JP7477542B2 - 撥水撥油性が向上したコーティング微結晶化ガラス及びその製造方法と応用 - Google Patents
撥水撥油性が向上したコーティング微結晶化ガラス及びその製造方法と応用 Download PDFInfo
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Description
ここで、Rは炭素、水素又はケイ素元素であり得、Yはエーテル結合、硫黄含有炭化水素基、硫黄含有アルコキシ、窒素含有炭化水素基、窒素含有アルコキシ、エポキシアルキル基、アシルオキシ炭化水素基、炭化水素基、チオ基などであり得る。
又は、結晶格子エネルギーが9400~11400KJ/molの化合物、好ましくはケイフッ化物を元のコーティング膜物質として形成されたフッ化物中間層である。
前記他の元素は、アルミニウム、スズ、マグネシウム、リン、セリウム、ジルコニウム、チタン、セシウム、バリウム、ストロンチウム、ニオブ、亜鉛又はホウ素のうちの元素であることが好ましく、前記混合シリコン酸化物がシリコン酸化物SiOxとアルミニウムの酸化物との混合物であることがより好ましい。
40~75%、好ましくは45~72%のSiO2と、
2~20%、好ましくは4~15%のAl2O3と、
0~20%、好ましくは0.4~1.6%のB2O3と、
0~10%、好ましくは0.8~1.5%のP2O5と、
0~15%、好ましくは0.9~4%のZrO2+TiO2と、
0~5%、好ましくは0.1~2%のMgOと、
0~4%、好ましくは0.9~3.0%のZnOと、
0~5%、好ましくは0.01~1%の希土類酸化物と、
0~5.5%のNa2Oと、
0~4%のK2Oと、
2~34%、好ましくは10~34%のLi2Oと、
4~40%、好ましくは15~40%のNa2O+K2O+Li2Oと、を含有する。
微結晶化ガラスにSi-O含有酸化物又は混合シリコン酸化物層をコーティングして、微結晶化ガラスの表面に下塗り層を形成するステップ1)と、
ステップ1)で得られた下塗り層の表面に中間層をコーティングするステップ2)と、
ステップ2)で得られた中間層の表面に撥水撥油層をコーティングするステップ3)と、を含む。
各ガラス原材料を1600±50℃で高温溶解してから、400~650℃でアニールして、均質化された素ガラス板を取得するステップ(I)と、
オーバーフローダウンドロー法、フロート法又は圧延法により、前記素ガラス板から成形素ガラス板を取得するステップ(II)と、
2回の熱処理で前記成形素ガラス板を微結晶化させて微結晶化ガラスプリフォームを取得し、次に、イオン交換されるか又はイオン交換されずそのまま微結晶化ガラスの原材料として、必要な下塗り層、中間層及び撥水撥油層を順番に表面にコーティングするために用いられ、ただし、1回目の熱処理温度は500~1000℃であり、2回目の熱処理温度は550~1100℃であるステップ(III)と、を含む方法で焼成される。
中間層として、Li2SiF6、Na2SiF6、K2SiF6などのケイフッ化アルカリ金属及びケイフッ化アルカリ土類金属を用いてもよい。
ここで、さらに好ましくは、前記化合物が非極性化合物(フッ化アルカリ金属類―非極性に縮小されることが好ましい)であり、
ここで、好ましくは、前記中間層の厚さは1~5nmであり、1~2nmであることが好ましく、
ここで、好ましくは、前記下塗り層は、Si化合物を含むか又はSi化合物からなり、前記Si化合物は、以下から選択されることが好ましく、
-SiOx(xは2以下)、多層の場合、少なくとも最外面又は最上層はシリコン酸化物を含むか又はシリコン酸化物からなるもの、
-SiOC、SiON、SiOCN及びSi3N4、並びにSiOx(xは2以下)、SiOC、SiON及びSiOCNと任意の比率で結合する水素結合(ここの「水素結合」とは、例えば水分などの空気中の任意の成分とガラスの前記シリコン酸化物とで形成された水素結合を指す)、又は、
