JP6595856B2 - 荷電粒子装置および測定方法 - Google Patents
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Description
荷電粒子を発生させる荷電粒子源と、
前記荷電粒子を試料に照射する照射光学系と、
前記荷電粒子を前記試料上で走査する照射偏向部と、
前記試料を透過した前記荷電粒子を結像する対物レンズと、
前記対物レンズの後段に配置され、前記荷電粒子を偏向させる結像偏向部と、
前記結像偏向部の後段に配置され、前記荷電粒子で検出面上に回折ディスクを結像する結像光学系と、
前記検出面に入射した前記荷電粒子を検出し、検出された前記荷電粒子の数に応じた強度情報を出力する検出器と、
前記検出器から出力された前記強度情報を記憶する記憶部と、
前記結像偏向部を制御する制御部と、
走査像を生成する画像生成部と、
を含み、
前記制御部は、
前記結像偏向部の第1〜第4偏向条件を設定する処理と、
前記照射偏向部を制御して、前記荷電粒子を前記試料上で走査し、前記結像偏向部を制御して、1つの走査位置ごとに、前記試料を透過した前記荷電粒子を前記第1〜第4偏向条件で、順次、偏向させて、前記回折ディスクを前記検出面上の互いに異なる領域に、順次、結像させる処理と、
を行い、
前記第1〜第4偏向条件を設定する処理では、
前記第1偏向条件は、前記試料の基準となる照射位置を透過した前記荷電粒子を前記結像偏向部で偏向させた場合に、前記回折ディスクを前記検出面の第1領域に結像させる条件に設定され、
前記第2偏向条件は、前記試料の基準となる照射位置を透過した前記荷電粒子を前記結像偏向部で偏向させた場合に、前記回折ディスクを前記検出面の第2領域に結像させる条件に設定され、
前記第3偏向条件は、前記試料の基準となる照射位置を透過した前記荷電粒子を前記結像偏向部で偏向させた場合に、前記回折ディスクを前記検出面の前記第1領域と前記検出面の中心に関して対称な第3領域に結像させる条件に設定され、
前記第4偏向条件は、前記試料の基準となる照射位置を透過した前記荷電粒子を前記結像偏向部で偏向させた場合に、前記回折ディスクを前記検出面の前記第2領域と前記検出面の中心に関して対称な第4領域に結像させる条件に設定され、
前記回折ディスクを前記第1領域に結像させた場合に前記回折ディスクは、前記検出面の境界に跨がり、
前記回折ディスクを前記第2領域に結像させた場合に前記回折ディスクは、前記検出面の境界に跨がり、
前記回折ディスクを前記第3領域に結像させた場合に前記回折ディスクは、前記検出面の境界に跨がり、
前記回折ディスクを前記第4領域に結像させた場合に前記回折ディスクは、前記検出面の境界に跨がり、
前記第1〜第4偏向条件を設定する処理では、
前記第1〜第4偏向条件は、前記試料の基準となる照射位置を透過した前記荷電粒子を前記結像偏向部で偏向させた場合に、前記第1偏向条件で前記回折ディスクを前記第1領域に結像させた場合に前記検出器で計数される前記荷電粒子の数と、前記第2偏向条件で前記回折ディスクを前記第2領域に結像させた場合に前記検出器で計数される前記荷電粒子の数と、前記第3偏向条件で前記回折ディスクを前記第3領域に結像させた場合に前記検出器で計数される前記荷電粒子の数と、前記第4偏向条件で前記回折ディスクを前記第4領域に結像させた場合に前記検出器で計数される前記荷電粒子の数とが、互いに等しくなるように設定され、
前記記憶部は、偏向条件ごとに前記強度情報と前記走査位置の情報とを関連づけて記憶し、
前記画像生成部は、
前記記憶部から、前記偏向条件ごとに記憶された前記強度情報と前記走査位置の情報を読み出して、前記第1偏向条件での第1走査像、前記第2偏向条件での第2走査像、前記第3偏向条件での第3走査像、および前記第4偏向条件での第4走査像を生成し、
前記第1走査像と前記第3走査像の差に基づく画像、および前記第2走査像と前記第4走査像の差に基づく画像を生成する。
荷電粒子を発生させる荷電粒子源と、
前記荷電粒子を試料に照射する照射光学系と、
前記荷電粒子を前記試料上で走査する照射偏向部と、
前記試料を透過した前記荷電粒子を結像する対物レンズと、
前記対物レンズの後段に配置され、前記荷電粒子を偏向させる結像偏向部と、
前記結像偏向部の後段に配置され、前記荷電粒子で検出面上に回折ディスクを結像する結像光学系と、
前記検出面に入射した前記荷電粒子を検出し、検出された前記荷電粒子の数に応じた強度情報を出力する検出器と、
を含む荷電粒子装置において、前記試料の偏向場を測定する測定方法であって、
