JPH04243935A

JPH04243935A - 電波低反射の熱線反射ガラスおよびその製法

Info

Publication number: JPH04243935A
Application number: JP1021391A
Authority: JP
Inventors: Nobuyuki Takeuchi; 伸行竹内; Toshiaki Ito; 俊明伊藤; Masaya Takayama; 高山　昌也; Koichi Furuya; 孝一古屋; Hiroshi Nakajima; 弘中嶋; Hironobu Iida; 裕伸飯田
Original assignee: Central Glass Co Ltd
Current assignee: Central Glass Co Ltd
Priority date: 1991-01-30
Filing date: 1991-01-30
Publication date: 1992-09-01

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、冷暖房効果を向上させ
るようにするとともに比較的低い可視光透過率を有する
ものであって、しかも電波の透過が比較的よく耐摩耗性
も優れた単板で充分使用できる電波低反射熱線反射ガラ
ス、特に建築用、ことに高層建築物（　ビルディングな
ど）等の窓ガラスとして有用であって、ビル周囲の住宅
等においてＴＶでのゴースト等の電波障害を低減できて
より居住性を高め得る断熱性能を有する無色あるいは有
色の電波低反射の熱線反射ガラスおよびその製法に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】従来、スパッタ法での被膜による多層薄
膜を有し使用可能といわれる単板の熱線反射ガラスとし
ては、例えば、ガラス基板（　以下Ｇという）の表面上
に、例えばＴｉＯ２　（１０〜２００Å）／ＴｉＮ（１
５０〜８００Å）／ＴｉＯ２　（１０〜２００Å）の３
層膜を物理蒸着法により形成し、可視スペクトル帶域で
４０％以下の透過率である熱線反射ガラスの製法が特開
昭６３ー１９０７４２号公報に、ＴｉＯ　／ＴｉＮ　／
Ｇ等の２層膜を被膜したものが特開昭６０ー４３４８１
　号公報等に、ＳｎＯ　／ＣｒＮ　／ＳｎＯ　／Ｇの３
層膜を被膜したものが特開昭６０ー３６３５５　号公報
等に、ＳｉＯ　／ＴｉＯ　／ＴｉＮ　／ＴｉＯ　／Ｇの
４層膜を被膜したものが特開昭６２ー２１６９４３号公
報等にそれぞれ記載され知られている。これらは日射透
過率を低くし、日射の反射率を高めて断熱性を強め、か
つある程度の耐久性等をもたせるために、銀などの貴金
属に替えてＳＵＳ　、ＴｉＮ　、ＣｒＮ　等の導電性材
料をかなり厚く被膜したものとなっている。その結果前
記熱線反射ガラスの電波反射率は高くなって、例えば高
層建築物の窓ガラスとして施工した際に、電波反射率が
周波数５００　ＭＨｚにおいて２５％程度である鉄筋コ
ンクリートより高い電波反射体となるものであった。

【０００３】

【発明が解決しようとする問題点】前述したような例え
ば特開昭６０−４３４８１号公報等に記載の熱線反射ガ
ラスはいずれも高層建築物の窓ガラスとして施工した際
に電波反射体となって、例えば放送局からの電波を反射
することとなり、高層建築物と放送局の間にある一般家
庭などで見ているＴＶにおいて、前記高層建築物からの
反射の電波と前記放送局からの直接の電波との電波強度
差が少ないとゴースト現象を発現することとなり、こと
に導電性の高いものまたは膜厚を厚くした膜を熱線反射
ガラスに用いて断熱性を高めようとすればするほど電波
反射の強度が高まることとなり、ＴＶにおけるゴースト
の発現が起き易いものとなるものであった。

【０００４】従って断熱性能を保持しつつかつ電波反射
率が低くゴースト等の電波障害を低減でき、しかも単板
で使用して充分耐久性等がある積層膜を有するという条
件を満足する単なる熱線反射ガラスに替わるもの、こと
に高層建築物用として有用なものは未だないと言わざる
を得ないものであった。

