JPWO2016199676A1 - 膜積層体および合わせガラス - Google Patents
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Abstract
Description
前記積層膜は、1または2以上の機能層を有し、
前記積層膜は、第1の部分を有し、該第1の部分は、第1の誘電体層、該第1の誘電体層上の第1の機能層、および該機能層上の第2の誘電体層を含む一連の部分で構成され、前記第1の機能層は、前記1または2以上の機能層のうち、前記透明基体から最も遠い側の機能層であり、
前記第1の機能層は、窒化ジルコニウムZrNxで構成され、
前記第1の機能層は、波長500nmにおける屈折率nが1.2未満であり、波長1500nmにおける消衰係数kが6よりも大きく、
当該膜積層体において、前記透明基体の側から前記積層膜の最外層に向かって測定される可視光透過率をTv(%)とし日射熱取得率をg(%)としたとき、Tv/gで表されるセレクティビティSeが以下の(1)式:
1.1≦Se (1)式
を満たす、膜積層体が提供される。
図1には、本発明の一実施形態による膜積層体(以下、「第1の膜積層体」という)の概略的な断面図を示す。
1.1≦Se (1)式
を満たす。
2.00>Se (2)式
である。
前述のような特徴を有する第1の膜積層体100の適用例として、以下の形態が考えられる。ただし、これらの適用例は、単なる一例であって、第1の膜積層体100の適用例は、これらに限られるものではない。
第1の膜積層体100は、例えば、被設置部材に貼付されるフィルムの形態で使用されても良い。この場合、透明基体110は、可撓性を有するように、例えば0.5mm以下の薄い部材で構成されることが好ましい。これにより、第1の膜積層体100の被設置部材への貼付が容易となる。
第1の膜積層体100は、例えば、「そのまま」の形態で、建築用部材または車両用部材などの部材として使用されても良い。この場合、透明基体110は、剛性を有するように、例えば0.5mm以上の部材で構成されることが好ましい。例えば、透明基体110は、ガラス基板で構成されても良い。
次に、前述のような特徴を有する第1の膜積層体100を構成する各部材について、より詳しく説明する。なお、以下の説明では、明確化のため、各部材を表す際に、図1に示した参照符号を使用する。
透明基体110を構成する材料は、特に限られない。
第1の誘電体層122は、例えば、窒化ケイ素、アルミニウムを含有する窒化ケイ素、ジルコニウムを含有する窒化ケイ素の少なくとも一つを含む層で構成されても良い。あるいは、第1の誘電体層122は、例えば、ITO(インジウムスズ酸化物)、酸化スズ、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、およびZr3N4の少なくとも一つを含む層で構成されても良い。
Is(111)=I(111)/99 (4)式
Is(200)=I(200)/85 (5)式
Is(220)=I(220)/48 (6)式
から得ることができる。なお、各ピーク強度はバックグラウンド処理後のピーク高さを使用する。
前述のように、第1の機能層130は、窒化ジルコニウムZrNxで構成される。ここでxは、0.9<x<1.0の範囲であることが好ましい。また、第1の誘電体層122の上部領域が前述の結晶性向上材料を有する場合、第1の機能層130は、0.9<x<1.1の範囲であることが好ましい。第1の誘電体層122の上部領域が前述の結晶性向上材料を有する場合、第1の機能層130の結晶配向がある一定の方位に揃えられる。それにより、第1の機能層130の配向性が高まり、過剰な窒素が粒界に入る余地がなくなり、より広い範囲のxで理想的な結晶が得られる。
前述のように、第1のシード層125および第1の犠牲層132は、任意に設置される層であり、それぞれ複数の層から形成されても良く、省略されても良い。
前述のように、トップ層140は、任意に設置される層であり、省略されても良い。特に、図1に示した構成において、第2の誘電体層135が保護層としての機能を兼ねる場合、トップ層140を設置する必要は少ない。
積層膜120は、第1の機能層130として、前述のような特徴を有する窒化ジルコニウムZrNxで構成された層を有する。この材料は、銀に比べて、機械的耐久性および化学的耐久性に優れる。従って、積層膜120が単一の機能層(すなわち第1の機能層130)のみを有する場合、良好な耐環境性を有する膜積層体100を提供することが可能となる。
次に、図2を参照して、本発明の一実施形態による別の膜積層体について説明する。
1.1≦Se (1)式
を満たす。
次に、図2に示した第2の膜積層体200を構成する各部材について、より詳しく説明する。
第3の誘電体層250は、例えば、窒化ケイ素、アルミニウムを含有する窒化ケイ素、ジルコニウムを含有する窒化ケイ素の少なくとも一つを含む層で構成されても良い。あるいは、第3の誘電体層250は、例えば、ITO(インジウムスズ酸化物)、酸化スズ、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、およびZr3N4の少なくとも一つを含む層で構成されても良い。
