CN117512553B - 一种微晶玻璃真空镀膜方法 - Google Patents
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- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 34
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 title claims abstract description 26
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 25
- 239000002241 glass-ceramic Substances 0.000 claims abstract description 61
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 56
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 49
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 63
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 claims description 37
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 claims description 18
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 claims description 18
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 4
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 claims description 3
- 238000009434 installation Methods 0.000 claims description 3
- 238000002791 soaking Methods 0.000 claims description 3
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 claims description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 7
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 2
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000013081 microcrystal Substances 0.000 description 2
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 239000006121 base glass Substances 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000007888 film coating Substances 0.000 description 1
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/50—Substrate holders
- C23C14/505—Substrate holders for rotation of the substrates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/02—Pretreatment of the material to be coated
- C23C14/021—Cleaning or etching treatments
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
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- Organic Chemistry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
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Abstract
本说明书实施例提供一种微晶玻璃真空镀膜方法，采用真空镀膜机对微晶玻璃进行镀膜，微晶玻璃包括上表面、下表面、两组相互对称的第一侧面、两组相互对称的第二侧面和两组相互对称的第一斜面，上表面开设有若干凹槽，第二侧面和第一斜面处于同一侧，对两组第一侧面、两组第二侧面和两组第一斜面进行镀膜，镀膜方法包括：通过第一夹具对微晶玻璃进行夹持固定形成第一固定件；对第一侧面进行镀膜；对第二侧面进行镀膜；对第一斜面进行镀膜。可实现对微晶玻璃两个第一侧面、两个第二侧面和两个第一斜面的镀膜，在镀膜的过程中不会对微晶玻璃造成损伤，镀膜效果好。
Description
技术领域
本说明书涉及真空镀膜技术领域，具体涉及一种微晶玻璃真空镀膜方法。
背景技术
在真空镀膜中，大口径高精度微晶玻璃多个面镀膜应用越来越多，广泛应用于高端领域，如光刻机、航空、航天领域等。大口径高精度微晶玻璃本身的加工工艺复杂，加工精度要求高，加工产品周期长，产品的价值高，在镀膜过程中容易造成产品损伤的风险。
发明内容
有鉴于此，本说明书实施例提供一种微晶玻璃真空镀膜方法，可实现对微晶玻璃两个第一侧面、两个第二侧面和两个第一斜面的镀膜，在镀膜的过程中不会对微晶玻璃造成损伤，镀膜效果好。
本说明书实施例提供以下技术方案：一种微晶玻璃真空镀膜方法，采用真空镀膜机对所述微晶玻璃进行镀膜，所述微晶玻璃包括上表面、下表面、两组相互对称的第一侧面、两组相互对称的第二侧面和两组相互对称的第一斜面，所述上表面开设有若干凹槽，所述第二侧面和所述第一斜面处于同一侧，对两组所述第一侧面、两组第二侧面和两组第一斜面进行镀膜，所述镀膜方法包括：
通过第一夹具对所述上表面和下表面进行夹持固定形成第一固定件；
对第一侧面进行镀膜：通过第一连接件将所述第一固定件连接在镀膜机固定件上，使得第一侧面与水平面相平行，其中一个第一侧面的中心和镀膜机电子枪的中心是一个同心圆，对该第一侧面进行镀膜，镀膜完成后，将第一固定件翻转180°，对另一个第一侧面进行镀膜；
对第二侧面进行镀膜：通过第二连接件将所述第一固定件连接在镀膜机固定件上，使得第二侧面与水平面相平行，其中一个第二侧面的中心和镀膜机电子枪的中心是一个同心圆，对该第二侧面进行镀膜，镀膜完成后，将第一固定件翻转180°，对另一个第二侧面进行镀膜；
对第一斜面进行镀膜：通过第三连接件将所述第一固定件连接在镀膜机固定件上，使得第一斜面与水平面成45°，其中一个第一斜面的中心和镀膜机电子枪的中心是一个同心圆，对该第一斜面进行镀膜，镀膜完成后，将第一固定件翻转180°，对另一个第一斜面进行镀膜。
优选的，所述第一夹具包括第一盖板、第二盖板和若干限位杆，所述第一盖板靠近所述上表面的一侧安装有与若干所述凹槽相对应的若干弹性定位块，所述第一盖板与所述微晶玻璃的上表面相接触，所述第二盖板与所述微晶玻璃的下表面相接触，所述限位杆对所述第一盖板和第二盖板之间进行连接。
优选的，所述限位杆至少设置有两组，所述限位杆设置在所述微晶玻璃的拐角处，所述限位杆靠近所述微晶玻璃的一侧开设有限位槽，所述微晶玻璃的拐角处至少部分嵌入所述限位槽内。
优选的，所述限位杆包括直杆段和斜杆段，所述直杆段上的限位槽与所述第一侧面和第二侧面的相交处的拐角相配合，所述斜杆段上的限位槽与所述第一侧面和第一斜面的相交处的拐角相配合。
优选的，所述弹性定位块在安装前还包括对弹性定位块的清洗操作，包括：
在纯水45℃温度下浸泡20分钟；
在3%碱性溶液，45℃温度下超声波清洗30分钟；
在纯水25℃温度下超声波30分钟。
优选的，所述弹性定位块包括特氟龙块，所述特氟龙块通过第一螺钉与所述第一盖板相连接，所述特氟龙块设置有四组，四组所述特氟龙块成矩形分布。
优选的，所述镀膜机固定件包括转接架和镀膜机固定板，所述转接架和所述镀膜机固定板之间通过第二螺钉相连接，所述镀膜机固定板安装在所述真空镀膜机的中心轴上，所述镀膜机固定板绕所述中心轴旋转。
优选的，所述第一连接件包括多个第一转接板，所述第一转接板与所述第一固定件之间相连接，所述第一转接板与所述转接架之间相连接。
