 층을 포함하는 다층 코팅(12){단일 기능 층을 포함하는 다층 코팅은 이중 글레이징의, "면(3)"으로 지칭되는 내부 면 상에 있다}으로 구성된 절연 필름으로 코팅된다; 기재(10)의 외부 면(11)은 어떠한 박막 다층 코팅으로도 코팅되지 않는다.
다른 유리 시트, 즉 기재(30)는 중간 가스-충진 공동쪽으로 향하는 내부 면(31) 상에서 절연 필름으로 코팅되지 않고, 이러한 시트는 태양광선의 입사 방향을 고려할 때 즉 빌딩의 외부에서 가장 멀리 있는 시트이고; 그 외부 면(29){"면(1)"이라 불림}은 예를 들어 자가-세정(self-cleaning) 필름으로 코팅될 수 있다.
이들 도면에서, 다양한 층의 두께 사이의 비율은 더 쉽게 검사할 수 있기 위해 엄격히 제약되지 않는다.
더욱이, 아래의 모든 예에서, 박막 다층 코팅(12)은 4mm의 두께를 갖는 깨끗한 소다-라임(soda-lime) 유리(쌩-고벵의 PLANILUX)로 만들어진 기재(10) 상에 증착된다.
더욱이, 이들 예에서, 열 처리가 기재에 적용되는 모든 예에서, 이것은 벤딩 또는 템퍼링 열 처리를 시뮬레이팅하도록, 약 620℃의 온도로 약 8분 동안 수행된 어닐링 동작이며, 뒤이어 실온(약 20℃)으로 냉각한다.
아래의 모든 예에서, 이중-글레이징 구성의 경우에, 박막 다층 코팅은 면(3), 4-16( 90% Ar)의 구성을 갖는, 즉 2개의 4mm 투명 유리 시트로 형성된, 도 2에 도시된 바와 같이 가스-충진 공동을 향해 있는 면 상에, 빌딩에 들어가는 태양광선의 입사 방향을 고려할 때 면(3), 즉 빌딩의 외부에서 가장 멀리 있는 시트 상에 위치하고, 각 투명 유리 시트는 16mm의 두께를 갖는 90% 아르곤 및 10% 공기를 함유하는 중간 가스-충진 공동(15)에 의해 분리된 기재(10, 30)를 포함하고, 전체 조립체는 프레임 구조에 의해 함께 유지된다.
도 1은 투명 유리 기재(10) 상에 증착된 단일 기능 층을 포함하는 다층 코팅의 구조를 도시하며, 여기서 단일 기능 층(40)은 2개의 반사 방지 필름, 즉 기재(10)의 방향으로 기능 층(40) 아래에 놓인 하위 반사 방지 필름(20)과, 기재(10)로부터 대향 측면 상의 기능 층(40) 위에 놓인 상위 반사 방지 필름(60) 사이에 위치한다.
이들 2개의 반사 방지 필름(20, 60) 각각은 적어도 하나의 유전 층(21, 22, 24, 26; 62, 64, 66, 68, 69)을 포함한다.
선택적으로, 한 편으로, 기능 층(40)은 하위 반사 방지 필름(20)과 기능 층(40) 사이에 위치한 언더블록커 필름(30) 상에 증착될 수 있고, 다른 한 편으로 기능 층(40)은 기능 층(40)과 상위 반사 방지 필름(60) 사이에 위치한 오버블록커 필름(50) 바로 아래에 증착될 수 있다.
도 1은, 하부 반사 방지 필름(20)이 4개의 반사 방지 층(21, 22, 24, 26)을 포함하고, 상부 반사 방지 필름(60)이 4개의 반사 방지 층(62, 64, 66, 68)을 포함하고, 이러한 반사 방지 필름(60)이 특히 산화물을 주원료로 한 선택적 보호 층(69), 특히 산소-서브화학양론 층에서 종료한다는 것을 보여준다.
본 발명에 따라, 각 반사 방지 필름(20, 60)은 기능 층(40)과 접촉하거나 이에 가까이 위치한 적어도 하나의 고 굴절률의 유전 층(24, 64)을 포함하고, 한 편으로, 하위 반사 방지 필름(20)에 있거나 이에 위치한 고 굴절률의 유전 층(24) 또는 모든 고 굴절률의 유전 층의 총 광학적 두께(e2)는 이러한 하위 반사 방지 필름(20)의 총 광학적 두께(e20)의 30 내지 75%를 나타내고, 다른 한 편으로 상위 반사 방지 필름(60)에 있거나 이에 위치한 고 굴절률의 유전 층(64) 또는 모든 고 굴절률의 유전 층의 총 광학적 두께(e6)는 이러한 상위 반사 방지 필름(60)의 총 광학적 두께(e60)의 10 내지 60%를 나타낸다.