-混合シリコン酸化物、シリコン酸化物SiOx(xは2以下)と、少なくとも1種のケイ素以外の他の元素の酸化物及び/又はフッ化マグネシウムとからなり、ただし、他の元素はアルミニウム、スズ、マグネシウム、リン、セリウム、ジルコニウム、チタン、セシウム、バリウム、ストロンチウム、ニオブ、亜鉛、ホウ素から選択される少なくとも1種であることが好ましく、シリコン酸化物SiOx(xは2以下)と少なくとも1種の元素アルミニウムの酸化物との混合物であることが特に好ましく、
ここで、好ましくは、前記下塗り層の総厚さは3~15nmであり、5~10nmであることが好ましく、5~8nmであることがより好ましい。
40~75%、好ましくは45~72%のSiO2と、
2~20%、好ましくは4~15%のAl2O3と、
0~20%、好ましくは0.4~1.6%のB2O3と、
0~10%、好ましくは0.8~1.5%のP2O5と、
0~15%、好ましくは0.9~4%のZrO2+TiO2と、
0~5%、好ましくは0.1~2%のMgOと、
0~4%、好ましくは0.9~3.0%のZnOと、
0~5%、好ましくは0.01~1%の希土類酸化物と、
0~5.5%のNa2Oと、
0~4%のK2Oと、
2~34%、好ましくは10~34%のLi2Oと、
4~40%、好ましくは15~40%のNa2O+K2O+Li2Oと、である。
RF+H2O⇔R++OH-+H++F-
≡Si-O-Si≡+R++OH-→≡Si-OH+RO-Si≡、
≡Si-O-Si≡+H++F-→SiF4+H2O→H2SiO3+H2SiF6、
微結晶化ガラスインターフェース及び下塗り層に、微結晶化ガラスベースに密着するSi-Oが十分生成されると、最上層の撥水撥油層PFPEと反応時に、十分な原子価結合が生成され、それにより、撥水撥油層の性能と耐摩耗性を大幅に向上させる。
本発明において、前記「微結晶化ガラス」及び「ガラスセラミックス」の両方は、同じ意味を有し、結晶相のないガラス又はアモルファスのガラスとは異なって、いずれも結晶相を有するガラスを言う。したがって、本発明の明細書に使用されている用語「微結晶化ガラス又はガラスセラミックス」、「微結晶化ガラス」又は「ガラスセラミックス」らは、いずれも同じ意味を有する。
結晶格子エネルギーとは、標準状態で、イオン結晶がプラスイオンガス及びマイナスイオンガスになるときに吸収されるエネルギーを言い、結晶格子の安定性を測定するためのパラメータである。結晶格子エネルギーの大きさに影響を与える要因には、イオン半径、イオン電荷及びイオンの電子層構成などがある。秦正龍、劉長君による著書『アルカリ土類金属ハロゲン化物の結晶格子エネルギー及び磁化率に関するトポロジー研究』における結晶格子エネルギーの計算方法を参照して、フィッティングを行って得られた式は、以下のとおりであり、
U=1129.1-441.80F+3600.51F、
nF=Σ(Ei×Ej×Ek×…)-0.5、
nFは、トポロジー指数係数であり、Eは、価電子エネルギー準位値である。
40~75%、好ましくは45~72%のSiO2と、
2~20%、好ましくは4~15%のAl2O3と、
0~20%、好ましくは0.4~1.6%のB2O3と、
0~10%、好ましくは0.8~1.5%のP2O5と、
0~15%、好ましくは0.9~4%のZrO2+TiO2と、
0~5%、好ましくは0.1~2%のMgOと、
0~4%、好ましくは0.9~3.0%のZnOと、
0~5%、好ましくは0.01~1%の希土類酸化物と、
0~5.5%のNa2Oと、
0~4%のK2Oと、
2~34%、好ましくは10~34%のLi2Oと、
4~40%、好ましくは15~40%のNa2O+K2O+Li2Oとであるガラスを、以下の方法で焼成して、微結晶化ガラス又はガラスセラミックスを取得する。
