JP2002173339A

JP2002173339A - 電波低反射コーティングガラス

Info

Publication number: JP2002173339A
Application number: JP2000373157A
Authority: JP
Inventors: Masaji Onishi; 正司大西; Motoharu Inoue; 元春井上
Original assignee: Central Glass Co Ltd
Current assignee: Central Glass Co Ltd
Priority date: 2000-12-07
Filing date: 2000-12-07
Publication date: 2002-06-21

Abstract

(57)【要約】【課題】プライバシー性能、断熱性能、電波低反射性
に優れた被膜付きガラスを得ること。【解決手段】ガラス基板表面に、スパッタリング法に
よりＳｉ成分が１００重量％よりなるＳｉ膜が膜付けさ
れてなり、膜付け後に曲げ加工及び／又は強化加工しな
いこと。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、建築用、車両用、
産業用等に好適な紫外線遮蔽性、プライバシー性、断熱
特性、電波低反射性、無反射性等を有する電波透過型コ
ーティングガラスに関する。

【０００２】

【従来技術】近年、室内や車内の居住性を向上するため
に、建築用、車輌窓ガラス等において太陽放射エネルギ
ーを効果的に遮断する熱線遮蔽性能を有する断熱性ガラ
ス、ガラスの外側から室内、車内を見えにくくし室内、
車内にいる人のプライバシーを確保するプライバシーガ
ラス等の機能性コーティングガラスが広く使われだし
た。これらのスパッタリング法によるコーティング被膜
としては、可視光線及び赤外線を反射吸収する膜として
ステンレス、Ｃｒ、ＮｉＣｒ、Ｔｉ等よりなる金属膜や
ＴｉＮ、窒化ステンレス、ＣｒＮ等よりなる窒化物膜が
膜構成の一部に使用されている。

【０００３】前記金属膜或いは窒化物膜に関連する特許
出願としては、例えば透明基材上にスパッタリング法に
より酸化物層を形成したのち、その上層にＣｒＮ層を積
層してなる可視域で５〜４０％の透過率および熱線に対
する反射能を有する板の製法に関する特開昭６０−３６
３５５号公報、ガラス基板上にＴｉＯ₂層、ＴｉＮ_x層及
びＴｉＯ₂層をスパッタリング法等により形成すること
により可視域の透過率が小さく多種の反射色調を有する
ようにした熱線反射ガラスの製法に関する特開昭６３−
１９０７４２号公報、ガラス基板表面に金属膜、窒化物
膜および酸化物膜を積層させてなる膜表面の可視光反射
率を所望の低値に抑制し夜間の窓ガラスのミラー化を低
減させた熱線反射ガラスに関する特開昭６３−２４２９
４８号公報、透明板上に窒化チタン膜を形成したのちそ
の上面に金属酸化物誘電体膜を積層し可視光線反射率を
１０％以下で且つ非膜面からの反射光を金色とした金色
反射色を有する透明板に関する特開平１−２０８３４４
号公報等が知られている。

【０００４】また、ケイ素膜に関しては、基材表面にケ
イ素膜で形成された層を含むか又はケイ素膜およびステ
ンレス膜で形成されたベース層上に反射性金属膜の反射
層、さらにその上層に耐久性保護層が積層された所望の
曲げ形状にヒートベント可能な曲げ可能なミラーおよび
製造法に関する特表２０００−５０１１９４号公報等が
知られている。さらに、ケイ素膜の成膜方法としては、
モノシランからなる非酸化性ガスで処理したシリコン層
と、その表面の酸化シリコン層と、さらにその上層のテ
トラメチル錫からなる酸化性ガスで処理した酸化錫層と
で被覆された連続製造方法で製造する被覆ガラス製造方
法に関する特公平７−２９４０２号公報、ガラス基板表
面に可視光線反射率が２５％以下のシリコンからなる被
膜が少なくとも１層形成された熱線反射ガラスに関する
特開２０００−１５９５４６号公報等が知られている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、スパッ
タリング法により成膜された前記特開昭６０−３６３５
５号公報、特開昭６３−１９０７４２号公報、特開昭６
３−２４２９４８号公報、特開平１−２０８３４４号公
報に記載された金属膜或いは窒化物膜は、通常電気良導
性を有するか（金属膜の場合）或いは完全な結晶化では
なく自由電子が構造中に残っている（窒化物膜の場合）
ことから何れの膜組成の場合も導電性を打ち消す事がで
きない。また、これらの金属或いは窒化物を誘電体で挟
み込んだ構造にしても同様であり、従来の被膜では可視
光線や赤外線を反射吸収できても電気的に高抵抗率のも
のが得られないという問題があり、建物の外装窓ガラス
にそれらの膜を使用した場合には該ガラスを用いたビル
の周辺のＴＶゴーストの発生や、或いは自動車用窓ガラ
スに用いた場合には自動車用ガラスアンテナのアンテナ
性能を悪化させる等の電波障害を起こす等の電波障害の
問題が残る。さらに、これらの金属及び窒化物は膜の耐
久性に問題があり、保護膜としてＴｉＯ2、ＳｎＯ２、
ＣｒＯ2等の酸化物を用いてもＪＩＳＲ３２２１の
熱線反射ガラスのＡ類(耐摩耗性,耐酸性、耐アルカリ
性)に合格する事ができないため建築用途ととして用い
る場合、膜を窓ガラスの外部側に被覆することはできず
室内使いにしなければならないものであった。

【０００６】また、前記特表２０００−５０１１９４号
公報に記載されたケイ素膜は、ケイ素膜は用いているも
のの目的が自動車用のバックミラー、望遠鏡の反射表面
用等のミラー用であり、本発明と目的が全く異なるもの
である。さらに、特公平７−２９４０２号公報、特開２
０００−１５９５４６号公報に記載されたＣＶＤ法によ
る成膜方法は、大気圧中においてガラス基板を高温に加
熱して成膜することから、いくら非酸化性雰囲気中で成
膜してもケイ素が部分的に酸化し高屈折率，高吸収のケ
イ素膜が得られないという欠点がある。そのためＣＶＤ
のシリカ膜は十分なプライバシー性能が得られ無かった
り、膜面の反射率が低くできないという問題があった。
さらにＣＶＤ法は膜厚制御が困難であり分布も不均一と
なりやすく光学特性がムラになりやすいという欠陥があ
る。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者等は前記従来の
課題について鋭意研究した結果、Ｓｉ膜は金属でありな
がらアモルファス構造をしており、構造内の自由電子が
非常に少なく表面抵抗値は数ＧΩ／□と非常に高く、電
波反射性能が殆ど無い性能等を有しており、電波透過型
プライバシーガラスとして好適であることを見出した。

【０００８】すなわち、本発明の電波低反射コーティン
グガラスは、ガラス基板表面に、スパッタリング法によ
りＳｉ成分が１００重量％よりなるＳｉ膜が膜付けされ
てなり、膜付け後に曲げ加工及び／又は強化加工しない
ことを特徴とする。

【０００９】また、本発明の電波低反射コーティングガ
ラスは、Ｓｉ膜はＳｉ主成分中にＢ、Ｐ、Ｇｅ、Ａｌ、
Ｎｉ、Ｃｒ、Ｔｉのうちの少なくとも１種を１５重量％
以下含有してなることを特徴とする。Ｓｉ金属はそもそ
も導電性がなく通常ＤＣ電源でスパッタリングを行う事
が不可能であったが、これらの元素をＳｉに添加する事
により導電性を持たせＤＣ電源でスパッタリング法で成
膜する事が可能となった。従ってこれらの添加元素は成
膜時に必要不可欠なものである。

【００１０】さらに、本発明の電波低反射コーティング
ガラスは、Ｓｉ膜の膜特性としては、５５０ｎｍにおけ
る屈折率(ｎ）が４．５±１．０以内及び吸収（ｋ）が
０．３以上であることを特徴とする。

【００１１】さらにまた、本発明の電波低反射コーティ
ングガラスは、Ｓｉ膜の少なくとも上層或いは下層に透
明な誘電体膜が積層されてなることを特徴とする。

【００１２】さらに、本発明の電波低反射コーティング
ガラスは、誘電体膜は、ＴｉＯ₂、ＳｎＯ₂、ＺｎＯ、Ｚ
ｎＳｎ_xＯ_y、ＺｎＡｌ_xＯ_y、ＳｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｓｉ₃
Ｎ₄、ＡＩ₃Ｎ₄、ＳｉＮ_xＯ_y、ＡｌＮ_xＯ_y、Ｃｒ₂Ｏ₃内の
少なくとも１種よりなることを特徴とする。

