JP5620404B2 - 熱特性を有しかつ吸収層を有する多層コーティングを備えた基材 - Google Patents
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Description
4−16(Ar−90%)−4(90%アルゴン及び10%空気を含む、厚さが16mmであるガス充填キャビティーによって分離された2枚の4mmガラスシートからなり、そのシートの1つ、すなわち、建築物に入る太陽光の入射方向を考慮したときに、建築物の内側から最も離れたシートのガス充填キャビティーに向けた面が、単一の機能層を含む多層コーティングにより被覆されている)
の従来のダブルグレージングユニット中の、例えば面3上に取り付けた際に、垂直放射率εNが約2〜3%であり、可視光での光透過率TLが約65%であり、約50%の太陽係数に対して選択率が約1.3〜1.35である、銀をベースとする単一の機能層を含む低-E薄膜多層コーティング(以下において、表現「単一の機能層を含む多層コーティング」により表す)が存在する。
−面2上に薄膜多層コーティング14が配置されており、該薄膜多層コーティング14はガス充填キャビティー15と接触している基材10の内面11上に配置されており、基材10の反対面9は外部空間ESと接触しており、
−面3上に薄膜多層コーティング26が配置されており、該薄膜多層コーティング26はガス充填キャビティー15と接触している基材30の内面29上に配置されており、基材30の反対面31は内部空間ISと接触している。
国際特許出願WO2007/101964の教示より、下部誘電膜120は窒化ケイ素をベースとする誘電層122及び混合酸化物から作られた少なくとも1つの非結晶性スムージング層126を含むことができ、この場合には、混合亜鉛スズ酸化物であって、アンチモンでドーピングされており(上記酸化物はそれぞれZn:Sn:Sb質量比が65:34:1である金属ターゲットを用いて堆積)、上記スムージング層126は上部湿潤層128と接触している。
i)全可視線波長範囲にわたってn/k比が5より大きい誘電性材料から作られた層:Si3N4、SnZnO、ZnO
ii)全可視線波長範囲にわたってn/k比が0<n/k<5であり、バルク状態での電気抵抗率が10-5Ω・cmを超える吸収性材料から作られた層:NbN
iii)赤外線及び/太陽放射に反射特性を有する材料から作られた金属機能層:Ag
−RはΩ/スクエアで多層コーティングのシート抵抗を示し、
−TLは光源D65下に2°で測定される、%での可視線の光透過率を示し、
−aT *及びbT *は光源D65下に2°で測定される、LAB系での透過の色a*及びb*を示し、
−Rcは、薄膜多層コーティングにより被覆された基材の側で、光源D65下に2°で測定される、%での可視線の光反射率を示し、
−ac *及びbc *は、被覆された基材側で、光源D65下に2°で測定される、LAB系での透過の色a*及びb*を示し、
−Rgは、露出した基材側で、光源D65下に2°で測定される、%での可視線の光反射率を示し、
−ag *及びbg *は、露出した基材側で、光源D65下に2°で測定される、LAB系での透過の色a*及びb*を示す。
−SFは太陽係数を示し、すなわち、グレージングをとおして部屋に入っている総太陽エネルギーの総入射太陽放射に対する、百分率としての比を示し、
−Sは可視光での光透過率TLの太陽係数SFに対する比、S=TLVIS/SFに対応する選択率を示し、
−TLは光源D65下に2°で測定される、%での可視線の光透過率を示し、
−aT *及びbT *は光源D65下に2°で測定される、LAB系での透過の色a*及びb*を示し、
−Reは、外部空間ES側で、光源D65下に2°で測定される、%での可視線の外部光反射率を示し、
−ae *及びbe *は、外部空間ES側で、光源D65下に2°で測定される、LAB系での外部反射の色a*及びb*を示し、
−Riは、内部空間IS側で、光源D65下に2°で測定される、%での可視線の内部光反射率を示し、
−ai *及びbi *は、内部空間IS側で、光源D65下に2°で測定される、LAB系での内部反射の色a*及びb*を示す。
−面2上に薄膜多層コーティング14が配置されており、該薄膜多層コーティング14はガス充填キャビティー15と接触している基材10の内面11上に配置されており、基材10の反対面9は外部空間ESと接触しており、
−面5上に薄膜多層コーティング26が配置されており、該薄膜多層コーティング26はガス充填キャビティー25と接触している基材30の内面29上に配置されており、基材30の反対面31は内部空間ISと接触している。
Claims (10)
- フレーム構造(90)により一緒に保持されている少なくとも2つの基材(10,30)を含む多重グレージング(100)であり、前記グレージングは外側空間(ES)及び内側空間(IS)の間を分離しており、前記2つの基材の間に少なくとも1つのガス充填キャビティー(15)があり、1つの基材(10,30)は、前記ガス充填キャビティー(15)に接触している内面(11,29)上にて、赤外線及び/又は太陽放射に反射特性を有する薄膜多層コーティング(14,26)によって被覆されており、前記コーティングは銀又は銀含有合金をベースとする単一の金属機能層(140)及び2つの誘電膜(120,160)を含み、前記誘電膜は各々、窒化ケイ素をベースとする少なくとも1つの誘電層(122,126;162,166)を含み、前記機能層(140)は前記2つの誘電膜(120,160)の間に配置されている多重グレージング(100)において、