各ガラス原材料を1600±50℃で高温溶解してから、400~650℃でアニールして、均質化された素ガラス板を取得するステップ(I)と、
オーバーフローダウンドロー法、フロート法又は圧延法により、前記素ガラス板から成形素ガラス板を取得するステップ(II)と、
2回の熱処理で前記成形素ガラス板を微結晶化させて微結晶化ガラスプリフォームを取得し、ここで、1回目の熱処理は500~1000℃温度で0.5~5h行われ、2回目の熱処理は550~1100℃温度で0.5~6h行われるステップ(III)と、
前記微結晶化ガラスプリフォームはイオン交換されるか又はイオン交換されずそのまま、必要な下塗り層、中間層及び撥水撥油層を順番に表面にコーティングするために用いられるステップ(IV)と、を含む方法で焼成して取得する。
実施例1を例として、どのようにガラス基材を製造するかについて説明する。
マルチワイヤー切断機:ch5625、泰州市晨虹CNC機器製造有限会社、
CNC工作機械雕刻機:CN-650、山東馳諾CNC機器有限会社、
平面研削盤:YJ-13B6LD、湖南寧晶機械有限会社、及び、
バフ研磨機:YJ-13B6PD、湖南寧晶機械有限会社、である。
式において、Icは、微結晶化ガラスサンプルの2Theta=10~50度の結晶部分の回折積分強度であり、
Iaは、微結晶化ガラスサンプルの2Theta=10~50の非結晶部分の回折積分強度であり、
Kは、微結晶化ガラスサンプルの2Theta=10~50の結晶部分及び非結晶部分の単位質量あたりの相対散乱係数である。
製造方法のステップは実施例1と同じであり、ここで、異なる点の詳細は表1、表2及び表3を参照でき、つまり、具体的なガラスレシピの各原材料の組成成分、ステップ(2)の熱処理工程条件、取得されたガラスセラミックスに対する性能テスト結果、及びステップ(3)のイオン交換工程条件及び取得された強化ガラスセラミックスに対する性能テスト結果の詳細を、表1、表2及び表3に示す。
1.実施例4のイオン交換されていないガラスセラミックス及びイオン交換されたガラスセラミックスのそれぞれをガラス基材として複合コーティング層を形成する
第一部分の実施例4で製造して得られる素ガラス、即ちイオン交換されてないガラスセラミックスのロットをガラス基材(即ちステップ(3)のイオン交換処理を行っていない)(番号はそれぞれ#4‐A1から4‐A15である)及びイオン交換されたガラスセラミックス(即ちステップ(3)のイオン交換処理を行った)をガラス基材(番号はそれぞれ#4‐B1から4‐B15である)として、前記SiO2、NaF及びAF膜を含む複合コーティング層を形成し、上記のイオン交換されていないガラスセラミックス(番号はそれぞれ#4‐A16から4‐A18である)及びイオン交換されたガラスセラミックスをガラス基材(番号はそれぞれ#4‐B16至4‐B18である)として、それぞれ、SiO2及びAF膜を含む複合コーティング層しか形成しない。具体的に言えば、表4‐1に記載の真空コーティング機器、表4-2のコーティング条件(注:各実施例において、目標コーティング層の厚さに応じてコーティング時間を制御し、目標厚さを達成すると、コーティングを停止する)を用いて、かつ、下記方法にしたがって複合コーティング層を形成し、超音波洗浄(フラットブラシで洗浄してもよい)でガラス基材表面をそれぞれ洗浄し、ガラス基材の表面を洗浄した後、真空コーティング法を用いて基材表面に基本的に均一な各膜層を順番に形成し、ここで、真空コーティング過程は、コーティング対称のガラス試料を傘型コーティング棚に載せてから、傘型コーティング棚をテーブルワークホルダーに入れ、真空コーティング機の2つの電子銃るつぼ内(韓一真空2050型の電子銃真空コーティング機を用いる)に、SiO2及びNaFのコーティング材料を混合せずにそれぞれ別々に入れて、材料をるつぼに充填するとともに、るつぼ口の表面と平らにし、蒸着防止モリブデンボート内にAF膜(AF膜(Anti-Fingerprint