JPH02197050A - 走査透過型位相差電子顕微鏡 - Google Patents

走査透過型位相差電子顕微鏡

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JPH02197050A
JPH02197050A JP1015590A JP1559089A JPH02197050A JP H02197050 A JPH02197050 A JP H02197050A JP 1015590 A JP1015590 A JP 1015590A JP 1559089 A JP1559089 A JP 1559089A JP H02197050 A JPH02197050 A JP H02197050A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ 本発明は、明瞭な位相差像を得ることのできる走査透過
型位相差電子顕微鏡に関するものである。
[従来の技術] 強磁性体の磁区構造等の観察を電子顕微鏡で行う方法の
一つとして、走査透過型電子顕微鏡(STEM)を使用
する位相差STEM法が知られている。
位相差STEM法は、位相差情報を像にする簡便法であ
り、2つ以上に分割された検出器を用いて透過電子線を
検出し、各検出器の信号の差を走査透過像(STEM像
)としてブラウン管上に表示するもので、位相コントラ
スト、例えば凹凸や磁区像に対して、他の方法では得が
たい優れた像を得ることができるものである。
第5図はSTEMの光学系の概略を示す図であり、図示
しない電子銃から放出された電子ビームは対物前方レン
ズ2により集束されて、矢印で示す試料3に照射される
と共に、走査コイル1により試料3の全面を走査するよ
うになされている。
電子は試料3を透過する過程において種々の方向に散乱
され、その回折像は対物結像レンズ4により、図中5で
示す対物レンズの後焦点面上に形成される。この回折像
は、第8図に示すように、試料3の位置に関係なく、試
料3によりどの方向に散乱されたかによって結像される
位置が決定される。第6図においては、試料3によりθ
0だけ散乱された電子は、試料3のどの位置で散乱され
たかによらずAの位置に結像し、試料3によりφ0だけ
散乱された電子はBの位置に結像し、試料3により散乱
されず直進した電子はOの位置に結像している。つまり
、後焦点面5においては、試料3の位相差情報を有して
いることが分かる。
そこで、後焦点面5に形成されている回折像を、第5図
のように、後段の中間レンズ6、投影レンズ7の励磁を
調整することによって拡大し、二つの検出器8.9上に
結像させる。
図においては、電子ビームが試料3の10で示す位置に
照射されている場合の光線図は実線で示されており、試
料3の11で示す位置に照射される場合の光線図は波線
で示されている。なお、このとき、試料3の電子顕微鏡
像は投影レンズ7の下部に縮小されて結像されている。
これらの検出器8.9の代わりにフィルムを置けば回折
像を撮影することはできるが、これだけでは電子がどの
ような方向に散乱されているかは分かるが、その差は知
ることができない。そこで、第5図のように二つの検出
器8.9を配置し、これらの検出器で電子ビーム量を電
気信号に変換し、その差、即ち、いま検出器8の出力を
A1  検出器9の出力をBとすると(A−B)の信号
をSTEMの電子ビーム走査信号に同期させてCRTに
表示すると、位相差像を得ることができる。つまり、位
相差情報は、対物レンズ後焦点面5上での電子回折像の
シフトとして生ずるので、当該シフトaを後段のレンズ
で拡大し、シフトした分のみの情報を像にするのである
検出器としては、第7図(a)に示すような2分割型の
ものでもよいし、同図(b)に示すような4分割型のも
のでもよく、4分割型の検出器の場合には、位相差を得
るためには、検出器15.16.17および18の出力
をそれぞれA、  B、  C,、Dとすると、 (A
+D)−(B+C)の演算を行えばよい。
[発明が解決しようとする課題] さて、明瞭な位相差像を得るためには、第8図(a)に
示すように、分離された回折像20.21を分割型検出
器8,9上に対称に投影する必要がある。もっとも、第
8図(b)に示すように分離された回折像20.21の
中心と分割型検出器8゜9の中心が一致していなくても
位相差像を観察することはできるが、非対称であるため
に演算後に余分な情報が残り、明瞭な位相差像を得るこ
とはできないし、第8図(C)のように、分離された回
折(120,21が検出器8のみに投影される場合には
位相差像を得ることは不可能である。
その解決策として、分割型検出器の位置、角度を調整す
ることにより、分離された回折像を分割型検出器上に対
称に投影するようにすることは考えられるが、検出器の
中心を光軸に正しく一致させることが困難である上に、
検出器上にどのように回折像が投影されているかを確認
することはできないために、検出器の位置、角度を調整
しようとしてもどのように調整したらよいかという情報
を得ることはできないのである。
このように、STEMにおいては1回折像と検出器の相
対的位置関係が極めて重要であるにも拘らず、その相対
位置関係を正しく合わせる手段がないものであった。
本発明は、上記の課題を解決するものであって、分離さ
れた回折像と検出器の相対位置を容易に正しく合わせる
