JP3116171B2 - ピラゾール誘導体の製法及びその中間体並びにその製法 - Google Patents
ピラゾール誘導体の製法及びその中間体並びにその製法Info
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は一般式(XV) (式中、R’は低級アルキル基又は (式中、Xは後記の意味を示す。)を示し、Xは同一又
は異なっても良いハロゲン原子を示す。)で表される化
合物をハロゲン化剤の存在下にハロゲン化し、一般式
(XIV) (式中、Rは低級アルキル基又は (式中、X及びYは後記の意味を示す。)を示し、X及
びYは同一又は異なっても良いハロゲン原子を示す。)
で表される化合物とし、該化合物(XIV)を単離して
一般式(XIII) R1−OH (XIII) (式中、R1は低級アルキル基を示す。)で表されるア
ルコール類と一酸化炭素、塩基及び触媒の存在下に反応
を行い、一般式(XII) (式中、R1及びXは前記に同じ。)で表される化合物
とし、該化合物(XII)を単離し又は単離せずして塩
基の存在下に一般式(XI) R2−Z (XI) (式中、R2は低級アルキル基を示し、Zはハロゲン原
子を示す。)で表されるハライド類とを反応させ、一般
式(X) (式中、R1、R2及びXは前記に同じ。)で表される
化合物とし、該化合物(X)を単離し又は単離せずして
加水分解反応することにより、一般式(IX) (式中、R2及びXは前記に同じ。)で表される化合物
とし、該化合物(IX)をハロゲン化剤によりハロゲン
化反応することにより、一般式(VIII) (式中、R2、X及びZは前記に同じ。)で表される酸
ハライド類とし、該酸ハライド類を単離して一般式(V
II) CH2(CO−OR3)2 (VII) (式中、R3は低級アルキル基を示す。)で表されるマ
ロン酸エステル類と反応させ、一般式(VI) (式中、R2、R3及びXは前記に同じ。)で表される
化合物とし、該化合物(VI)を単離し又は単離せずし
て脱エステル化反応することにより、一般式(V) (式中、R2、R3及びXは前記に同じ。)で表される
化合物とし、該化合物(V)を単離し又は単離せずして
一般式(IV) R4−NHNH2 (IV) (式中、R4は低級アルキル基を示す。)で表されるヒ
ドラジン類と反応させ,一般式(III) (式中、R2、R4及びXは前記に同じ。)で表される
ピラゾール類とし、該化合物(III)を単離し又は単
離せずして一般式(II) R5−Z (II) (式中、R5は低級ハロアルキル基を示し、Zは前記に
同じ。)で表されるハライド類と反応させることを特徴
とする一般式(I) (式中、R2、R4、R5及びXは前記に同じ。)で表
されるピラゾール誘導体の製法及びその中間体並びにそ
の製造方法に関するものである。
は異なっても良いハロゲン原子を示す。)で表される化
合物をハロゲン化剤の存在下にハロゲン化し、一般式
(XIV) (式中、Rは低級アルキル基又は (式中、X及びYは後記の意味を示す。)を示し、X及
びYは同一又は異なっても良いハロゲン原子を示す。)
で表される化合物とし、該化合物(XIV)を単離して
一般式(XIII) R1−OH (XIII) (式中、R1は低級アルキル基を示す。)で表されるア
ルコール類と一酸化炭素、塩基及び触媒の存在下に反応
を行い、一般式(XII) (式中、R1及びXは前記に同じ。)で表される化合物
とし、該化合物(XII)を単離し又は単離せずして塩
基の存在下に一般式(XI) R2−Z (XI) (式中、R2は低級アルキル基を示し、Zはハロゲン原
子を示す。)で表されるハライド類とを反応させ、一般
式(X) (式中、R1、R2及びXは前記に同じ。)で表される
化合物とし、該化合物(X)を単離し又は単離せずして
加水分解反応することにより、一般式(IX) (式中、R2及びXは前記に同じ。)で表される化合物
とし、該化合物(IX)をハロゲン化剤によりハロゲン
化反応することにより、一般式(VIII) (式中、R2、X及びZは前記に同じ。)で表される酸
ハライド類とし、該酸ハライド類を単離して一般式(V
II) CH2(CO−OR3)2 (VII) (式中、R3は低級アルキル基を示す。)で表されるマ
ロン酸エステル類と反応させ、一般式(VI) (式中、R2、R3及びXは前記に同じ。)で表される
化合物とし、該化合物(VI)を単離し又は単離せずし
て脱エステル化反応することにより、一般式(V) (式中、R2、R3及びXは前記に同じ。)で表される
化合物とし、該化合物(V)を単離し又は単離せずして
一般式(IV) R4−NHNH2 (IV) (式中、R4は低級アルキル基を示す。)で表されるヒ
ドラジン類と反応させ,一般式(III) (式中、R2、R4及びXは前記に同じ。)で表される
ピラゾール類とし、該化合物(III)を単離し又は単
離せずして一般式(II) R5−Z (II) (式中、R5は低級ハロアルキル基を示し、Zは前記に
同じ。)で表されるハライド類と反応させることを特徴
とする一般式(I) (式中、R2、R4、R5及びXは前記に同じ。)で表
されるピラゾール誘導体の製法及びその中間体並びにそ
の製造方法に関するものである。
【0002】本発明の製法による一般式(I) で表される
ピラゾ−ル誘導体及びその中間体等は医薬,農薬等の中
間体として有用な化合物であり,特に除草剤の中間体と
して有用な化合物である.
ピラゾ−ル誘導体及びその中間体等は医薬,農薬等の中
間体として有用な化合物であり,特に除草剤の中間体と
して有用な化合物である.
【0003】
【発明が解決しようとする課題】特願昭63−2171
64号及び特願平1−225724号に本願出願人が特
許出願したピラゾ−ル誘導体が除草剤として有用である
ことが記載されており、本発明者等は該ピラゾ−ル誘導
体類を効率的に且つ経済的に製造すべく鋭意その製法を
研究した結果、本発明を完成させたものである。
64号及び特願平1−225724号に本願出願人が特
許出願したピラゾ−ル誘導体が除草剤として有用である
ことが記載されており、本発明者等は該ピラゾ−ル誘導
体類を効率的に且つ経済的に製造すべく鋭意その製法を
研究した結果、本発明を完成させたものである。
【0004】
【課題を解決するための手段】本製法を、例えば図式的
に示すと下記の通り示すことができる。 (式中、R'、R 、R1、R2、R3、R4、R5、X、Y及びZは
前記に同じ。)
に示すと下記の通り示すことができる。 (式中、R'、R 、R1、R2、R3、R4、R5、X、Y及びZは
前記に同じ。)
【0005】一般式(XV)で表される化合物を不活性溶媒
及びハロゲン化剤の存在下にハロゲン化反応させること
により一般式(XIV) で表される化合物とし、該化合物(X
IV) を単離して一般式(XIII)で表されるアルコ−ル類
と、不活性溶媒の存在下又は不存在下及び一酸化炭素,
塩基及び触媒の存在下に反応させ,一般式(XII) で表さ
れる化合物とし、該化合物(XII) を単離し、又は単離せ
ずして不活性溶媒及び塩基の存在下に一般式(XI)で表さ
れるハライド類とを反応させ一般式(X) で表される化合
物とし、該化合物(X) を単離し、又は単離せずして酸の
存在下により加水分解反応を行い一般式(IX)で表される
化合物とし、該化合物(IX)を不活性溶媒の存在下にハロ
ゲン化剤によりハロゲン化反応することにより一般式(V
III)で表される酸ハライド類とし、該酸ハライド類を単
離して一般式(VII) で表されるマロン酸エステル類とを
不活性溶媒及び塩基の存在下に反応させ一般式(VI)で表
される化合物とし、該化合物(VI)を単離し、又は単離せ
ずして不活性溶媒の存在下に脱エステル化反応し一般式
(V) で表される化合物とし、該化合物(V) を単離し、又
は単離せずして一般式(IV)で表されるヒドラジン類とを
不活性溶媒及び塩基の存在下に反応させ一般式(III) で
表されるピラゾ−ル類とし、該化合物(III) を単離し、
又は単離せずして一般式(II)で表されるハライド類とを
不活性溶媒及び塩基の存在下に反応させることにより、
一般式(I) で表されるピラゾ−ル誘導体を製造するもの
である。
及びハロゲン化剤の存在下にハロゲン化反応させること
により一般式(XIV) で表される化合物とし、該化合物(X
IV) を単離して一般式(XIII)で表されるアルコ−ル類
と、不活性溶媒の存在下又は不存在下及び一酸化炭素,
塩基及び触媒の存在下に反応させ,一般式(XII) で表さ
れる化合物とし、該化合物(XII) を単離し、又は単離せ
ずして不活性溶媒及び塩基の存在下に一般式(XI)で表さ
れるハライド類とを反応させ一般式(X) で表される化合
物とし、該化合物(X) を単離し、又は単離せずして酸の
存在下により加水分解反応を行い一般式(IX)で表される
化合物とし、該化合物(IX)を不活性溶媒の存在下にハロ