【００１３】さらに、本発明の電波低反射コーティング
ガラスは、透明フロートガラス３ｍｍ厚さ（ＦＬ３）換
算で可視光線透過率が１〜８０％、可視光線ガラス面反
射率が３〜５５％、可視光線膜面反射率が１〜６０％で
あることを特徴とする。

【００１４】さらに、本発明の電波低反射コーティング
ガラスは、表面抵抗率が１ｋΩ／□以上であることを特
徴とする。

【００１５】また、本発明の電波低反射コーティングガ
ラスの製造方法は、下記工程により製造することを特徴
とする。（１）Ｓｉ膜を成膜したガラス基板を、５５０〜７００
℃の温度において加熱処理を行い曲げ加工及び／又は強
化加工を行う工程、（２）曲げ加工及び／又は強化加工
を行ったガラス基板表面に、スパッタリング法によりＳ
ｉ膜を成膜する工程。

【００１６】

【発明の実施の態様】本発明の電波低反射コーティング
ガラスは、ガラス基板表面に、スパッタリング法により
成膜されたＳｉ成分が１００重量％よりなるＳｉ膜が膜
付けされてなり、膜付け後に曲げ加工及び／又は強化加
工しないことを特徴とする。なお、Ｓｉ主成分中に１５
重量％以内のＢ、Ｐ、Ｇｅ、Ａｌ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｔｉの
うちの少なくとも１種を１５重量％以下含有することも
できる。

【００１７】スパッタリング法により成膜されたＳｉ膜
は、金属でありながらアモルファス構造をしており、構
造内の自由電子が非常に少なく、表面抵抗率は数ＧΩ／
□と非常に高く、建物の外装窓ガラスにそれらの膜を使
用した場合に該ガラスを用いたビル周辺のＴＶゴースト
の発生や、或いは自動車用窓ガラスとして用いた場合に
自動車用ガラスアンテナのアンテナ性能を悪化させる等
の電波障害を起こすことがなく、電波透過性等の利点を
有する。この性能は他の金属膜、窒化物膜には全く見ら
れない特性である。

【００１８】また、Ｓｉ膜は、後述する図１、図２に示
すように、紫外・可視・日射（３００〜２５００ｎｍ）
の広範囲にわたり反射性能、吸収性能を示し、紫外線遮
蔽性、着色しているとともに可視光線透過率が小さく、
外部からガラスを通して室内、車内が見えにくいという
優れたプライバシー性、および赤外域での熱線が吸収さ
れ遮断されるので室内、車内に入射する熱線の量が少な
いことによる優れた断熱性を有する。特に、紫外域での
吸収も非常に優れており紫外光遮蔽膜としての効果も十
分に期待できる。

【００１９】また、Ｓｉ膜の上層及び／又は下層に、ガ
ラス面の反射率を変動させたり、色調にバリエーション
を持たせたりする機能を有するＴｉＯ₂、ＳｎＯ₂、Ｚｎ
Ｏ、ＺｎＳｎ_xＯ_y、ＺｎＡｌ_xＯ_y、ＳｉＯ₂、Ａｌ
₂Ｏ₃、Ｓｉ₃Ｎ₄、ＡＩ₃Ｎ₄、ＳｉＮ_xＯ_y、ＡｌＮ_xＯ_y,
Ｃｒ₂Ｏ₃内の少なくとも１種よりなる透明な酸化物、窒
化物の誘電体膜を設けることができる。下層に誘電体膜
を設ける場合には膜厚が約１５０ｎｍ以下、上層に誘電
体膜を設ける場合には膜厚が約３００ｎｍ以下で用いる
ことが好ましい。なお、ガラス面の反射率を下げるに
は、最適な膜厚設定が必要であり、例えばＳｎＯ₂やＳ
ｉ₃Ｎ ₄をＳｉ膜の下層に用いる場合には４０ｎｍ〜９０
ｎｍ、Ｓｉ膜の上層に用いる場合には４０ｎｍ〜９０ｎ
ｍが最適である。さらに、ＴｉＯ₂の場合には、下層に
用いる場合には３０ｎｍ〜１００ｎｍ、上層に用いる場
合には１０ｎｍ〜４０ｎｍが最適である。