ことができる走査透過型位相差電子顕微鏡を提供するこ
とを目的とするものである。
[課題を解決するための手段] 上記の目的を達成するために、本発明の走査透過型位相
差電子顕微鏡は、走査透過型位相差電子顕微鏡において
、位置検出型検出器をマトリクス状に配置した電子ビー
ム検出器と、前記電子ビーム検出器で検出した回折像を
記憶する記憶手段と、制御手段とを少なくとも備え、前
記制御手段は前記記憶された回折像を指定された領域に
分割し、分割された両頭域での電子ビーム投射量の差を
演算するものであることを特徴とする。
[作用] 本発明によれば、走査透過型電子顕微鏡に用いる電子線
検出器として、位ryL@出型検出器を用いたので、検
出器上のビーム形状を確認できるようになり、領域の区
分を正確に行うことができ、明瞭な位相差像を得ること
ができる。
[実施例コ 以下、図面を参照しつつ実施例を説明する。
第1図は本発明に係る走査透過型位相差電子顕微鏡の信
号処理系の構成を示す図であり、図中、30は検出器、
31は制御装置、32はフレームメモIJ、33.34
は表示装置、35は入力装置を示す。なお、光学系は第
5図に示したものと同様である。
第1図において、検出器30は従来のような分割型のも
のではなく、COD等の位置検出型検出器(P S D
 : Po5ltlon 5ensltlve Det
ector)がマトリクス状に配置された構成となされ
ている。そして、検出器30を構成する各素子は、電子
ビームが試料の全面をフレーム走査する期間、または必
要なら数フレーム走査期間に渡って照射された電荷を蓄
積し、帰線期間に制御装置31によって読み出される。
制御装置31は検出器30から読み出した信号をA/D
変換し、フレームメモリ32の所定の箇所に格納すると
共に、CRT等からなる表示装置の一方、例えば表示装
置33に表示する。このことにより、例えば、第2図の
ように分離された回折像36.37を画面上に表示する
ことができ、この画面から回折像が検出器30上のどの
ような位置にどのような状態で投影されているかを知る
ことができる。
いま、第2図の状態を考えると、分離された二つの回折
像36.37は、その交点r++  r2を結ぶ直線3
8に対して対称であるから、直線38で分けられる一方
の領域をA1  他方の領域をBとすれば、第8図(a
)に示すような理想的な状態とすることができることが
分かる。従って、オペレータが表示装置33の画面を観
察して、マウスあるいはライトペン等の適当な装置から
なる入力装置35により、交点rl+  r2の位置を
指示すれば、制御装置31は交点r++  raを結ぶ
直線を求め、表示装置33に表示すると共に、一方の領
域をA1 他方の領域をBとして差を演算する。°即ち
、制御装置31は、フレームメモリ32から先に格納し
た回折像のデータを読み出し、メモリ上のデータを領域
Aと領域Bに区分し、更に、領域A、Bのそれぞれ対応
する画素a1.b1の差、即ち CI =a+ −bl
を求めるのである。
このようにして求められた CI は、フレームメモリ
32の所定の箇所に格納されると共に、孝示装置の他方
、例えば表示装置34に表示される。
このようにすることで明瞭な位相差像を得ることができ
るのである。
以上の説明においては単純な回折パターンの場合を取り
上げたが、試料によっては第3図に示すように回折像が
4つに分離されることもある。このような場合には、例
えば、第4図に示すように、メモリの画素をA、  B
、  C,Dの4領域に区分し、所望の領域間の差、例
えば、A−B、  A−C,C−DあるいはB−Dを演
算して表示することができる。このようにすれば、各領
域間では非対称の部分があるので、得られた位相差像の
ある部分は不明瞭にはなるが、いろいろの方向から位相
差像を観察することができるものである。
[発明の効果] 以上の説明から明らかなように、検出器として分割型検
出器ではなく、位置検出型検出器を用いたので、電子ビ
ームが検出器上にどのように照射されているかを表示装
置上において確認することができるばかりでなく、この
情報をデジタルに変換し、画像表示などを行うことによ
って、検出器を任意の複数の領域に分割することができ
る。
従って、回折パターンの形状に応じて、任意の位置で任
意の方向に検出器に入る信号を分割できるので、正確に
位相差を像にすることができ、不所望のコントラストを
生じさせないようにすることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係る走査透過型位相差電子顕微鏡の信
号処理系の1実施例の構成を示す図、第2図は領域の分
割を説明する図、第3図は回折パターンの例を示す図、
第4図は第3図の回折パターンの場合の領域分割の例を
示す図、第5図は従来の位相差STEM法を説明する図
、第6図は位相差情報を説明する図、第7図は分割型検
出器を示す図、第8図は本発明の詳細な説明するための
図である。 30・・・検出器、31・・・制御装置、32・・・フ
レームメモIJ、33.34・・・表示装置、35・・
・入力装置。 出  願  人 日本電子株式会社 代理人 弁理士 菅 井 英 雄(外5名)第3図 第1 第2図 第6図 中10 第7図 (a) (b) 第8図 (a) 手続補正書 (方式) %式% 発明の名称 走査透過型位相差電子顕微鏡 3゜ 補正をする者 事件との関係