ゲン化剤によりハロゲン化反応することにより一般式(V
III)で表される酸ハライド類とし、該酸ハライド類を単
離して一般式(VII) で表されるマロン酸エステル類とを
不活性溶媒及び塩基の存在下に反応させ一般式(VI)で表
される化合物とし、該化合物(VI)を単離し、又は単離せ
ずして不活性溶媒の存在下に脱エステル化反応し一般式
(V) で表される化合物とし、該化合物(V) を単離し、又
は単離せずして一般式(IV)で表されるヒドラジン類とを
不活性溶媒及び塩基の存在下に反応させ一般式(III) で
表されるピラゾ−ル類とし、該化合物(III) を単離し、
又は単離せずして一般式(II)で表されるハライド類とを
不活性溶媒及び塩基の存在下に反応させることにより、
一般式(I) で表されるピラゾ−ル誘導体を製造するもの
である。
【0006】 一般式(XV) → 一般式(XIV) (式中、R'、R、X及びYは前記に同じ。)本反応で使
用できる不活性溶媒としては、例えば硫酸等の鉱酸や氷
酢酸等の有機酸及びこれらの混合物を使用することがで
きる。 ハロゲン化剤としては塩素、塩素酸カリウム、塩素−硫
酸銀、臭素,臭素酸カリウム、臭素−硫酸銀、沃素−硫
酸銀、一塩化沃素等を使用することができ,その使用量
は一般式(XV)で表される化合物に対して1〜1.5倍モ
ルの範囲で使用することができる。本反応は、例えば臭
素化剤として臭素と同時に塩素を使用することが好まし
く、その使用量は等モル乃至過剰モルの範囲である。反
応温度は室温乃至使用する不活性溶媒の沸点域の範囲か
ら選択すれば良い。反応時間は反応試剤の量及び反応温
度等により一定しないが、数分乃至48時間の範囲であ
る。反応終了後、常法により単離し、必要に応じて精製
し、目的物を製造することができる。
用できる不活性溶媒としては、例えば硫酸等の鉱酸や氷
酢酸等の有機酸及びこれらの混合物を使用することがで
きる。 ハロゲン化剤としては塩素、塩素酸カリウム、塩素−硫
酸銀、臭素,臭素酸カリウム、臭素−硫酸銀、沃素−硫
酸銀、一塩化沃素等を使用することができ,その使用量
は一般式(XV)で表される化合物に対して1〜1.5倍モ
ルの範囲で使用することができる。本反応は、例えば臭
素化剤として臭素と同時に塩素を使用することが好まし
く、その使用量は等モル乃至過剰モルの範囲である。反
応温度は室温乃至使用する不活性溶媒の沸点域の範囲か
ら選択すれば良い。反応時間は反応試剤の量及び反応温
度等により一定しないが、数分乃至48時間の範囲であ
る。反応終了後、常法により単離し、必要に応じて精製
し、目的物を製造することができる。
【0007】本製法による一般式(XIV) で表される化合
物の代表例を表1に例示する。
物の代表例を表1に例示する。
【表1】
【0008】 一般式(XIV) → 一般式(XII) 本反応は不活性溶媒の存在下又は不存在下に行うことが
でき、使用できる不活性溶媒としては、例えばアルコ−
ル、ヘキサン、ベンゼン、エ−テル、テトラヒドロフラ
ン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ヘキサメ
チルホスホロトリアミド等の有機溶媒を使用することが
でき、好ましくは一般式(XIII)で表されるアルコ−ル類
を過剰に使用することにより、不活性溶媒及び反応剤と
して使用することができ、その際の使用量は好ましくは
一般式(XIV) で表される化合物に対して10〜50倍モ
ルの範囲から選択すれば良い。本発明はパラジウム化合
物及びホスフィン化合物を併用し、パラジウム化合物と
しては、例えば金属パラジウム、パラジウムカ−ボン、
パラジウムアルミナ、塩化パラジウム、酢酸パラジウ
ム、臭化パラジウム等のパラジウム金属、固体に担持さ
れたパラジウム金属、パラジウムの0価、2価若しくは
4価のパラジウム化合物を使用することができる。
でき、使用できる不活性溶媒としては、例えばアルコ−
ル、ヘキサン、ベンゼン、エ−テル、テトラヒドロフラ
ン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ヘキサメ
チルホスホロトリアミド等の有機溶媒を使用することが
でき、好ましくは一般式(XIII)で表されるアルコ−ル類
を過剰に使用することにより、不活性溶媒及び反応剤と
して使用することができ、その際の使用量は好ましくは
一般式(XIV) で表される化合物に対して10〜50倍モ
ルの範囲から選択すれば良い。本発明はパラジウム化合
物及びホスフィン化合物を併用し、パラジウム化合物と
しては、例えば金属パラジウム、パラジウムカ−ボン、
パラジウムアルミナ、塩化パラジウム、酢酸パラジウ
ム、臭化パラジウム等のパラジウム金属、固体に担持さ
れたパラジウム金属、パラジウムの0価、2価若しくは
4価のパラジウム化合物を使用することができる。
【0009】ホスフィン化合物としては、例えばトリイ
ソプロピルホスフィン、トリブチルホスフィン等のトリ
アルキルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリパ
ラフルオロフェニルホスフィン、トリパラトリルフェニ
ルホスフィン等のトリアリ−ルホスフィンの他に1,1
−ビス(ジメチルホスフィノ)メタン、1,1−ビス
(ジエチルホスフィノ)メタン、1,2−ビス(ジメチ
ルホスフィノ)エタン、1,2−ビス(ジエチルホスフ
ィノ)エタン、1,3−ビス(ジメチルホスフィノ)プ
ロパン、1,3−ビス(ジエチルホスフィノ)プロパ
ン、1,4−ビス(ジメチルホスフィノ)ブタン等のビ
ス(ジアルキルホスフィノ)アルカン類、1,2−ビス
(ジフェニルホスフィノ)エタン、1,3−ビス(ジフ
ェニルホスフィノ)プロパン、1,4−ビス(ジフェニ
ルホスフィノ)ブタン等のビス(ジフェニルホスフィ
ノ)アルカン類等を例示することができる。ホスフィン
化合物の添加量はパラジウム化合物に対して0.01〜
100倍モルの範囲から選択して使用すれば良く、好ま
しくは0.1〜50倍モルの範囲である。本反応はパラ
ジウム化合物とホスフィン化合物を組み合わせて使用す
れば良く、反応系にそれぞれ単独で使用しても良く、予
め錯体の形に調製して使用しても良い。パラジウム化合
物及びホスフィン化合物を反応系に添加する量としては
一般式(XIV) で表される化合物1モルに対して0.00
01〜1倍モルの範囲で使用すれば良い。
ソプロピルホスフィン、トリブチルホスフィン等のトリ
アルキルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリパ
ラフルオロフェニルホスフィン、トリパラトリルフェニ
ルホスフィン等のトリアリ−ルホスフィンの他に1,1
−ビス(ジメチルホスフィノ)メタン、1,1−ビス
(ジエチルホスフィノ)メタン、1,2−ビス(ジメチ
ルホスフィノ)エタン、1,2−ビス(ジエチルホスフ
ィノ)エタン、1,3−ビス(ジメチルホスフィノ)プ
ロパン、1,3−ビス(ジエチルホスフィノ)プロパ
ン、1,4−ビス(ジメチルホスフィノ)ブタン等のビ
ス(ジアルキルホスフィノ)アルカン類、1,2−ビス
(ジフェニルホスフィノ)エタン、1,3−ビス(ジフ
ェニルホスフィノ)プロパン、1,4−ビス(ジフェニ
ルホスフィノ)ブタン等のビス(ジフェニルホスフィ
ノ)アルカン類等を例示することができる。ホスフィン
化合物の添加量はパラジウム化合物に対して0.01〜
100倍モルの範囲から選択して使用すれば良く、好ま
しくは0.1〜50倍モルの範囲である。本反応はパラ
ジウム化合物とホスフィン化合物を組み合わせて使用す
れば良く、反応系にそれぞれ単独で使用しても良く、予
め錯体の形に調製して使用しても良い。パラジウム化合
物及びホスフィン化合物を反応系に添加する量としては
一般式(XIV) で表される化合物1モルに対して0.00
01〜1倍モルの範囲で使用すれば良い。
【0010】本反応で使用する塩基としては無機塩基、
有機塩基又は有機酸塩を使用することができ、例えば炭
酸ナトリウム,炭酸カリウム,炭酸水素ナトリウム、炭
酸水素カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、
水酸化カルシウム、酸化カルシウム等の無機塩基,トリ
エチルアミン,トリブチルアミン,ピリジン,N−メチ
ルピロリドン、N,N−ジメチルアニリン等の有機塩
基、酢酸ナトリウム等の有機酸塩等を使用することがで
きる。塩基の使用量は生成するハロゲン化水素を中和す
るのに必要な量を使用すれば良い。又、有機塩基を使用
する場合,水を同時に使用することもできるが、その場
合の水の使用量は一般式(XIV) で表される化合物に対し
て0.2〜100倍モルの範囲で使用すれば良い。本反
応は常圧乃至加圧下に行われ、一酸化炭素の圧力は1〜
200気圧の範囲で行われ、好ましくは1〜50気圧の