前記結像偏向部の第1〜第4偏向条件を設定する工程と、
前記照射偏向部を制御して、前記荷電粒子を前記試料上で走査し、前記結像偏向部を制御して、1つの走査位置ごとに、前記試料を透過した前記荷電粒子を前記第1〜第4偏向条件で、順次、偏向させて、前記回折ディスクを前記検出面上の互いに異なる領域に、順次、結像させる工程と、
偏向条件ごとに前記強度情報と前記走査位置の情報とを関連づけて取得する工程と、
前記偏向条件ごとに取得された前記強度情報と前記走査位置の情報に基づいて、前記第1偏向条件での第1走査像、前記第2偏向条件での第2走査像、前記第3偏向条件での第3走査像、および前記第4偏向条件での第4走査像を生成する工程と、
前記第1走査像と前記第3走査像の差に基づく画像、および前記第2走査像と前記第4走査像の差に基づく画像を生成する工程と、
を含み、
前記第1〜第4偏向条件を設定する工程では、
前記第1偏向条件は、前記試料の基準となる照射位置を透過した前記荷電粒子を前記結像偏向部で偏向させた場合に、前記回折ディスクを前記検出面の第1領域に結像させる条件に設定され、
前記第2偏向条件は、前記試料の基準となる照射位置を透過した前記荷電粒子を前記結像偏向部で偏向させた場合に、前記回折ディスクを前記検出面の第2領域に結像させる条件に設定され、
前記第3偏向条件は、前記試料の基準となる照射位置を透過した前記荷電粒子を前記結像偏向部で偏向させた場合に、前記回折ディスクを前記検出面の前記第1領域と前記検出面の中心に関して対称な第3領域に結像させる条件に設定され、
前記第4偏向条件は、前記試料の基準となる照射位置を透過した前記荷電粒子を前記結像偏向部で偏向させた場合に、前記回折ディスクを前記検出面の前記第2領域と前記検出面の中心に関して対称な第4領域に結像させる条件に設定され、
前記回折ディスクを前記第1領域に結像させた場合に前記回折ディスクは、前記検出面の境界に跨がり、
前記回折ディスクを前記第2領域に結像させた場合に前記回折ディスクは、前記検出面の境界に跨がり、
前記回折ディスクを前記第3領域に結像させた場合に前記回折ディスクは、前記検出面の境界に跨がり、
前記回折ディスクを前記第4領域に結像させた場合に前記回折ディスクは、前記検出面の境界に跨がり、
前記第1〜第4偏向条件を設定する工程では、
前記第1〜第4偏向条件は、前記試料の基準となる照射位置を透過した前記荷電粒子を
前記結像偏向部で偏向させた場合に、前記第1偏向条件で前記回折ディスクを前記第1領域に結像させた場合に前記検出器で計数される前記荷電粒子の数と、前記第2偏向条件で前記回折ディスクを前記第2領域に結像させた場合に前記検出器で計数される前記荷電粒子の数と、前記第3偏向条件で前記回折ディスクを前記第3領域に結像させた場合に前記検出器で計数される前記荷電粒子の数と、前記第4偏向条件で前記回折ディスクを前記第4領域に結像させた場合に前記検出器で計数される前記荷電粒子の数とが、互いに等しくなるように設定される。
まず、本実施形態に係る荷電粒子装置について図面を参照しながら説明する。図1は、本実施形態に係る荷電粒子装置100の構成を模式的に示す図である。ここでは、荷電粒子装置100が走査透過電子顕微鏡(STEM)である場合について説明する。
段偏向系である。なお、照射偏向部106は、3つ以上の偏向器で構成された多段偏向系であってもよい。
108、対物レンズ110、結像偏向部112、および結像光学系114を制御する。制御部130が行う制御の詳細については、後述する。
次に、荷電粒子装置100の動作について説明する。
荷電粒子装置100では、走査透過電子顕微鏡法により走査透過電子顕微鏡像(STEM像)を取得することができる。
荷電粒子装置100では、微分位相コントラスト(DPC)法により試料の偏向場(電磁場)の測定を行うことができる。以下、荷電粒子装置100による試料の偏向場の測定方法について、詳細に説明する。
ため、あらかじめ既知の結晶性の試料を用いて測定を行うことで、電子プローブEPの収束角の大きさ、すなわち、回折ディスク2の径Dを知ることができる。収束角は、下記式で表される。
位置に結像されるように設定される。このような偏向条件では、検出面115上を4つの象限に分けた場合に、領域115a,115b,115c,115dは、それぞれの象限に位置する。
せて、回折ディスク2の移動前後の強度情報を取得する。そして、この強度情報から、強度と検出面115上における回折ディスク2の位置との関係を求める。