第2の機能層255は、透明で導電性を有する材料である限り、いかなる材料を用いても良い。
以下の方法で、ガラス基板の一方の表面に積層膜を形成して、膜積層体を製造した。
例1と同様の方法により、膜積層体(それぞれ、「例2に係る膜積層体」および「例3に係る膜積層体」と称する)を製造した。
例1と同様の方法により、膜積層体(それぞれ、「例4〜例6に係る膜積層体」と称する)を製造した。
例1と同様の方法により、膜積層体(それぞれ、「例7〜例9に係る膜積層体」と称する)を製造した。
例1と同様の方法により、膜積層体(それぞれ、「例21〜例22に係る膜積層体」と称する)を製造した。
例1と同様の方法により、膜積層体(それぞれ、「例23〜例24に係る膜積層体」と称する)を製造した。
以下の方法で、ガラス基板の一方の表面に積層膜を形成して、膜積層体を製造した。
前述の例7と同様の方法により、膜積層体(以下「例26に係る膜積層体」と称する)を製造した。
以下の方法で、ガラス基板の一方の表面に積層膜を形成して、膜積層体を製造した。
例31と同様の方法により、膜積層体(それぞれ、「例32に係る膜積層体」および「例33に係る膜積層体」と称する)を製造した。
例31と同様の方法により、膜積層体(それぞれ、「例34〜例36に係る膜積層体」と称する)を製造した。
例31と同様の方法により、膜積層体(それぞれ、「例37〜例39に係る膜積層体」と称する)を製造した。
以下の方法で、ガラス基板の一方の表面に積層膜を形成して、膜積層体を製造した。
前述の例41と同様の方法により、膜積層体(以下「例42に係る膜積層体」と称する)を製造した。
以下の方法で、ガラス基板の一方の表面に積層膜を形成して、膜積層体を製造した。
前述の例43と同様の方法により、膜積層体(以下「例44に係る膜積層体」と称する)を製造した。
例31と同様の方法により、膜積層体(それぞれ、「例51〜例52に係る膜積層体」と称する)を製造した。
例31と同様の方法により、膜積層体(それぞれ、「例53〜例54に係る膜積層体」と称する)を製造した。
以下の方法で、ガラス基板の一方の表面に積層膜を形成して、膜積層体を製造した。
例4〜例9、例21〜例24、例34〜例39、例42〜例44、および例51〜例54に係る膜積層体を用いて、第1の機能層を構成する窒化ジルコニウムZrNxのZrとNの元素比をラザフォード後方散乱分光法(Rutherford BackscatteringSpectrometry:RBS)を用いて測定した。
各例に係る膜積層体を用いて、第1の機能層の波長500nmにおける屈折率n、および波長1500nmにおける消衰係数kを以下のようにして求めた。それぞれの積層体について、分光光度計(U−4100:日立社製)を用いて分光スペクトルを、分光エリプソメータ(M−2000:ジェー・エー・ウーラム社製)を用いて偏光情報の測定を行った。得られた分光透過および反射スペクトルと偏光情報とを用いて、光学モデルのフィッティングを行い、屈折率nと消衰係数kを決定した。
各例に係る膜積層体を用いて、可視光透過率Tv(%)および日射熱取得率g(%)を以下のように測定した。
以下の方法で、3種類の膜積層体を用いて耐久性試験を行った。各膜積層体は、以下の構成を有する。
ガラス基板(100mm×横100mm×厚さ2.8mm)+Si3N4層(40nm)+ZrNx層(13nm)+Si3N4層(58nm)
(膜積層体B)
ガラス基板(2.8mm)+Si3N4層(25nm)+ZrNx層(19nm)+Si3N4層(91nm)+ZrNx層(40nm)+Si3N4層(38nm)
(膜積層体C)
ガラス基板(2.8mm)+Si3N4層(40nm)+NiCr層(2.5nm)+Ag層(8nm)+NiCr層(2.5nm)+Si3N4層(58nm)
各膜積層体A〜Cにおいて、それぞれの層は、スパッタリング法より成膜した。
エリクセン試験機(モデル494試験機:エリクセン社製)を用いて、膜積層体を水中に浸漬させた。
膜積層体A〜Cの化学的耐久性の評価として、耐汗試験、耐薬品性試験、および耐湿性試験を実施した。
耐汗試験は、ISO12870に準じた方法で実施した。
耐薬品性試験は、以下のように実施した。
耐湿性試験は、以下のように実施した。
以下の方法で、ガラス基板の一方の表面に積層膜を形成して、膜積層体を製造した。
例56と同様の方法により、膜積層体(それぞれ、「例57に係る膜積層体」および「例58に係る膜積層体)と称する)を製造した。
以下の方法で、ガラス基板の一方の表面に積層膜を形成して、膜積層体を製造した。
例59と同様の方法により、膜積層体(「例60に係る膜積層体」と称する)を製造した。
例56と同様の方法により、膜積層体(「例61に係る膜積層体」と称する)を製造した。
例61と同様の方法により、膜積層体(「例62に係る膜積層体」と称する)を製造した。
例61と同様の方法により、膜積層体(「例63に係る膜積層体」と称する)を製造した。
例63と同様の方法により、膜積層体(「例64に係る膜積層体」と称する)を製造した。
例65、例66、例67に係る膜積層体は、それぞれ、前述の例37、例38、例39に係る膜積層体と同様の方法により製造した。
(各特性の評価)
次に、例56〜例67に係る膜積層体を用いて、前述の方法により、第1の機能層のZr:N比、屈折率n、消衰係数k、可視光透過率Tv、日射熱取得率g、およびセレクティビティの評価を実施した。
表6に示すように、例56〜例67に係る膜積層体は、いずれも、セレクティビティが1.1を超えていることがわかる。このように、例56〜例67に係る膜積層体は、いずれも高い透過性と良好な遮熱性を有することがわかった。
次に、例56〜例67に係る膜積層体において、前述のように規定される配向指数Pの評価を行った。
多層膜ミラーにてCuKα取り出し;
入射角一定で面内方向に2θχ/φスキャン;
入射角0.5度;
面内方向のX線発散角0.5度(スリットにて制限)。
表7から、第1の誘電体層が結晶性向上材料からなる上部領域を有さない、例65〜例67に係る膜積層体では、第1の機能層の配向指数Pが1.35程度と、あまり大きくないことがわかった。これに対して、第1の誘電体層が結晶性向上材料からなる上部領域を有する例56〜例64に係る膜積層体では、第1の機能層の配向指数Pが少なくとも2を超えることがわかった。
例56に係る膜積層体を用いて、前述の機械的耐久性の評価、化学的耐久性の評価、耐汗試験、耐薬品性試験、および耐湿性試験の各試験を実施した。
110 透明基体
112 第1の表面
114 第2の表面
120 積層膜
122 第1の誘電体層
125 第1のシード層
130 第1の機能層
132 第1の犠牲層
135 第2の誘電体層
140 トップ層
145 第1の部分
200 第2の膜積層体
210 透明基体
212 第1の表面
214 第2の表面
220 積層膜
222 第1の誘電体層
230 第1の機能層
235 第2の誘電体層
240 トップ層
245 第1の部分
250 第3の誘電体層
255 第2の機能層
Claims (12)
- 透明基体の上に積層膜を有する膜積層体であって、
前記積層膜は、1または2以上の機能層を有し、
前記積層膜は、第1の部分を有し、該第1の部分は、第1の誘電体層、該第1の誘電体層上の第1の機能層、および該機能層上の第2の誘電体層を含む一連の部分で構成され、前記第1の機能層は、前記1または2以上の機能層のうち、前記透明基体から最も遠い側の機能層であり、
前記第1の機能層は、窒化ジルコニウムZrNxで構成され、
前記第1の機能層は、波長500nmにおける屈折率nが1.2未満であり、波長1500nmにおける消衰係数kが6よりも大きく、
当該膜積層体において、前記透明基体の側から前記積層膜の最外層に向かって測定される可視光透過率をTv(%)とし日射熱取得率をg(%)としたとき、Tv/gで表されるセレクティビティSeが以下の(1)式:
1.1≦Se (1)式
を満たす、膜積層体。 - 前記可視光透過率Tv(%)は、30%を超える、請求項1に記載の膜積層体。
- 前記日射熱取得率g(%)は、50%未満である、請求項1または2に記載の膜積層体。
- 前記窒化ジルコニウムZrNxにおいて、xは、0.9<x<1.0の範囲である、請求項1乃至3のいずれか一つに記載の膜積層体。
- 前記第1の誘電体層および/または前記第2の誘電体層は、窒化ケイ素、アルミニウムを含有する窒化ケイ素、およびジルコニウムを含有する窒化ケイ素からなる群から選定された少なくとも一つの材料を含む、請求項1乃至4のいずれか一つに記載の膜積層体。
- 前記第1の誘電体層および/または前記第2の誘電体層は、ITO、酸化スズ、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、およびZr3N4からなる群から選定された少なくとも一つの材料を含む、請求項1乃至5のいずれか一つに記載の膜積層体。
- 前記積層膜は、さらに、前記第1の機能層よりも前記透明基体から近い側に、第2の機能層を有し、
該第2の機能層は、ITO、銀またはZrNxを含む、請求項1乃至6のいずれか一つに記載の膜積層体。 - 前記第1の機能層は、以下の(3)式
で表される配向指数Pが2以上である、請求項1乃至7のいずれか一つに記載の膜積層体:
ここで、Max[a,b,c]は、a〜cのうちの最大値を表し、Min[a,b,c]は、a〜cのうちの最小値を表し、
Is(111),Is(200)およびIs(220)は、それぞれ、前記第1の機能層のインプレーンX線回折により得られる面方位(111)、(200)および(220)のピーク強度を、それぞれ、I(111)、I(200)およびI(220)としたとき、
Is(111)=I(111)/99
Is(200)=I(200)/85
Is(220)=I(220)/48
から得られる。 - 前記第1の誘電体層の前記第1の機能層と接する領域は、ZrNx(ここでX>1.2)、NbNx(ここでX>1)、TiNx(ここで0.9<X<1.1またはX>1.2)のいずれかの材料を含む、請求項8に記載の膜積層体。
- 前記透明基体は、ガラス基板である、請求項1乃至9のいずれか一つに記載の膜積層体。
- 当該膜積層体は、フィルムの形態を有する、請求項1乃至10のいずれか一つに記載の膜積層体。
- 中間膜を介して第1および第2のガラス板を相互に接続することにより構成された合わせガラスであって、
前記第1または第2のガラス板は、請求項11に記載の膜積層体を有する、合わせガラス。
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WO2021014977A1 (ja) * | 2019-07-25 | 2021-01-28 | Agc株式会社 | 積層体および積層体の製造方法 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63206333A (ja) * | 1987-02-24 | 1988-08-25 | Asahi Glass Co Ltd | 単板熱線反射ガラス |
JPH03112833A (ja) * | 1989-09-27 | 1991-05-14 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 熱線遮へいガラス |
JPH0477330A (ja) * | 1990-07-19 | 1992-03-11 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 電波反射抑制型の透明熱線反射ガラスの製造方法 |
JPH04243935A (ja) * | 1991-01-30 | 1992-09-01 | Central Glass Co Ltd | 電波低反射の熱線反射ガラスおよびその製法 |
JPH05221689A (ja) * | 1992-02-05 | 1993-08-31 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 熱線遮蔽ガラス |
US20040096671A1 (en) * | 2002-11-15 | 2004-05-20 | Yuping Lin | Heat treatable coated articles with zirconium or zirconium nitride layer and methods of making same |
JP2006051447A (ja) * | 2004-08-12 | 2006-02-23 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 光触媒性能とヒートミラー性能を併せ持つ透明基材及びその製造方法 |
JP2011520755A (ja) * | 2008-05-19 | 2011-07-21 | サン−ゴバン グラス フランス | 複数の薄層からなる積層体が設けられたグレージング |
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Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63206333A (ja) * | 1987-02-24 | 1988-08-25 | Asahi Glass Co Ltd | 単板熱線反射ガラス |
JPH03112833A (ja) * | 1989-09-27 | 1991-05-14 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 熱線遮へいガラス |
JPH0477330A (ja) * | 1990-07-19 | 1992-03-11 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 電波反射抑制型の透明熱線反射ガラスの製造方法 |
JPH04243935A (ja) * | 1991-01-30 | 1992-09-01 | Central Glass Co Ltd | 電波低反射の熱線反射ガラスおよびその製法 |
JPH05221689A (ja) * | 1992-02-05 | 1993-08-31 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 熱線遮蔽ガラス |
US20040096671A1 (en) * | 2002-11-15 | 2004-05-20 | Yuping Lin | Heat treatable coated articles with zirconium or zirconium nitride layer and methods of making same |
JP2006051447A (ja) * | 2004-08-12 | 2006-02-23 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 光触媒性能とヒートミラー性能を併せ持つ透明基材及びその製造方法 |
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