JPH01193250A - 1,3−シクロヘキサンジオン誘導体及びその製造方法 - Google Patents
1,3−シクロヘキサンジオン誘導体及びその製造方法Info
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- JPH01193250A JPH01193250A JP63018616A JP1861688A JPH01193250A JP H01193250 A JPH01193250 A JP H01193250A JP 63018616 A JP63018616 A JP 63018616A JP 1861688 A JP1861688 A JP 1861688A JP H01193250 A JPH01193250 A JP H01193250A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は
一般式(I):
(式中、&は低級アルキル基を示し、&は水素原子又は
ハロゲン原子を示し、R3は水素原子、低級アルキル基
又はフェニル基を示す。)で表される1、3−シクロヘ
キサンジオン誘導体及びその塩、並びに該誘導体及びそ
の塩の製造方法に関するものである。
ハロゲン原子を示し、R3は水素原子、低級アルキル基
又はフェニル基を示す。)で表される1、3−シクロヘ
キサンジオン誘導体及びその塩、並びに該誘導体及びそ
の塩の製造方法に関するものである。
本発明の化合物は文献未記載の新規化合物シクロヘキサ
ン−1,3−ジオン誘導体又はその塩が植物成長調整剤
として有用であることは特開昭62−4号公報に記載さ
れている。
ン−1,3−ジオン誘導体又はその塩が植物成長調整剤
として有用であることは特開昭62−4号公報に記載さ
れている。
しかしながら、同公報には本発明の化合物は全く開示さ
れておらず、類似の化合物が開示されているのみで、し
かもその化合物を特定出来る物性の記載されている化合
物は少なく、有用性を示すデータも記載されていないう
本発明者等は除草活性が増強され、しかも有用作物に対
して高度な選択性を示す除草剤を創出すべく鋭意研究を
重ねた結果、特願昭62−269113号として出願の
化合物を創出した。本発明はこのさきに出願した化合物
を製造するための有用な中間体である。
れておらず、類似の化合物が開示されているのみで、し
かもその化合物を特定出来る物性の記載されている化合
物は少なく、有用性を示すデータも記載されていないう
本発明者等は除草活性が増強され、しかも有用作物に対
して高度な選択性を示す除草剤を創出すべく鋭意研究を
重ねた結果、特願昭62−269113号として出願の
化合物を創出した。本発明はこのさきに出願した化合物
を製造するための有用な中間体である。
本発明の一般式(1)で表されるシクロヘキサン−1,
3−ジオン誘導体は下記に図示する互変異性体を有し、
本発明はこれらの互変異性体をも包含するものである。
3−ジオン誘導体は下記に図示する互変異性体を有し、
本発明はこれらの互変異性体をも包含するものである。
(式中、Rs 、 &及びR3は前記に同じ。)例えば
メチル、エチル、n−プロピル、n−ブチル等の低級ア
ルキル基を挙げることができ、好ましくはエチル基が良
く、R2の置換基としては例えば水素原子及び、塩素原
子、臭素原子、フッ素原子若しくはヨウ素原子等のハロ
ゲン原子を挙げることができ、好ましくは水素原子が艮
い。R3の置換基としては例えば水素原子及びメチル、
エチル、n−プロピル、n−ブチル等の低級アルキル基
を挙げることができ、好ましくは水素原子又はメチル基
が良い。
メチル、エチル、n−プロピル、n−ブチル等の低級ア
ルキル基を挙げることができ、好ましくはエチル基が良
く、R2の置換基としては例えば水素原子及び、塩素原
子、臭素原子、フッ素原子若しくはヨウ素原子等のハロ
ゲン原子を挙げることができ、好ましくは水素原子が艮
い。R3の置換基としては例えば水素原子及びメチル、
エチル、n−プロピル、n−ブチル等の低級アルキル基
を挙げることができ、好ましくは水素原子又はメチル基
が良い。
又、一般式(1)で表されるシクロヘキサン−1,3−