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)走査透過型位相差電子顕微鏡において、位置検出
    型検出器をマトリクス状に配置した電子ビーム検出器と
    、前記電子ビーム検出器で検出した回折像を記憶する記
    憶手段と、制御手段とを少なくとも備え、前記制御手段
    は前記記憶された回折像を指定された領域に分割し、分
    割された両領域でのビーム投射量の差を演算するもので
    あることを特徴とする走査透過型位相差電子顕微鏡。
JP1015590A 1989-01-25 1989-01-25 走査透過型位相差電子顕微鏡 Expired - Lifetime JP2563134B2 (ja)

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2002068944A1 (ja) * 2001-02-28 2004-06-24 株式会社日立製作所 微小領域物性計測方法及び装置
JP2009277619A (ja) * 2008-05-19 2009-11-26 Jeol Ltd 走査透過電子顕微鏡を用いた試料解析方法
JP2009277618A (ja) * 2008-05-19 2009-11-26 Jeol Ltd 磁区構造画像取得方法および走査透過電子顕微鏡
JP2010113972A (ja) * 2008-11-07 2010-05-20 Jeol Ltd 走査透過電子顕微鏡
CN109375358A (zh) * 2018-11-28 2019-02-22 南京理工大学 一种基于最优照明模式设计下的差分相衬定量相位显微成像方法

