JP2003002691A - 低反射基板およびその製造方法 - Google Patents
低反射基板およびその製造方法Info
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Abstract
曲げ加工及び/又は強化加工を施しても白濁を生じるこ
とがない高可視光線透過率及び膜面側の低可視光線透過
率を有する断熱特性、電波低反射性に優れた低反射基板
を得ること。 【解決手段】 透明基板表面に、第1層として膜厚が1
5〜60nmのチタニア膜、第2層として膜厚が1〜9
nmの窒化クロム膜、第3層として膜厚が20〜100
nmで屈折率が1.3〜2.2を有する透明保護膜が順
次積層された反射防止膜を被覆すること。
Description
ディスプレー用等に好適な低反射基板およびその製造方
法に関する。
量の増加、フレアー、ゴーストの防止、或いは分光透過
率の調整等に広く用いられてきた。その反射防止膜とし
ては、ガラスの上にMgF2の単層膜を成膜させて無反
射ガラスを得る方法が従来主に行われてきたが、単層膜
では十分な反射率低減を得る事が難しい事から、現在は
多層構成の反射防止膜が一般に使用されている。多層反
射防止膜に関する理論としては、J.T.Cox and G.H
ass氏のPhysics of Thin Film,JOSの文献による
と、図1に示す2層系においては、n1 2×ng=n2 2×
nO 、n2=n1×√n2(ここで、n0:空気の屈折率、
n1:上層の屈折率、n2:下層の屈折率、n g:ガラス
基板の屈折率を示す)、また、図2に示す3層系におい
ては、n1×n3=n2 2=ng、n1 2×ng=n3 2 n
2=2.1〜2.2、(ここで、n3:最下層の屈折率を
示す)という理論値が示されているが、実際は基板がガ
ラスのような低屈折率のものに反射防止膜を被覆し無反
射にする場合、上式に一致する屈折率を有する物質が存
在しなかったり、反射率の波長特性が中心波長の両端で
急激に高くなり(”Vコート”と呼ばれている)、膜厚
が少しでも変化すると目的の反射率が得られない事から
実際には非常に困難とされている。
のものが一般に生産されており、例えば、導電性透明材
料としての第1層、二酸化珪素を有する第2層、入/4
より小さい光学厚さを有する第3層(入は反射防止被膜
の中心波長であり420nm〜1600nm)、二酸化
珪素を有する第4層よりなる反射防止被膜に関して特開
平11−271507号公報等に開示されている。
例えば酸素窒化物薄膜としての第1層、窒素酸化物薄膜
としての第2層よりなる可視光反射率が20%以下であ
る可視光低反射型熱線遮蔽ガラスに関して特開平7−2
91670号公報、第1層として膜厚が30〜70nm
であるSnOx膜、第2層として膜厚が2〜7nmのC
rNx、第3層として膜厚が10〜60nmであるSn
Ox膜可視光線透過率が55〜68%である居住性を高
めたガラス板に関して特開平8−231246号公報等
に開示されている。
関しては、幾何学的膜厚が5〜25nmの光吸収膜、幾
何学的膜厚が70〜110nmのシリカ膜よりなる光吸
収性反射防止体に関して特開平9−156964号公
報、ケイ化物、光吸収膜、低屈折率膜よりなる光吸収性
反射防止膜付き有機基体に関して特開平10−2305
58号公報、第1の光吸収膜、微吸収性高屈折率膜、第
2の光吸収膜、透明低屈折率膜よりな光吸収性反射防止
膜に関して特開平2000−193801号公報等に開
示されている。
開平11−271507号公報の反射防止膜は膜厚が2
00nm以上と厚く、これらの膜を被膜したガラス基板
を熱処理により曲げ加工を行った場合にヘーズ(白濁)
が生じる。このヘーズの部分をSEM等の顕微鏡で観察
したところ微細な膜の割れが生じており、膜が厚い事に
よりガラスとの膨張率の差を吸収できずに膜が割れた事
が判明した。さらに、従来の無反射ガラスは、断熱特性
及びプライバシー性能がほとんど無く、逆に透過率が高
く熱線を通過させ省エネルギーという点で非常に不利で
あった。
の可視光低反射型熱線遮蔽ガラスは、可視光線透過率が
約62%以下と低く、さらにガラス面側及び膜面側の可
視光線反射率が非常に高いという問題があり、また、特
開平8−231246号公報のガラスは可視光線透過率
は比較的高いが可視光線反射率も20%前後と非常に高
いという問題がある。