【０００５】

【問題点を解決するための手段】本発明は、従来のかか
る欠点に鑑みてなしたものであって、特定膜厚でかつ特
定の異なる表面抵抗を有する金属薄膜、金属炭化薄膜、
金属窒化薄膜およびこれらを主成分とする複合薄膜のい
ずれか１種を介して、特定の膜厚でなる特定の表面抵抗
を有する特異な透明誘電体薄膜で挟持積層して巧みに組
み合わせ、電波反射率をＴＶ電波帯、ことに周波数５０
０ＭＨｚ付近において建築物の主要構造物である鉄筋コ
ンクリートの電波反射率より低くできて、ガラス基板の
値にかぎりなく近づくような電波低反射となり、しかも
断熱性能を保持しつつ、単板で充分使用することができ
る耐久性を有する無色あるいは有色の電波低反射の熱線
反射ガラスおよびその製法を提供するものである。

【０００６】すなわち、本発明は、透明ガラス基板の表
面に、ガラス面より第１層として、膜厚が１０〜１００
Åの金属窒素酸化薄膜を積層し、該第１層上に第２層と
して、膜厚が１０〜１０００Åでかつ表面抵抗が１ｋΩ
／□以上の金属薄膜、金属炭化薄膜、金属窒化薄膜およ
びこれらを主成分とする複合薄膜のいずれか１種を積層
し、さらに該第２層上に第３層として、膜厚が２１０〜
１０００Åの金属酸化薄膜を積層して成り、該被覆積層
薄膜層が１ｋΩ／□以上の高抵抗薄膜であって、しかも
該被覆積層薄膜層を有する透明ガラス基板の可視光線透
過率が６０％以下ならびに日射透過率が５５％以下であ
ることを特徴とする電波低反射の熱線反射ガラス。

【０００７】ならびに前記第１層の金属窒素酸化薄膜と
しては、ＴａＮＯ、ＴｉＮＯ、ＳＵＳＮＯ、ＳｎＮＯお
よびこれらを主成分とする複合薄膜から１種を選択する
ことを特徴とする上述した電波低反射の熱線反射ガラス
。

【０００８】また、前記第２層の金属薄膜、金属炭化薄
膜、金属窒化薄膜としては、Ｃｒ、Ｔａ、Ｚｒ、ＳＵＳ
、ＳｉＣ、ＴｉＣ、ＴｉＮ、ＣｒＮ、ＴａＮ、ＺｒＮお
よびこれらを主成分とする複合薄膜から１種を選択する
ことを特徴とする上述した電波低反射の熱線反射ガラス
。あるいは、前記第１層の金属窒素酸化薄膜としては、
ＴａＮＯ、ＴｉＮＯ、ＳＵＳＮＯ、ＳｎＮＯおよびこれ
らを主成分とする複合薄膜から１種を選択しかつ前記第
２層の金属薄膜、金属炭化薄膜、金属窒化薄膜としては
、Ｃｒ、Ｔａ、Ｚｒ、ＳＵＳ、ＳｉＣ、ＴｉＣ、ＴｉＮ
、ＣｒＮ、ＴａＮ、ＺｒＮおよびこれらを主成分とする
複合薄膜から１種を選択することを特徴とする上述した
電波低反射の熱線反射ガラス。

【０００９】さらに、前記第３層の金属酸化薄膜として
は、ＴａＯ、ＴｉＯおよびこれらを主成分とする複合酸
化薄膜から１種を選択することを特徴とする上述した電
波低反射の熱線反射ガラス。あるいは、前記第１層の金
属窒素酸化薄膜としては、ＴａＮＯ、ＴｉＮＯ、ＳＵＳ
ＮＯ、ＳｎＮＯおよびこれらを主成分とする複合薄膜か
ら１種を選択しかつ前記第３層の金属酸化薄膜としては
、ＴａＯ、ＴｉＯおよびこれらを主成分とする複合酸化
薄膜から１種を選択することを特徴とする上述した電波
低反射の熱線反射ガラス。あるいは、前記第２層の金属
薄膜、金属炭化薄膜、金属窒化薄膜としては、Ｃｒ、Ｔ
ａ、Ｚｒ、ＳＵＳ、ＳｉＣ、ＴｉＣ、ＴｉＮ、ＣｒＮ、
ＴａＮ、ＺｒＮおよびこれらを主成分とする複合薄膜か
ら１種を選択しかつ前記第３層の金属酸化薄膜としては
、ＴａＯ、ＴｉＯおよびこれらを主成分とする複合酸化
薄膜から１種を選択することを特徴とする上述した電波
低反射の熱線反射ガラス。あるいは、前記第１層の金属
窒素酸化薄膜としては、ＴａＮＯ、ＴｉＮＯ、ＳＵＳＮ
Ｏ、ＳｎＮＯおよびこれらを主成分とする複合薄膜から
１種を選択しかつ前記第２層の金属薄膜、金属炭化薄膜
、金属窒化薄膜としては、Ｃｒ、Ｔａ、Ｚｒ、ＳＵＳ、
ＳｉＣ、ＴｉＣ、ＴｉＮ、ＣｒＮ、ＴａＮ、ＺｒＮおよ
びこれらを主成分とする複合薄膜から１種を選択しかつ
前記第３層の金属酸化薄膜としては、ＴａＯ、ＴｉＯお
よびこれらを主成分とする複合酸化薄膜から１種を選択
することを特徴とする上述した電波低反射の熱線反射ガ
ラス。