Glass、指紋防止膜))を形成するためのAF膜材料(600mlのAF液体をスチールウールが入れられているるつぼ内に滴下し、AF液体が乾燥後のるつぼをAF膜材料と呼ぶ)を入れ、真空室を閉じて、真空引きを開始し、本底真空度が設定工程の表4-2に規定された真空度に達すると、機器にArガスを28sccmの量で自動的に流し、韓一自社製Ion Beam Sourceホールイオン源を動作させて、イオン衝撃及び増感ガラスの表面の洗浄を行い、続いて、表4-2に示すような、プロセスにおける真空度、イオン源電圧、イオン源電流、中和電流、ArとO2のガス比率、電子銃動作電流、成膜速度、コーティングの厚さ(ここで、コーティングする前、プラズマ洗浄を行う際に、コーティングの時間パラメータを制御・調整する)などの具体的な条件を制御し、これらの条件にしたがって、SiO2及びNaF(使用される原材料SiO2及びNaFは、いずれも粒子状である)のそれぞれを順番にコーティングし、続いて、表4-2に示すような、プロセスにおける真空度、蒸着防止動作電流、成膜速度、コーティングの厚さなどの具体的な条件を制御し、これらの条件にしたがって、AFをコーティングし、ここで、SiO2膜には、ドイツのメルク社のL5型SiO2がコーティング材料として使用される。
注:必要に応じる真空条件を形成するためにコーティングを行い、当業者は、従来の手段にしたがって上記表4‐1に列挙された一部又は全部のポンプを選択して、必要に応じて使用することができる。ここで、機械式ポンプは、バックポンプとも呼ばれ、油を用いて密封効果を保ちながら、機械方法でポンプ内の吸引キャビティの体積を連続的に変化させ、吸引された容器内のガスの体積が膨張し続けることにより真空になり、ルーツ式ポンプは、増圧ポンプであり、吸気口と排気口との間の圧力差を増加させる機能を果たし、それは機械式ポンプをバックポンプとして使用し、拡散ポンプは、高真空を取得するために用いるポンプであり、拡散ポンプを使用する際に、バックポンプとして機械式ポンプ及びルーツ式ポンプを使用し、Polycoldは、低温水性ガスポンプであり、拡散ポンプを使用する高真空環境に存在する残留ガスを捕集するために用いられ、動作原理は、-120℃以下に達することができる冷凍コイルを拡散ポンプのポンプポートに置いて、その表面の低温凝縮効果により、真空システムの残留ガスを迅速に捕集することである。
上記の第一節の実施例4で形成されたガラスセラミックスをガラス基材として複合コーティング層を形成する操作と類似し、異なる点は、本節では、実施例12におけるイオン交換されていないガラスセラミックス(番号はそれぞれ#12‐A1から#12‐A15である)及びイオン交換されたガラスセラミックス(番号はそれぞれ#12‐B1から#12‐B15である)をガラス基材として、SiO2、NaF及びAF膜を含む複合コーティング層と、SiO2及びAF膜のみを含む複合コーティング層(イオン交換されていないガラスセラミックスの番号はそれぞれ#12‐A16から#12‐A18であり、イオン交換されたガラスセラミックスの番号はそれぞれ#12‐B16から#12‐B18である)とを形成することであり、コーティング層外面の水接触角テストの結果は、表7-1及び表7-2に示すとおりである。