−156964号公報、特開平10−230558号公
報、特開平2000−193801号公報の反射防止膜
は、抵抗値が1kΩ/□以下という問題がある。
に鑑み種々研究した結果、光吸収体であるCrN膜が低
反射膜として最適な特性を有している事を見い出し、最
適な膜構成を検討した結果、透明基板の表面に高屈折率
のTiO2膜を成膜し、その上層にCrN膜を非常に薄
く成膜し、さらにその上層に低屈折率又は中屈折率の酸
化物膜及び/又は窒化物膜を成膜する事により、これま
でに反射防止膜として使用された事のない全く新しい膜
構成の低反射基板およびその製造方法を見い出した。
板表面に、第1層として膜厚が15〜60nmのチタニ
ア膜、第2層として膜厚が1〜9nmの窒化クロム膜、
第3層として膜厚が20〜100nmで屈折率が1.3
〜2.2を有する透明保護膜が順次積層された反射防止
膜を被覆してなることを特徴とする。
は透明酸化物膜及び/又は透明窒化物膜の単層又は積層
よりなることを特徴とする。
透過率が70〜85%、膜面側可視光線反射率が5%以
下であることを特徴とする。
防止膜の表面抵抗値が1kΩ/□以上であることを特徴
とする。
透明基板表面に、スパッタリング法により、第1層とし
て膜厚が15〜60nmのチタニア膜、第2層として膜
厚が1〜9nmの窒化クロム膜、第3層として膜厚20
〜100nmで屈折率が1.3〜2.2を有する透明保
護膜が順次積層された反射防止膜を被覆することを特徴
とする。
は、低反射基板を加熱し、曲げ加工及び/又は強化加工
をを施すことを特徴とする。
表面に、第1層として膜厚が15〜60nmのチタニア
膜、第2層として膜厚が1〜9nmの窒化クロム膜、第
3層として膜厚20〜100nmで屈折率が1.3〜
2.2を有する透明保護膜が順次積層された反射防止膜
を被覆してなることを特徴とする。
TiO2膜を成膜し、その上層にCrN膜を1〜9nm
の範囲で非常に薄く成膜し、さらにその上層に低屈折率
又は中屈折率の保護膜を積層する事により、これまでに
反射防止膜として使用された事のない全く新しい膜構成
を有する低反射基板を見い出したものであり、この膜構
成は、従来の膜構成と異なり、3層構造と非常に簡単な
膜構成であるとともに、全膜厚が170nm以下と非常
に薄い膜厚のものである。これらの低反射基板は、全膜
厚が170nm以下と非常に薄いので、曲げ加工及び/
又は強化加工のための熱処理を施しても膜の割れが生じ
ることがなく、白濁(ヘーズ)は生じない。
線を幅広く遮断するので、低反射基板に赤外線遮蔽によ
る断熱性能を付加する事が可能である。該CrN膜の屈
折率は1.7〜2.8、好ましくは1.8〜2.3の範
囲が低反射率を得る上ではよい。
膜の膜厚は15〜60nmの範囲とする必要があるが、
15nm未満、60nmを越えると透過率が低くなり反
射率が高くなり好ましくなくなる。また、第2層目の窒
化クロム膜の膜厚は1〜9nmの範囲とする必要がある
が、1nm未満では反射率が増加し、9nmを越えると
反射率の増加と透過率が低下してくるので好ましくなく
なる。さらに、第3層目の透明保護膜の膜厚は、該保護
膜が透明金属酸化物膜である場合には、25〜100n
mとする必要があり、25nm未満では保護膜としての
機能を果たさなくなると共に反射率が増加し、100n
mを越えると透過率の低下と反射率の増加が起こり好ま
しくなくなる。また、該保護膜が透明窒化物膜の場合に
は、20〜100nmとする必要があり、20nm未満
では保護膜としての機能を果たさなくなり、100nm
を越えると透過率の低下と反射率の増加が起こり好まし
くなくなる。
の場合には、屈折率が1.3〜2.2、窒化物膜の場合
には、屈折率が1.5〜2.2とする必要があり、例え
ば、SnO2、ZnO、Si02、ZnSnO、ZnAl
O、Al2O3、Ta2O5等の透明金属酸化物、Si
3N4、 Al3N4等の透明窒化物等を用いることができ
る。なお、これらは、透明窒化物膜/透明酸化物膜又は
透明酸化物膜/透明窒化物膜等それぞれ積層し組みあわ
せて使用することもできるが、その場合にも透明保護膜
の膜厚は20〜100nmの範囲とすることが重要であ
る。なお、紫外線の遮蔽性能を上げたい場合には、紫外
線を吸収するZnO等の膜を選択することが好ましい。
膜の耐薬品性、耐摩耗性を向上させる場合はSnO2や
Ta2O5を選択するのが好ましい。また、これらの効果