【００１０】さらにまた、透明ガラス基板の表面に、ガ
ラス面より第１層として、Ｏ２　、Ｎ２　、Ｎ２　Ｏ、
Ａｒガスの少なくとも２種以上のガス雰囲気中において
膜厚が１０〜１００Åの金属窒素酸化薄膜を、次いで第
１層上に第２層として、Ａｒ、Ｎ２　ガスの少なくとも
１種以上のガス雰囲気中において膜厚が１０〜１０００
Åでかつ当該薄膜の表面抵抗が１ｋΩ／□以上である金
属薄膜、金属炭化薄膜、金属窒化薄膜およびこれらを主
成分とする複合薄膜のいずれか１種を、さらに該第２層
上に第３層として、Ｏ２　ガス雰囲気中において膜厚が
２１０〜１０００Åの金属酸化薄膜を、それぞれスッパ
タ蒸着法にて被覆積層薄膜として形成し、該被覆積層薄
膜の表面抵抗が１ｋΩ／□以上の高抵抗薄膜となして、
しかも該被覆積層薄膜を有する透明ガラス基板が可視光
線透過率が６０％以下ならびに日射透過率が５５％以下
となるようにしたことを特徴とする電波低反射の熱線反
射ガラスの製法をそれぞれ提供するものである。

【００１１】ここで、膜厚１０〜１０００Åでかつ表面
抵抗が１ｋΩ／□以上である金属薄膜、金属炭化薄膜、
金属窒化薄膜およびこれらを主成分とする複合薄膜から
１種の薄膜を介して、表面抵抗が１０４　ＭΩ／□以上
の誘電体薄膜で挟持するように積層することとしたのは
、電波反射率が周波数５００ＭＨｚにおいて２５％程度
である鉄筋コンクリートの電波反射率より低くてよりガ
ラス板に近い電波反射率となるものを得るためには、表
面抵抗が１ｋΩ／□以上のものが必要であることがわか
ったためであって、少なくとも表面抵抗が１ｋΩ／□以
上である金属薄膜、金属炭化薄膜、金属窒化薄膜および
これらを主成分とする複合薄膜から１種の薄膜を用いる
こととし、またこの表面抵抗値を有するものだけを被膜
しても日射透過率が５５％以下、可視光透過率６０％以
下とならず要求されている断熱性能を満たすことができ
ないので、前記２５％以下とする電波反射率を悪化しな
いようにしつつ日射透過率を調節するために、表面抵抗
が１０４　ＭΩ／□以上である高抵抗の誘電体薄膜を用
いることとし、これら三層を巧みに組み合わせて干渉せ
しめ、ブルー、グリーンまたはゴールド色調等をも発現
させ、前記可視光透過率、日射透過率ならびに可視光反
射率を達成することができるものである。

【００１２】また、表面抵抗が１ｋΩ／□以上の金属薄
膜としては膜厚５０Å以下のＣｒ、Ｔａ、ＳＵＳおよび
１３０Å以下のＺｒの各薄膜、より好ましくは１０〜３
０ÅのＳＵＳ薄膜であり、表面抵抗が１ｋΩ／□以上の
金属炭化薄膜としては膜厚１０００Å以下のＳｉＣ薄膜
および膜厚７０〜１０ÅのＴｉＣ薄膜であり、表面抵抗
が１ｋΩ／□以上の金属窒化薄膜としては膜厚１４０Å
以下のＣｒＮＸ　、ＴｉＮＸ　、９００Å以下のＺｒＮ
Ｘ　、１０００Å以下のＴａＮＸ　およびこれらを主と
する膜厚１０００Å以下の複合薄膜のいずれか１種、よ
り好ましくは６０〜１２０ÅのＴｉＮｘ　（　０　＜ｘ
≦１）薄膜である。