上記の第一節の実施例4で形成されたガラスセラミックスをガラス基材として複合コーティング層を形成する操作と類似し、異なる点は、本節では、実施例13におけるイオン交換されていないガラスセラミックス(番号はそれぞれ#13‐A1から#13‐A15である)及びイオン交換されたガラスセラミックス(番号はそれぞれ#13‐B1から#13‐B15である)をガラス基材として、SiO2、NaF及びAF膜を含む複合コーティング層と、SiO2及びAF膜のみを含む複合コーティング層(イオン交換されていないガラスセラミックスの番号はそれぞれ#13‐A16から#13‐A18であり、イオン交換されたガラスセラミックスの番号はそれぞれ#13‐B16から#13‐B18である)とを形成することであり、コーティング層外面の水接触角テストの結果は、表8‐1及び表8‐2に示すとおりである。
(付記1)
表面に撥水撥油複合コーティング層を含有する微結晶化ガラスであって、前記微結晶化ガラスは、最外面から順番に撥水撥油層、中間層及び下塗り層を含み、ただし、前記中間層は、結晶格子エネルギーを700~3000kJ/mol含有するイオン結晶中間層であり、前記下塗り層は、Si-O結合を含有する化合物又は混合シリコン酸化物層を含む、
ことを特徴とする微結晶化ガラス。
結晶化度は、60%よりも大きくてもよいし、又は70%よりも大きくてもよいし、又は80%よりも大きくてもよい、
付記1に記載の微結晶化ガラス。
前記中間層は、結晶格子エネルギーが725~3000kJ/mol、より好ましくは770~3000kJ/molのイオン結晶を元のコーティング膜物質として形成された中間層であるか、
又は、結晶格子エネルギーが9400~11400KJ/molの化合物、好ましくはケイフッ化物を元のコーティング膜物質として形成されたフッ化物中間層である、
付記1又は付記2に記載の微結晶化ガラス。
前記中間層は、フッ化アルカリ金属類又はフッ化アルカリ土類金属化合物を含有するか、又はケイフッ化アルカリ金属及びケイフッ化アルカリ土類金属から選択されたイオン結晶を、元のコーティング膜物質として形成された中間層である、
付記3に記載の微結晶化ガラス。
前記中間層は、結晶格子エネルギーが1050KJ/molよりも、好ましくは940kJ/molよりも小さいイオン結晶中間層である、
付記1~付記3のいずれか一つに記載の微結晶化ガラス。
前記中間層は、LiF、NaF及び/又はKFのうちの少なくとも1種のイオン結晶を元のコーティング膜物質として形成された結晶であるか、又は、MgF2、CaF2、SrF2又はBaF2のうちの少なくとも1種を元のコーティング膜物質として形成された中間層であるか、又は、元のコーティング膜物質としてLi2SiF6、Na2SiF6、K2SiF6、Rb2SiF6、Cs2SiF6、BeSiF6、MgSiF6、CaSiF6、SrSiF6、又はBaSiF6のうちの少なくとも1種を元のコーティング膜物質として形成されたフッ化物中間層であり、
NaF又はKFのイオン結晶を元のコーティング膜物質として形成された中間層が好ましい、
付記5に記載の微結晶化ガラス。
前記中間層の厚さは1~5nmであり、1~2nmであることが好ましい、及び/又は
前記下塗り層の厚さは3~15nmであり、5~10nmであることが好ましく、5~8nmであることがより好ましい、及び/又は
前記撥水撥油層の厚さは10nm以上であり、15nm以上であることが好ましく、10nm~25nmであってもよい、
付記1~付記6のいずれか一つに記載の微結晶化ガラス。
前記の下塗り層が多層である場合、前記Si-O結合を含有する化合物又は混合シリコン酸化物層を最外面の下塗り層とし、前記混合シリコン酸化物は、シリコン酸化物SiOx(xは2以下)と、少なくとも1種のケイ素元素以外の他の元素の酸化物及び/又はフッ化マグネシウムとの混合物であり、
前記他の元素は、アルミニウム、スズ、マグネシウム、リン、セリウム、ジルコニウム、チタン、セシウム、バリウム、ストロンチウム、ニオブ、亜鉛又はホウ素のうちの元素であることが好ましく、前記混合シリコン酸化物がシリコン酸化物SiOxとアルミニウムの酸化物との混合物であることが好ましく、