优选的，所述第二连接件包括第二转接板，所述第二转接板与所述第一固定件之间相连接，所述第二转接板与所述转接架之间相连接。
优选的，所述第三连接件包括斜面转接板，所述斜面转接板与所述第一固定件之间相连接，使得所述第一斜面与水平面成45°，所述斜面转接板与转接架之间相连接。
与现有技术相比，本说明书实施例采用的上述至少一个技术方案能够达到的有益效果至少包括：
通过第一夹具对微晶玻璃进行夹持固定形成第一固定件，通过第一连接件将第一固定件固定在镀膜机固定件上，可对微晶玻璃的第一侧面进行镀膜，通过第二连接件将第一固定件固定在镀膜机固定件上，可对微晶玻璃的第二侧面进行镀膜，通过第三连接件将第一固定件固定在镀膜机固定件上，可对微晶玻璃的第一斜面进行镀膜，可实现对微晶玻璃两个第一侧面、两个第二侧面和两个第一斜面的镀膜，在镀膜的过程中不会对微晶玻璃造成损伤，镀膜效果好。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。
图1是本申请提供的微晶玻璃的结构示意图；
图2是本申请提供的第一固定件的爆炸结构示意图；
图3是本申请提供的限位杆的结构示意图；
图4是本申请提供的镀第一侧面时的结构示意图；
图5是本申请提供的镀第一斜面时的结构示意图；
图6是本申请提供的镀第二侧面时的结构示意图；
图7是本申请提供的加热时间-温度曲线的示意图。
图中，1、微晶玻璃；101、上表面；102、下表面；103、第一侧面；104、第二侧面；105、第一斜面；106、凹槽；2、第一盖板；3、第二盖板；4、限位杆；41、直杆段；42、斜杆段；43、限位槽；5、弹性定位块；6、第一螺钉；7、转接架；8、镀膜机固定板；9、中心轴；10、第二螺钉；11、第一连接件；1101、第一转接板；12、第三连接件；1201、斜面转接板；13、第二连接件；1301、第二转接板。
具体实施方式
下面结合附图对本申请实施例进行详细描述。
以下通过特定的具体实例说明本申请的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本申请的其他优点与功效。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。本申请还可以通过另外不同的具体实施方式加以实施或应用，本说明书中的各项细节也可以基于不同观点与应用，在没有背离本申请的精神下进行各种修饰或改变。需说明的是，在不冲突的情况下，以下实施例及实施例中的特征可以相互组合。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
要说明的是，下文描述在所附权利要求书的范围内的实施例的各种方面。应显而易见，本文中所描述的方面可体现于广泛多种形式中，且本文中所描述的任何特定结构及/或功能仅为说明性的。基于本申请，所属领域的技术人员应了解，本文中所描述的一个方面可与任何其它方面独立地实施，且可以各种方式组合这些方面中的两者或两者以上。举例来说，可使用本文中所阐述的任何数目和方面来实施设备及/或实践方法。另外，可使用除了本文中所阐述的方面中的一或多者之外的其它结构及/或功能性实施此设备及/或实践此方法。
还需要说明的是，以下实施例中所提供的图示仅以示意方式说明本申请的基本构想，图式中仅显示与本申请中有关的组件而非按照实际实施时的组件数目、形状及尺寸绘制，其实际实施时各组件的型态、数量及比例可为一种随意的改变，且其组件布局型态也可能更为复杂。
另外，在以下描述中，提供具体细节是为了便于透彻理解实例。然而，所属领域的技术人员将理解，可在没有这些特定细节的情况下实践所述方面。
微晶玻璃是一种由加有晶核剂或不加晶核剂的特定组成的基础玻璃，在一定温度制度下进行晶化热处理，从而在玻璃内均匀地析出大量的微小晶体，形成致密的微晶相和玻璃相的多相复合体，它具有玻璃和陶瓷的双重特性，原子排列有规律，比陶瓷的亮度高，比玻璃韧性强。
目前大口径高精度微晶玻璃多个面镀膜应用越来越多，广泛应用于高端领域，如光刻机、航空、航天领域等。但是由于一般需要镀膜的微晶玻璃尺寸都比较大，微晶玻璃重量比较重，同时微晶玻璃本身是高精密零件，价值比较高，零件整个过程中不能有任何损伤，同时镀膜温度在100℃以上，要充分考虑到温度对产品及夹具变形的影响，导致真空镀膜存在着一定的不便，在镀膜过程中容易造成产品损伤的风险。
发明人经过了广泛和深入的试验，设计出一种微晶玻璃真空镀膜方法。