【００１３】さらにガラスに被着する第１層では膜厚が
１０〜１００Åの金属窒素酸化薄膜、例えばＴａＮＯ、
ＴｉＮＯ、ＳＵＳＮＯ、ＳｎＮＯの各薄膜およびこれら
を主成分とする複合薄膜から１種、ならびに最外側表面
である第３層では膜厚が１０００〜２１０Åの金属酸化
薄膜、例えばＴｉＯ、ＴａＯの各薄膜を用いることとし
たのは、いずれも表面抵抗が１０４　ＭΩ／□以上の誘
電体薄膜であるためであるだけではなく、該両透明誘電
体薄膜によって、前述の金属薄膜、金属炭化薄膜、金属
窒化薄膜およびこれらを主成分とする複合薄膜のいずれ
か１種の薄膜層を挾み込むようにしたのは、前記第１層
でガラス基板自身との密着力はもとより、ガラス基板と
第２層との密着力をより強めることとなり、最外側表面
である第３層では耐薬品性、耐摩耗性等耐久性をより向
上せしめ、特異な前記電波特性あるいは前記光学特性を
有することに加えて反射率を多少向上させて美しい鏡面
効果を得るための透過膜となし、該各薄膜層ならびに全
薄膜積層においても、耐薬品性ならびに耐摩耗性等耐久
性をより充分にあるものとなすためである。なお、最外
側表面のみにさらに各種耐摩耗性等耐久性ならびに耐薬
品性の薄膜を被覆しても耐久性等がさらに向上するよう
にしたり、あるいは無反射性薄膜等を被覆してもよいも
のであることは言うまでもない。

【００１４】さらにまた成膜の製法をスパッタ蒸着法と
しては、スパッタ法が最も優れた方法であって耐摩耗性
等上必要であり、例えばディッピング法等では耐摩耗性
において非常に弱いものとなり単板での使用に適さない
ものとなるためである。

【００１５】また、光学特性のうち、可視光透過率を６
０％以下としたのは、建築物において当該電波低反射熱
線反射ガラスを施工した際に、建築物内外におけるガラ
スを介しての透視性に関して設定したものであり、例え
ばことに夜間あるいは昼間において建築物内部が見え過
ぎて居住性が悪化するようなことになるためであり、好
ましくは４０％以下である。さらにブルーならびにゴー
ルド、グリーン系色調等となることは、前述の透視性に
加え熱吸収性を発現させて断熱性能に寄与せしめること
と建築物がその周囲に対してより好ましいものとなるも
のであり、しかも可視光反射率を１０％以上となして、
前記色調をより鮮やかなものにして景観として環境に寄
与するものとしかつ多少鏡的にして透視性を持たせしめ
るようになるものであり、好ましくは１０〜４０％程度
である。さらにまた日射透過率を５５％以下としたのは
、５５％を超えると例えば冷暖房効果を向上させ、建築
物内部の住居性を向上させるために必ずしも役立たせた
とは言い難く、断熱効果が少ないものとなって熱線反射
ガラスとは言い難くなるためであり、好ましくは４５％
以下である。

【００１６】さらに前記被覆積層薄膜の表面抵抗を１ｋ
Ω／□以上の高抵抗薄膜としたことにより、周波数５０
０ＭＨｚにおける電波反射率を２５％以下であって、被
膜なしのガラスにおける電波反射率８％程度にかぎりな
く近づけることができるものとなって、周波数１００〜
１０００ＭＨｚの間すなわちＴＶ電波帯において電波の
反射を少なくすることができるものであって、建築物こ
とに高層の建築物における主要構造体である鉄筋コンク
リートが有する周波数５００ＭＨｚでの電波反射率２５
％より、熱線反射ガラスにおける電波反射率を小さな値
にすることによって、前述したように従来の熱線反射ガ
ラスを施工した高層建築物等の周辺では一般家庭におい
てＴＶ映像に発現しやすいゴースト現象を低減できるこ
ととなるものであることがわかり、前記周波数５００Ｍ
Ｈｚでの電波反射率を２５％以下にするには少なくとも
膜の表面抵抗すなわちシート抵抗が１ｋΩ／□以上必要
であり、より好ましくは通常の被膜なしガラスにおける
電波反射率８％程度で約１ｋΩ／□に近付ける必要があ
ることを見出し成したものである。