前記2つの誘電膜(120,160)は各々、該誘電膜中の2つの誘電層(122,126;162,166)の間に配置された少なくとも1つの吸収層(123,165)を含み、前記吸収層(123,165)は、窒化ニオブNbNをベースとするか又は窒化チタンTiNをベースとし、前記吸収層(123,165)の吸収性材料は前記金属機能層(140)の両側に対称的に配置されていることを特徴とする、多重グレージング(100)。 - フレーム構造(90)により一緒に保持されている少なくとも3つの基材(10,20,30)を含む多重グレージング(100)であり、前記グレージングは外側空間(ES)及び内側空間(IS)の間を分離しており、2つの基材の間に各々少なくとも2つのガス充填キャビティー(15,25)があり、1つの基材(10,30)は前記ガス充填キャビティー(15,25)に接触している内面(11,29)上にて、赤外線及び/又は太陽放射に反射特性を有する薄膜多層コーティング(14,26)によって被覆されており、前記コーティングは銀又は銀含有合金をベースとする単一の金属機能層(140)及び2つの誘電膜(120,160)を含み、前記誘電膜は各々、窒化ケイ素をベースとする少なくとも1つの誘電層(122,126;162,166)を含み、前記機能層(140)は前記2つの誘電膜(120,160)の間に配置されている多重グレージング(100)において、
前記2つの誘電膜(120,160)は各々、該誘電膜中の2つの誘電層(122,126;162,166)の間に配置された少なくとも1つの吸収層(123,165)を含み、前記吸収層(123,165)は、窒化ニオブNbNをベースとするか又は窒化チタンTiNをベースとし、前記吸収層(123,165)の吸収性材料は前記金属機能層(140)の両側に対称的に配置されていることを特徴とする、多重グレージング(100)。 - 少なくとも1つの基材(10,20,30)が、ガス充填キャビティー(15,25)と接触している少なくとも1つの面(11,19,21,29)上に反射防止膜(18,22)を有し、該反射防止膜が、前記ガス充填キャビティー(15,25)に対して、赤外線及び/又は太陽放射に反射特性を有する薄膜多層コーティング(14,26)とは反対側にあることを特徴とする、請求項1又は2記載の多重グレージング(100)。
- 前記吸収層(123,165)の吸収性材料が、合計厚さが0.5〜10nm(これらの値を含む)であることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一項に記載の多重グレージング(100)。
- 下部誘電膜(120)及び上部誘電膜(160)が各々、少なくとも1つの他の元素によりドーピングされている窒化ケイ素をベースとする少なくとも1つの誘電層(122,166)を含むことを特徴とする、請求項1〜4のいずれか一項に記載の多重グレージング(100)。
- 各吸収層(123,165)が、誘電膜中の2つの誘電層(122,124;164,166)の間に配置されており、該誘電層が両方とも、少なくとも1つの他の元素によりドーピングされている窒化ケイ素をベースとすることを特徴とする、請求項1〜5のいずれか一項に記載の多重グレージング(100)。
- 前記機能層(140)が、該機能層(140)と、該機能層の下方にある誘電膜(120)との間に配置されたアンダーブロッカー膜(130)上に直接的に配置されており、及び/又は、前記機能層(140)が、該機能層(140)と、該機能層の上方にある誘電膜(160)との間に配置されたオーバーブロッカー膜(150)の下に直接的に堆積されており、かつ、前記アンダーブロッカー膜(130)及び/又はオーバーブロッカー膜(150)が、物理的厚さe’が0.2nm≦e’≦2.5nmであるニッケル又はチタンをベースとする薄層を含むことを特徴とする、請求項1〜6のいずれか一項に記載の多重グレージング(100)。
- 前記基材から最も遠くに離れている、前記上部誘電膜(160)の最終層又はオーバーコート(168)が、酸化物をベースとすることを特徴とする、請求項1〜7のいずれか一項に記載の多重グレージング(100)。
- フレーム構造(90)により一緒に保持されている少なくとも2つの基材(10,30)を含み、2つの基材の間にガス充填キャビティー(15)がある、請求項1〜8のいずれか一項に記載の多重グレージング(100)を製造するための薄膜多層コーティング(14,26)の使用であって、前記薄膜多層コーティング(14,26)が赤外線及び/又は太陽放射に反射特性を有し、銀又は銀含有合金をベースとする単一の金属機能層(140)及び2つの誘電膜(120,160)を含み、前記誘電膜が各々、窒化ケイ素をベースとする少なくとも1つの誘電層(122,126;164,168)を含み、前記機能層(140)が、前記2つの誘電膜(120,160)の間に配置されており、前記薄膜多層コーティング(14,26)が、少なくとも1つの基材(10,30)の内面(11,29)上に配置される、薄膜多層コーティング(14,26)の使用。
- フレーム構造(90)により一緒に保持されている少なくとも2つの基材(10,30)を含む多重グレージング(100)であり、前記グレージングは外側空間(ES)及び内側空間(IS)の間を分離しており、2つの基材の間に少なくとも1つのガス充填キャビティー(15)があり、1つの基材(10,30)は前記ガス充填キャビティー(15)に接触している内面(11,29)上にて、赤外線及び/又は太陽放射に反射特性を有する薄膜多層コーティング(14,26)によって被覆されており、前記コーティングは銀又は銀含有合金をベースとする単一の金属機能層(140)及び2つの誘電膜(120,160)を含み、前記誘電膜は各々、窒化ケイ素をベースとする少なくとも1つの誘電層(122,126;164,168)を含み、前記機能層(140)は前記2つの誘電膜(120,160)の間に配置されている、請求項1〜8のいずれか一項に記載の多重グレージング(100)の製造方法であって、
前記2つの誘電膜(120,160)が各々、該誘電膜中の2つの誘電層(122,126;162,166)の間に配置された少なくとも1つの吸収層(123,165)を含み、前記吸収層(123,165)は、窒化ニオブNbNをベースとするか又は窒化チタンTiNをベースとし、前記吸収層(123,165)の吸収性材料を前記金属機能層(140)の両側に対称的に配置させることを特徴とする、多重グレージング(100)の製造方法。
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