前記Si-O結合を含有する化合物は、SiOx(xは2以下)であるか、又は、SiOC、SiON、SiOCN及び/又はSi3N4のうちのいずれか1種の物質又はSiOx(xは2以下)、SiOC、SiON及び/又はSiOCNのうちのいずれか1種の物質と任意の比率で結合する水素結合であることがより好ましい、
付記1~付記7のいずれか一つに記載の微結晶化ガラス。
前記撥水撥油層はフッ素系ポリマー層であり、分子量が2000以上の含フッ素ポリエーテルシリコン酸化物層が好ましい、
付記1~付記8のいずれか一つに記載の微結晶化ガラス。
前記微結晶化ガラスの組成成分は、下記のmol%比率の酸化物
40~75%、好ましくは45~72%のSiO2と、
2~20%、好ましくは4~15%のAl2O3と、
0~20%、好ましくは0.4~1.6%のB2O3と、
0~10%、好ましくは0.8~1.5%のP2O5と、
0~15%、好ましくは0.9~4%のZrO2+TiO2と、
0~5%、好ましくは0.1~2%のMgOと、
0~4%、好ましくは0.9~3.0%のZnOと、
0~5%、好ましくは0.01~1%の希土類酸化物と、
0~5.5%のNa2Oと、
0~4%のK2Oと、
2~34%、好ましくは10~34%のLi2Oと、
4~40%、好ましくは15~40%のNa2O+K2O+Li2Oと、を含有し、
前記微結晶化ガラスはイオン交換されたか又はイオン交換されていないガラスである、
付記1~付記9のいずれか一つに記載の微結晶化ガラス。
前記希土類酸化物は、CeO2、Y2O3、La2O3、Ta2O3、Tm2O5及びNd2O5から選択される1種以上又は2種以上のものである、
付記10に記載の微結晶化ガラス。
前記微結晶化ガラスは、着色添加剤及び/又は清澄剤をさらに含有してもよく、前記着色添加剤は、Nd2O3、Fe2O3、CoO、NiO、V2O5、MnO2、TiO2、CuO及びCr2O3から選択される1種以上のものであることが好ましく、着色添加剤のガラスの全成分に対するモル含有量は5%を超えないことがより好ましく、ガラスの全成分に対するモル含有量において、前記着色添加剤が0.5mol%以上のCoO及び/又はCr2O3を含有することがさらに好ましく、Fe2O3、NiO又はMnO2から選択される1種以上を1mol%以上含有することがさらに好ましい、及び/又は
前記清澄剤がAs2O3、Sb2O3、SnO2、塩化物、フッ化物、SO3 -含有化合物、及びNO3 -含有化合物から選択される1種以上のものであることが好ましく、SnO2、SO3 -含有化合物、塩化物、及びNO3 -含有化合物から選択される1種以上のものであることがさらに好ましく、前記清澄剤の含有量が0~2mol%であることがさらに好ましい、
付記1~付記11のいずれか一つに記載の微結晶化ガラス。
前記微結晶化ガラスの主結晶相は、β-石英固溶体、β-スポジュメン固溶体、β-ユークリプタイト、スピネル、ルチル、ムライト、オリビン、エンスタタイト、コージライト、葉長石、ケイ酸リチウム、二ケイ酸リチウム、石英、ジルコニア、磁鉄鉱から選択される1種又は2種以上であり、平均結晶粒径が100nm未満であることが好ましく、50nm以下であることがより好ましく、30nm以下であることが特に好ましい、
付記1~付記12のいずれか一つに記載の微結晶化ガラス。
微結晶化ガラスにSi-O含有酸化物又は混合シリコン酸化物層をコーティングして、微結晶化ガラスの表面に下塗り層を形成するステップ1)と、
ステップ1)で得られた下塗り層の表面に中間層をコーティングするステップ2)と、
ステップ2)で得られた中間層の表面に撥水撥油層をコーティングするステップ3)と、を含み、
前記コーティングには、真空蒸着法が採用されることが好ましい、
付記1~付記13のいずれか一つに記載の微結晶化ガラスの製造方法。
前記微結晶化ガラスは、下塗り層、中間層及び撥水撥油層をコーティングする前に、