以下结合附图，说明本申请各实施例提供的技术方案。
如图1-图6所示，一种微晶玻璃真空镀膜方法，采用真空镀膜机对所述微晶玻璃1进行镀膜，所述微晶玻璃1包括上表面101、下表面102、两组相互对称的第一侧面103、两组相互对称的第二侧面104和两组相互对称的第一斜面105，所述上表面101顶部开设有若干凹槽106，所述第二侧面104和所述第一斜面105处于同一侧，第一侧面103的尺寸大于第二侧面104的尺寸，对两组所述第一侧面103、两组第二侧面104和两组第一斜面105进行镀膜，所述镀膜方法包括：
通过第一夹具对所述上表面101和下表面102进行夹持固定形成第一固定件；
对第一侧面103进行镀膜：通过第一连接件11将所述第一固定件连接在镀膜机固定件上，使得第一侧面103与水平面相平行，其中一个第一侧面103的中心和镀膜机电子枪的中心是一个同心圆，保证对第一侧面103的镀膜精度，对该第一侧面103进行镀膜，镀膜完成后，因为两个第一侧面103为对称结构，因此可将第一固定件拆卸下来，然后将第一固定件翻转180°通过第一连接件11装配到镀膜机固定件上，对另一个第一侧面103进行镀膜；
对第二侧面104进行镀膜：通过第二连接件13将所述第一固定件连接在镀膜机固定件上，使得第二侧面104与水平面相平行，其中一个第二侧面104的中心和镀膜机电子枪的中心是一个同心圆，保证对第二侧面104的镀膜精度，对该第二侧面104进行镀膜，镀膜完成后，因为两个第二侧面104为对称结构，因此可将第一固定件拆卸下来，然后将第一固定件翻转180°通过第二连接件13装配到镀膜机固定件上，对另一个第二侧面104进行镀膜；
对第一斜面105进行镀膜：通过第三连接件12将所述第一固定件连接在镀膜机固定件上，使得第一斜面105与水平面成45°，其中一个第一斜面105的中心和镀膜机电子枪的中心是一个同心圆，保证对第一斜面105的镀膜精度，对该第一斜面105进行镀膜，镀膜完成后，因为两个第一斜面105为对称结构，因此可将第一固定件拆卸下来，然后将第一固定件翻转180°通过第三连接件12装配到镀膜机固定件上，对另一个第一斜面105进行镀膜。
通过第一夹具对微晶玻璃1进行夹持固定形成第一固定件，通过第一连接件11将第一固定件固定在镀膜机固定件上，可对微晶玻璃1的第一侧面103进行镀膜，通过第二连接件13将第一固定件固定在镀膜机固定件上，可对微晶玻璃1的第二侧面104进行镀膜，通过第三连接件12将第一固定件固定在镀膜机固定件上，可对微晶玻璃1的第一斜面105进行镀膜，可实现对微晶玻璃1两个第一侧面103、两个第二侧面104和两个第一斜面105的镀膜，在镀膜的过程中不会对微晶玻璃1造成损伤，镀膜效果好。
需要说明的是，采用第一夹具将微晶玻璃1包围的方式，第一夹具表面高出镀膜面有一定距离，使得其他物体不容易碰到镀膜面，保证镀膜效果，同时第一夹具强度经过有限元分析计算，使得一定的碰撞力不会损伤到微晶玻璃1。
还需要说明的是，在每镀一个面之前，都需要重新装配，撕下要镀膜的面的保护膜，并擦拭微晶玻璃1需要镀膜的面。
如图2所示，在一些实施方式中，所述第一夹具包括第一盖板2、第二盖板3和若干限位杆4，所述第一盖板2靠近所述上表面101的一侧安装有与若干所述凹槽106相对应的若干弹性定位块5，弹性定位块5通过螺钉安装在上第一盖板2上，所述第一盖板2与所述微晶玻璃1的上表面101相接触，所述第二盖板3与所述微晶玻璃1的下表面102相接触，所述限位杆4对所述第一盖板2和第二盖板3之间进行连接，将第一盖板2放置在微晶玻璃1的上表面101上，弹性定位块5插入凹槽106内，第二盖板3放置在微晶玻璃1的下表面102上，通过螺钉将限位杆4的第一端与第一盖板2之间相连接，通过螺钉将限位杆4的第二端与第二盖板3之间相连接，实现对第一盖板2和第二盖板3之间的连接，使得微晶玻璃1被夹持在第一盖板2和第二盖板3之间，完成对微晶玻璃1的固定操作。
如图2-图3所示，在一些实施方式中，所述限位杆4至少设置有两组，所述限位杆4设置在所述微晶玻璃1的拐角处，所述限位杆4靠近所述微晶玻璃1的一侧开设有限位槽43，所述微晶玻璃1的拐角处至少部分嵌入所述限位槽43内，通过将限位杆4设置在微晶玻璃1的拐角处，在不影响对微晶玻璃1镀膜的基础上保证对微晶玻璃1的限位效果，同时在限位杆4靠近微晶玻璃1的一侧开设限位槽43，微晶玻璃1的拐角插入限位槽43内，保证对微晶玻璃1的限位效果。