ジオン誘導体の塩としては例えばカリウム、ナトリウム
等のアルカリ金属塩の他、マンガン、銅、亜鉛、鉄又は
バリウム等の塩を例示することができる。
ジオン誘導体の塩としては例えばカリウム、ナトリウム
等のアルカリ金属塩の他、マンガン、銅、亜鉛、鉄又は
バリウム等の塩を例示することができる。
本発明の化合物において、目的とする化合物の作用の点
で、または製造上で好ましい化合物としては、前記一般
式(1) K bいて、1)&がエチル基を示す化合物
又はその塩、2)R1がエチル基を示し、R2が水素原
子を示す化合物又はその塩、 3)&がエチル基を示し、R2が水素原子を示し、 R3が水素原子又はメチル基を示す化合物又はその塩 を挙げることができる。
で、または製造上で好ましい化合物としては、前記一般
式(1) K bいて、1)&がエチル基を示す化合物
又はその塩、2)R1がエチル基を示し、R2が水素原
子を示す化合物又はその塩、 3)&がエチル基を示し、R2が水素原子を示し、 R3が水素原子又はメチル基を示す化合物又はその塩 を挙げることができる。
よシ具体的には、下記(4)及び(B)の化合物が挙げ
られる。
られる。
(4) 5−(1−メチル−1H−ピラゾール−5−イ
ル)−2−7”ロビオニルシクロヘキサン−1,5−ジ
オン (B)5−(1,3−ジメチル−1H−ピラゾール−5
−イル)−2−ニア’ロピオニルシクロヘキサン−1,
3−ジオン 本発明の一般式(1)で表されるシクロヘキサン−1,
3−ジオン誘導体の代表的な製造方法としては、例えば
下記に図示する製造方法を例示することができる。本発
明は下記の製造方法をも含むものである。
ル)−2−7”ロビオニルシクロヘキサン−1,5−ジ
オン (B)5−(1,3−ジメチル−1H−ピラゾール−5
−イル)−2−ニア’ロピオニルシクロヘキサン−1,
3−ジオン 本発明の一般式(1)で表されるシクロヘキサン−1,
3−ジオン誘導体の代表的な製造方法としては、例えば
下記に図示する製造方法を例示することができる。本発
明は下記の製造方法をも含むものである。
(財) 0)
(式中、& 、R鵞及びRa前記に同じくし、Xは、ハ
ロゲン原子を示す。) 即ち、一般式(転)で表される化合物と一般式(Oで表
される化合物とを塩基の存在下、不活性溶媒の存在下又
は不存在下に反応を行い、一般式(If)で表される化
合物とし、該化合物(IDを単離し又は単離せずして、
触媒の存在下に転移反応を行い一般式(1)で表される
シクロヘキサン−1,3−ジオンを製造することができ
る。
ロゲン原子を示す。) 即ち、一般式(転)で表される化合物と一般式(Oで表
される化合物とを塩基の存在下、不活性溶媒の存在下又
は不存在下に反応を行い、一般式(If)で表される化
合物とし、該化合物(IDを単離し又は単離せずして、
触媒の存在下に転移反応を行い一般式(1)で表される
シクロヘキサン−1,3−ジオンを製造することができ
る。
第一工程の反応で使用できる不活性溶媒としては、本反
応の進行を著しく阻害しないものであれば良く、例えば
塩化メチレン、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化
炭素等の[素化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシ
レン等の芳香族炭化水素類、酢酸エチルエステル等のエ
ステル類、アセトニトリル等のニトリル類、メチルセル
ソルブ、ジエチルエーテル等の鎖状エーテル類、ジオキ
サン、テトラハイドロフラン等の環状エーテル頌を例示
することができるが本発明はこれらに限定されるもので
はない。
応の進行を著しく阻害しないものであれば良く、例えば
塩化メチレン、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化
炭素等の[素化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシ
レン等の芳香族炭化水素類、酢酸エチルエステル等のエ
ステル類、アセトニトリル等のニトリル類、メチルセル
ソルブ、ジエチルエーテル等の鎖状エーテル類、ジオキ
サン、テトラハイドロフラン等の環状エーテル頌を例示