、偏向条件ごとに強度情報を記憶する。ここで、上述したように、偏向条件ごとの強度情報から試料の偏向場の大きさや方向を求めることができる。したがって、荷電粒子装置100では、分割検出器を用いることなく、試料の偏向場の測定を行うことができる。
(1)第1変形例
次に、本実施形態の第1変形例に係る荷電粒子装置について、図面を参照しながら説明する。図9は、第1変形例に係る荷電粒子装置200の構成を模式的に示す図である。以下、本実施形態の第1変形例に係る荷電粒子装置において、上述した荷電粒子装置100の構成部材と同様の機能を有する部材については同一の符号を付し、その詳細な説明を省略する。
偏向条件ごとの強度情報から、試料の所望の箇所の偏向場を測定することができる。
次に、本実施形態の第2変形例に係る荷電粒子装置について、図面を参照しながら説明する。図10および図11は、第2変形例に係る荷電粒子装置の結像偏向部112の動作を説明するための図である。なお、図10は、試料の基準となる照射位置を透過した電子を結像偏向部112で偏向させて、回折ディスク2を結像した状態を図示しており、図6に対応している。また、図11は、試料の走査位置(照射位置)において、試料に偏向場が生じている状態を図示しており、図7に対応している。
向させる。これにより、回折ディスク2が検出面115上の互いに異なる領域に、順次、結像する。そして、フレームメモリー120は、偏向条件ごとに、検出器116から出力された強度情報と、走査位置の情報と、を関連づけて記憶する。画像生成部132は、フレームメモリー120から、これらの情報を読み出して、偏向条件ごとに走査像I1,I2,I3,・・・,IN−1,INを生成する。
Claims (2)
- 荷電粒子を発生させる荷電粒子源と、
前記荷電粒子を試料に照射する照射光学系と、
前記荷電粒子を前記試料上で走査する照射偏向部と、
前記試料を透過した前記荷電粒子を結像する対物レンズと、
前記対物レンズの後段に配置され、前記荷電粒子を偏向させる結像偏向部と、
前記結像偏向部の後段に配置され、前記荷電粒子で検出面上に回折ディスクを結像する結像光学系と、
前記検出面に入射した前記荷電粒子を検出し、検出された前記荷電粒子の数に応じた強度情報を出力する検出器と、
前記検出器から出力された前記強度情報を記憶する記憶部と、
前記結像偏向部を制御する制御部と、
走査像を生成する画像生成部と、
を含み、
前記制御部は、
前記結像偏向部の第1〜第4偏向条件を設定する処理と、
前記照射偏向部を制御して、前記荷電粒子を前記試料上で走査し、前記結像偏向部を制御して、1つの走査位置ごとに、前記試料を透過した前記荷電粒子を前記第1〜第4偏向条件で、順次、偏向させて、前記回折ディスクを前記検出面上の互いに異なる領域に、順次、結像させる処理と、
を行い、
前記第1〜第4偏向条件を設定する処理では、
前記第1偏向条件は、前記試料の基準となる照射位置を透過した前記荷電粒子を前記結像偏向部で偏向させた場合に、前記回折ディスクを前記検出面の第1領域に結像させる条件に設定され、
前記第2偏向条件は、前記試料の基準となる照射位置を透過した前記荷電粒子を前記結像偏向部で偏向させた場合に、前記回折ディスクを前記検出面の第2領域に結像させる条件に設定され、
前記第3偏向条件は、前記試料の基準となる照射位置を透過した前記荷電粒子を前記結
像偏向部で偏向させた場合に、前記回折ディスクを前記検出面の前記第1領域と前記検出面の中心に関して対称な第3領域に結像させる条件に設定され、
前記第4偏向条件は、前記試料の基準となる照射位置を透過した前記荷電粒子を前記結像偏向部で偏向させた場合に、前記回折ディスクを前記検出面の前記第2領域と前記検出面の中心に関して対称な第4領域に結像させる条件に設定され、
前記回折ディスクを前記第1領域に結像させた場合に前記回折ディスクは、前記検出面の境界に跨がり、
前記回折ディスクを前記第2領域に結像させた場合に前記回折ディスクは、前記検出面の境界に跨がり、
前記回折ディスクを前記第3領域に結像させた場合に前記回折ディスクは、前記検出面の境界に跨がり、
前記回折ディスクを前記第4領域に結像させた場合に前記回折ディスクは、前記検出面の境界に跨がり、
前記第1〜第4偏向条件を設定する処理では、
前記第1〜第4偏向条件は、前記試料の基準となる照射位置を透過した前記荷電粒子を前記結像偏向部で偏向させた場合に、前記第1偏向条件で前記回折ディスクを前記第1領域に結像させた場合に前記検出器で計数される前記荷電粒子の数と、前記第2偏向条件で前記回折ディスクを前記第2領域に結像させた場合に前記検出器で計数される前記荷電粒子の数と、前記第3偏向条件で前記回折ディスクを前記第3領域に結像させた場合に前記検出器で計数される前記荷電粒子の数と、前記第4偏向条件で前記回折ディスクを前記第4領域に結像させた場合に前記検出器で計数される前記荷電粒子の数とが、互いに等しくなるように設定され、