需要说明的是，在本实施方式中，限位杆4设置有四组，四组限位杆4分别设置在微晶玻璃1的四个拐角处。
如图2-图3所示，在一些实施方式中，所述限位杆4包括直杆段41和斜杆段42，所述直杆段41上的限位槽与所述第一侧面103和第二侧面104的相交处的拐角相配合，所述斜杆段42上的限位槽与所述第一侧面103和第一斜面105的相交处的拐角相配合，由于微晶玻璃1设置有两组对称设置的第一斜面105，因此微晶玻璃1的拐角处必然会有直线段和倾斜段，因此通过一体成型的直杆段41和斜杆段42构成限位杆4，直杆段41与微晶玻璃1拐角处的直线段相配合，斜杆段42与微晶玻璃1拐角处的倾斜段相配合，保证对微晶玻璃1的限位固定效果。
在一些实施方式中，所述弹性定位块5在安装前还包括对弹性定位块5的清洗操作，包括：
在纯水45℃温度下浸泡20分钟；
在3%碱性溶液，45℃温度下超声波清洗30分钟；
在纯水25℃温度下超声波30分钟。
由于弹性定位块5要在真空镀膜机中工作，因此必须保证绝对的干净，因此采用上述清洗方式对弹性定位块5进行清洗，保证弹性定位块5的洁净度，避免对微晶玻璃1造成污染。
如图2所示，在一些实施方式中，所述弹性定位块5包括特氟龙块，所述特氟龙块通过第一螺钉6与所述第一盖板2相连接，所述特氟龙块设置有四组，四组所述特氟龙块成矩形分布，通过采用特氟龙块作为弹性定位块5，特氟龙因为表面比较软，可以保护微晶玻璃1不受损坏，表面干净，可以在真空环境中使用。
需要说明的是，如图7所示，特氟龙块考虑到加热变形，通过仿真计算，在加工过程中，通过加热时间-温度曲线控制加工的精度，以便很好的和玻璃微晶配合，否则特氟龙热膨胀过大会有损坏玻璃微晶的风险，特氟龙尺寸太小，则和微晶玻璃1配合时间隙太大，不能精确定位。
还需要说明的是，微晶槽尺寸是50×50，公差范围是-0.03到-0.08，特氟龙尺寸是50×50，公差范围是+0.08到+0.03。
如图4-图6所示，在一些实施方式中，所述镀膜机固定件包括转接架7和镀膜机固定板8，所述转接架7和所述镀膜机固定板8之间通过第二螺钉10相连接，所述镀膜机固定板8安装在所述真空镀膜机的中心轴9上，所述镀膜机固定板8绕所述中心轴9旋转，通过设置转接架7和镀膜机固定板8，通过第一连接件11、第二连接件13或者第三连接件12将第一固定件与转接架7之间相连接，转接架7通过第二螺钉10安装在镀膜机固定板8上，镀膜机固定板8连接在真空镀膜机的中心轴9上，可绕中心轴9进行旋转，便于实现对微晶玻璃1的镀膜操作。
如图4所示，在一些实施方式中，所述第一连接件11包括多个第一转接板1101，所述第一转接板1101与所述第一固定件之间相连接，所述第一转接板1101与所述转接架7之间相连接，第一转接板1101为大面转接板，当需要对微晶玻璃1的第一侧面103进行镀膜时，将第一转接板1101与第一盖板2和第二盖板3之间通过螺钉进行连接，然后将第一转接板1101和转接架7之间通过螺钉进行连接，此时，第一侧面103与水平面相平行，可对其中一个第一侧面103进行镀膜，当第一侧面103镀膜完成后，将第一转接板1101与转接架7之间分离，旋转180°再安装到转接架7上，可对另一个第一侧面103进行镀膜。
需要说明的是，第一转接板1101设置有四组，四组第一转接板1101成两两分布在第一固定件的两侧。
如图6所示，在一些实施方式中，所述第二连接件13包括第二转接板1301，所述第二转接板1301与所述第一固定件之间相连接，所述第二转接板1301与所述转接架7之间相连接，第二转接板1301为小面转接板，当需要对微晶玻璃1的第二侧面104进行镀膜时，将第二转接板1301与第一盖板2和第二盖板3之间通过螺钉进行连接，然后将第二转接板1301和转接架7之间通过螺钉进行连接，此时，第二侧面104与水平面相平行，可对其中一个第二侧面104进行镀膜，当第二侧面104镀膜完成后，将第二转接板1301与转接架7之间分离，旋转180°再安装到转接架7上，可对另一个第二侧面104进行镀膜。
需要说明的是，第二侧面104的镀膜方式与第一侧面103的镀膜方式类似。不同之处在于，第一转接板1101为大面转接板，而第二转接板1301为小面转接板。