範囲である。本反応の反応温度は30℃〜300℃の範
囲で行えば良い。本反応で用いられる反応容器としては
通常用いられるもので良く、加圧反応の場合、加圧に耐
えるものであれば良く、金属製又はガラス製の反応容器
が使用できる。反応時間は反応試剤の量及び反応温度等
により一定しないが、数分乃至48時間の範囲である。
反応終了後、目的物を含む反応系から常法によって処理
することにより目的物を製造することができ、必要に応
じて精製して次の反応に供すれば良い。又、目的物を単
離することなく次の反応に供することもできる。
有機塩基又は有機酸塩を使用することができ、例えば炭
酸ナトリウム,炭酸カリウム,炭酸水素ナトリウム、炭
酸水素カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、
水酸化カルシウム、酸化カルシウム等の無機塩基,トリ
エチルアミン,トリブチルアミン,ピリジン,N−メチ
ルピロリドン、N,N−ジメチルアニリン等の有機塩
基、酢酸ナトリウム等の有機酸塩等を使用することがで
きる。塩基の使用量は生成するハロゲン化水素を中和す
るのに必要な量を使用すれば良い。又、有機塩基を使用
する場合,水を同時に使用することもできるが、その場
合の水の使用量は一般式(XIV) で表される化合物に対し
て0.2〜100倍モルの範囲で使用すれば良い。本反
応は常圧乃至加圧下に行われ、一酸化炭素の圧力は1〜
200気圧の範囲で行われ、好ましくは1〜50気圧の
範囲である。本反応の反応温度は30℃〜300℃の範
囲で行えば良い。本反応で用いられる反応容器としては
通常用いられるもので良く、加圧反応の場合、加圧に耐
えるものであれば良く、金属製又はガラス製の反応容器
が使用できる。反応時間は反応試剤の量及び反応温度等
により一定しないが、数分乃至48時間の範囲である。
反応終了後、目的物を含む反応系から常法によって処理
することにより目的物を製造することができ、必要に応
じて精製して次の反応に供すれば良い。又、目的物を単
離することなく次の反応に供することもできる。
【0011】 一般式(XII) → 一般式(X) 本反応で使用できる不活性溶媒としては、本反応の進行
を阻害しないものであれば良く、例えば塩化メチレン、
クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、
ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、
酢酸エチル等のエステル類、アセトニトル、ベンゾニト
リル等のニトリル類、メチルセロソルブ、ジエチルエ−
テル等の鎖状エ−テル類、ジオキサン、テトラヒドロフ
ラン等の環状エ−テル類、スルホラン、ジメチルスルホ
キシド、水等を例示することができ、これらの不活性溶
媒は単独で使用しても良く、混合して使用しても良い。
又、水及び有機溶媒の混合溶媒を使用する場合、塩基と
ともに相間移動触媒を使用することもできる。本反応で
使用できる塩基としては無機塩基又は有機塩基を使用す
ることができ、無機塩基としては、例えばナトリウム、
カリウム、マグネシウム若しくはカルシウム等のアルカ
リ金属若しくはアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸塩若
しくはアルコラ−ト等を、有機塩基としては、例えばト
リエチルアミン、ピリジン等を例示することができる。
を阻害しないものであれば良く、例えば塩化メチレン、
クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、
ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、
酢酸エチル等のエステル類、アセトニトル、ベンゾニト
リル等のニトリル類、メチルセロソルブ、ジエチルエ−
テル等の鎖状エ−テル類、ジオキサン、テトラヒドロフ
ラン等の環状エ−テル類、スルホラン、ジメチルスルホ
キシド、水等を例示することができ、これらの不活性溶
媒は単独で使用しても良く、混合して使用しても良い。
又、水及び有機溶媒の混合溶媒を使用する場合、塩基と
ともに相間移動触媒を使用することもできる。本反応で
使用できる塩基としては無機塩基又は有機塩基を使用す
ることができ、無機塩基としては、例えばナトリウム、
カリウム、マグネシウム若しくはカルシウム等のアルカ
リ金属若しくはアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸塩若
しくはアルコラ−ト等を、有機塩基としては、例えばト
リエチルアミン、ピリジン等を例示することができる。
【0012】塩基の使用量は一般式(XII) で表される化
合物に対して等モル乃至過剰モルの範囲から選択して使
用すれ良い。本反応は等モル反応であるので各反応試剤
を等モル使用すれば良いが、何れかを過剰に使用するこ
ともでき、一般式(XI)の他にジアルキル硫酸等も使用す
ることができる。本反応の反応温度は0℃乃至使用する
不活性溶媒の沸点域から選択すれば良い。反応終了後,
と同様に処理することにより目的物を製造することが
でき、単離せずして次の反応に供することもできる。
又、一般式(X) で表される化合物は下記の製法によって
も製造することができる。
合物に対して等モル乃至過剰モルの範囲から選択して使
用すれ良い。本反応は等モル反応であるので各反応試剤
を等モル使用すれば良いが、何れかを過剰に使用するこ
ともでき、一般式(XI)の他にジアルキル硫酸等も使用す
ることができる。本反応の反応温度は0℃乃至使用する
不活性溶媒の沸点域から選択すれば良い。反応終了後,
と同様に処理することにより目的物を製造することが
でき、単離せずして次の反応に供することもできる。
又、一般式(X) で表される化合物は下記の製法によって
も製造することができる。
【0013】 (式中、R1、R2 、X及びYは前記に同じ。)一般式
(XV)で表される化合物をハロゲン化するか、又は一
般式(XIV)で表される化合物の保護基を脱保護し、
一般式(XVII)で表される化合物とし、該化合物
(XVII)をアルキル化することにより、一般式(X
VI)で表される化合物とし、更に該化合物(XVI)
を不活性溶媒の存在下又は不存在下及び塩基、触媒、一
酸化炭素の存在下に一般式(XIII)で表されるアル
コール類と反応することにより目的物を製造することが
できる。本反応はと同様にすることにより目的物を製
造することができる。
(XV)で表される化合物をハロゲン化するか、又は一
般式(XIV)で表される化合物の保護基を脱保護し、
一般式(XVII)で表される化合物とし、該化合物
(XVII)をアルキル化することにより、一般式(X
VI)で表される化合物とし、更に該化合物(XVI)
を不活性溶媒の存在下又は不存在下及び塩基、触媒、一
酸化炭素の存在下に一般式(XIII)で表されるアル
コール類と反応することにより目的物を製造することが
できる。本反応はと同様にすることにより目的物を製
造することができる。
【0014】 一般式(X) → 一般式(IX) 本反応で使用できる不活性溶媒としてはメタノ−ル、エ
タノ−ル、プロパノ−ル等のアルコ−ル類を使用するこ
とができる。本反応で使用できる塩基としては水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸化物
を使用することができ、その使用量は一般式(X) で表さ
れる化合物に対して1〜5倍モルの範囲から使用すれば
良い。反応温度は0℃〜50℃の範囲から選択すれば良
い。反応時間は反応試剤の量及び反応温度等により一定
しないが、数分乃至48時間の範囲である。反応終了
後、と同様に処理することにより目的物を製造するこ
とができ、単離せずして次の反応に供することもでき
る。
タノ−ル、プロパノ−ル等のアルコ−ル類を使用するこ
とができる。本反応で使用できる塩基としては水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸化物
を使用することができ、その使用量は一般式(X) で表さ
れる化合物に対して1〜5倍モルの範囲から使用すれば
良い。反応温度は0℃〜50℃の範囲から選択すれば良
い。反応時間は反応試剤の量及び反応温度等により一定
しないが、数分乃至48時間の範囲である。反応終了
後、と同様に処理することにより目的物を製造するこ
とができ、単離せずして次の反応に供することもでき
る。
【0015】 一般式(IX) → 一般式(VIII) 本反応で使用できる不活性溶媒としては、例えば塩化メ
チレン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化
水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化