各ガラス原材料を1600±50℃で高温溶解してから、400~650℃でアニールして、均質化された素ガラス板を取得するステップ(I)と、
オーバーフローダウンドロー法、フロート法又は圧延法により、前記素ガラス板から成形素ガラス板を取得するステップ(II)と、
2回の熱処理で前記成形素ガラス板を微結晶化させて微結晶化ガラスプリフォームを取得し、次に、イオン交換されるか又はイオン交換されずそのまま微結晶化ガラスの原材料として、必要な下塗り層、中間層及び撥水撥油層を順番に表面にコーティングするために用いられ、ただし、1回目の熱処理温度は500~1000℃であり、2回目の熱処理温度は550~1100℃であるステップ(III)と、を含む方法で焼成されて取得される、
付記14に記載の製造方法。
Claims (23)
- 表面に撥水撥油複合コーティング層を含有する微結晶化ガラスであって、前記微結晶化ガラスは、最外面から順番に撥水撥油層、中間層及び下塗り層を含み、ただし、前記中間層は、結晶格子エネルギーを700~3000kJ/mol含有するイオン結晶中間層であり、前記下塗り層は、Si-O結合を含有する化合物又は混合シリコン酸化物層を含む、
ことを特徴とする微結晶化ガラス。 - 結晶化度は、60%よりも大きい、
請求項1に記載の微結晶化ガラス。 - 結晶化度は、70%よりも大きい、
請求項1に記載の微結晶化ガラス。 - 結晶化度は、80%よりも大きい、
請求項1に記載の微結晶化ガラス。 - 前記中間層は、結晶格子エネルギーが725~3000kJ/molのイオン結晶を元のコーティング膜物質として形成された中間層であるか、
又は、結晶格子エネルギーが9400~11400kJ/molのケイフッ化物を元のコーティング膜物質として形成されたフッ化物中間層である、
請求項1~請求項4のいずれか1項に記載の微結晶化ガラス。 - 前記中間層は、結晶格子エネルギーが770~3000kJ/molのイオン結晶を元のコーティング膜物質として形成された中間層である、
請求項5に記載の微結晶化ガラス。 - 前記中間層は、フッ化アルカリ金属類又はフッ化アルカリ土類金属化合物を含有するか、又はケイフッ化アルカリ金属及びケイフッ化アルカリ土類金属から選択されたイオン結晶を、元のコーティング膜物質として形成された中間層である、
請求項5に記載の微結晶化ガラス。 - 前記中間層は、結晶格子エネルギーが1050kJ/molよりも小さいイオン結晶中間層である、
請求項1~請求項5のいずれか1項に記載の微結晶化ガラス。 - 前記中間層は、結晶格子エネルギーが940kJ/molよりも小さいイオン結晶中間層である、
請求項8に記載の微結晶化ガラス。 - 前記中間層は、LiF、NaF及び/又はKFのうちの少なくとも1種のイオン結晶を元のコーティング膜物質として形成された結晶であるか、又は、MgF2、CaF2、SrF2又はBaF2のうちの少なくとも1種を元のコーティング膜物質として形成された中間層であるか、又は、元のコーティング膜物質としてLi2SiF6、Na2SiF6、K2SiF6、Rb2SiF6、Cs2SiF6、BeSiF6、MgSiF6、CaSiF6、SrSiF6、又はBaSiF6のうちの少なくとも1種を元のコーティング膜物質として形成されたフッ化物中間層である、
請求項8に記載の微結晶化ガラス。 - 前記中間層の厚さは1~5nmであり、及び/又は
前記下塗り層の厚さは3~15nmであり、及び/又は
前記撥水撥油層の厚さは10nm以上である、
請求項1~請求項10のいずれか1項に記載の微結晶化ガラス。 - 前記中間層の厚さは1~2nmであり、及び/又は
前記下塗り層の厚さは5~10nmであり、及び/又は
前記撥水撥油層の厚さは15nm以上である、