【００１７】なお、前記したように、例えば前記ＳＵＳ
薄膜のシート抵抗を１ｋΩ／□以上にするには膜厚を５
０Å前後以下、また前記ＴｉＮＸ　薄膜のシート抵抗を
１ｋΩ／□以上にするには膜厚を２５０Å前後以下にす
ることが必要である。

【００１８】つぎに、ガラス基板としては、透明ガラス
であればよいが、特にブルー、ブロンズあるいはグリー
ンガラス等でもよく、ブルーあるいはゴールド、グリー
ン系色調を得やすいものであればより好ましいものであ
る。また単板で使用できることはもとより、複層あるい
は合せガラスとしても使用できることは言うまでもない
。

【００１９】

【作用】前述したとおり、本発明の電波低反射の熱線反
射ガラスおよびその製法は、特定膜厚で特定の異なる表
面抵抗を有する金属薄膜、金属炭化薄膜、金属窒化薄膜
およびこれらを主成分とする複合薄膜から１種の薄膜を
介して、特定膜厚で特に表面抵抗が高い特異な透明誘電
体薄膜で挟持するように、特異な成膜条件のなかでスバ
ッタ蒸着法を用いて巧みに組み合わせて積層して成り、
該被覆積層薄膜の表面抵抗を１ｋΩ／□以上となるよう
にしたことにより、ＴＶ電波帯ことに周波数５００ＭＨ
ｚ付近において鉄筋コンクリートの電波反射率より低い
電波反射率とすることができて被膜なしのガラスの電波
反射率にかぎりなく近いものとなるようにでき、各薄膜
層の密着性を高め、積層した多層膜全体の耐摩耗性なら
びに耐食性が向上し、耐久性に優れ、単板として充分採
用できるものとなることはもちろん、建築物の周囲にお
いて従来発現していたＴＶの映像におけるゴースト現象
等の電波障害をほぼ低減でき、しかも可視光透過率ある
いは日射透過率等の光学特性をそれぞれ特定したものと
したことにより、適度の干渉効果をもって熱線反射ある
いは熱線吸収を巧みに組み合わせて断熱機能を充分有す
るものと成って冷暖房の効果を高め、透視性を適宜抑え
てより色調に富むものとすることができる等、建築物内
外の居住性ならびに景観性等環境をより優れたものとす
ることができる電波低反射の熱線反射ガラスおよびその
製法を提供できるものである。

【００２０】

【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
る。ただし本発明は係る実施例に限定されるものではな
い。

【００２１】実施例１大きさ６００×９００ｍｍ２　、厚さ１０ｍｍのブルー
ガラス（ＨＦＬ１０）を中性洗剤、水すすぎ、イソプロ
ピルアルコールで順次洗浄し、乾燥した後、ＤＣマグネ
トロンスパッタリング装置の真空槽内にセットしてある
Ｔｉのターゲットに対向して上方を往復できるようセッ
トし、つぎに前記槽内を真空ポンプで約５×１０−６Ｔ
ｏｒｒまでに脱気した後、該真空槽内にＯ２　、Ｎ２　
ガスを導入して真空度を約２×１０−３Ｔｏｒｒに保持
し、前記Ｔｉのターゲットに約２．５ＫＷの電力を印加
し、Ｏ２　、Ｎ２　の混合ガスによるＤＣマグネトロン
スパッタの中を、前記Ｔｉターゲット上方においてスピ
ード約１２００ｍｍ／ｍｉｎで前記板ガラスを搬送する
ことによって約１０Å厚さのＴｉＮＯＸ　薄膜を第１層
として成膜した。成膜が完了した後、Ｔｉターゲットへ
の印加を停止する。

【００２２】次に、板ガラスを前記真空槽中においたま
ま、前記Ｔｉターゲットに約１．５ＫＷの電力を印加し
、Ｎ２　ガス（　但し、ＡｒとＮ２　ガスの流量比は１
：１から０：１の範囲であればよい。）によるＤＣマグ
ネトロン反応スパッタの中を、前記Ｔｉのターゲット上
方において約２００　ｍｍ／ｍｉｎ　のスピードで搬送
することにより、前記板ガラスのＴｉＮＯＸ　成膜表面
に約１００Å厚さのＴｉＮＸ　薄膜を第２層として成膜
積層した。

【００２３】次に、板ガラスを前記真空槽内に置いたま
ま、前記Ｔｉターゲットに約２．５ＫＷの電力を印加し
、Ｏ２　ガス（但し、ＡｒとＯ２　ガスの流量比は１：
１から０：１の範囲であればよい。）によるＤＣマグネ
トロン反応スパッタの中を、前記板ガラスのＴｉＮＸ　
成膜表面に約３００Å厚さのＴｉＯＸ　薄膜を第３層と
して成膜積層した。