することができるが本発明はこれらに限定されるもので
はない。
本反応で使用できる塩基としては無機塩基又は有機塩基
を挙げることができ、無機塩基としてはナトリウム、カ
リウム、マグネシウム又はカルシウム等のアルカリ金属
又はアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸塩若しくはアル
コラード等を、有機塩基としては例えばトリエチルアミ
ン、ピリジン等を例え、することができる。
を挙げることができ、無機塩基としてはナトリウム、カ
リウム、マグネシウム又はカルシウム等のアルカリ金属
又はアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸塩若しくはアル
コラード等を、有機塩基としては例えばトリエチルアミ
ン、ピリジン等を例え、することができる。
塩基の使用量は、−数式■で表される化合物に対して等
モル乃至過剰に使用すれば良い。
モル乃至過剰に使用すれば良い。
本反応は等モル反応であるので反応剤は等モル使用すれ
ば良いが、−数式(IIDで表される化合物を過剰に使
用しても良い。
ば良いが、−数式(IIDで表される化合物を過剰に使
用しても良い。
反応温度Fia℃乃至溶媒の沸点域の範囲から選択すれ
ば良く、好ましくは10℃乃至50℃の範囲から選択す
れば良い。
ば良く、好ましくは10℃乃至50℃の範囲から選択す
れば良い。
反応時間は反応剤の量及び反応温度によって一定しない
が、数分乃至48時間の範囲から選択すれば良い。
が、数分乃至48時間の範囲から選択すれば良い。
反応終了後、−数式(If)で表される化合物を単離す
ることなく次の反応に供しても良く、又反応液から常法
により、例えば溶媒抽出等の操作を行い、必要によりカ
ラムクロマトグラフィー法、再結晶法等によシ精製する
ととによって一般式(If)で表される化合物を単離し
、次の反応に供することもできる。
ることなく次の反応に供しても良く、又反応液から常法
により、例えば溶媒抽出等の操作を行い、必要によりカ
ラムクロマトグラフィー法、再結晶法等によシ精製する
ととによって一般式(If)で表される化合物を単離し
、次の反応に供することもできる。
次いで第二工程である転位反応に於いて使用できる不活
性溶媒としては、転移反応を著しく阻害しないものであ
れば良く、例えばジクロロベンゼン、クロロホルム等の
塩素化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の
芳香族炭化水素類、メチルセルツルプ、ジエチルエーテ
ル等の鎖状エーテル類、テトラハイドロフラン等の環状
エーテル類、アセトニトリル、ベンゾニトリル等のニト
リル類ヲ例示することができる。
性溶媒としては、転移反応を著しく阻害しないものであ
れば良く、例えばジクロロベンゼン、クロロホルム等の
塩素化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の
芳香族炭化水素類、メチルセルツルプ、ジエチルエーテ
ル等の鎖状エーテル類、テトラハイドロフラン等の環状
エーテル類、アセトニトリル、ベンゾニトリル等のニト
リル類ヲ例示することができる。
転位反応で使用できる触媒としては、例えば4−N%N
−ジメチルアミノピリジン、アセトンシアンヒドリン、
KCN、NaCN等の触媒を例示することができる。触
媒の使用量は一般式(If)で表される化合物1モルに
対してα001乃至10モルの範囲から選択すれば良く
、好ましくはal乃至1モルの範囲から選択すれば良い
。
−ジメチルアミノピリジン、アセトンシアンヒドリン、
KCN、NaCN等の触媒を例示することができる。触
媒の使用量は一般式(If)で表される化合物1モルに
対してα001乃至10モルの範囲から選択すれば良く
、好ましくはal乃至1モルの範囲から選択すれば良い
。
又、−数式(n)で表される化合物を単離することなく
本反応を行う場合の触媒の使用量は、−数式■で表され
る化合物を基準として上記の量を使用すれば良い。
本反応を行う場合の触媒の使用量は、−数式■で表され
る化合物を基準として上記の量を使用すれば良い。
反応温度は室温乃至溶媒の沸点域の範囲から選択すれば
良く、好ましくけ加熱下で反応を行うのが良い。
良く、好ましくけ加熱下で反応を行うのが良い。
反応時間はm、反応剤の量及び反応温
度によって一定しないが、数分乃至48時間の範囲から
選択すれば良い。
選択すれば良い。
反応終了後、反応液から常法によシ、例えば溶媒抽出等
の操作を行い、必要に上りカラムクロマトグラフィー法
、再結晶法等により精製することによって一般式(1)
で表されるシクロヘキサン−1,3−ジオン誘導体を単
離することができる。
の操作を行い、必要に上りカラムクロマトグラフィー法
、再結晶法等により精製することによって一般式(1)
で表されるシクロヘキサン−1,3−ジオン誘導体を単
離することができる。
次に本発明の一般式(1)で表されるシクロヘキサン−
1,3−ジオン誘導体の代表的な化合物を第1表に挙げ
るが、本発明はこれらの化合物に限定されるものではな
い。
1,3−ジオン誘導体の代表的な化合物を第1表に挙げ
るが、本発明はこれらの化合物に限定されるものではな
い。
一般式(I):
第 1 表
本発明の製造方法で出発物質として使用される一数式函
で表される化合物は、例えば下記に図示する方法によシ
裂造することができる。
で表される化合物は、例えば下記に図示する方法によシ
裂造することができる。
Rs R鵞
(式中、R1、Rt及びR3は前記に同じ< L、R4
け低級アルキル基を示す。) 即ち、−数式(至)で表される化合物と一数式船で表さ
れる酢酸エステル類とを反応させ、−数式礪で表される
化合物とし、該化合物(至)と−数式(至)で表される
アセト酢酸エステル類とを反応させ、更に閉環反応に付
して一数式■で表される化合物を製造するが、又は−数
式(1)で表される化合物とアセトンを反応させて一般
式(至)で表される化合物とし、該化合物(至)と−数
式(V)で表されるマロン酸エステル類とを反応さぜ、
次いで閉環反応を行うことによって一般式(財)で表さ
れる化合物を製造することができる。
け低級アルキル基を示す。) 即ち、−数式(至)で表される化合物と一数式船で表さ
れる酢酸エステル類とを反応させ、−数式礪で表される
化合物とし、該化合物(至)と−数式(至)で表される
アセト酢酸エステル類とを反応させ、更に閉環反応に付
して一数式■で表される化合物を製造するが、又は−数
式(1)で表される化合物とアセトンを反応させて一般
式(至)で表される化合物とし、該化合物(至)と−数
式(V)で表されるマロン酸エステル類とを反応さぜ、
次いで閉環反応を行うことによって一般式(財)で表さ
れる化合物を製造することができる。
以下に本発明の代表釣力実施例を例示するが、本発明は
これらに限定されるものではかい。
これらに限定されるものではかい。
実施例1゜
1−1. プロピオン酸 5−(1−メチル−IH−
ピラゾール−5−イル)− 5−yF−’f−ソー1−シクロヘキセニル5−(1−
メチル−1H−ピラゾール−5−イx)シクロヘキサン
−1,3−ジオン119(ly(47ミリモル)をテト
ラハイドロフラン15m1に懸濁させ、プロピオン酸ク
ロリド(144F(4,8ミリモル)を加えた後、トリ
エチルアミン160F(&Oミリモル)を加え室温下2
時間攪拌し反応を行った。
ピラゾール−5−イル)− 5−yF−’f−ソー1−シクロヘキセニル5−(1−
メチル−1H−ピラゾール−5−イx)シクロヘキサン
−1,3−ジオン119(ly(47ミリモル)をテト
ラハイドロフラン15m1に懸濁させ、プロピオン酸ク
ロリド(144F(4,8ミリモル)を加えた後、トリ
エチルアミン160F(&Oミリモル)を加え室温下2
時間攪拌し反応を行った。
反応終了後、析出した塩を濾別し、濾液を減圧濃縮し、
得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(ヘキサン:酢酸エチル=、2 : 1 )にて精製
し下記物性の目的物[1L60Fを得た。
得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(ヘキサン:酢酸エチル=、2 : 1 )にて精製
し下記物性の目的物[1L60Fを得た。
物性 np 1.5392(14,3℃)収率51.
6%”HNMR(CDCIs 、TMS)、ppm−δ
t21(5H,t%J=7Hz)、2.5〜49(6
H,m)、五2〜五7(IH,m)、五78(5H,s
)、5.q a (IH%br、 s)、6.06(I
H,d、J=2Hz)、7.27 (IH,d、J=2
Hz) 1−2. 5−(1−7J−7−A−1,i(−ピラゾ
ール−5−イル)−2−プロ ピオニルシクロヘキサン−1,3 −ジオン製造(化合物凪1) 1−1で得られたプロピオン酸 5− (1−メチル−1H−ピラゾール−5−イル)−3−オ
キソ−1−シクロヘキセニルエステルα60y(2,4
ミリモル)と4−N、N−ジメチルアミノピリジン11
0F((18ミリモル)の混合物をテトラハイドロフラ
ン12ylノに溶解し、2時間加熱還流した。
6%”HNMR(CDCIs 、TMS)、ppm−δ
t21(5H,t%J=7Hz)、2.5〜49(6
H,m)、五2〜五7(IH,m)、五78(5H,s
)、5.q a (IH%br、 s)、6.06(I
H,d、J=2Hz)、7.27 (IH,d、J=2
Hz) 1−2. 5−(1−7J−7−A−1,i(−ピラゾ
ール−5−イル)−2−プロ ピオニルシクロヘキサン−1,3 −ジオン製造(化合物凪1) 1−1で得られたプロピオン酸 5− (1−メチル−1H−ピラゾール−5−イル)−3−オ
キソ−1−シクロヘキセニルエステルα60y(2,4
ミリモル)と4−N、N−ジメチルアミノピリジン11
0F((18ミリモル)の混合物をテトラハイドロフラ
ン12ylノに溶解し、2時間加熱還流した。
反応終了後、反応液を冷却し、溶液を減圧濃縮し、得ら
れた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(
ヘキサン:酢酸エテル=2:1)にて精製し下記物性の
目的物135Fを得た。
れた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(
ヘキサン:酢酸エテル=2:1)にて精製し下記物性の
目的物135Fを得た。
物性 nD 1.5387(19,3℃)収率5a3%
lHNMR(CDCIs 、TMS)、ppm−δ 1
.11 (3H,s)、2.4〜i (7H%m)A7
9(3H13)、5.q 9 (1H,d、 J=2H
z )7.24 (IH,d、 J=2Hz )実施例
2 2−1. プロピオン酸 5− (1,5−ジメチル
−1H−ピラゾール−5−イル) −5−オキソ−1−シクロへキセニ ルエステルの製造 5−(1,3−ジメチル−1H−ピラゾール−5−イル
)シクロヘキサン−1,5−ジオン1a40F(74,
7ミリモル)をテトラハイドロフラン300m1に懸濁
させ、プロピオン酸クロリド&92F (74,8ミリ
モル)を加えた後、トリエチルアミン7.601(75
,2ミリモル)を加え室温下2時間攪拌し反応を行った
。反応終了後、析出した塩を濾別し、韓液を減圧濃縮し
、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(ヘキサン:酢酸エチル=2:1)Kてfi袈し下
記物性の目的物17.891を得た。
lHNMR(CDCIs 、TMS)、ppm−δ 1
.11 (3H,s)、2.4〜i (7H%m)A7
9(3H13)、5.q 9 (1H,d、 J=2H
z )7.24 (IH,d、 J=2Hz )実施例
2 2−1. プロピオン酸 5− (1,5−ジメチル
−1H−ピラゾール−5−イル) −5−オキソ−1−シクロへキセニ ルエステルの製造 5−(1,3−ジメチル−1H−ピラゾール−5−イル
)シクロヘキサン−1,5−ジオン1a40F(74,
7ミリモル)をテトラハイドロフラン300m1に懸濁
させ、プロピオン酸クロリド&92F (74,8ミリ
モル)を加えた後、トリエチルアミン7.601(75
,2ミリモル)を加え室温下2時間攪拌し反応を行った
。反応終了後、析出した塩を濾別し、韓液を減圧濃縮し
、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(ヘキサン:酢酸エチル=2:1)Kてfi袈し下
記物性の目的物17.891を得た。
物性 mp 89.8〜91.5℃収率 91.5%
IHNMR(CDCA!s 、TMS)、ppm。
IHNMR(CDCA!s 、TMS)、ppm。
δ t20 (3H,t、 J=7Hz )、120(
3H%8)、2.3〜2.9 (6H%m )、五2〜
17 (IH%m)、五75(AH%g)、a87(1
)(%、)、&00(IH,br、 s)。
3H%8)、2.3〜2.9 (6H%m )、五2〜
17 (IH%m)、五75(AH%g)、a87(1
)(%、)、&00(IH,br、 s)。
2−2. 5−(1,3−ジメチル−1H−ピラゾール
−5−イル)−2−プロピ オニルシクロヘキサン−1,5−ジオ ンの製造(化合物胤2) 2−1で得られたプロピオン酸 5− (1,5−ジメチル−1H−ピラゾール−5−イル)−