如图5所示，在一些实施方式中，所述第三连接件12包括斜面转接板1201，所述斜面转接板1201与所述第一固定件之间相连接，使得所述第一斜面105与水平面成45°，所述斜面转接板1201与转接架7之间相连接，当需要对微晶玻璃1的第一斜面105进行镀膜时，将斜面转接板1201与第一盖板2之间通过螺钉进行连接，然后将斜面转接板1201和转接架7之间通过螺钉进行连接，此时，第一斜面105与水平面成45°，可对其中一个第一斜面105进行镀膜，当第一斜面105镀膜完成后，将斜面转接板1201与转接架7之间分离，旋转180°再安装到转接架7上，可对另一个第一斜面105进行镀膜。
本说明书中的各个实施例均之间相同相似的部分互相参见即可，每个实施例侧重说明的都是与其他实施例的不同之处。尤其，对于后面说明的方法实施例而言，由于其与系统是对应的，描述比较简单，相关之处参见系统实施例的部分说明即可。
以上所述，仅为本申请的具体实施方式，但本申请的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本申请揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本申请的保护范围之内。因此，本申请的保护范围应以权利要求的保护范围为准。
Claims (9)
1.一种微晶玻璃真空镀膜方法，其特征在于，采用真空镀膜机对所述微晶玻璃进行镀膜，所述微晶玻璃包括上表面、下表面、两组相互对称的第一侧面、两组相互对称的第二侧面和两组相互对称的第一斜面，所述上表面开设有若干凹槽，所述第二侧面和所述第一斜面处于同一侧，对两组所述第一侧面、两组第二侧面和两组第一斜面进行镀膜，所述镀膜方法包括：
通过第一夹具对所述上表面和下表面进行夹持固定形成第一固定件，第一夹具高出镀膜面；
所述第一夹具包括第一盖板、第二盖板和若干限位杆，所述第一盖板靠近所述上表面的一侧安装有与若干所述凹槽相对应的若干弹性定位块，所述第一盖板与所述微晶玻璃的上表面相接触，所述第二盖板与所述微晶玻璃的下表面相接触，所述限位杆对所述第一盖板和第二盖板之间进行连接；
对第一侧面进行镀膜：通过第一连接件将所述第一固定件连接在镀膜机固定件上，使得第一侧面与水平面相平行，其中一个第一侧面的中心和镀膜机电子枪的中心是一个同心圆，对该第一侧面进行镀膜，镀膜完成后，将第一固定件翻转180°，对另一个第一侧面进行镀膜；
对第二侧面进行镀膜：通过第二连接件将所述第一固定件连接在镀膜机固定件上，使得第二侧面与水平面相平行，其中一个第二侧面的中心和镀膜机电子枪的中心是一个同心圆，对该第二侧面进行镀膜，镀膜完成后，将第一固定件翻转180°，对另一个第二侧面进行镀膜；
对第一斜面进行镀膜：通过第三连接件将所述第一固定件连接在镀膜机固定件上，使得第一斜面与水平面成45°，其中一个第一斜面的中心和镀膜机电子枪的中心是一个同心圆，对该第一斜面进行镀膜，镀膜完成后，将第一固定件翻转180°，对另一个第一斜面进行镀膜。
2.根据权利要求1所述的微晶玻璃真空镀膜方法，其特征在于，所述限位杆至少设置有两组，所述限位杆设置在所述微晶玻璃的拐角处，所述限位杆靠近所述微晶玻璃的一侧开设有限位槽，所述微晶玻璃的拐角处至少部分嵌入所述限位槽内。
3.根据权利要求2所述的微晶玻璃真空镀膜方法，其特征在于，所述限位杆包括直杆段和斜杆段，所述直杆段上的限位槽与所述第一侧面和第二侧面的相交处的拐角相配合，所述斜杆段上的限位槽与所述第一侧面和第一斜面的相交处的拐角相配合。
4.根据权利要求1所述的微晶玻璃真空镀膜方法，其特征在于，所述弹性定位块在安装前还包括对弹性定位块的清洗操作，包括：
在纯水45℃温度下浸泡20分钟；
在3%碱性溶液，45℃温度下超声波清洗30分钟；
在纯水25℃温度下超声波30分钟。
5.根据权利要求1所述的微晶玻璃真空镀膜方法，其特征在于，所述弹性定位块包括特氟龙块，所述特氟龙块通过第一螺钉与所述第一盖板相连接，所述特氟龙块设置有四组，四组所述特氟龙块成矩形分布。
6.根据权利要求1-5任一项所述的微晶玻璃真空镀膜方法，其特征在于，所述镀膜机固定件包括转接架和镀膜机固定板，所述转接架和所述镀膜机固定板之间通过第二螺钉相连接，所述镀膜机固定板安装在所述真空镀膜机的中心轴上，所述镀膜机固定板绕所述中心轴旋转。
7.根据权利要求6所述的微晶玻璃真空镀膜方法，其特征在于，所述第一连接件包括多个第一转接板，所述第一转接板与所述第一固定件之间相连接，所述第一转接板与所述转接架之间相连接。
8.根据权利要求6所述的微晶玻璃真空镀膜方法，其特征在于，所述第二连接件包括第二转接板，所述第二转接板与所述第一固定件之间相连接，所述第二转接板与所述转接架之间相连接。