【００２４】得られた３層膜を有する電波低反射熱線反
射ガラスについて、可視光透過率（３８０〜７８０ｎｍ
）、可視光反射率（３８０〜７８０ｎｍ）ならびに日射
透過率（３４０〜１８００ｎｍ）については３４０型自
記分光光度計（日立製作所製）とＪＩＳＺ８７２２、Ｊ
ＩＳＲ３１０６によってそれぞれその光学的特性を求め
た。さらにテーバー試験によるヘーズ（　曇り具合）値の変
化量（　ΔＨ％）については、テーバー試験機（ＭＯＤ
ＥＬ５０３，ＴＹＢＥＲ社製）に膜面を上にした１０ｃ
ｍ角の試験片をセットし、膜面に荷重５００ｇのかかっ
た摩耗輪（ＣＳー１０Ｆ）が２ケ所で当たるようになっ
ているもので、３００回回転した後、ヘーズメーター（
日本電色工業製、ＮＤＨー２０Ｄ）によって測定し、試
験前の測定値と対比し、その変化量（ΔＨ％）　をもっ
て表わした数値である。

【００２５】次に、耐薬品性のうち耐酸試験については
、常温で１規定のＨＣｌ溶液中に前記試験片を約６時間
浸漬した後、膜の劣化状態を見て判断したものであり、
耐アルカリ試験については、常温で１規定のＮａＯＨ溶
液に試験片を約６時間浸漬した後、膜の劣化状態を見て
判断したものであり、それぞれ○印はほとんど劣化が見
られなかったもの、×印は劣化が明らかに目立ったもの
である。

【００２６】さらに表面抵抗については、１０５　Ω／
□以下のものは四探針抵抗測定装置ＲＴーＳ（　ＮＡＰ
ＳＯＮ社製）によって、１０５　Ω／□〜１０５　ＭΩ
／□のものは三菱油化製表面高抵抗計（　ＨＩＲＥＳＴ
Ａ　　ＨＴー２１０）によって測定したものである。

【００２７】またさらに、電波反射率については、大型
導波管法によって測定することで得た。表１より明らか
なように、従来の熱線反射ガラスとほぼ同等の断熱性能
を示し、優れた住居性をもって、耐摩耗性、耐食性、耐
候性、耐久性を有し、電波を十分透過するものであって
、電波低反射熱線反射ガラスとして高層建築物等窓ガラ
スに有用なものとなり、所期のめざすものを得た。

【００２８】実施例２〜１１実施例１と同様の方法によって、表１に示すような３層
の積層薄膜およびその各膜厚を得て、その膜構成におい
て実施例１で示したと同様の測定法等によって、同様の
評価手段で行い、その結果を表１にそれぞれ示す。

【００２９】なお、例えばＴａＮＯＸ　薄膜については
ＤＣマグネトロン反応スパッタ装置でＴａターゲットを
用い、同真空度、Ｏ２　、Ｎ２　の混合ガス、印加電力
約１．５ＫＷ、例えば板ガラス搬送スピード約１６０ｍ
ｍ／ｍｉｎで膜厚約５０ÅのＴａＮＯＸ　薄膜を得た。またＳＵＳＮＯＸ　薄膜については同装置でＳＵＳター
ゲットを用い、同真空度、Ｏ２　、Ｎ２　の混合ガス、
印加電力約１．５ＫＷ、例えば板ガラス搬送スピード約
６００ｍｍ／ｍｉｎで膜厚約５０ÅのＳＵＳＮＯＸ　薄
膜を得た。

【００３０】さらに、例えばＳｎＮＯＸ　薄膜について
は同装置でＳｎターゲットを用い、同真空度、Ｏ２　、
Ｎ２　の混合ガス、印加電力約０．６ＫＷ、例えば板ガ
ラス搬送スピード約３６０ｍｍ／ｍｉｎで膜厚約５０Å
のＳｎＮＯＸ　薄膜を得た。またＳＵＳ薄膜については
同装置でＳＵＳターゲットを用い、同真空度、Ａｒガス
、印加電力約０．５ＫＷ、例えば板ガラス搬送スピード
約１８００ｍｍ／ｍｉｎで膜厚約１０ÅのＳＵＳ薄膜を
得た。