を同時に得る為にこれらの膜を組み合わせる事も可能で
ある。
可視光線透過率が70〜85%、膜面側可視光線反射率
が5%以下であることを特徴とするが、基板面側の反射
率も下げたい場合は、第3層の透明保護膜としてSiO
2の様な低屈折率のものを選択するのが好ましい。な
お、得られた低反射基板の光学特性については、透明フ
ロートガラス3mm厚さ(FL3)換算で可視光線透過
率、膜面側可視光線反射率を示す。
膜の表面抵抗値が1kΩ/□以上であることを特徴とす
るものであり、表面抵抗率が1kΩ/□以上と高いの
で、建物の外装窓にそれらの膜を使用した場合に該窓を
用いたビル周辺のTVゴーストの発生や、或いは自動車
用窓として用いた場合に自動車用ガラスアンテナのアン
テナ性能を悪化させる等の電波障害を起こすことがな
く、電波透過性等の利点を有する。この性能は他の金属
膜、窒化物膜には全く見られない特性である。
板表面に、スパッタリング法により、第1層として膜厚
が15〜60nmのチタニア膜、第2層として膜厚が1
〜9nmの窒化クロム膜、第3層として膜厚が20〜1
00nmで屈折率が1.3〜2.2を有する透明保護膜
が順次積層された反射防止膜を被覆することを特徴とす
る。
なく、ガラス、プラスチック等を用いる事が可能であ
り、例えば、ガラス基板の場合には、ソーダ石灰珪酸塩
ガラス組成よりなる汎用のフロート板ガラスが建築用、
自動車用ガラス用等として一般に用いられるが、この組
成に限定されるものではない。
率を得るためにスパッタリング法が好ましい。また、電
源装置は特に限定するものではないが、DC、RF、パ
ルス電源等を用いても良い。さらに、SiO2、Si3N
4についてはMF電源のツインマグカソード(ライボル
ト社)やディュアルマグカソード(アルデンヌ社)、C
−MAG(BOC社)を用いることもできる。
iターゲットを用いて酸素100%の雰囲気で成膜する
事が基本となるが、成膜速度を上げるため為に金属状態
となる直前までArを増加する事は可能である。但し、
プラズマが不安定となる事からプラズマモニターや微量
流量調整装置が必要である。また、安定性を高める為に
雰囲気ガスとしてAr、酸素の他に窒素ガスを50%程
度使用して成膜しても構わないが、窒素を添加すると屈
折率が低下するし反射防止膜の性能が悪くなる為、あま
り好ましくない。また、成膜速度を上げる為にTiO2
ターゲットを用いてAr雰囲気で成膜することもでき
る。
ットを用いて窒素100%雰囲気で成膜する事を基本と
する。さらにCrNの窒化度(窒素との化合度合い)は
Crターゲットに加える電力の値によっても変化するの
で、膜の特性を確認しながら窒素ガス量を変化させてい
く必要がある。スパッタ設備にもよるが電力(kW)×
約10sccmの窒素量が基本となる。また、成膜の雰
囲気としてArを添加する事も可能であるが、屈折率が
急激に高くなるので注意する必要がある。また、低反射
基板の電波透過性(一般に、膜の電波透過性はシート抵
抗値が1kΩ/□以上あるものを指す)を向上させる為
に窒素の量を多くしたり、微量の酸素を雰囲気ガス中に
導入する事も可能であり、抵抗値は1MΩ/□以上に上
げる事も可能である。なお、Cr金属の膜特性が大きく
変化しない範囲でNi,Co,Fe等を含有させる事も
できる。
び/又は窒化物膜は、酸化物膜の場合の屈折率が1.3
〜2.2、窒化物膜の場合の屈折率が1.5〜2.2の
範囲内の膜であるならば、特に限定されるものではな
い。なお、低反射基板を加熱し、曲げ加工及び/又は強
化加工を施す場合には、曲げ加工したあとの低反射基板
の光学特性の変化を小さくしたい場合には、熱に強いS
i3N4等の膜を選択する事が好ましい。
る。但し、本発明は係る実施例に限定されるものではな
い。なお、実施例及び比較例で得られた低反射基板の品
質評価は下記に示す方法で評価した。
計(エプソン社製)により測定。
(%)、可視光線膜面側反射率(%)(可視光線の波長
範囲:380〜780nm)、紫外線透過率(%、波長
範囲:200〜380nm)及び日射透過率(%、波長
範囲:780〜2500nm)は、U4000型自記分
光光度計(日立製作所製)を用いて測定。
て厚さ3mmのフロ−ト板ガラス(FL3)を用い、B
OC社のプラナーカソード及びC−MAG(シリドリカ
ルマグネトロン)カソード装置を使用し、第1層目のT
iO2膜をTi(純度99.9以上)ターゲットを用い