더욱이, 각 반사 방지 필름(20, 60)은 바람직하게 기능 층(40)과 접촉하거나 이에 가까이 위치한 적어도 하나의 고 굴절률의 유전 층(24, 64)을 포함하고, 한 편으로, 하위 반사 방지 필름(20)에 있거나 이에 위치한 고 굴절률의 유전 층(24) 또는 모든 고 굴절률의 유전 층의 총 광학적 두께(e2)는 이러한 하위 반사 방지 필름(20)의 총 광학적 두께(e20)의 35 내지 55%를 나타내고, 다른 한 편으로 상위 반사 방지 필름(60)에 있거나 이에 위치한 고 굴절률의 유전 층(64) 또는 모든 고 굴절률의 유전 층의 총 광학적 두께(e6)는 이러한 상위 반사 방지 필름(60)의 총 광학적 두께(e60)의 15 내지 55%를 나타낸다.
더욱이, 상위 반사 방지 필름(60)의 nm 단위의 광학적 두께(e60)에 대한 하위 반사 방지 필름(20)의 nm 단위의 광학적 두께(e20)의 비율(E)은 바람직하게 다음과 같다:
0.4≤E≤0.9, 또는 그렇지 않으면 0.5≤E≤0.8.
수치 시뮬레이션이 먼저 수행되었고(본 발명에 따른 예 1 내지 3과, 아래에 주어진 본 발명에 따르지 않는 대항 예 9 내지 13), 그런 후에 2개의 박막 다층 코팅이 실제로 증착되었다: 예 1 및 대항 예 11.
아래의 표 1은 예 1 및 3과 대항 예 9 내지 13의 각 층 및 필름의 nm 단위의 물리적 두께를 제공하며, 표 2는 이들 예에 관련한 주 데이터, 특히 광학적 두께를 수집하고, 표 3은 시뮬레이션에 의해 얻어진 이들 예의 주요 광학적 특성을 제공한다.
표 1에서, "번호" 행은 도 1에 도시된 구성과 연관된 층의 번호를 나타내고, 2번째 행은 증착된 물질을 나타낸다.
Figure 112011068807005-pct00001
표 2는 다음 데이터를 제공한다:
- e2 및 e6는 각각 하위 반사 방지 필름(20) 및 상위 반사 방지 필름(60)의 고 굴절률의 유전 층(24, 64)의 총 광학적 두께이고{또는 각각 대항 예(13, 12)에 대한 고 굴절률의 층(22, 68)의 총 광학적 두께};
- e20 및 e60는 각각 하위 반사 방지 필름(20) 및 상위 반사 방지 필름(60)의 총 광학적 두께이고;
- %2는 이러한 하위 반사 방지 필름(20)의 총 광학적 두께(e20)에 대해 상위 반사 방지 필름(60)의 단일 고 굴절률의 유전 층(24){또는 대항 예 13의 경우에 단일 층(21)}의 총 광학적 두께(e2)의 백분율이고;
- %6은 이러한 상위 반사 방지 필름(60)의 총 광학적 두께(e60)에 대해 상위 반사 방지 필름(60)의 단일 고 굴절률의 유전 층(64){또는 대항 예 12의 경우에 단일 층(68)}의 총 광학적 두께(e6)의 백분율이고;
- d2 및 d6은 각각 각 고 굴절률의 유전 층(24, 64)과 기능 층(40) 사이의 물리적 거리{또는 각각 대항 예 13 및 12에 대해 각각 각 고 굴절률의 유전 층(21, 68)과 기능 층(40) 사이의 물리적 거리}이다.
이러한 표 2에서, 광학적 두께를 계산하기 위해 고려된 각 층의 굴절률은 다음과 같다:
Si3N4: 2.05
ZnO: 1.9
TiO2: 2.4
ZnSnOx: 2.0.