【００３１】さらにまた、例えばＺｒＮＸ　薄膜につい
ては同装置でＺｒターゲットを用い、同真空度、Ｎ２　
ガス（但し、ＡｒとＮ２　ガスの流量比は１：１から０
：１の範囲であればよい。）、印加電力約２．５ＫＷ、
例えば板ガラス搬送スピード約３０ｍｍ／ｍｉｎで膜厚
約９００ÅのＺｒＮＸ　薄膜を得た。またＴａＮＸ　薄
膜については同装置でＴａターゲットを用い、同真空度
、Ｎ２　ガス（但し、ＡｒとＮ２　ガスの流量比は１：
１から０：１の範囲であればよい。）、印加電力約３．
０ＫＷ、例えば板ガラス搬送スピード約３５ｍｍ／ｍｉ
ｎで膜厚約８００ÅのＴａＮＸ　薄膜を得た。

【００３２】さらにまた、例えばＴａ薄膜については同
装置でＴａターゲットを用い、同真空度、Ａｒガス、印
加電力約０．２ＫＷ、例えば板ガラス搬送スピード約１
５００ｍｍ／ｍｉｎで膜厚約１０ÅのＴａ薄膜を得た。またＳｉＣ薄膜については同装置でＳｉＣターゲットを
用い、同真空度、Ａｒガス、印加電力約１．５ＫＷ、例
えば板ガラス搬送スピード約１５０ｍｍ／ｍｉｎで膜厚
約４００ÅのＳｉＣ薄膜を得た。

【００３３】さらにまた、例えばＺｒ薄膜については同
装置でＺｒターゲットを用い、同真空度、Ａｒガス、印
加電力約０．２ＫＷ、例えば板ガラス搬送スピード約１
６０ｍｍ／ｍｉｎで膜厚約９０ÅのＺｒ薄膜を得た。ま
たＣｒＮＸ　薄膜については同装置でＣｒターゲットを
用い、同真空度、Ｎ２　ガス（但し、ＡｒとＮ２　ガス
の流量比は１：１から０：１の範囲であればよい。）、
印加電力約０．６ＫＷ、例えば板ガラス搬送スピード約
１４０ｍｍ／ｍｉｎで膜厚約１３０ÅのＣｒＮＸ　薄膜
を得た。さらに、ＴａＯＸ　薄膜については同装置でＴ
ａターゲットを用い、同真空度、Ｏ２　ガス（但し、Ａ
ｒとＯ２　ガスの流量比は１：１から０：１の範囲であ
ればよい。）、印加電力約１．５ＫＷ、例えば板ガラス
搬送スピード約１０ｍｍ／ｍｉｎで膜厚約９００ÅのＴ
ａＯＸ　薄膜を得た。

【００３４】表１より明らかなように、従来の熱線反射
ガラスとほぼ同等の断熱性能を示し、優れた居住性をも
って、耐摩耗性、耐食性、耐候性、耐久性を有し、電波
を充分透過するものであって、電波低反射の熱線ガラス
として高層建築物等の窓ガラスに有用なものとなって所
期のめざすものとなり、各実施例共、実施例１と同様の
ものが得られた。

【００３５】比較例１〜４実施例１と同様の方法によって表１に示すような３層の
積層薄膜を得、その膜構成において、実施例１と同様の
測定法、同様の評価手段で行い、その結果を表１にそれ
ぞれ示す。

【００３６】なお、例えばＳｎＯＸ　薄膜についてはＤ
Ｃマグネトロン反応スパッタ装置でＳｎターゲットを用
い、同真空度、Ｏ２　ガス（但し、ＡｒとＯ２　ガスの
流量比は１：１から０：１の範囲であればよい。）、印
加電力約０．６ＫＷ、例えば板ガラス搬送スピード約２
１ｍｍ／ｍｉｎで膜厚約８４０ÅのＳｎＯＸ　薄膜を得
た。またＳＵＳＯＸ　薄膜については同装置でＳＵＳタ
ーゲットを用い、同真空度、Ｏ２　ガス（但し、Ａｒと
Ｏ２　ガスの流量比は１：１から０：１の範囲であれば
よい。）、印加電力約１．５ＫＷ、例えば板ガラス搬送
スピード約２００ｍｍ／ｍｉｎで膜厚約１５０ÅのＳＵ
ＳＯＸ　薄膜を得た。