Families Citing this family (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE69128104T2 (de) * 1990-05-18 1998-04-09 Hitachi Ltd Elektronenmikroskop, Probenstellglied für ein Elektronenmikroskop und Verfahren zum Beobachten von mikroskopischen Bildern
JP3039563B2 (ja) * 1990-11-29 2000-05-08 株式会社日立製作所 走査電子顕微鏡及び走査電子顕微方法
JPH05109378A (ja) * 1991-10-15 1993-04-30 Hitachi Ltd 電子顕微像観察方法及び装置
JPH06181045A (ja) * 1992-10-13 1994-06-28 Hitachi Ltd 像観察方法及び透過電子顕微鏡装置
JP3441855B2 (ja) * 1995-08-25 2003-09-02 科学技術振興事業団 荷電粒子顕微鏡の観察装置
AUPP690098A0 (en) 1998-11-02 1998-11-26 University Of Melbourne, The Phase determination of a radiation wave field
JP4066078B2 (ja) * 1999-05-27 2008-03-26 株式会社ニコン 写像型電子顕微鏡
EP1209720A3 (en) * 2000-11-21 2006-11-15 Hitachi High-Technologies Corporation Energy spectrum measurement
JP3942363B2 (ja) * 2001-02-09 2007-07-11 日本電子株式会社 透過電子顕微鏡の位相板用レンズシステム、および透過電子顕微鏡
US7573301B2 (en) * 2002-12-02 2009-08-11 Silverbrook Research Pty Ltd Temperature based filter for an on-chip system clock
JP4272142B2 (ja) * 2004-12-07 2009-06-03 株式会社ルネサステクノロジ スイッチング素子並びにそれを用いたアンテナスイッチ回路及び高周波モジュール
JP2006164861A (ja) * 2004-12-10 2006-06-22 Hitachi High-Technologies Corp 走査干渉電子顕微鏡
WO2008060237A1 (en) * 2006-11-15 2008-05-22 Hovmoeller Sven Electron rotation camera
US7872236B2 (en) * 2007-01-30 2011-01-18 Hermes Microvision, Inc. Charged particle detection devices
US7960697B2 (en) * 2008-10-23 2011-06-14 Hermes-Microvision, Inc. Electron beam apparatus
US7919760B2 (en) * 2008-12-09 2011-04-05 Hermes-Microvision, Inc. Operation stage for wafer edge inspection and review
US8094924B2 (en) * 2008-12-15 2012-01-10 Hermes-Microvision, Inc. E-beam defect review system
US10170274B2 (en) * 2015-03-18 2019-01-01 Battelle Memorial Institute TEM phase contrast imaging with image plane phase grating
US10109453B2 (en) 2015-03-18 2018-10-23 Battelle Memorial Institute Electron beam masks for compressive sensors
JP6595856B2 (ja) * 2015-09-07 2019-10-23 日本電子株式会社 荷電粒子装置および測定方法
US10580614B2 (en) 2016-04-29 2020-03-03 Battelle Memorial Institute Compressive scanning spectroscopy
JP6783124B2 (ja) * 2016-11-28 2020-11-11 日本電子株式会社 走査透過電子顕微鏡および画像生成方法
US10295677B2 (en) 2017-05-08 2019-05-21 Battelle Memorial Institute Systems and methods for data storage and retrieval
TWI637166B (zh) * 2017-11-14 2018-10-01 國立臺灣大學 微分相位對比顯微系統與方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3225192A (en) * 1962-12-28 1965-12-21 Hitachi Ltd Apparatus for producing electron microscope and diffraction images separately and simultaneously on the image plane
DE1564075B1 (de) * 1966-05-13 1970-04-30 Karl-Josef Dr Rer Nat Hanssen Verfahren zur kontrastreichen Abbildung von Phasen- oder Amplitudenobjekten in einem Korpuskularstrahlgeraet,insbesondere einem Elektronenmikroskop
US3908124A (en) * 1974-07-01 1975-09-23 Us Energy Phase contrast in high resolution electron microscopy
DE2542355A1 (de) * 1975-09-19 1977-03-24 Siemens Ag Durchstrahlungs-raster-elektronenmikroskop mit ringscheibenfoermigem detektor
JPS56165255A (en) * 1980-05-26 1981-12-18 Hitachi Ltd Image indicating method for transmission scan electron microscope
NL8402340A (nl) * 1984-07-25 1986-02-17 Philips Nv Microscoop voor niet-gedifferentieerde fase-beeldvorming.

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2002068944A1 (ja) * 2001-02-28 2004-06-24 株式会社日立製作所 微小領域物性計測方法及び装置
US7385198B2 (en) 2001-02-28 2008-06-10 Hitachi, Ltd. Method and apparatus for measuring the physical properties of micro region
JP2009277619A (ja) * 2008-05-19 2009-11-26 Jeol Ltd 走査透過電子顕微鏡を用いた試料解析方法
JP2009277618A (ja) * 2008-05-19 2009-11-26 Jeol Ltd 磁区構造画像取得方法および走査透過電子顕微鏡
JP2010113972A (ja) * 2008-11-07 2010-05-20 Jeol Ltd 走査透過電子顕微鏡
CN109375358A (zh) * 2018-11-28 2019-02-22 南京理工大学 一种基于最优照明模式设计下的差分相衬定量相位显微成像方法
CN109375358B (zh) * 2018-11-28 2020-07-24 南京理工大学 一种基于最优照明模式设计下的差分相衬定量相位显微成像方法
US11487096B2 (en) 2018-11-28 2022-11-01 Nanjing University Of Science And Technology Quantitative phase imaging method based on differential phase contrast with optimal lighting pattern design

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Publication number Publication date
JP2563134B2 (ja) 1996-12-11
US5004918A (en) 1991-04-02

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