【００２０】また、電波低反射コーティングガラスを車
両用ガラスとして用いる場合には、車内側の反射率が高
いと運転の妨げとなる事から膜面の反射率が低いことが
好まれ、この場合にはＳｉ膜の上層のみに誘電体を用い
れば膜面の反射率を下げる事ができる（後述の実施例４
参照）。また膜面を無反射としガラス面の反射率を更に
下げるには、Ｓｉ膜の下層にＴｉＯ₂のような高屈折率
の誘電体を用い、Ｓｉ膜の上層にＳｎＯ₂,Ｓｉ₃Ｎ₄のよ
うな比較的低屈折率の誘電体を用いればよい（後述の実
施例５、６参照）。さらに、無反射とし可視光線透過率
を７０％以上とすれば、自動車のフロントガラス(透過
率規制７０％以上）、ＣＲＴ用のカバーガラスに使用す
る事ができる（後述の実施例７参照）。

【００２１】本発明の電波低反射コーティングガラスの
紫外線透過率は、Ｓｉ膜の膜厚を３５Å以上厚くすれば
１％以下とする事ができ、室内の紫外線による障害を殆
ど無くす事ができる（後述の実施例３〜６参照）。さ
らに、Ｓｉ膜自体は、後述する表３に示すように金属膜
の中では比較的耐久性が高い膜（ＪＩＳＲ３２２１
Ｂ類に合格）であるが、さらに、傷等からＳｉ膜表面
を保護する目的で酸化物や窒化物の膜で保護することが
好ましく、この目的の上層膜としてはＴｉＯ₂、Ｓｎ
Ｏ₂、またはＳｉ₃Ｎ₄、Ａｌ₃Ｎ₄を５ｎｍ以上成膜する
事が好ましく、特にＳｉ₃Ｎ₄、Ａｌ₃Ｎ₄等の窒化物の膜
を用いる事がより好ましい。

【００２２】本発明の電波低反射コーティングガラスを
建築用、車両用等の曲げガラス及び／又は強化ガラスに
適用する場合には、平板ガラスを約５５０〜７００℃の
加熱処理により曲げ加工及び／又は強化加工したのち、
スパッタリング法により熱加工したガラス基板表面に成
膜することができ、膜付け後に曲げ加工及び／又は強化
加工はしない。なお、加熱処理することなく生板のまま
用いることもできる。

【００２３】前記のＳｉ膜或いは誘電体膜の成膜方法
は、スパッタリング法による成膜方法を基本とする。ス
パッタリング法は一般に行われているＤＣ電源によるマ
グネトロンスパッタ法で可能であるが、ＡＣ電源やパル
ス電源によるスパッタリングを行えば長期の安定性及び
高出力の印加が可能となる。また米国のＢＯＣ社のＣ−
ＭＡＧ，独のライボルト社，アルデンヌ社のツインマグ
(デュアルマグ）での成膜方法も可能である。

【００２４】得られた電波低反射コーティングガラスの
光学特性については、透明フロートガラス３ｍｍ厚さ
（ＦＬ３）換算で可視光線透過率については３〜８０
％、プライバシー性能の点では好ましくは１０〜５０
％、可視光線ガラス面反射率が３〜５０％、光公害防止
の点では好ましくは３〜２０％、のものを得ることがで
きる。また可視光線膜面反射率１〜５０％、無反射性能
の点では好ましくは１〜８％以下のものを得ることがで
きる。

【００２５】また、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系による反射色調
（ガラス面側或いは膜面側）のａ＊値、ｂ＊値について
は何れも−３０〜４０、ニュ−トラルな反射色調を得る
ためにはａ＊値は−１０〜０、ｂ＊値は−１５〜５が好
ましい。さらに、電気特性については、電波低反射コー
ティングガラスの表面抵抗率が１ＭΩ／□以上のものを
得ることが出来る。建築用窓ガラスの場合の１ｋΩ／□
以上、車両用窓ガラスの場合の１ΜΩ／□以上をクリア
ーでき、建築用或いは車輌用の電波低反射性ガラスとし
て用いるのに好適である。ガラス基板としては、ソーダ
石灰珪酸塩ガラス組成よりなる汎用のフロート板ガラス
が建築用、自動車用ガラス用等として一般に用いられる
が、この組成に限定されるものではない。

【００２６】

【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
る。但し、本発明は係る実施例に限定されるものではな
い。なお、実施例及び比較例で得られた電波低反射コー
ティングガラスの品質評価は下記に示す方法で評価し
た。

【００２７】（１）表面抵抗率膜表面の表面抵抗率（Ω／□）は、４探針プローブ抵抗
計（エプソン社製）により測定。表面抵抗率が１．０ｋ
Ω／□以上を合格とした（２）光学特性可視光線透過率（％）、可視光線ガラス面反射率（％）
また、反射色調ａ＊値、ｂ＊値（ＪＩＳＺ８７２９
Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系による物体色の表示方法）（波長
範囲：３８０〜７８０ｎｍ）及び日射透過率（％、波長
範囲：７８０〜２５００ｎｍ）は、Ｕ４０００型自記分
光光度計（日立製作所製）を用いて測定。

【００２８】〔実施例１〜７〕（１）成膜実施例１〜７の成膜方法を下記に示す。ガラス基板とし
て厚さ３ｍｍのフロ−ト板ガラス（ＦＬ３）を用い、Ｂ
ＯＣ社のプラナーカソード及びＣ−ＭＡＧ（シリドリカ
ルマグネトロン）カソード装置を使用して所定の膜構成
及び膜厚となるように成膜を行った。なお、表１に実施
例１〜７において成膜するＳｉおよびＴｉＯ₂、Ｓｎ
Ｏ₂、Ｓｉ₃Ｎ₄のそれぞれの誘電体層を成膜する場合の
プロセスガス条件と成膜圧力の成膜条件を示した。ま
た、表２に実施例１〜７の膜厚及び膜構成を示す。な
お、本実施例のＳｉ膜用のＳｉターゲットとしては、純
度５ＮでＰＰＭ単位のＢを含んだ半導体を用いた。

【００２９】

【表１】

【００３０】（２）評価結果前記実施例１〜７で得られた電波低反射コーティングガ
ラスの性能を評価した結果、表２に示すように、可視光
線透過率、膜面及び硝子面側可視光線反射率、反射色
調、日射透過率、紫外線透過率とも良好であり、さらに
表面抵抗率はいずれも１ＭΩ／□以上と良好であった。
また、外観品質も特に問題はなく、全ての品質において
良好であり、電波透過型コーティングガラスとして好適
なものであった。

【００３１】なお、実施例４のように、Ｓｉ膜の上層に
のみ誘電体を用いれば膜面の反射率を下げる事ができ、
例えば自動車用ガラスに用いた場合には運転者が前方を
見易くなる利点を有する。また、実施例５、６のよう
に、膜面を無反射としガラス面の反射率を更に下げるに
は、Ｓｉの下層にＴｉＯ₂のような高屈折率の誘電体を
用い、Ｓｉの上層にＳｎＯ₂,Ｓｉ₃Ｎ₄のような比較的低
屈折率の誘電体を用いればよい。さらに、実施例７に示
すように、無反射とし可視光線透過率を７０％以上とす
れば、例えば自動車のフロントガラス(透過率規制７０
％以上）、ＣＲＴ用のカバーガラスに使用する事ができ
る。また、実施例３乃至６のように、Ｓｉ膜の膜厚を３
５ｎｍ以上に厚くすれば紫外線透過率が１％以下とする
事ができ、室内の紫外線による障害を殆ど無くす事がで
きる

【００３２】

【表２】

【００３３】なお、実施例１の電波低反射コーティング
ガラスサンプルについての紫外域〜日射域における光学
特性図を図１、図２（図１；透過率、膜面反射率、ガラ
ス面反射率、図２；屈折率、吸収）に示す。図１，図２
に示す通り、紫外・可視・日射（３００〜２５００ｎ
ｍ）の広範囲にわたり反射、吸収を示し、優れた紫外線
遮蔽性、プライバシー性能、断熱特性を有することが示
されている。

【００３４】さらに、Ｓｉ膜の耐久性能（耐酸性、耐ア
ルカリ性、耐摩耗性）を評価するために、実施例１で得
られた電波低反射コーティングガラスサンプルを用いＪ
ＩＳＲ３２２１（Ｂ類耐久性）に基づき評価した。結
果、表３に示すように何れの項目も合格であった。なお
表中の（）内の数値は、評価前後の可視光線透過率
（％）の変化値を示す。

【００３５】

【表３】

【００３６】〔比較例１〜３〕比較例１〜３は、実施例
と同様に表２の膜構成になるように成膜した。なお、比
較例１〜３のステンレス、Ｃｒ、ＴｉＮ、ＣｒＮの成膜
条件を表４に示す。また、ＳｎＯ₂、Ｓｉ₃Ｎ₄は表１に
示す実施例と同じ成膜条件で成膜した。

【００３７】

【表４】

【００３８】得られたガラスの性能を評価した結果、表
２に示すように比較例１〜３における性能は、何れも表
面抵抗率が１．０ｋΩ／□以下と不合格であった。

【００３９】

【発明の効果】本発明の電波低反射コーティングガラス
は、紫外、可視、日射（３００〜２５００ｎｍ）で大幅
な吸収や反射がみられ、紫外線遮蔽性能、プライバシー
性能、断熱特性、無反射性能、電波低反射性を有するの
で建築用、車両用ガラス、産業用として種々の用途に使
用できる等の著効を有する。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例１により得られた電波低反射コーティン
グガラスの光学特性図（透過率、膜面反射率、ガラス面
反射率）である。

【図２】実施例１により得られた電波低反射コーティン
グガラスの光学特性図（屈折率、吸収）である。

【符号の説明】

１透過率２膜面反射率３ガラス面反射率４屈折率５吸収

フロントページの続きＦターム(参考） 4G059 AA01 AB11 AC06 AC07 AC20 AC30 EA13 EB04 GA01 GA12 4K029 AA09 AA24 BA35 BA41 BA44 BA46 BA47 BA48 BA49 BA50 BB02 BC08 BD00 CA05 FA06

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ガラス基板表面に、スパッタリング法によ
りＳｉ成分が１００重量％よりなるＳｉ膜が膜付けされ
てなり、膜付け後に曲げ加工及び／又は強化加工しない
ことを特徴とする電波低反射コーティングガラス。
【請求項２】Ｓｉ膜は、Ｓｉ主成分中にＢ、Ｐ、Ｇｅ、
Ａｌ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｔｉのうちの少なくとも１種を１５
重量％以下含有してなることを特徴とする請求項１記載
の電波低反射コーティングガラス。
【請求項３】Ｓｉ膜の膜特性としては、５５０ｎｍにお
ける屈折率(ｎ）が４．５±１．０以内及び吸収（ｋ）
が０．３以上であることを特徴とする請求項１又は２記
載の電波低反射コーティングガラス。
【請求項４】Ｓｉ膜の少なくとも上層或いは下層に透明
な誘電体膜が積層されてなることを特徴とする請求項１
乃至３記載の電波低反射コーティングガラス。
【請求項５】誘電体膜は、ＴｉＯ₂、ＳｎＯ₂、ＺｎＯ、
ＺｎＳｎ_xＯ_y、ＺｎＡｌ_xＯ_y、ＳｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｓ
ｉ₃Ｎ₄、ＡＩ₃Ｎ₄、ＳｉＮ_xＯ_y、ＡｌＮ_xＯ_y、Ｃｒ₂Ｏ_3,
内の少なくとも１種よりなることを特徴とする請求項４
記載の電波低反射コーティングガラス。
【請求項６】電波低反射コーティングガラスは、透明フ
ロートガラス３ｍｍ厚さ（ＦＬ３）換算で可視光線透過
率が１〜８０％、可視光線ガラス面反射率が３〜５５
％、可視光線膜面反射率１〜６０％であることを特徴と
する請求項１乃至５記載の電波低反射コーティングガラ
ス。
【請求項７】電波低反射コーティングガラスの表面抵抗
率は、１．０ｋΩ／□以上であることを特徴とする請求
項１乃至６記載の電波低反射コーティングガラス。
【請求項８】下記工程により製造することを特徴とする
電波低反射コーティングガラスの製造方法。（１）Ｓｉ膜を成膜したガラス基板を、５５０〜７００
℃の温度において加熱処理を行い曲げ加工及び／又は強
化加工を行う工程、（２）曲げ加工及び／又は強化加工
を行ったガラス基板表面に、スパッタリング法によりＳ
ｉ膜を成膜する工程。