9.根据权利要求6所述的微晶玻璃真空镀膜方法，其特征在于，所述第三连接件包括斜面转接板，所述斜面转接板与所述第一固定件之间相连接，使得所述第一斜面与水平面成45°，所述斜面转接板与转接架之间相连接。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202410003805.5A CN117512553B (zh) | 2024-01-03 | 2024-01-03 | 一种微晶玻璃真空镀膜方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202410003805.5A CN117512553B (zh) | 2024-01-03 | 2024-01-03 | 一种微晶玻璃真空镀膜方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN117512553A CN117512553A (zh) | 2024-02-06 |
| CN117512553B true CN117512553B (zh) | 2024-04-02 |
Family
ID=89749693
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202410003805.5A Active CN117512553B (zh) | 2024-01-03 | 2024-01-03 | 一种微晶玻璃真空镀膜方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN117512553B (zh) |
Citations (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1429392A (en) * | 1973-04-03 | 1976-03-24 | Nippon Electric Co | Coating glasses |
| JP2003313653A (ja) * | 2002-04-24 | 2003-11-06 | Sano Fuji Koki Co Ltd | 真空蒸着装置 |
| KR101111352B1 (ko) * | 2011-05-30 | 2012-02-24 | 주식회사 유니벡 | 다층 박막코팅용 타겟장치 |
| KR20130046473A (ko) * | 2011-10-28 | 2013-05-08 | 주식회사 엠엠테크 | Ｆｐｃｂ가 결합된 글라스 슬리밍 지그 |
| CN205473382U (zh) * | 2016-03-25 | 2016-08-17 | 南阳华祥光电科技股份有限公司 | 一种真空镀膜翻转工装 |
| CN206011747U (zh) * | 2016-08-30 | 2017-03-15 | 杭州珍妮科技有限公司 | 一种新型3d打印机加热散热热床 |
| CN206599606U (zh) * | 2017-03-03 | 2017-10-31 | 华鑫纳米科技（东莞）有限公司 | 一种实现五面镀膜的蒸发镀膜机 |
| CN115353292A (zh) * | 2022-09-14 | 2022-11-18 | 晶研一材料科技(宜兴)有限公司 | 一种高精度的微晶玻璃加工用镀膜装置及其镀膜方法 |
| WO2023041067A1 (zh) * | 2021-09-18 | 2023-03-23 | 重庆鑫景特种玻璃有限公司 | 一种低翘曲的强化微晶玻璃、及其制备方法和用途 |
| CN218969352U (zh) * | 2022-12-17 | 2023-05-05 | 杭州比凡科电子科技有限公司 | 一种基片装片台 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP3032565A1 (en) * | 2014-12-08 | 2016-06-15 | Soleras Advanced Coatings bvba | A device having two end blocks, an assembly and a sputter system comprising same, and a method of providing RF power to a target tube using said device or assembly |