【００３７】それぞれ、各実施例に比して、従来の熱線
反射ガラスであるこれらにおいては、例えば表面抵抗値
が低く、２００Ω／□以下であって、電波反射率も２５
％以上となり、建築物の鉄筋コンクリートの電波反射率
より悪く建築物の周辺に電波障害を発現し易いものまた
はするものである。

【００３８】

【表１】

【００３９】

【発明の効果】以上前述したように、本発明はスパッタ
法で、特定の膜厚ならびに異なる種々の表面抵抗を有す
る金属薄膜、金属炭化薄膜、金属窒化薄膜およびこれら
を主成分とする複合薄膜から１種の薄膜を介して、特定
の膜厚で特定の表面抵抗を有する特異な透明の誘電体薄
膜で特異に組み合わせて挟持するように多層薄膜として
積層した構成にせしめ、しかも光学上ならびに表面抵抗
の特性値が特定できるものとなし得、断熱ガラスであっ
て耐摩耗性、耐食性ならびに耐候耐久性に優れ、電波透
過のよい特異なものとなり、単板はもちろん合わせガラ
スあるいは複層ガラスとして居住性のよい、建築物こと
に高層ビル周辺における電波障害を低減できる有用な電
波低反射の熱線反射ガラスおよびその製法を効率よく提
供できるものである。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】　　透明ガラス基板の表面に、ガラス面よ
り第１層として、膜厚が１０〜１００Åの金属窒素酸化
薄膜を積層し、該第１層上に第２層として、膜厚が１０
〜１０００Åでかつ表面抵抗が１ｋΩ／□以上の金属薄
膜、金属炭化薄膜、金属窒化薄膜およびこれらを主成分
とする複合薄膜のいずれか１種を積層し、さらに該第２
層上に第３層として、膜厚が２１０〜１０００Åの金属
酸化薄膜を積層して成り、該被覆積層薄膜層が１ｋΩ／
□以上の高抵抗薄膜であって、しかも該被覆積層薄膜層
を有する透明ガラス基板の可視光線透過率が６０％以下
ならびに日射透過率が５５％以下であることを特徴とす
る電波低反射の熱線反射ガラス。
【請求項２】　　前記第１層の金属窒素酸化薄膜として
は、ＴａＮＯ、ＴｉＮＯ、ＳＵＳＮＯ、ＳｎＮＯおよび
これらを主成分とする複合薄膜から１種を選択すること
を特徴とする請求項１記載の電波低反射の熱線反射ガラ
ス。
【請求項３】　　前記第２層の金属薄膜、金属炭化薄膜
、金属窒化薄膜としては、Ｃｒ、Ｔａ、Ｚｒ、ＳＵＳ、
ＳｉＣ、ＴｉＣ、ＴｉＮ、ＣｒＮ、ＴａＮ、ＺｒＮおよ
びこれらを主成分とする複合薄膜から１種を選択するこ
とを特徴とする請求項１あるいはおよび２記載の電波低
反射の熱線反射ガラス。
【請求項４】　　前記第３層の金属酸化薄膜としては、
ＴａＯ、ＴｉＯおよびこれらを主成分とする複合酸化薄
膜から１種を選択することを特徴とする請求項１乃至３
記載の電波低反射の熱線反射ガラス。
【請求項５】　　透明ガラス基板の表面に、ガラス面よ
り第１層として、Ｏ２、Ｎ２　、Ｎ２　Ｏ、Ａｒガスの
少なくとも２種以上のガス雰囲気中において膜厚が１０
〜１００Åの金属窒素酸化薄膜を、次いで第１層上に第
２層として、Ａｒ、Ｎ２　ガスの少なくとも１種以上の
ガス雰囲気中において膜厚が１０〜１０００Åでかつ当
該薄膜の表面抵抗が１ｋΩ／□以上である金属薄膜、金
属炭化薄膜、金属窒化薄膜およびこれらを主成分とする
複合薄膜のいずれか１種を、さらに該第２層上に第３層
として、Ｏ２　ガス雰囲気中において膜厚が２１０〜１
０００Åの金属酸化薄膜を、それぞれスッパタ蒸着法に
て被５積層薄膜として形成し、該被覆積層薄膜の表面抵
抗が１ｋΩ／□以上の高抵抗薄膜となして、しかも該被
覆積層薄膜を有する透明ガラス基板が可視光線透過率が
６０％以下ならびに日射透過率が５５％以下となるよう
にしたことを特徴とする電波低反射の熱線反射ガラスの
製法。