請求項11に記載の微結晶化ガラス。 - 前記の下塗り層が多層である場合、前記Si-O結合を含有する化合物又は混合シリコン酸化物層を最外面の下塗り層とし、前記混合シリコン酸化物は、シリコン酸化物SiOx(xは2以下)と、少なくとも1種のケイ素元素以外の他の元素の酸化物及び/又はフッ化マグネシウムとの混合物である、
請求項1~請求項12のいずれか1項に記載の微結晶化ガラス。 - 前記他の元素は、アルミニウム、スズ、マグネシウム、リン、セリウム、ジルコニウム、チタン、セシウム、バリウム、ストロンチウム、ニオブ、亜鉛又はホウ素のうちの元素であり、
前記Si-O結合を含有する化合物は、SiOx(xは2以下)であるか、又は、SiOC、SiON、SiOCN及び/又はSi3N4のうちのいずれか1種の物質又はSiOx(xは2以下)、SiOC、SiON及び/又はSiOCNのうちのいずれか1種の物質と任意の比率で結合する水素結合である、
請求項13に記載の微結晶化ガラス。 - 前記撥水撥油層はフッ素系ポリマー層である、
請求項1~請求項14のいずれか1項に記載の微結晶化ガラス。 - 前記フッ素系ポリマー層は、分子量が2000以上の含フッ素ポリエーテルシリコン酸化物層である、
請求項15に記載の微結晶化ガラス。 - 前記微結晶化ガラスの組成成分は、下記のmol%比率の酸化物
40~75%のSiO2と、
2~20%のAl2O3と、
0~20%のB2O3と、
0~10%のP2O5と、
0~15%のZrO2+TiO2と、
0~5%のMgOと、
0~4%のZnOと、
0~5%の希土類酸化物と、
0~5.5%のNa2Oと、
0~4%のK2Oと、
2~34%のLi2Oと、
4~40%のNa2O+K2O+Li2Oと、を含有し、
前記微結晶化ガラスはイオン交換されたか又はイオン交換されていないガラスである、
請求項1~請求項16のいずれか1項に記載の微結晶化ガラス。 - 前記微結晶化ガラスの組成成分は、下記のmol%比率の酸化物
45~72%のSiO2と、
4~15%のAl2O3と、
0.4~1.6%のB2O3と、
0.8~1.5%のP2O5と、
0.9~4%のZrO2+TiO2と、
0.1~2%のMgOと、
0.9~3.0%のZnOと、
0.01~1%の希土類酸化物と、
0~5.5%のNa2Oと、
0~4%のK2Oと、
10~34%のLi2Oと、
15~40%のNa2O+K2O+Li2Oと、を含有し、
前記微結晶化ガラスはイオン交換されたか又はイオン交換されていないガラスである、
請求項17に記載の微結晶化ガラス。 - 前記希土類酸化物は、CeO2、Y2O3、La2O3、Ta2O3、Tm2O5及びNd2O5から選択される1種以上又は2種以上のものである、
請求項17又は請求項18に記載の微結晶化ガラス。 - 前記微結晶化ガラスは、着色添加剤及び/又は清澄剤をさらに含有する、
請求項1~請求項19のいずれか1項に記載の微結晶化ガラス。 - 前記微結晶化ガラスの主結晶相は、β-石英固溶体、β-スポジュメン固溶体、β-ユークリプタイト、スピネル、ルチル、ムライト、オリビン、エンスタタイト、コージライト、葉長石、ケイ酸リチウム、二ケイ酸リチウム、石英、ジルコニア、磁鉄鉱から選択される1種又は2種以上である、
請求項1~請求項20のいずれか1項に記載の微結晶化ガラス。 - 前記微結晶化ガラスの主結晶相の平均結晶粒径が100nm未満である、
請求項21に記載の微結晶化ガラス。 - 微結晶化ガラスにSi-O含有酸化物又は混合シリコン酸化物層をコーティングして、微結晶化ガラスの表面に下塗り層を形成するステップ1)と、
ステップ1)で得られた下塗り層の表面に中間層をコーティングするステップ2)と、
ステップ2)で得られた中間層の表面に撥水撥油層をコーティングするステップ3)と、を含む、
請求項1~請求項22のいずれか1項に記載の微結晶化ガラスの製造方法。
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