水素類、メチルセロソルブ、ジエチルエ−テル等の鎖状
エ−テル類、ジオキサン、テトラヒドロフラン等の環状
エ−テル類を例示することができる。ハロゲン化剤とし
ては、例えば塩化チオニル、三塩化リン、三臭リン、五
塩化リン等を例示することができる。ハロゲン化剤の使
用量は一般式(IX)で表される化合物に対して等モル乃至
過剰モルの範囲から選択すれば良く、好ましくは過剰量
使用するのが良い。本反応の進行を促進させる目的で触
媒量のトリエチルアミン、ピリジン、ジメチルホルムア
ミド等を添加しても良い。反応温度は室温乃至使用する
不活性溶媒の沸点域の範囲から選択すれば良い。反応時
間は反応試剤の量及び反応温度等により一定しないが、
数分乃至48時間の範囲である。反応終了後、目的物を
含む反応液から過剰のハロゲン化剤及び不活性溶媒を留
去することにより目的物を製造することができ、単離せ
ずして過剰のハロゲン化剤を留去し、次の反応に供する
こともできる。
チレン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化
水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化
水素類、メチルセロソルブ、ジエチルエ−テル等の鎖状
エ−テル類、ジオキサン、テトラヒドロフラン等の環状
エ−テル類を例示することができる。ハロゲン化剤とし
ては、例えば塩化チオニル、三塩化リン、三臭リン、五
塩化リン等を例示することができる。ハロゲン化剤の使
用量は一般式(IX)で表される化合物に対して等モル乃至
過剰モルの範囲から選択すれば良く、好ましくは過剰量
使用するのが良い。本反応の進行を促進させる目的で触
媒量のトリエチルアミン、ピリジン、ジメチルホルムア
ミド等を添加しても良い。反応温度は室温乃至使用する
不活性溶媒の沸点域の範囲から選択すれば良い。反応時
間は反応試剤の量及び反応温度等により一定しないが、
数分乃至48時間の範囲である。反応終了後、目的物を
含む反応液から過剰のハロゲン化剤及び不活性溶媒を留
去することにより目的物を製造することができ、単離せ
ずして過剰のハロゲン化剤を留去し、次の反応に供する
こともできる。
【0016】 一般式(VIII) → 一般式(VI) 本反応はと同様に反応をおこなうことにより目的物を
製造することができる。 一般式(VI) → 一般式(V) 本反応で使用できる不活性溶媒としては一般式(VI)で表
される化合物のエステル部分に相当するメタノ−ル、エ
タノ−ル、プロパノ−ル等のアルコ−ル類、水及びこれ
らの混合物を使用することができる。本反応で使用でき
る酸としてはパラトルエンスルホン酸等の有機酸、硫酸
等の無機酸を使用することができ、その使用量は一般式
(VI)で表される化合物に対して0.001〜1倍モルの
範囲から使用すれば良い。反応温度は室温〜150℃の
範囲から選択すれば良い。反応時間は反応試剤の量及び
反応温度等により一定しないが、数分乃至48時間の範
囲である。反応終了後、と同様に処理することにより
目的物を製造することができ、単離せずして次の反応に
供することもできる。
製造することができる。 一般式(VI) → 一般式(V) 本反応で使用できる不活性溶媒としては一般式(VI)で表
される化合物のエステル部分に相当するメタノ−ル、エ
タノ−ル、プロパノ−ル等のアルコ−ル類、水及びこれ
らの混合物を使用することができる。本反応で使用でき
る酸としてはパラトルエンスルホン酸等の有機酸、硫酸
等の無機酸を使用することができ、その使用量は一般式
(VI)で表される化合物に対して0.001〜1倍モルの
範囲から使用すれば良い。反応温度は室温〜150℃の
範囲から選択すれば良い。反応時間は反応試剤の量及び
反応温度等により一定しないが、数分乃至48時間の範
囲である。反応終了後、と同様に処理することにより
目的物を製造することができ、単離せずして次の反応に
供することもできる。
【0017】 一般式(V) → 一般式(III) 本反応で使用できる不活性溶媒としては、例えばで使
用できる不活性溶媒の他に、メタノ−ル、エタノ−ル、
プロパノ−ル等のアルコ−ル類を使用することができ
る。本反応で使用する一般式(IV)で表されるヒドラジン
類は各種塩の形で使用しても良く、適当な濃度の水溶液
の形で使用しても良い。本反応は等モル反応であるの
で、各反応剤を等モル使用すれば良いが、ヒドラジン類
が過剰に使用することもできる。反応温度は0℃乃至使
用する不活性溶媒の沸点域の範囲から選択すれば良い。
反応時間は反応試剤の量及び反応温度等により一定しな
いが、数分乃至48時間の範囲である。反応終了後、
と同様に処理することにより目的物を製造することがで
き、単離せずして次の反応に供することもできる。
用できる不活性溶媒の他に、メタノ−ル、エタノ−ル、
プロパノ−ル等のアルコ−ル類を使用することができ
る。本反応で使用する一般式(IV)で表されるヒドラジン
類は各種塩の形で使用しても良く、適当な濃度の水溶液
の形で使用しても良い。本反応は等モル反応であるの
で、各反応剤を等モル使用すれば良いが、ヒドラジン類
が過剰に使用することもできる。反応温度は0℃乃至使
用する不活性溶媒の沸点域の範囲から選択すれば良い。
反応時間は反応試剤の量及び反応温度等により一定しな
いが、数分乃至48時間の範囲である。反応終了後、
と同様に処理することにより目的物を製造することがで
き、単離せずして次の反応に供することもできる。
【0018】 一般式(III) → 一般式(I) 本反応はで例示の不活性溶媒を使用し、と同様に反
応することにより、一般式(I) で表されるピラゾ−ル誘
導体を製造することができる。
応することにより、一般式(I) で表されるピラゾ−ル誘
導体を製造することができる。
【実施例】以下に本発明の代表的な実施例を示すが、本
発明はこれらに限定されるものではない。
発明はこれらに限定されるものではない。
【0019】実施例1. メチル 5−ブロモ−2−ク
ロロ−4−フルオロフェニルカルボナ−トの製造 メチル 2−クロロ−4−フルオロフェニルカルボナ−
ト3.9g(19.1ミリモル)を濃硫酸50ml中に溶
解させ、臭素1.7ml(28.65ミリモル)を室温下
に加え、塩素ガスを室温下に吹き込み、室温下で3時間
反応を行った。反応終了後、反応液を氷水200ml中に
注ぎ、エ−テルで目的物を抽出し,水洗及び無水硫酸マ
グネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下に留去し、残渣をク
ロマトグラフィ−にて精製して目的物を結晶として5.
0g得た。物性 m.p.88.7℃、収率91%
ロロ−4−フルオロフェニルカルボナ−トの製造 メチル 2−クロロ−4−フルオロフェニルカルボナ−
ト3.9g(19.1ミリモル)を濃硫酸50ml中に溶
解させ、臭素1.7ml(28.65ミリモル)を室温下
に加え、塩素ガスを室温下に吹き込み、室温下で3時間
反応を行った。反応終了後、反応液を氷水200ml中に
注ぎ、エ−テルで目的物を抽出し,水洗及び無水硫酸マ
グネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下に留去し、残渣をク
ロマトグラフィ−にて精製して目的物を結晶として5.
0g得た。物性 m.p.88.7℃、収率91%
【0020】実施例2. 4−クロロ−2−フルオロ−
5−ヒドロキシ安息香酸メチルの製造 金属製オ−トクレ−ブ(100ml)にメチル 5−ブロ
モ−2−クロロ−4−フルオロフェニルカルボナ−ト
0.50g(1.76ミリモル)、メタノ−ル2.4g
(70.54ミリモル)、トリフェニルホスフィン0.
023g(0.088ミリモル)、炭酸ナトリウム0.
10g(0.968ミリモル)、塩化パラジウム0.0
15g(0.088ミリモル)を入れ、密封後、オ−ト
クレ−ブ内に一酸化炭素ガスを通気してオ−トクレ−ブ
内の空気を置換した後、一酸化炭素ガス(初気圧35Kg
/cm2 )を封入し、室温で5分間攪拌後、容器をシリコ
ンオイルバス中に移し、外部温度を150℃に保持して
5時間反応を行った。反応終了後、オ−トクレ−ブを氷
浴中で冷却後開封し、水10mlを加えた後、2N塩酸で
酸性にして目的物を酢酸エチルで抽出し、水洗後、無水
硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧下に留去し
て目的物0.36gを結晶として得た。 物性 m.p.116.5℃、収率100%
5−ヒドロキシ安息香酸メチルの製造 金属製オ−トクレ−ブ(100ml)にメチル 5−ブロ
モ−2−クロロ−4−フルオロフェニルカルボナ−ト
0.50g(1.76ミリモル)、メタノ−ル2.4g
(70.54ミリモル)、トリフェニルホスフィン0.
023g(0.088ミリモル)、炭酸ナトリウム0.