| CN116589192A (zh) * | 2021-01-29 | 2023-08-15 | 重庆鑫景特种玻璃有限公司 | 含有着色添加剂的镀膜微晶玻璃及其制法和应用 |
-
2024
- 2024-01-03 CN CN202410003805.5A patent/CN117512553B/zh active Active
Patent Citations (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1429392A (en) * | 1973-04-03 | 1976-03-24 | Nippon Electric Co | Coating glasses |
| JP2003313653A (ja) * | 2002-04-24 | 2003-11-06 | Sano Fuji Koki Co Ltd | 真空蒸着装置 |
| KR101111352B1 (ko) * | 2011-05-30 | 2012-02-24 | 주식회사 유니벡 | 다층 박막코팅용 타겟장치 |
| KR20130046473A (ko) * | 2011-10-28 | 2013-05-08 | 주식회사 엠엠테크 | Ｆｐｃｂ가 결합된 글라스 슬리밍 지그 |
| CN205473382U (zh) * | 2016-03-25 | 2016-08-17 | 南阳华祥光电科技股份有限公司 | 一种真空镀膜翻转工装 |
| CN206011747U (zh) * | 2016-08-30 | 2017-03-15 | 杭州珍妮科技有限公司 | 一种新型3d打印机加热散热热床 |
| CN206599606U (zh) * | 2017-03-03 | 2017-10-31 | 华鑫纳米科技（东莞）有限公司 | 一种实现五面镀膜的蒸发镀膜机 |
| WO2023041067A1 (zh) * | 2021-09-18 | 2023-03-23 | 重庆鑫景特种玻璃有限公司 | 一种低翘曲的强化微晶玻璃、及其制备方法和用途 |
| CN115353292A (zh) * | 2022-09-14 | 2022-11-18 | 晶研一材料科技(宜兴)有限公司 | 一种高精度的微晶玻璃加工用镀膜装置及其镀膜方法 |
| CN218969352U (zh) * | 2022-12-17 | 2023-05-05 | 杭州比凡科电子科技有限公司 | 一种基片装片台 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN117512553A (zh) | 2024-02-06 |
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| PB01 | Publication | ||
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| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| PE01 | Entry into force of the registration of the contract for pledge of patent right | ||
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Denomination of invention: A vacuum coating method for microcrystalline glass Granted publication date: 20240402 Pledgee: Agricultural Bank of China Limited Shanghai pilot Free Trade Zone New Area Branch Pledgor: SHANGHAI MIFENG LASER TECHNOLOGY Co.,Ltd. Registration number: Y2024980041181 |