前記記憶部は、偏向条件ごとに前記強度情報と前記走査位置の情報とを関連づけて記憶し、
前記画像生成部は、
前記記憶部から、前記偏向条件ごとに記憶された前記強度情報と前記走査位置の情報を読み出して、前記第1偏向条件での第1走査像、前記第2偏向条件での第2走査像、前記第3偏向条件での第3走査像、および前記第4偏向条件での第4走査像を生成し、
前記第1走査像と前記第3走査像の差に基づく画像、および前記第2走査像と前記第4走査像の差に基づく画像を生成する、荷電粒子装置。 - 荷電粒子を発生させる荷電粒子源と、
前記荷電粒子を試料に照射する照射光学系と、
前記荷電粒子を前記試料上で走査する照射偏向部と、
前記試料を透過した前記荷電粒子を結像する対物レンズと、
前記対物レンズの後段に配置され、前記荷電粒子を偏向させる結像偏向部と、
前記結像偏向部の後段に配置され、前記荷電粒子で検出面上に回折ディスクを結像する結像光学系と、
前記検出面に入射した前記荷電粒子を検出し、検出された前記荷電粒子の数に応じた強度情報を出力する検出器と、
を含む荷電粒子装置において、前記試料の偏向場を測定する測定方法であって、
前記結像偏向部の第1〜第4偏向条件を設定する工程と、
前記照射偏向部を制御して、前記荷電粒子を前記試料上で走査し、前記結像偏向部を制御して、1つの走査位置ごとに、前記試料を透過した前記荷電粒子を前記第1〜第4偏向条件で、順次、偏向させて、前記回折ディスクを前記検出面上の互いに異なる領域に、順次、結像させる工程と、
偏向条件ごとに前記強度情報と前記走査位置の情報とを関連づけて取得する工程と、
前記偏向条件ごとに取得された前記強度情報と前記走査位置の情報に基づいて、前記第1偏向条件での第1走査像、前記第2偏向条件での第2走査像、前記第3偏向条件での第3走査像、および前記第4偏向条件での第4走査像を生成する工程と、
前記第1走査像と前記第3走査像の差に基づく画像、および前記第2走査像と前記第4走査像の差に基づく画像を生成する工程と、
を含み、
前記第1〜第4偏向条件を設定する工程では、
前記第1偏向条件は、前記試料の基準となる照射位置を透過した前記荷電粒子を前記結像偏向部で偏向させた場合に、前記回折ディスクを前記検出面の第1領域に結像させる条件に設定され、
前記第2偏向条件は、前記試料の基準となる照射位置を透過した前記荷電粒子を前記結像偏向部で偏向させた場合に、前記回折ディスクを前記検出面の第2領域に結像させる条件に設定され、
前記第3偏向条件は、前記試料の基準となる照射位置を透過した前記荷電粒子を前記結像偏向部で偏向させた場合に、前記回折ディスクを前記検出面の前記第1領域と前記検出面の中心に関して対称な第3領域に結像させる条件に設定され、
前記第4偏向条件は、前記試料の基準となる照射位置を透過した前記荷電粒子を前記結像偏向部で偏向させた場合に、前記回折ディスクを前記検出面の前記第2領域と前記検出面の中心に関して対称な第4領域に結像させる条件に設定され、
前記回折ディスクを前記第1領域に結像させた場合に前記回折ディスクは、前記検出面の境界に跨がり、
前記回折ディスクを前記第2領域に結像させた場合に前記回折ディスクは、前記検出面の境界に跨がり、
前記回折ディスクを前記第3領域に結像させた場合に前記回折ディスクは、前記検出面の境界に跨がり、
前記回折ディスクを前記第4領域に結像させた場合に前記回折ディスクは、前記検出面の境界に跨がり、
前記第1〜第4偏向条件を設定する工程では、
前記第1〜第4偏向条件は、前記試料の基準となる照射位置を透過した前記荷電粒子を前記結像偏向部で偏向させた場合に、前記第1偏向条件で前記回折ディスクを前記第1領域に結像させた場合に前記検出器で計数される前記荷電粒子の数と、前記第2偏向条件で前記回折ディスクを前記第2領域に結像させた場合に前記検出器で計数される前記荷電粒子の数と、前記第3偏向条件で前記回折ディスクを前記第3領域に結像させた場合に前記検出器で計数される前記荷電粒子の数と、前記第4偏向条件で前記回折ディスクを前記第4領域に結像させた場合に前記検出器で計数される前記荷電粒子の数とが、互いに等しくなるように設定される、測定方法。
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