10g(0.968ミリモル)、塩化パラジウム0.0
15g(0.088ミリモル)を入れ、密封後、オ−ト
クレ−ブ内に一酸化炭素ガスを通気してオ−トクレ−ブ
内の空気を置換した後、一酸化炭素ガス(初気圧35Kg
/cm2 )を封入し、室温で5分間攪拌後、容器をシリコ
ンオイルバス中に移し、外部温度を150℃に保持して
5時間反応を行った。反応終了後、オ−トクレ−ブを氷
浴中で冷却後開封し、水10mlを加えた後、2N塩酸で
酸性にして目的物を酢酸エチルで抽出し、水洗後、無水
硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧下に留去し
て目的物0.36gを結晶として得た。 物性 m.p.116.5℃、収率100%
【0021】実施例3. 4−クロロ−2−フルオロ−
5−メトキシ安息香酸メチルの製造 4−クロロ−2−フルオロ−5−ヒドロキシ安息香酸メ
チル2.05g(10ミリモル)、沃化メチル2.13
g(15ミリモル)、無水炭酸カリウム2.07g(1
5ミリモル)及びアセトン40mlの混合液を還流下に2
時間反応を行った。反応終了後、反応液を水100ml中
に注ぎ、目的物を酢酸エチルで抽出し、水洗後、無水硫
酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧下に留去して
目的物1.98gを結晶として得た。 物性 m.p.93.8℃、収率90.2% 同様にして4−クロロ−2−フルオロ−5−イソプロポ
キシ安息香酸メチルを製造した。 物性 m.p.70.7℃、収率93.6%
5−メトキシ安息香酸メチルの製造 4−クロロ−2−フルオロ−5−ヒドロキシ安息香酸メ
チル2.05g(10ミリモル)、沃化メチル2.13
g(15ミリモル)、無水炭酸カリウム2.07g(1
5ミリモル)及びアセトン40mlの混合液を還流下に2
時間反応を行った。反応終了後、反応液を水100ml中
に注ぎ、目的物を酢酸エチルで抽出し、水洗後、無水硫
酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧下に留去して
目的物1.98gを結晶として得た。 物性 m.p.93.8℃、収率90.2% 同様にして4−クロロ−2−フルオロ−5−イソプロポ
キシ安息香酸メチルを製造した。 物性 m.p.70.7℃、収率93.6%
【0022】実施例4. 4−クロロ−2−フルオロ−
5−メトキシ安息香酸メチルの製造 金属製オ−トクレ−ブ(100ml)に5−ブロモ−2−
クロロ−4−フルオロアニソ−ル4.75g(20ミリ
モル)、メタノ−ル16g(500ミリモル)、トリフ
ェニルホスフィン0.052g(0.2ミリモル)、炭
酸ナトリウム粉末1.52g(11ミリモル)、塩化パ
ラジウム0.035g(0.2ミリモル)を入れ、密封
後、オ−トクレ−ブ内に一酸化炭素ガスを通気してオ−
トクレ−ブ内の空気を置換した後、一酸化炭素ガス(初
気圧35Kg/cm2 )を封入し、室温で5分間攪拌後、容
器をシリコンオイルバス中に移し、外部温度を150℃
に保持して6時間反応を行った。反応終了後、オ−トク
レ−ブを氷浴中で冷却後開封し、目的物を酢酸エチルで
抽出し、水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、
溶媒を減圧下に留去して目的物5.11gを結晶として
得た。 物性 m.p.93.8℃、収率94.9%
5−メトキシ安息香酸メチルの製造 金属製オ−トクレ−ブ(100ml)に5−ブロモ−2−
クロロ−4−フルオロアニソ−ル4.75g(20ミリ
モル)、メタノ−ル16g(500ミリモル)、トリフ
ェニルホスフィン0.052g(0.2ミリモル)、炭
酸ナトリウム粉末1.52g(11ミリモル)、塩化パ
ラジウム0.035g(0.2ミリモル)を入れ、密封
後、オ−トクレ−ブ内に一酸化炭素ガスを通気してオ−
トクレ−ブ内の空気を置換した後、一酸化炭素ガス(初
気圧35Kg/cm2 )を封入し、室温で5分間攪拌後、容
器をシリコンオイルバス中に移し、外部温度を150℃
に保持して6時間反応を行った。反応終了後、オ−トク
レ−ブを氷浴中で冷却後開封し、目的物を酢酸エチルで
抽出し、水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、
溶媒を減圧下に留去して目的物5.11gを結晶として
得た。 物性 m.p.93.8℃、収率94.9%
【0023】実施例5. 4−クロロ−2−フルオロ−
5−メトキシ安息香酸の製造 4−クロロ−2−フルオロ−5−メトキシ安息香酸メチ
ル5.56g(25ミリモル)をエタノ−ル100mlに
溶解させた溶液に、水酸化ナトリウム1.50g(3
7.5ミリモル、純度95%以上)を水30mlに溶解さ
せた溶液を一度に加え、室温下に30分間攪拌し反応を
行った。反応終了後、溶媒を減圧下に留去し、残渣に水
を加え、エ−テルを加え水層を分液した。エ−テル層を
3回水洗し、水層と水洗液を一緒にし、濃塩酸で酸性に
した後、目的物を酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層が
中性になるまで水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た後、溶媒を減圧下に留去して目的物4.95gを結晶
として得た。 物性 m.p.172.9℃、収率95%
5−メトキシ安息香酸の製造 4−クロロ−2−フルオロ−5−メトキシ安息香酸メチ
ル5.56g(25ミリモル)をエタノ−ル100mlに
溶解させた溶液に、水酸化ナトリウム1.50g(3
7.5ミリモル、純度95%以上)を水30mlに溶解さ
せた溶液を一度に加え、室温下に30分間攪拌し反応を
行った。反応終了後、溶媒を減圧下に留去し、残渣に水
を加え、エ−テルを加え水層を分液した。エ−テル層を
3回水洗し、水層と水洗液を一緒にし、濃塩酸で酸性に
した後、目的物を酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル層が
中性になるまで水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た後、溶媒を減圧下に留去して目的物4.95gを結晶
として得た。 物性 m.p.172.9℃、収率95%
【0024】実施例6. 4−クロロ−2−フルオロ−
5−イソプロポキシ安息香酸の製造 4−クロロ−2−フルオロ−5−イソプロポキシ安息香
酸メチル6.34g(25.7ミリモル)をエタノ−ル
100mlに溶解させた溶液に、水酸化ナトリウム1.6
2g(38.5ミリモル:純度95%以上)を水32ml
に溶解させた溶液を加え、室温下に30分間攪拌し反応
を行った。反応終了後、溶媒を減圧下に留去し、残渣に
水を加え、エ−テルを加え水層を分液した。エ−テル層
を3回水洗し、水層と水洗液を一緒にし、濃塩酸で酸性
(約pH3)にした後、目的物を酢酸エチルで抽出し、
酢酸エチル層が中性になるまで水洗後、食塩水で洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧下
に留去して目的物5.68gを結晶として得た。 物性 m.p.146.9℃、収率95%
5−イソプロポキシ安息香酸の製造 4−クロロ−2−フルオロ−5−イソプロポキシ安息香
酸メチル6.34g(25.7ミリモル)をエタノ−ル
100mlに溶解させた溶液に、水酸化ナトリウム1.6
2g(38.5ミリモル:純度95%以上)を水32ml
に溶解させた溶液を加え、室温下に30分間攪拌し反応
を行った。反応終了後、溶媒を減圧下に留去し、残渣に
水を加え、エ−テルを加え水層を分液した。エ−テル層
を3回水洗し、水層と水洗液を一緒にし、濃塩酸で酸性
(約pH3)にした後、目的物を酢酸エチルで抽出し、
酢酸エチル層が中性になるまで水洗後、食塩水で洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧下
に留去して目的物5.68gを結晶として得た。 物性 m.p.146.9℃、収率95%
【0025】実施例7. 4−クロロ−2−フルオロ−
5−イソプロポキシ安息香酸クロリドの製造 4−クロロ−2−フルオロ−5−イソプロポキシ安息香
酸5.64g(24.2ミリモル)にジクロロメタン2
0ml及び塩化チオニル14.43g(121.3ミリ
モル)を加え、還流下に2.5時間反応を行った。反応
終了後、減圧下に溶媒を留去しペースト状の目的物を
6.09g得た。 物性 ペースト状物質、収率100% 同様にして4−クロロ−2−フルオロ−5−メトキシ安
息香酸クロリドを製造した。 物性 ペースト状物質、収率100% NMR(CDCl3/TMS、ppm) 3.97(s,3H)、7.27(d,1H)、7.5
5(d,1H)。
5−イソプロポキシ安息香酸クロリドの製造 4−クロロ−2−フルオロ−5−イソプロポキシ安息香
酸5.64g(24.2ミリモル)にジクロロメタン2
0ml及び塩化チオニル14.43g(121.3ミリ
モル)を加え、還流下に2.5時間反応を行った。反応
終了後、減圧下に溶媒を留去しペースト状の目的物を
6.09g得た。 物性 ペースト状物質、収率100% 同様にして4−クロロ−2−フルオロ−5−メトキシ安
息香酸クロリドを製造した。 物性 ペースト状物質、収率100% NMR(CDCl3/TMS、ppm) 3.97(s,3H)、7.27(d,1H)、7.5
5(d,1H)。
【0026】実施例8. 2−(4−クロロ−2−フル
オロ−5−イソプロポキシベンゾイル)マロン酸ジエチ
ルの製造 100mlの3つ口フラスコにジムロート冷却器、滴下
ロートを取り付け、フラスコ内に金属マグネシウム0.