3−オキソ−1−シクロヘキセニルエステル17.50
y(6&7 ミIJ モx ) ト4−N1N−ジメチ
ルアミノピリジンcL85y (7,0ミリモル)の混
合物をテトラハイドロフラン200m1に溶解し、2時
間加熱還流した。反応終了後、反応液を冷却し、溶媒を
減圧濃縮し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=2=1)にて
精製し下記物性の目的物1&40Fを得た。
−5−イル)−2−プロピ オニルシクロヘキサン−1,5−ジオ ンの製造(化合物胤2) 2−1で得られたプロピオン酸 5− (1,5−ジメチル−1H−ピラゾール−5−イル)−
3−オキソ−1−シクロヘキセニルエステル17.50
y(6&7 ミIJ モx ) ト4−N1N−ジメチ
ルアミノピリジンcL85y (7,0ミリモル)の混
合物をテトラハイドロフラン200m1に溶解し、2時
間加熱還流した。反応終了後、反応液を冷却し、溶媒を
減圧濃縮し、得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=2=1)にて
精製し下記物性の目的物1&40Fを得た。
物性 nD 1.5331 (22,2℃)収率9 A
7%’HNMR(CDCA!s 、TMS )、ppm
−δ 1.15 (!IH,t、 J=7Hz )、2
.20(3H,s)2.4〜五6(7H,m)、五77
(AH,s)、5.82(IH,8)。
7%’HNMR(CDCA!s 、TMS )、ppm
−δ 1.15 (!IH,t、 J=7Hz )、2
.20(3H,s)2.4〜五6(7H,m)、五77
(AH,s)、5.82(IH,8)。
Claims (6)
- (1)一般式( I ): ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、R_1は低級アルキル基を示し、R_2は水素
原子又はハロゲン原子を示し、R_3は水素原子、低級
アルキル基又はフェニル基を示す。)で表される1,3
−シクロヘキサンジオン誘導体及びその塩。 - (2)一般式( I )において、 R_1がエチル基であるか、 R_1がエチル基であり、R_2が水素原子であるか、
又は R_1がエチル基、R_2が水素原子であり、R_3が
水素原子又はメチル基である請求項第1項記載の化合物
。 - (3)下記の化合物から選択される請求項第2項記載の
化合物。 (A)5−(1−メチル−1H−ピラゾール−5−イル
)−2−プロピオニルシクロヘキサン−1,3−ジオン
、及び (B)5−(1,3−ジメチル−1H−ピラゾール−5
−イル)−2−プロピオニルシクロヘキサン−1,3−
ジオン。 - (4)一般式(IV): ▲数式、化学式、表等があります▼(IV) (式中、R_2は水素原子又はハロゲン原子を示し、R
_3は水素原子、低級アルキル基又はフェニル基を示す
。)で表される化合物と一般式(III): ▲数式、化学式、表等があります▼(III) (式中、R_1は低級アルキル基を示し、Xはハロゲン
原子を示す。)で表される化合物とを塩基の存在下に反
応させ、一般式(II): ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、R_1、R_2及びR_3は前記に同じ。)で
表される化合物とし、該化合物(II)を単離し又は単離
せずして、触媒の存在下に転移反応することを特徴とす
る一般式( I ): ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、R_1、R_2及びR_3は前記に同じ。)で
又はその塩の製造方法。 - (5)一般式( I )において、 R_1がエチル基であるか、 R_1がエチル基であり、R_2が水素原子であるか、
又は R_1がエテル基、R_2が水素原子であり、R_3が
水素原子又はメチル基である化合物又はその塩を得るた
めの請求項第4項記載の製造方法。 - (6)下記(A)又は(B)の化合物を得るための請求
項第5項記載の製造方法。 (A)5−(1−メチル−1H−ピラゾール−5−イル
)−2−プロピオニルシクロヘキサン−1,3−ジオン (B)5−(1,3−ジメチル−1H−ピラゾール−5
−イル)−2−プロピオニルシクロヘキサン−1,3−
ジオン
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63018616A JP2784920B2 (ja) | 1988-01-29 | 1988-01-29 | 1,3−シクロヘキサンジオン誘導体 |
US07/186,436 US4863504A (en) | 1987-04-27 | 1988-04-26 | Cyclohexadione derivatives, selective herbicidal compositions as well as herbicidal method |
DE8888303733T DE3867531D1 (de) | 1987-04-27 | 1988-04-26 | Cyclohexadion-derivate, verfahren zu ihrer herstellung und selektive herbizide zusammensetzungen sowie herbizide methode. |
EP88303733A EP0292122B1 (en) | 1987-04-27 | 1988-04-26 | Cyclohexadione derivatives, process for preparing the same and selective herbicidal compositions as well as herbicidal method |
KR1019880004760A KR930004671B1 (ko) | 1987-04-27 | 1988-04-27 | 사이클로헥산디온 유도체, 그의 제조방법, 선택성 제초제 및 제초방법 |
AR88310685A AR243872A1 (es) | 1987-04-27 | 1988-04-27 | Derivados de ciclohexanona, procedimiento para su preparacion composiciones herbicidas selectivas y compuestos intermediarios de aplicacion en dicho procedimiento |
BR8805562A BR8805562A (pt) | 1988-01-29 | 1988-10-27 | Derivado de ciclo-hexano-1,3-diona,composto ou sal do mesmo,processo para preparar o derivado,composicao herbicida seletiva e processo para controlar ervas daninhas |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63018616A JP2784920B2 (ja) | 1988-01-29 | 1988-01-29 | 1,3−シクロヘキサンジオン誘導体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01193250A true JPH01193250A (ja) | 1989-08-03 |
JP2784920B2 JP2784920B2 (ja) | 1998-08-13 |
Family
ID=11976556
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63018616A Expired - Fee Related JP2784920B2 (ja) | 1987-04-27 | 1988-01-29 | 1,3−シクロヘキサンジオン誘導体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2784920B2 (ja) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57200358A (en) * | 1981-05-29 | 1982-12-08 | Basf Ag | Cyclohexane-1, 3-dione derivative, manufacture and herbicide containing same as effective component |
JPS60109557A (ja) * | 1983-10-05 | 1985-06-15 | バスフ アクチェン ゲゼルシャフト | シクロヘキセノ−ル誘導体、その製造法及び該化合物を有効物質として含有する除草剤 |
-
1988
- 1988-01-29 JP JP63018616A patent/JP2784920B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57200358A (en) * | 1981-05-29 | 1982-12-08 | Basf Ag | Cyclohexane-1, 3-dione derivative, manufacture and herbicide containing same as effective component |
JPS60109557A (ja) * | 1983-10-05 | 1985-06-15 | バスフ アクチェン ゲゼルシャフト | シクロヘキセノ−ル誘導体、その製造法及び該化合物を有効物質として含有する除草剤 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2784920B2 (ja) | 1998-08-13 |
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