て微量のプロセスガス(Ar5%、酸素95%)を導入
し成膜を行った。次に、第2層目のCrN膜をCrター
ゲット(純度99.9以上)を用いて窒素雰囲気で成膜
しCrNで成膜した。次に、第3層目のSnO2膜をS
nターゲット(純度99.9%以上)を用いて微量のプ
ロセスガス(Ar5%、酸素95%)を導入し成膜を行
った。
いて成膜するチタニア膜、窒化クロム膜、透明保護膜を
成膜する場合のターゲット、プロセスガス条件と真空
度、電力等の成膜条件を示す。
評価した結果、表2に示すように、可視光線透過率は全
て70%以上と高く、膜面側可視光線反射率は全て5%
以下と非常に低く、日射透過率も70%以下と断熱性能
を有し、表面抵抗率はいずれも40kΩ/□以上と電波
透過性を有し、非常にバランスのとれた低反射ガラスが
得られ、また、外観品質も良好であった。
リヤーに膜面を上にして載置し、大気中−650℃に保
持されたマッフル炉に入れる。その後10分間保持(通
常曲げ加工条件)した後、ガラスサンプルをキャリヤー
ごと炉外へ取り出し、大気中−室温(25℃)で除冷を
行った。なお、成膜後の低反射ガラス基板の一部のサン
プルは、光学特性を測定するために、平坦なステンレス
製キャリヤー上にガラスサンプルを載置し、曲げ加工は
行なわなかった。曲げ加工後の品質は、表2に目視評価
結果を示すように、白濁(ヘーズ)発生等の問題もなく
全て良好であった。
と同様にして表2の膜構成になるように成膜した。得ら
れた膜付きガラス基板の性能を実施例と同様に評価した
結果、表2に示すように何れも日射透過率が80%以上
と高く断熱性がなく、また、膜付きガラス基板を加熱し
曲げ加工を施した曲げガラス基板については、白濁(ヘ
ーズ)が生じた。
覆した低反射基板を加熱し、曲げ加工及び/又は強化加
工を施しても白濁を生じることがないとともに、高可視
光線透過率を有し、且つ膜面側可視光線透過率が極めて
低く、さらに断熱特性、電波低反射性等も兼備してお
り、建築用窓、車両用窓、ディスプレー用等の種々の用
途に使用できる著効を奏する。
Claims (6)
- 【請求項1】透明基板表面に、第1層として膜厚が15
〜60nmのチタニア膜、第2層として膜厚が1〜9n
mの窒化クロム膜、第3層として膜厚が20〜100n
mで屈折率が1.3〜2.2を有する透明保護膜が順次
積層された反射防止膜を被覆してなることを特徴とする
低反射基板。 - 【請求項2】透明保護膜は透明酸化物膜及び/又は透明
窒化物膜の単層又は積層よりなることを特徴とする請求
項1記載の低反射基板。 - 【請求項3】可視光線透過率が70〜85%、膜面側可
視光線反射率が5%以下であることを特徴とする請求項
1又は2記載の低反射基板。 - 【請求項4】反射防止膜の表面抵抗値が1kΩ/□以上
であることを特徴とする請求項1乃至3のいづれかに記
載の低反射基板。 - 【請求項5】透明基板表面に、スパッタリング法によ
り、第1層として膜厚が15〜60nmのチタニア膜、
第2層として膜厚が1〜9nmの窒化クロム膜、第3層
として膜厚が20〜100nmで屈折率が1.3〜2.
2を有する透明保護膜が順次積層された反射防止膜を被
覆することを特徴とする低反射基板の製造方法。 - 【請求項6】透明基板表面に反射防止膜を被覆した低反
射基板を加熱し、曲げ加工及び/又は強化加工を施すこ
とを特徴とする請求項5記載の低反射基板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001184334A JP2003002691A (ja) | 2001-06-19 | 2001-06-19 | 低反射基板およびその製造方法 |
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ID=19024112
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Country Status (1)
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- 2001-06-19 JP JP2001184334A patent/JP2003002691A/ja active Pending
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