65g(0.0266モル)及びモレキュラーシーブ3
Aで乾燥した無水エタノール1.6mlを入れ、攪拌下
に四塩化炭素0.06mlを滴下すると激しく反応が始
まる。そこで無水エーテル(モレキュラーシーブ4Aで
乾燥)18.2mlを一気に加え、金属マグネシウムが
約8割溶けた時点にマロン酸ジエチル4.26g(0.
0266モル)を無水エーテル3mlと無水エタノール
1.5mlの混合液に溶解させた溶液を滴下した。滴下
終了後、金属マグネシウムが僅かに残存する程度まで還
流下に反応を行った。次いで4−クロロ−3−フルオロ
−5−イソプロポキシ安息香酸クロリド6.09g
(0.0242ミリモル)を無水エーテルに溶解させた
溶液を滴下し、滴下終了後、2時間以上還流下に反応を
行った。更に濃硫酸2ml、水18mlの割合の希硫酸
20mlを滴下すると白色の沈澱物が次第に溶解した。
滴下終了後15分間更に攪拌したのち、反応液を分液ロ
ートに移し、反応容器を少量のエーテルで洗浄し、洗浄
液も分液ロートに加え、エーテル層を分液し、水洗後5
%重曹水を注意して加えて中和し、再度水洗後、食塩水
で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を
減圧下に留去して残渣をカラムクロマトグラフィーにて
精製して目的ものを油状物として8.70g得た。 物性 nD 1.5117(23.1℃)、収率95.
7% 同様にして2−(4−クロロ−2−フルオロ−5−メト
キシベンゾイル)マロン酸ジエチルを製造した。 物性 m.p.64.6℃、収率98.1%
オロ−5−イソプロポキシベンゾイル)マロン酸ジエチ
ルの製造 100mlの3つ口フラスコにジムロート冷却器、滴下
ロートを取り付け、フラスコ内に金属マグネシウム0.
65g(0.0266モル)及びモレキュラーシーブ3
Aで乾燥した無水エタノール1.6mlを入れ、攪拌下
に四塩化炭素0.06mlを滴下すると激しく反応が始
まる。そこで無水エーテル(モレキュラーシーブ4Aで
乾燥)18.2mlを一気に加え、金属マグネシウムが
約8割溶けた時点にマロン酸ジエチル4.26g(0.
0266モル)を無水エーテル3mlと無水エタノール
1.5mlの混合液に溶解させた溶液を滴下した。滴下
終了後、金属マグネシウムが僅かに残存する程度まで還
流下に反応を行った。次いで4−クロロ−3−フルオロ
−5−イソプロポキシ安息香酸クロリド6.09g
(0.0242ミリモル)を無水エーテルに溶解させた
溶液を滴下し、滴下終了後、2時間以上還流下に反応を
行った。更に濃硫酸2ml、水18mlの割合の希硫酸
20mlを滴下すると白色の沈澱物が次第に溶解した。
滴下終了後15分間更に攪拌したのち、反応液を分液ロ
ートに移し、反応容器を少量のエーテルで洗浄し、洗浄
液も分液ロートに加え、エーテル層を分液し、水洗後5
%重曹水を注意して加えて中和し、再度水洗後、食塩水
で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を
減圧下に留去して残渣をカラムクロマトグラフィーにて
精製して目的ものを油状物として8.70g得た。 物性 nD 1.5117(23.1℃)、収率95.
7% 同様にして2−(4−クロロ−2−フルオロ−5−メト
キシベンゾイル)マロン酸ジエチルを製造した。 物性 m.p.64.6℃、収率98.1%
【0027】実施例9. 2−(4−クロロ−2−フル
オロ−5−イソプロポキシベンゾイル酢酸エチルの製造 2−(4−クロロ−2−フルオロ−5−イソプロポキシ
ベンゾイル)マロン酸ジエチル8.70g(23.3ミ
リモル)、水15.0ml、パラトルエンスルホン酸0.
04g(0.23ミリモル)を200mlの3つ口フラス
コに加え、還流冷却器及び温度計を取り付け、内部反応
温度〜100℃で6〜7時間反応を行った。反応終了
後、ジクロロメタンで目的物を抽出し、水洗後、5%重
曹水でpH約4となるように調節した後、更に水洗し、
乾燥(硫酸マグネシウム又は硫酸ナトリウム)後、溶媒
を減圧下に留去し、残渣を濃縮してペ−スト状の目的物
7.00gを得た。 物性 nD 1.5361(22.6℃) 、収率 97.7% 同様にして2−(4−クロロ−2−フルオロ−5−メト
キシベンゾイル酢酸エチルを製造した。 物性 m.p.69.4℃、収率 95.2%
オロ−5−イソプロポキシベンゾイル酢酸エチルの製造 2−(4−クロロ−2−フルオロ−5−イソプロポキシ
ベンゾイル)マロン酸ジエチル8.70g(23.3ミ
リモル)、水15.0ml、パラトルエンスルホン酸0.
04g(0.23ミリモル)を200mlの3つ口フラス
コに加え、還流冷却器及び温度計を取り付け、内部反応
温度〜100℃で6〜7時間反応を行った。反応終了
後、ジクロロメタンで目的物を抽出し、水洗後、5%重
曹水でpH約4となるように調節した後、更に水洗し、
乾燥(硫酸マグネシウム又は硫酸ナトリウム)後、溶媒
を減圧下に留去し、残渣を濃縮してペ−スト状の目的物
7.00gを得た。 物性 nD 1.5361(22.6℃) 、収率 97.7% 同様にして2−(4−クロロ−2−フルオロ−5−メト
キシベンゾイル酢酸エチルを製造した。 物性 m.p.69.4℃、収率 95.2%
【0028】実施例10. 3−(4−クロロ−2−フ
ルオロ−5−イソプロポキシフェニル)−5−ヒドロキ
シ−1−メチル−1H−ピラゾ−ルの製造 4−クロロ−2−フルオロ−5−イソプロポキシベンゾ
イル酢酸エチル3.02g(10ミリモル)をエタノ−
ル25mlに溶解させ、この溶液へメチルヒドラジン(9
8%)0.56g(12ミリモル)をエタノ−ル3mlで
希釈して滴下した。2時間還流下に反応させた後、反応
混合物を濃縮し、濃縮残渣をイソプロピルアルコ−ル中
で再結晶させて目的物を1.56g得た。 物性 m.p.194.7℃、収率54.8% 同様にして3−(4−クロロ−2−フルオロ−5−メト
キシフェニル)−5−ヒドロキシ−1−メチル−1H−
ピラゾ−ルを製造した。 物性 m.p.234.5℃、収率62.6%
ルオロ−5−イソプロポキシフェニル)−5−ヒドロキ
シ−1−メチル−1H−ピラゾ−ルの製造 4−クロロ−2−フルオロ−5−イソプロポキシベンゾ
イル酢酸エチル3.02g(10ミリモル)をエタノ−
ル25mlに溶解させ、この溶液へメチルヒドラジン(9
8%)0.56g(12ミリモル)をエタノ−ル3mlで
希釈して滴下した。2時間還流下に反応させた後、反応
混合物を濃縮し、濃縮残渣をイソプロピルアルコ−ル中
で再結晶させて目的物を1.56g得た。 物性 m.p.194.7℃、収率54.8% 同様にして3−(4−クロロ−2−フルオロ−5−メト
キシフェニル)−5−ヒドロキシ−1−メチル−1H−
ピラゾ−ルを製造した。 物性 m.p.234.5℃、収率62.6%
【0029】実施例11. 3−(4−クロロ−2−フ
ルオロ−5−イソプロポキシフェニル)−5−ジフルオ
ロメトキシ−1−メチル−1H−ピラゾ−ルの製造 3−(4−クロロ−2−フルオロ−5−イソプロポキシ
フェニル)−5−ヒドロキシ−1−メチル−1H−ピラ
ゾ−ル5.69g(20ミリモル)をジオキサン20ml
に溶解させ、この溶液に水酸化ナトリウム4.21g
(100ミリモル、純度95%以上)を水10mlに溶解
させた溶液を一度に加えた。反応混合液の液温を30℃
前後に上昇させた後、フロン22ガスを通気し、液温が
40〜50℃の範囲で30分間通気しながら反応を行っ
た。反応終了後、反応液を水40ml中に注ぎ、酢酸エチ
ルで目的物を抽出し、水洗し、次いで食塩水で洗浄し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に濃縮し、残渣
をシリカゲルクロマトグラフィ−にて精製して目的物を
4.35g得た。 物性 m.p.44.5℃、収率65% 同様にして3−(4−クロロ−2−フルオロ−5−メト
キシフェニル)−5−ジフルオロメトキシ−1−メチル
−1H−ピラゾ−ルを製造した。 物性 m.p.93.5℃、収率61%
ルオロ−5−イソプロポキシフェニル)−5−ジフルオ
ロメトキシ−1−メチル−1H−ピラゾ−ルの製造 3−(4−クロロ−2−フルオロ−5−イソプロポキシ
フェニル)−5−ヒドロキシ−1−メチル−1H−ピラ
ゾ−ル5.69g(20ミリモル)をジオキサン20ml
に溶解させ、この溶液に水酸化ナトリウム4.21g
(100ミリモル、純度95%以上)を水10mlに溶解
させた溶液を一度に加えた。反応混合液の液温を30℃
前後に上昇させた後、フロン22ガスを通気し、液温が
40〜50℃の範囲で30分間通気しながら反応を行っ
た。反応終了後、反応液を水40ml中に注ぎ、酢酸エチ
ルで目的物を抽出し、水洗し、次いで食塩水で洗浄し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に濃縮し、残渣