Figure 112011068807005-pct00002
표 3은 다층 코팅으로 코팅된 기재의 광학적 특성을 보여준다:
- TLvis은 광원(D65) 하에 2°에서 측정된 가시부에서 광 투과율(TL)이고;
- LAB 시스템에서 투과율에서의 칼라(aT * 및 bT *)는 박막 다층이 증착되는 주 면으로부터 기재의 대항 측면 상에서, 광원(D65) 하에 2°에서 측정되고;
- RCvis은 박막 다층 코팅이 증착되는 기재의 주 면 상에서, 광원(D65) 하에 2°에서 측정된 % 단위의 가시부에서의 광 반사율이고;
- LAB 시스템에서 반사율에서의 칼라(aRC * 및 bRC *)는 박막 다층이 증착되는 주 면으로부터 기재의 대항 측면 상에서, 광원(D65) 하에 2°에서 측정된다.
표 3은 또한 면(3) 상의 박막 다층 코팅을 갖는, 4-16 (90% Ar)-4 이중-글레이징 구성에서 고려된, % 단위(CEN 표준)로 인자(g), 또는 태양 인자를 보여주고, 다른 기재는 도 2에 도시된 바와 같이 깨끗한 표준 유리(쌩 고벵으로부터의 PLANILUX)이다.
Figure 112011068807005-pct00003
예 9에서, 기재와 기능 층(40) 사이의 하위 반사 방지 필름(20)에서, 또는 기능 층(40)의 상부 상의 상위 반사 방지 필름(60)에서 어떠한 고 굴절률의 층도 존재하지 않는다.
이러한 예 9에서의 다층 코팅은 유용한데, 이는 투과율{비교적 낮은 절대값의 음(aT *) 및 양(bT *)}에서, 그리고 코팅 측 상의 반사율에서{비교적 낮은 절대값의 양(aRC *) 및 음(bRC *)}에서 허용가능한 칼라를 갖기 때문이고, 그리고 열 처리 동안 광학적 특성이 유지될 때 "템퍼링될 수 있는" 또는 "템퍼링되는" 유형이지만, 기능 층이 정확히 "반사 방지"되지 않으므로 매우 높은 광 투과율을 갖지 않기 때문이다. 따라서, 광 반사율은 또한 비교적 높다.
예 10에서, 2개의 고 굴절률의 유전 층(24, 64)은 각각 하위 반사 방지 필름(20) 및 상위 반사 방지 필름(60)에서 다층 코팅에 도입된다.
그러나, 이들 2개의 층, 특히 하위 반사 방지 필름의 2개의 필름은 비교적 두꺼워서, 이들을 증착하기에 비용이 많이 들고 증착 프로세스를 복잡하게 만든다.
광 투과율은 예 9와 비교하여 크게 증가하고, 따라서 광 반사율은 매우 크게 낮아지고, 태양 인자는 증가한다. 그러나, 칼라는 특히 다층 코팅 측 상의 반사에서 완전히 만족스럽지 않다: aRC * 및 bRC *는 모두 절대값이 너무 높아서, 적색-보라색 톤의 칼라를 초래한다.
예 10은, 하위 반사 방지 필름(20)의 총 광학적 두께에 대한 고 굴절률의 층(24)의 광학적 두께의 비율이 높은(74%) 반면, 고 굴절률의 물질{모든 층(24 및 64)} 대부분이 상위 반사 방지 필름(60)에 있다{비율(R)은 1 미만, 여기서 0.7이다}는 것을 보여준다.
본 발명에 따른 예 1에서, 예 10에서와 같이, 2개의 고 굴절률의 유전 층(24, 64)은 각각 하위 반사 방지 필름(20) 및 상위 반사 방지 필름(60)에서의 다층 코팅에 도입된다.
이들 2개의 층(24, 64)은 예 10에서와 같이, 기능 층(40)에 가까이 유지되는데, 이는 양쪽의 경우에, 5nm의 기능 층(40)을 갖는 단일 층(각각 26, 62)이 한 편으로 고 굴절률의 층(24)과 기능 층(40) 사이, 다른 한 편으로 기능 층(40)과 고 굴절률의 층(64) 사이에 삽입되기 때문이다.
그러나, 이들 2개의 층은 예 10의 경우보다 예 1의 경우에 더 얇아, 증착하는데 비용이 적게 들고, 증착 프로세스를 간략화시킨다: 각 흡수 층(24, 64)의 광학적 두께의 비율은 각각 하위 반사 방지 필름(20) 및 상위 반사 방지 필름(60)의 총 광학적 두께(각각 47% 및 22%)의 절반 미만을 나타낸다.
더욱이, 고 굴절률의 물질 대부분은 예 10에서와 같이 상위 반사 방지 필름(60)에 더 이상 존재하지 않지만, 하위 반사 방지 필름(20)에서는 존재하는데, 이는 비율(R)이 1보다 크기(이것은 1.4)이기 때문이다.
이 예 1에서, 광 투과율이 예 10의 광 투과율보다 약간 더 낮더라도, 매우 허용가능하게 남아있고, 예 9의 것 이상으로 양호하고; 광 반사율이 예 10의 광 반사율보다 약간 더 높더라도, 매우 허용가능하게 남아있고, 예 9의 것 미만으로 양호하고; 놀랍게도, 태양 인자는 예 10의 값과 거의 유사한 값에서 유지된다.
더욱이, 가장 특히, 투과율에서의 칼라는 예 10에서 더 양호하고(aT * 및 무엇보다도 bT * 값은 절대값보다 낮다), 반사율에서의 칼라는 또한 인식가능하게 더 양호하다(절대값에서 낮은 aRC * 및 bRC *).
예 11에서, 다층 코팅의 조성물은, 중간 층(26 및 62)이 두꺼워진다는 점을 제외하고 예 1과 동일하고, 이것은 각각 한 편으로 고 굴절률의 유전 층(24)과 기능 층(40) 사이, 그리고 다른 한 편으로 기능 층(40)과 고 굴절률의 유전 층(64) 사이의 거리(d2 및 d6)를 증가시키는(14nm까지) 결과를 갖는다.
이것은 광 투과율을 낮추고, 광 반사율을 증가시키고, 또한 태양 인자를 낮추고, 더욱이 다층 코팅 측 상의 반사율에서의 허용가능하지 않은 칼라(aRC * > 5) 및 투과율에서의 적은 선호가능한 칼라(bT * > 4)를 초래한다.
본 발명에 따른 예 2는 본 발명에 따른 기술적 결과를 얻는데 한계를 나타낸다: 이 예 2는, 중간 층(26 및 62)이 두꺼워진다는 점을 제외하고 예 1과 동일하고, 이것은 거리(d2 및 d6)를 증가시키지만(9nm까지), 중간 층(26, 62)이 예 11보다 덜 두꺼워진다는 결과를 갖는다.
예 12에서, 다층 코팅의 조성물은, 중간 층(62)이 두꺼워진다는 점을 제외하고 예 1과 동일하고, 이것은 거리(d6)를 증가시키는(35.5nm)까지 결과를 갖는다.
이것은 광 투과율을 크게 낮추고, 광 반사율을 크게 증가시키고, 또한 태양 인자를 낮춘다.
본 발명에 따른 예 3은, 기술적 결과가 다른 다층 코팅 구조, 즉 언더블록커 필름(30) 및 오버블록커 필름(50)을 갖는 구조가 어떻게 얻어지는 지를 보여준다.
2개의 고 굴절률의 층(24, 64)은 예 1에서와 같이 기능 층(40)에 가까이 유지되는데, 이는 양쪽의 경우에, 5nm의 물리적 두께를 갖는 단일 층(각각 26, 62)이 블록커 필름(30, 50)의 두께가 고려되지 않은 경우, 한 편으로 고 굴절률의 층(24)과 기능 층(40) 사이에, 그리고 다른 한 편으로 기능 층(40)과 고 굴절률의 층(64) 사이에 삽입되기 때문이다.
이들 2개의 고 굴절률의 층(24, 64)은 예 1과 유사한 광학적 두께로 증착되고, 예 1의 경우에서와 같이, 각 흡수 층(24, 64)의 광학적 두께의 비율은 각각 하위 반사 방지 필름(20) 및 상위 반사 방지 필름(60)의 총 광학적 두께(각각 37% 및 20%)의 절반 미만을 나타낸다.
더욱이, 예 1에서와 같이, 고 굴절률의 물질의 대부분은 하위 반사 방지 필름(20)에 있는데, 이는 비율(R)이 1보다 크기 때문이다(이것은 심지어 1.5일 수 있다).
그러한 다층 코팅 구조에 있어서, 광 투과율은 예 1보다 훨씬 더 높고, 광 반사율은 예 1보다 훨씬 더 낮고, 태양 인자는 크게 증가하는데, 이것은 주로 은 층이 얇아서, 방사율이 또한 증가한다는 점으로 인한 것이다.
다층 코팅 측 상의 투과율 및 반사율에서의 칼라는 매우 허용가능하다.
본 발명의 이해를 더 명확히 하기 위해, 예 3에 기초한 예 13이 제안된다.
이 때, 거리(d2 및 d6)는 매우 크게 증가하는데, 이는 하위 반사 방지 필름(20)의 고 굴절률의 층(번호 21이 붙여진 층)이 기재 바로 위에 증착되고, 전체적으로 24nm의 물리적 두께의 물질이 이 층과 기능 층(40) 사이에 삽입되고{언더블록커 필름(30)의 두께를 고려하지 않고}, 상위 반사 방지 필름(60)의 고 굴절률 층(64)이 14nm의 물리적 두께{오버블록커 필름(50)의 두께를 고려하지 않고}를 갖는 중간 층 바로 위에 증착되기 때문이다.
이들 2개의 고 굴절률의 층(21, 64)은 예 3과 유사한 광학적 두께로 증착되고, 예 3의 경우에서와 같이, 각 흡수 층(21, 64)의 광학적 두께의 비율은 각각 하위 반사 방지 필름(20) 및 상위 반사 방지 필름(60)의 총 광학적 두께(각각 37% 및 20%)의 절반 미만을 나타낸다.
표 3은, 예 3과 비교하여, 광 투과율 및 광 반사율이 유지되지만, 이 예 13의 반사에서의 칼라는 aRC * 및 bRC *가 절대값이 너무 높기 때문에 허용가능하지 않다는 것을 보여준다.
예 1 및 대항 예 11의 목적은 기재 상에 표 1에 도시된 대응하는 다층 코팅을 증착함으로써 확인을 위한 것이다.
이들 예에서, 층들은 다음 조건 하에 증착되었다:
Figure 112011068807005-pct00004
이들 예의 저항, 광학적 및 에너지 특성은 아래의 표 5에 주어진다.
이들 예에서, 다층 코팅으로 코팅된 기재의 특성은 다음과 같다:
- R은 Ω/□ 단위의 다층 코팅의 시트 저항을 나타내고;
- TL은 광원(D65) 하에 2°에서 측정된, 다층 코팅으로 코팅된 기재의 % 단위의 가시부에서의 광 투과율을 나타내고;
- aT * 및 bT * 은 광원(D65) 하에 2°에서 측정된 LAB 시스템에서 투과율(a* 및
b*)의 칼라를 나타내고;
- Rc는 박막 다층 코팅으로 코팅된 기재의 측상에서, 광원(D65) 하에 2°에서 측정된, % 단위의 가시부에서의 광 반사율을 나타내고;
- ac * 및 bc * 은 코팅된 기재 측 상에서, 광원(D65) 하에 2°에서 측정된 LAB 시스템에서 투과율(a* 및 b*)의 칼라를 나타내고;
- Rg는 노출된 기재 측상에서, 광원(D65) 하에 2°에서 측정된, % 단위의 가시부에서의 광 반사율을 나타내고;
- ag * 및 bg * 은 노출된 기재 측 상에서, 광원(D65) 하에 2°에서 측정된 LAB 시스템에서 투과율(a* 및 b*)의 칼라를 나타낸다.
이전과 같이, % 단위(CEN 표준)의 인자(g), 또는 태양 인자는 면(3) 상의 박막 다층 코팅을 갖는 4-16(90% Ar)-4 이중-글레이징 구성에 고려되고, 다른 기재는 도 2에 도시된 바와 같이 깨끗한 표준 유리(쌩 고벵으로부터의 PLANILUX)이다.
Figure 112011068807005-pct00005
위의 표 5의 광학적 및 에너지 특성을 표 3의 광학적 특성과 비교함으로써, 예 1 및 11 사이의 차이의 기점으로부터 양호한 대응성이 관찰된다.
증착된 다층 코팅으로 얻어진 광학적 특성은 표 3에 주어진 시뮬레이션과 동일하지 않은데, 이는 특히 실제로 증착된 기능 금속 층의 두께에 관해 완전히 최적화되지 않은 테스트 코팅이기 때문이다.
예 1의 다층 코팅은 본 발명의 정황 내에서 템퍼링가능 코팅인데, 이는 가시부에서의 광 투과율에서의 열 처리로 인한 변동이 5 미만, 심지어 3 미만이기 때문이다.
그러므로, 이들이 나란히 위치될 때, 각각 열 처리를 거치지 않은 이와 동일한 예의 기재로부터 기재 열 처리를 거친 예 1에 따라 기재를 구별하는 것은 어렵다.
더욱이, 본 발명에 따른 다층 코팅의 기계적 세기는 보호 층(69)의 존재로 인해 매우 양호하다.
더욱이, 예 1의 이러한 다층 코팅의 전체적인 화학적 저항은 일반적으로 양호하다.
특허 출원 EP 1 656 328 A2에서 알려진 Si:Zr-주원료의 층(선험적으로 여러개의 그러한 층)의 이용은 또한 해당 고 굴절률의 층(들)이 더 빠르게 증착되도록 하고, 또한 특히 주변의 산화물 또는 질화물 층에 대한 이러한 종류의 층의 매우 양호한 호환가능성으로 인해 매우 양호한 템퍼링 능력이 얻어지도록 한다.
양호한 광학적 특성(특히 가시부에서의 광 투과율)과 함께 은 층의 큰 두께(그러므로 얻어진 낮은 시트 저항)로 인해, 또한 투명 전극 기재를 제작하기 위해 본 발명에 따른 다층 코팅으로 코팅된 기재를 이용하는 것이 가능하다.
이러한 투명 전극 기재는, 특히 예 1의 실리콘 질화물 층(66)을 전도층(특히 1Ω.cm 미만의 저항을 갖는) 및 산화물-주원료의 층으로 대체함으로써 유기 발광 디바이스에 적합할 수 있다. 이러한 층은 예를 들어 주석 산화물, 또는 Al 또는 Ga로 선택적으로 도핑된 아연 산화물로 만들어지거나, 선택적으로 도핑된(예를 들어 Sb 또는 F로) 혼합된 산화물, 특히 인듐 주석 산화물(TIO), 인듐 아연 산화물(IZO), 주석 아연 산화물(SnZn)을 주원료로 할 수 있다. 이러한 유기 발광 디바이스는 조명 디바이스 또는 디스플레이 디바이스(스크린)를 제작하는데 사용될 수 있다.
일반적으로, 투명 전극 기재는 가열 글레이징에, 임의의 전기 변색 글레이징, 임의의 디스플레이 스크린, 또는 광전지 셀(또는 패널), 및 특히 광전지 셀의 투명 후면에 적합할 수 있다.
본 발명은 예로서 위에 설명되었다. 물론, 당업자는 청구항에 의해 한정된 바와 같이 특허 범주에서 벗어나지 않고도 본 발명의 다양한 대안적인 형태를 생성할 수 있다.

Claims (14)

  1. 박막 다층 코팅을 갖는 주 면 상에 제공된 투명 기재(10)로서, 박막 다층 코팅은 은 또는 은을 함유하는 금속 합금을 포함하고, 적외선 또는 태양 복사선에서 반사 특성을 갖는 고유의 금속 기능 층(40)과, 2개의 반사 방지 필름(20, 60)을 포함하고, 상기 필름 각각은 적어도 2개의 유전 층(22, 24, 26; 62, 64, 66, 68)을 포함하고, 상기 기능 층(40)은 2개의 반사 방지 필름(20, 60) 사이에 위치하고,
    각 반사 방지 필름(20, 60)은 2.2 이상인 550nm의 파장에서 측정된 굴절률을 갖는 적어도 하나의 고 굴절률의 유전 층(24, 64)을 포함하고,
    한 편으로, 하위 반사 방지 필름(20)에 존재하거나 또는 위치한 고 굴절률의 유전 층(24) 또는 모든 고 굴절률의 유전 층의 총 광학적 두께(e2)는 이러한 하위 반사 방지 필름(20)의 총 광학적 두께(e20)의 30 내지 75%를 나타내고, 다른 한 편으로 상위 반사 방지 필름(60)에 존재하거나 또는 위치한 고 굴절률의 유전 층(64) 또는 모든 고 굴절률의 유전 층의 총 광학적 두께(e6)은 이러한 상위 반사 방지 필름(60)의 총 광학적 두께(e60)의 10 내지 60%를 나타내며, 각각의 광학 두께는 층의 물리적 두께와, 550nm에서 측정된 굴절률을 곱한 값(product)인, 투명 기재(10)에 있어서,
    각각의 반사 방지 필름(20, 60)은 고 굴절률의 층과 금속 기능 층 사이에 삽입된 층(또는 모든 층)의 10nm를 초과하는 물리적 두께 없이 기능 층(40)과 접촉하거나 또는 이에 가까이 위치한 적어도 하나의 고 굴절률의 유전 층(24, 64)을 포함하며,
    기재로부터 가장 멀리 있는 하위 반사 방지 필름(20)의 최종 층 또는 오버코트(overcoat)는 아연 산화물을 포함하는 산화물-주원료의 습식(wetting) 층인 것을 특징으로 하는 것을 특징으로 하는, 투명 기재.
  2. 제 1항에 있어서, 고 굴절률의 유전 층(24, 64)의 고 굴절률 물질이, 상위 반사 방지 필름(60)에 존재하거나 또는 위치한 고 굴절률의 유전 층(64) 또는 모든 고 굴절률의 유전 층의 총 광학적 두께(e6)에 대한 하위 반사 방지 필름(20)에 존재하거나 또는 위치한 고 굴절률의 유전층(24) 또는 모든 고 굴절률의 유전층의 총 광학적 두께(e2)의 비율(R=e2/e6)이 1.1 이상 5 이하의 값이 되는 방식으로, 금속 기능 층(40)의 하위 유전 필름(20)에 존재하는 것을 특징으로 하는, 투명 기재.
  3. 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 각 고 굴절률의 유전 층(24, 64)의 구성 물질은 티타늄 산화물, 니오븀 산화물 또는 지르코늄 및 알루미늄으로 도핑된 실리콘 질화물로부터 선택되는 것을 특징으로 하는, 투명 기재.
  4. 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상위 반사 방지 필름(60)의 nm 단위의 광학적 두께(e60)에 대한 하위 반사 방지 필름(20)의 nm 단위의 광학적 두께(e20)의 비율(E)은 0.4≤E≤0.9인 것을 특징으로 하는, 투명 기재.
  5. 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 하위 반사 방지 필름(20) 및 상기 상위 반사 방지 필름(60) 각각은 실리콘 질화물을 포함하는 적어도 하나의 유전 층(22, 66)을 포함하는 것을 특징으로 하는, 투명 기재.
  6. 삭제
  7. 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 하위 반사 방지 필름(20)은 적어도 하나의 질화물-주원료의 유전층(22)과, 혼합된 산화물로 만들어진 적어도 하나의 비결정 매끄러운(smoothing) 층을 포함하고, 상기 매끄러운 층은 결정의 상위 습식 층과 접촉하는 것을 특징으로 하는, 투명 기재.
  8. 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 기재로부터 가장 멀리 있는 상위 반사 방지 필름(60)의 최종 층 또는 오버코트는 하나의 산화물을 포함하거나, 티타늄 산화물(TiOx)을 포함하거나, 또는 혼합된 주석 아연 산화물(SnZnOx)을 포함 하는 것을 특징으로 하는, 투명 기재.
  9. 글레이징(1)으로서,
    적어도 하나의 다른 기재와 결합된, 제 1항 또는 제 2항에 기재된 적어도 하나의 기재(10)를 병합하는, 글레이징.
  10. 제 9항에 있어서, 모노리식 유닛, 또는 이중-글레이징 또는 3중-글레이징 또는 적층된 글레이징 유형의 다중-글레이징 유닛으로서 장착되고,
    다층 코팅을 지지하는 적어도 하나의 기재는 벤트(bent)되거나 또는 템퍼링(tempered)되는 것을 특징으로 하는, 글레이징.
  11. 제 9항에 있어서, 이중-글레이징 유닛으로서 장착되고,
    선택도(S≥1.3)를 갖는 것을 특징으로 하는, 글레이징.
  12. 제 1항 또는 제 2항에 있어서,
    가열 글레이징 또는 전기 변색 글레이징 또는 조명 디바이스 또는 디스플레이 디바이스 또는 광전지 패널의 투명 전극을 제작하도록 이용되는 것을 특징으로 하는, 투명 기재.
  13. 제 1항에 있어서, 기능 층(40)은 하위(subjacent) 반사 방지 필름(20)과 기능 층(40) 사이에 위치한 언더블록커(underblocker) 필름(30) 바로 위에 증착되는 것을 특징으로 하는, 투명 기재.
  14. 제 1항에 있어서, 기능 층(40)은 기능 층(40)과 상위(superjacent) 반사 방지 필름(60) 사이에 위치한 오버블록커(overblocker) 필름(50) 바로 아래에 증착되는 것을 특징으로 하는, 투명 기재.

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