をシリカゲルクロマトグラフィ−にて精製して目的物を
4.35g得た。 物性 m.p.44.5℃、収率65% 同様にして3−(4−クロロ−2−フルオロ−5−メト
キシフェニル)−5−ジフルオロメトキシ−1−メチル
−1H−ピラゾ−ルを製造した。 物性 m.p.93.5℃、収率61%
【0030】本製法による一般式(I) で表されるピラゾ
−ル誘導体はそれ自体でも除草活性を示すが、更に下記
の製法により一般式(A) で表される化合物に誘導するこ
とにより強い除草活性を有する化合物とすることができ
る。 (式中、R1、R2、R3、R4、R5、X及びZは前記に同じく
し、R6は低級アルキル基を示し、Yはハロゲン原子を示
す。)即ち、本発明製法による一般式(I) で表されるピ
ラゾ−ル誘導体をハロゲン化して、一般式(C) で表され
るピラゾ−ル類とし、該化合物(C) を脱アルキル化反応
し一般式(B) で表されるピラゾ−ル類とし、更にハロゲ
ン化酢酸エステルと反応させることにより一般式(A) で
表されるピラゾ−ル類とすることができる。
−ル誘導体はそれ自体でも除草活性を示すが、更に下記
の製法により一般式(A) で表される化合物に誘導するこ
とにより強い除草活性を有する化合物とすることができ
る。 (式中、R1、R2、R3、R4、R5、X及びZは前記に同じく
し、R6は低級アルキル基を示し、Yはハロゲン原子を示
す。)即ち、本発明製法による一般式(I) で表されるピ
ラゾ−ル誘導体をハロゲン化して、一般式(C) で表され
るピラゾ−ル類とし、該化合物(C) を脱アルキル化反応
し一般式(B) で表されるピラゾ−ル類とし、更にハロゲ
ン化酢酸エステルと反応させることにより一般式(A) で
表されるピラゾ−ル類とすることができる。
【0031】参考例1. 4−クロロ−3−(4−クロ
ロ−2−フルオロ−5−イソプロポキシフェニル)−5
−ジフルオロメトキシ−1−メチル−1H−ピラゾ−ル
の製造 3−(4−クロロ−2−フルオロ−5−イソプロポキシ
フェニル)−5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−1
H−ピラゾ−ル6.69g(0.02ミリモル)を四塩
化炭素20ml中に溶解させた後、塩化スルフリル3.0
g(22ミリモル)を室温下に滴下し、滴下終了後2時
間室温下に反応を行った。反応終了後、反応液を水20
ml中に注ぎジクロロメタンで目的物を抽出し、ジクロロ
メタン層を水洗し、5%重曹水で洗浄し、中性にして水
及び食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥
後、溶媒を減圧下に留去し、ペ−スト状の目的物7.0
1gを得た。 物性 nD 1.5376(22.1℃) 、収率95% 同様にして4−クロロ−3−(4−クロロ−2−フルオ
ロ−5−メトキシフェニル)−5−ジフルオロメトキシ
−1−メチル−1H−ピラゾ−ルを製造した。 物性 m.p.91.7℃、収率89%
ロ−2−フルオロ−5−イソプロポキシフェニル)−5
−ジフルオロメトキシ−1−メチル−1H−ピラゾ−ル
の製造 3−(4−クロロ−2−フルオロ−5−イソプロポキシ
フェニル)−5−ジフルオロメトキシ−1−メチル−1
H−ピラゾ−ル6.69g(0.02ミリモル)を四塩
化炭素20ml中に溶解させた後、塩化スルフリル3.0
g(22ミリモル)を室温下に滴下し、滴下終了後2時
間室温下に反応を行った。反応終了後、反応液を水20
ml中に注ぎジクロロメタンで目的物を抽出し、ジクロロ
メタン層を水洗し、5%重曹水で洗浄し、中性にして水
及び食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥
後、溶媒を減圧下に留去し、ペ−スト状の目的物7.0
1gを得た。 物性 nD 1.5376(22.1℃) 、収率95% 同様にして4−クロロ−3−(4−クロロ−2−フルオ
ロ−5−メトキシフェニル)−5−ジフルオロメトキシ
−1−メチル−1H−ピラゾ−ルを製造した。 物性 m.p.91.7℃、収率89%
【0032】参考例2. 4−クロロ−3−(4−クロ
ロ−2−フルオロ−5−ヒドロキシフェニル)−5−ジ
フルオロメトキシ−1−メチル−1H−ピラゾ−ルの製
造 4−クロロ−3−(4−クロロ−2−フルオロ−5−イ
ソプロポキシフェニル)−5−ジフルオロメトキシ−1
−メチル−1H−ピラゾ−ル1.84g(5ミリモ
ル)、氷酢酸25ml及び47%HBr8.5mlの混合液
を還流下に2時間反応を行った。反応終了後、反応液に
水50mlを加え、酢酸エチルで目的物を抽出し、水、5
%重曹水及び水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥後、溶媒を減圧下に留去して、目的物1.30gを
結晶として得た。 物性 m.p.189.5℃、収率79.5%
ロ−2−フルオロ−5−ヒドロキシフェニル)−5−ジ
フルオロメトキシ−1−メチル−1H−ピラゾ−ルの製
造 4−クロロ−3−(4−クロロ−2−フルオロ−5−イ
ソプロポキシフェニル)−5−ジフルオロメトキシ−1
−メチル−1H−ピラゾ−ル1.84g(5ミリモ
ル)、氷酢酸25ml及び47%HBr8.5mlの混合液
を還流下に2時間反応を行った。反応終了後、反応液に
水50mlを加え、酢酸エチルで目的物を抽出し、水、5
%重曹水及び水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥後、溶媒を減圧下に留去して、目的物1.30gを
結晶として得た。 物性 m.p.189.5℃、収率79.5%
【0033】参考例3. 2−〔2−クロロ−4−フル
オロ−5−(4−クロロ−5−ジフルオロメトキシ−1
−メチル−1H−ピラゾ−ル−3−イル)フェノキシ〕
酢酸エチルの製造 4−クロロ−3−(4−クロロ−2−フルオロ−5−ヒ
ドロキシフェニル)−5−ジフルオロメトキシ−1−メ
チル−1H−ピラゾ−ル3.27g(10ミリモル)、
炭酸カリウム粉末2.76g(20ミリモル)、臭化酢
酸エチル2.00g(12ミリモル)及びアセトン40
mlの混合液を還流下に2時間反応を行った。反応終了
後、反応混合液を水30ml中に注ぎ、酢酸エチルで目的
物を抽出し、有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥後、溶媒を減圧下に留去し、残渣をカラムクロマト
グラフィ- にて精製して、目的物3.51gを結晶とし
て得た。 物性 m.p.127.6℃、収率85%
オロ−5−(4−クロロ−5−ジフルオロメトキシ−1
−メチル−1H−ピラゾ−ル−3−イル)フェノキシ〕
酢酸エチルの製造 4−クロロ−3−(4−クロロ−2−フルオロ−5−ヒ
ドロキシフェニル)−5−ジフルオロメトキシ−1−メ
チル−1H−ピラゾ−ル3.27g(10ミリモル)、
炭酸カリウム粉末2.76g(20ミリモル)、臭化酢
酸エチル2.00g(12ミリモル)及びアセトン40
mlの混合液を還流下に2時間反応を行った。反応終了
後、反応混合液を水30ml中に注ぎ、酢酸エチルで目的
物を抽出し、有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥後、溶媒を減圧下に留去し、残渣をカラムクロマト
グラフィ- にて精製して、目的物3.51gを結晶とし
て得た。 物性 m.p.127.6℃、収率85%
【0034】以下に一般式(A) で表されるピラゾ−ル類
の代表例及び試験例を表2及び表3に示す。
の代表例及び試験例を表2及び表3に示す。
【表2】
【0035】参考試験例 出芽後の畑地雑草に対する除
草効果 縦10cm×横20cm×高さ5cmのポリエステル製バット
に土壌を詰め、これに下記に示す畑作作物(ダイズ及び
コムギ)及び畑地有害雑草(ノビエ、イチビ、オナモ
ミ、ヨウシュチョウセンアサガオ、オオイノフグリ、ヤ
エムグラ)の種子を播種覆土し、各々下記派期になるま
で生育させ、これに表2記載の化合物を有効成分とする
薬剤を所定濃度の散布液として処理した。処理14日後
に除草効果を調査し、殺草率を算出し下記の基準に従っ
て判定を行った。同時にダイズ及びコムギに対する薬害
も調査し、同じく下記の基準従って判定を行った。 除草活性の判定基準: 5・・・95%以上殺草 4・・・70%以上95%未満殺草 3・・・50%以上70%未満殺草 2・・・30%以上50%未満殺草 1・・・10%以上30%未満殺草 0・・・10%未満殺草 薬害の判定基準: 0・・・薬害なし。 1・・・褐変を生じるが、初期に回復し生育抑制は殆ど
なし。 2・・・褐変とともに、明らかな生育抑制が見られる
が、早い段階に回復する。 3・・・褐変とともに、生育抑制が顕著であり、回復が
遅い。 4・・・褐変及び生育抑制が顕著であり、枯死する個体
も見られる。 5・・・全ての個体が殆ど枯死する。 供試雑草及びその葉期並びにダイズ及びコムギの葉期: ノビエ 2葉期 イチビ 2葉期 オナモミ 1葉期 ヨウシュチョウセンアサガオ 1葉期 オオイヌノフグリ 1葉期 ヤエムグラ 2葉期 コムギ 2葉期 ダイズ 1葉期結
果を表3に示す。
草効果 縦10cm×横20cm×高さ5cmのポリエステル製バット
に土壌を詰め、これに下記に示す畑作作物(ダイズ及び
コムギ)及び畑地有害雑草(ノビエ、イチビ、オナモ
ミ、ヨウシュチョウセンアサガオ、オオイノフグリ、ヤ
エムグラ)の種子を播種覆土し、各々下記派期になるま
で生育させ、これに表2記載の化合物を有効成分とする
薬剤を所定濃度の散布液として処理した。処理14日後
に除草効果を調査し、殺草率を算出し下記の基準に従っ
て判定を行った。同時にダイズ及びコムギに対する薬害
も調査し、同じく下記の基準従って判定を行った。 除草活性の判定基準: 5・・・95%以上殺草 4・・・70%以上95%未満殺草 3・・・50%以上70%未満殺草 2・・・30%以上50%未満殺草 1・・・10%以上30%未満殺草 0・・・10%未満殺草 薬害の判定基準: 0・・・薬害なし。 1・・・褐変を生じるが、初期に回復し生育抑制は殆ど
なし。 2・・・褐変とともに、明らかな生育抑制が見られる
が、早い段階に回復する。 3・・・褐変とともに、生育抑制が顕著であり、回復が
遅い。 4・・・褐変及び生育抑制が顕著であり、枯死する個体
も見られる。 5・・・全ての個体が殆ど枯死する。 供試雑草及びその葉期並びにダイズ及びコムギの葉期: ノビエ 2葉期 イチビ 2葉期 オナモミ 1葉期 ヨウシュチョウセンアサガオ 1葉期 オオイヌノフグリ 1葉期 ヤエムグラ 2葉期 コムギ 2葉期 ダイズ 1葉期結
果を表3に示す。
【表3】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭58−57336(JP,A) 米国特許4003927(US,A) 米国特許3985799(US,A) 米国特許3709938(US,A) ”Liebigs Ann.Che m.,”No.9,pages 863− 881(1989) ”Tetrahedron,”Vo l.44,No.6,pages 1631− 1636(1988) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C07C 67/343 C07C 65/21 C07C 69/738 CA(STN) REGISTRY(STN)
Claims (6)
- 【請求項1】 一般式(X) 【化1】 (式中、R1 及びR2 は同一又は異なっても良い低級ア
ルキル基を示し、Xは同一又は異なっても良いハロゲン
原子を示す。)で表される安息香酸エステル類を加水分
解することにより一般式(IX) 【化2】 (式中、R2 及びXは前記に同じ)で表される化合物と
し、該化合物(IX)をハロゲン化剤によりハロゲン化反応
することにより、一般式(VIII) 【化3】 (式中、R2 は前記に同じ。Zはハロゲン原子を示
す。)で表される酸ハライド類とし、該酸ハライド類を
単離又は単離せずして一般式(VII) CH2(CO-OR3)2 (VII) (式中、R3 は低級アルキル基を示す。)で表されるマ
ロン酸エステル類とを反応させることを特徴とする一般
式(VI) 【化4】 (式中、R2 、R3 及びXは前記に同じ。)で表される
ベンゾイルマロン酸エステル誘導体の製法。 - 【請求項2】 4−クロロ−2−フルオロ−5−メトキ
シ安息香酸又は4−クロロ−2−フルオロ−5−イソプ
ロポキシ安息香酸。 - 【請求項3】 4−クロロ−2−フルオロ−5−メトキ
シ安息香酸クロリド又は4−クロロ−2−フルオロ−5
−イソプロポキシ安息香酸クロリド。 - 【請求項4】 一般式(VIII) 【化5】 (式中、R2 は低級アルキル基を示し、X及びZは同一
又は異なっても良いハロゲン原子を示す。)で表される
酸ハライド類を一般式(VII) CH2(CO-OR3)2 (VII) (式中、R3 は低級アルキル基を示す。)で表されるマ
ロン酸エステル類とを反応させることを特徴とする一般
式(VI) 【化6】 (式中、R2 、R3 及びXは前記に同じ。)で表される
ベンゾイルマロン酸エステル誘導体の製法。 - 【請求項5】 一般式(VI) 【化7】 (式中、R2 及びR3 は同一又は異なっても良い低級ア
ルキル基を示し、XHA同一又は異なっても良いハロゲ
ン原子を示す。)で表されるベンゾイルマロン酸エステ
ル誘導体。 - 【請求項6】 一般式(VI)で表される化合物が2−(4
−クロロ−2−フルオロ−5−メトキシベンゾイル)マ
ロン酸ジエチル又は2−(4−クロロ−2−フルオロ−
5−イソプロポキシベンゾイル)マロン酸ジエチルであ
る請求項5記載の化合物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP03133596A JP3116171B2 (ja) | 1990-05-12 | 1991-05-09 | ピラゾール誘導体の製法及びその中間体並びにその製法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12187290 | 1990-05-12 | ||
JP2-121872 | 1990-05-12 | ||
JP03133596A JP3116171B2 (ja) | 1990-05-12 | 1991-05-09 | ピラゾール誘導体の製法及びその中間体並びにその製法 |
Related Child Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000069157A Division JP3215948B2 (ja) | 1990-05-12 | 2000-03-13 | 安息香酸エステル誘導体及びその中間体並びにそれらの製造方法 |
JP2000069158A Division JP3200737B2 (ja) | 1990-05-12 | 2000-03-13 | ピラゾール誘導体の製法及びその中間体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04225937A JPH04225937A (ja) | 1992-08-14 |
JP3116171B2 true JP3116171B2 (ja) | 2000-12-11 |
Family
ID=26459128
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP03133596A Expired - Fee Related JP3116171B2 (ja) | 1990-05-12 | 1991-05-09 | ピラゾール誘導体の製法及びその中間体並びにその製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3116171B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB9309542D0 (en) * | 1993-05-10 | 1993-06-23 | Zeneca Ltd | Herbicidal treatment |
DE4417837A1 (de) | 1994-05-20 | 1995-11-23 | Basf Ag | Substituierte 3-Phenylpyrazole |
US6121201A (en) * | 1998-09-11 | 2000-09-19 | Ishihara Sangyo Kaisha, Ltd. | Diaryl ethers and processes for their preparation and herbicidal and desiccant compositions containing them |
-
1991
- 1991-05-09 JP JP03133596A patent/JP3116171B2/ja not_active Expired - Fee Related
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
"Liebigs Ann.Chem.,"No.9,pages 863−881(1989) |
"Tetrahedron,"Vol.44,No.6,pages 1631−1636(1988) |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH04225937A (ja) | 1992-08-14 |
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Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |