JP2003313653A - 真空蒸着装置 - Google Patents

真空蒸着装置

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JP2003313653A JP2002122163A JP2002122163A JP2003313653A JP 2003313653 A JP2003313653 A JP 2003313653A JP 2002122163 A JP2002122163 A JP 2002122163A JP 2002122163 A JP2002122163 A JP 2002122163A JP 2003313653 A JP2003313653 A JP 2003313653A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 簡単な構成で、ドームがほぼ1回転する間
に、容易に、しかも円滑かつ確実にワークホルダをドー
ムのワーク装着部で反転させる、かつ反転前位置及び反
転後位置でワークホルダを安定的に保持できるようにす
る。 【解決手段】 真空チャンバ10内に設けられるドーム
11のワーク装着部14に装着したワークホルダユニッ
ト20のワーク2が装着されているワークホルダ23は
支持枠21に反転軸22を中心として反転可能に支持さ
れている。ワークホルダ23には反転中心線Rからオフ
セットした位置に重心を位置させ、かつ反転駆動ロッド
29により押動可能な反転作動部材25が突出する状態
に設けられており、またワークホルダ23にはストッパ
板26が設けられ、このストッパ板26は支持枠21に
設けられ、ワークホルダ23が反転前位置では第1のス
トッパ受け27に、また反転後位置では第2のストッパ
受け28にストッパ板26が当接する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、被蒸着部材である
円形、角形等からなる板状部材、その他のワークの表面
に蒸着物質を成膜する真空蒸着装置に関する。
【0002】
【従来の技術】ガラス基板等の薄板基板や、半導体ウエ
ハ等のワークの表面に蒸着物質を積層するために真空蒸
着装置が用いられる。一般的な真空蒸着装置の概略構成
を図17に示す。同図から明らかなように、蒸着源10
0が真空チャンバ101内に設けられており、この蒸着
源100からの蒸着物質をガラス板等からなるワーク1
03の表面に均一に付着させる。蒸着源100は1また
は複数設けられるようになっており、図示したものにあ
っては、シャッタ104により2種類の蒸着物質を蒸着
させるように構成されている。1度に多数のワーク10
3に蒸着できるようにするために、真空チャンバ101
内には回転式のドーム102が設けられており、このド
ーム102は、概略傘型の形状をしたものからなり、回
転軸102aを中心として回転するようになっている。
このドーム102の斜面部等に所定数のワーク103が
装着される。さらに、真空チャンバ101の下部にはダ
クト105が接続されており、このダクト105には図
示しない真空ポンプが接続されて、真空チャンバ101
内が真空状態にされる。
【0003】ここで、ワーク103がドーム102に固
定的に保持されていると、ワーク103の片面のみにし
か蒸着膜が形成されない。そこで、特開平5−2719
35号公報にドームを傾斜方向に向けて複数に分割し
て、各分割ドームを反転させることによって、ワークの
表裏両面に蒸着膜を形成する構成としたものが開示され
ている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ドーム
を複数に分割する構成とした場合には、装置構成が複雑
になり、組み付けが面倒になる等の問題点がある。ま
た、分割ドームを反転駆動するには、大きな駆動力が必
要であり、従って反転駆動手段が大型化する等の問題点
もある。
【0005】本発明は、上記問題点に鑑み、ドームを分
割することなく、真空チャンバ内で容易にワークを反転
させることができる真空蒸着装置を提供することを目的
としている。
【0006】
【課題を解決するための手段】前述の課題を解決するた
めに、本発明は、真空チャンバ内に垂直軸の軸回りに回
転するドームが設けられ、このドームの斜面に円周方向
及び傾斜方向に向けて複数のワーク装着部が設けられ、
ドームの下部位置に蒸着源を配置して、各ワーク装着部
に装着されたワーク表面に蒸着膜を形成する真空蒸着装
置であって、前記ワークが着脱可能に装着されるワーク
ホルダと、前記ドームの斜面の傾斜方向に向けた反転中
心線を中心として、前記ワークホルダを180°回動可
能に前記ワーク装着部に支持させる反転軸と、前記ワー
クホルダを反転前位置と反転後位置とにそれぞれ位置決
めする反転前位置決め手段及び反転後位置決め手段と、
前記ドームが回転する間に前記ワークホルダを反転前位
置から反転後位置に反転させるための反転駆動手段と、
前記ワークホルダの反転前位置では、このワークホルダ
には前記反転前位置決め手段に保持させる方向に重心が
作用し、また前記反転駆動手段により前記ワークホルダ
を反転させる途中から反転後位置に至るまで、このワー
クホルダが前記反転後位置決め手段に保持させる方向に
重心が作用するように前記ワークホルダの重心位置をシ
フトさせる重心シフト手段とを備える構成としたことを
その特徴とするものである。
【0007】ここで、重心シフト手段は重心位置をシフ
トさせることによりワークホルダを反転前位置と反転後
位置とにそれぞれ位置決め保持されるが、遅くともワー
クホルダが垂直状態となったときには、重心のシフトが
始まるようにする。このためには、重心シフト手段はワ
ークホルダの表面から突出するウエイトで構成すること
ができる。ウエイトはワークホルダが反転前位置となっ
ているときには、このワークホルダの上面から突出する
ようになし、かつワークホルダの反転方向はウエイトが
突出している側が起き上がる方向とする。ワークホルダ
は、まず重力に逆らう方向に回動するが、反転過程の中
間位置、具体的にはワークホルダが垂直になる直前に重
心位置がシフトして、ワークの回動方向の前方に向け
て、つまり反転後位置となる方向に重力が作用する。
【0008】反転駆動手段はドームの外面または内面に
沿って平行に配置した押動部材で構成することができ
る。そして、この押動部材はワークホルダに作用して、
その反転動作を行なわせる作動状態と、ワークホルダか
ら離間した退避状態とに変位させる構成とする。この押
動部材を変位させる機構としては、回転動作、スイング
動作、往復動作等が可能である。いずれにしろ、ワーク
ホルダ側には押動部材により押動される反転動作部材を
設ける。反転駆動手段を構成する押動部材はドームに対
して平行に配置されるから、この反転動作部材は、押動
部材に当接させるために、ワークホルダから突出させる
ようにする。ウエイトはワークホルダから突出している
ので、このウエイトが反転動作部材を兼ねさせることが
できる。また、押動部材がこのウエイトの突出面とは反
対側に配置されている場合には、ワークホルダには押動
部材により押動される反転動作部材を別途設ける。具体
的には、例えばワークホルダのウエイト突出面とは反対
側の面に反転作動用突起を突出させて設けるように構成
できる。
【0009】ワークホルダは、例えば上下2枚のフレー
ム部材からなり、ワークはこれら両フレーム部材間に挟
持されるように構成することができる。この場合、ワー
クは1枚装着するように構成することができるが、両フ
レーム間に所定の間隔を置いて2枚のワークを挟持させ
ることもできる。このワークホルダはドームに直接取り
付けることもできるが、ドームのワーク装着部に支持枠
を装着させるようになし、ワークホルダはこの支持枠に
前記反転軸を介して反転可能に装着する構成とするのが
望ましい。そして、反転前位置決め手段,反転後位置決
め手段は、ワークホルダの反転中心線と平行な2つの辺
から突出するストッパ部材と、支持枠の2辺に設けたス
トッパ受けとで構成することができる。反転駆動手段
は、ドームにおける各段のワーク装着部に装着されたワ
ークホルダを一斉に反転させるものであっても、ドーム
における各段のワーク装着部毎に個別的に反転させるよ
うにしても良い。
【0010】ワークの表面にある種のパターンを形成す
ることができる。このためには、ワークホルダにワーク
を装着する際に、薄板からなるコートマスクをこのワー
クと対面させるようにしてワークホルダに装着する。コ
ートマスクはワークと接触させても良く、またワークか
ら離間させても良い。ワークホルダに装着したワークの
片面側にコートマスクを装着することもでき、また両面
にコートマスクを装着することも可能である。さらに、
ワークの表面形状が曲面となっている場合に、このワー
クに蒸着膜を均一に付着させるために、このワークから
所定の距離を離した位置にコートマスクを装着すること
ができる。この場合のコートマスクは支持枠等の蒸着源
に向く側に設ける。
【0011】
【発明の実施の形態】以下、図面に基づいて本発明の実
施の形態を説明する。まず、図1は、本実施の形態にお
ける真空蒸着装置1の構成を示す図である。図1におい
て、10は真空チャンバ10であり、この真空チャンバ
10の内部は真空状態に保持される。真空チャンバ10
の内部には、ドーム11及び蒸着源12が設けられてい
る。ドーム11は裁頭円錐形状、傘型、ドーム形状等の
形状をしており、垂直方向に設けた回転軸13の軸回り
に回転するようになっている。ドーム11の斜面部(直
線形状だけでなく曲線形状を含む)には、複数のワーク
装着部14が形成されている。ワーク装着部14はドー
ム11の斜面において、円周方向に複数箇所配列されて
おり、かつ斜面の傾斜方向には複数段設けられている。
蒸着源12は、ドーム11に設けられている複数のワー
ク全てに蒸着物質が蒸着されるように、真空チャンバ1
0の下方に設けられる。
【0012】各々のワーク装着部14には、図2及び図
3に示したように、ワークホルダユニット20が着脱可
能に装着される。ここで、図2はワークホルダユニット
20を分解して示し、また図3にはドーム11に装着し
たワークホルダユニット20の図1にR−R線で示した
位置での断面を示す。
【0013】これらの図において、21は支持枠であ
り、この支持枠21はドーム11におけるワーク装着部
14に装着される。ここで、支持枠21はその自重でド
ーム11に固定的に保持でき、またねじ等で固定するこ
ともできる。そして、この支持枠21の内面には、ドー
ム11の傾斜方向に向けて反転軸22,22が取り付け
られている。この反転軸22は図1のR−R線上に位置
しており、このR−R線が反転中心線(以下反転中心線
Rという)である。反転軸22にはワークホルダ23が
連結して設けられており、ワークホルダ23はこの反転
軸22を中心として180°反転されるようになってい
る。この反転中心線Rはドーム11における斜面の傾斜
方向を向いており、ワークホルダ23は反転中心線Rに
対して対称な構造となっている。
【0014】ワークホルダ23はワーク2を着脱可能に
保持するものであり、かつこのワーク2の少なくとも有
効面は露出した状態に保持される。従って、ワークホル
ダ23には開口部が形成されている。ワークホルダ23
は、上ホルダフレーム23Uと、下ホルダフレーム23
Lとからなり、これら両ホルダフレーム23U,23L
間にワーク2が挟持されるようになっている。両ホルダ
フレーム23U,23Lは、間にワーク2を挟んだ状態
で、ねじ等の手段で接合・固定される。図示したワーク
ホルダ23は、その下ホルダフレーム23Lが厚肉とな
っており、ワーク2はこの下ホルダフレーム23L内に
落とし込むようにして装着される。従って、下ホルダフ
レーム23Lの開口部には保持段差24が形成されてい
る。一方、上ホルダフレーム23Uは概略平板形状とな
っている。そして、反転軸22は下ホルダフレーム23
Lに連結される。
【0015】上ホルダフレーム23Uの一つの角隅部に
近い位置には、ウエイト25が立設されている。このウ
エイト25は後述する反転駆動用の押動ロッド29に押
動されて、反転作動部材として機能するものであり、か
つワークホルダ23の重心位置を反転中心線Rからオフ
セットさせるためのものでもある。従って、ウエイト2
5の位置は、反転中心線Rからできるだけ遠い位置、例
えばワークホルダ23の角隅位置乃至その近傍に配置さ
れる。また、その重量はある程度大きくする必要がある
が、あまり重量化すると、ワークホルダ23の反転動作
の円滑性が損なわれる場合がある。さらに、ウエイト2
5の高さ寸法は、押動ロッド29がワークホルダ23を
ほぼ鉛直状態まで押動できるようになし、かつワークホ
ルダ23の反転時に支持枠21と干渉しない長さとす
る。
【0016】ワークホルダ23は、下ホルダフレーム2
3Lが下部側に、上部ホルダ23Uが上部側に向いた状
態と、上ホルダフレーム23Uが下を向き、下ホルダフ
レーム23Lが上を向いた状態とに反転するものであ
る。そして、以下の説明においては、下ホルダフレーム
23Lが下を向いた状態を反転前位置、上ホルダフレー
ム23Uが下を向いた状態を反転後位置という。
【0017】ワークホルダ23には、ウエイト25を設
けたことによってオフセットされた重心が位置する側と
は反転中心線Rを挟んで反対側の側部から突出するよう
にストッパ板26が設けられている。そして、支持枠2
1には、反転中心線Rと平行な辺21R,21Lの下面
に凹部を形成することによって、第1,第2のストッパ
受け27,28としている。ワークホルダ23に設けた
ストッパ板26が第1のストッパ受け27に当接するこ
とによって、このワークホルダ23は反転前位置に保持
される。また、ストッパ板26が第2のストッパ受け2
8に当接することによって、ワークホルダ23は反転後
位置に保持される。従って、ストッパ板26と第1のス
トッパ受け27とにより反転前位置決め手段を構成し、
またストッパ板26と第2のストッパ受け28とにより
反転後位置決め手段を構成する。
【0018】ここで、図示したこのストッパ板26は厚
みの大きい下ホルダフレーム23Lに連結して設けられ
ており、ワークホルダ23が反転前位置に配置されてい
るときより反転後位置の方がストッパ板26は高い位置
に配置される。このために、第1のストッパ受け27,
第2のストッパ受け28は支持枠21の下面に形成され
る凹部からなる第1のストッパ27と第2のストッパ受
け28とでは、第2のストッパ受け28方が深くなって
いる。なお、第1,第2のストッパ受け27,28の深
さ寸法は、ワークホルダ23に対するストッパ板26の
取付位置により定まるものである。
【0019】ワークホルダユニット20がドーム11の
各ワーク装着部14に装着された状態では、ワークホル
ダ23は反転前位置となし、この状態ではウエイト25
は上方に突出している。そして、ドーム11が回転軸1
3の軸回りに回転している間に、このウエイト25を押
動することによって、ワークホルダ23を反転後位置と
なるように反転させられる。このために、真空チャンバ
10内には押動ロッド29が設けられており、この押動
ロッド29は、図示しないモータ等の駆動手段によっ
て、回動軸30を中心として、図1に実線で示した作動
位置と、仮想線で示した退避位置とにスイング動作する
ようになっている。作動位置では、ドーム11とほぼ平
行な姿勢となり、ウエイト25と当接する。一方、退避
位置に変位すると、ドーム11が回転しても、ウエイト
25とは非接触状態となる。従って、押動ロッド29
と、その回動軸30及び駆動手段により反転駆動手段が
構成される。
【0020】真空蒸着装置1は以上のように構成される
ものであり、ワークホルダ23の上下のホルダ23U,
23L間にワーク2を装着したワークホルダユニット2
0がドーム11のワーク装着部14に装着される。ここ
で、ワークホルダ23に装着したワーク2には、その表
面に蒸着膜が形成されるものであり、ワーク2の素材と
しては、ガラス板、半導体ウエハ、フィルム基板等があ
り、また蒸着膜としては、各種のフィルタや偏光膜,導
電膜,誘電体膜等種々のものがある。いずれにしろ、ワ
ーク2の一面側だけに蒸着膜を形成するものもあるが、
この真空蒸着装置1ではワーク2の表裏両面に蒸着膜を
形成するのに適したものとなっている。ただし、ワーク
2の片面にのみ蒸着膜を形成するためにも用いることが
できるのはいうまでもない。
【0021】そこで、ワーク2の表裏両面に蒸着膜を形
成するものとして、その蒸着方法について説明する。表
裏に同じ蒸着膜を形成する場合には、図1に示したよう
に、蒸着源12は1種類のもので良いが、例えば図17
に示されているように、2種類の蒸着源を真空チャンバ
10内にセットするように構成すれば、ワーク2の表裏
両面に異なる蒸着膜を形成することができる。いずれに
しろ、ワークホルダユニット20におけるワークホルダ
23にワーク2を装着して、その支持枠21をドーム1
1のワーク装着部14に装着する。このワークホルダ2
3へのワーク2の着脱を容易にするために、図2に示し
たように、下ホルダフレーム23Lに着脱用の切り欠き
部31を2箇所設けておけば、ワーク2のワークホルダ
23への着脱操作を容易に行なえることになる。
【0022】そして、ワーク2の片面への蒸着を行なう
に当っては、図4に示したように、ワークホルダ23を
反転前位置に保持する。この反転前位置では、ワークホ
ルダ23に取り付けたウエイト25は上方に突出してい
る。そして、ドーム11の回転方向は図4に矢印Sで示
した方向である。ワークホルダ23の重心位置はウエイ
ト25が設けられている側にオフセットしているので、
このウエイト25の重力によって、ワークホルダ23は
図4の矢印GN方向に回転しようとする。しかしなが
ら、ワークホルダ23の重心位置とは反対側に設けたス
トッパ板26が支持枠21の第1のストッパ27に当接
しており、ワークホルダ23の矢印GN方向への動きが
規制されて、反転前位置に位置決めされ、ワークホルダ
23はこの位置に安定した状態で保持されており、ドー
ム11の回転中にワークホルダ23がみだりに動くおそ
れはない。ドーム11が回転することによって、ワーク
ホルダ23に挟持されているワーク2の下側を向いた面
に蒸着源12からの蒸着物質が付着することになる。そ
して、必要な膜厚の蒸着膜がワーク2に積層されるまで
蒸着が継続される。
【0023】この一面側に蒸着膜が形成されると、ワー
クホルダ23を反転後位置となるように反転させて、ワ
ーク2のもう一面に蒸着膜を形成する。このワークホル
ダ23の反転は、真空チャンバ10内に配置したまま
で、しかも真空チャンバ10の内部を真空状態に保った
ままで行なわれる。
【0024】而して、前述した一面の蒸着時には、押動
ロッド29は、図4において、ウエイト25とは非接触
状態、つまり退避位置に保持されている。そこで、ワー
クホルダ23を反転させるために、押動ロッド29を実
線で示した退避位置から、ウエイト25に当接可能な作
動位置(同図に仮想線で示した位置)に変位させる。ド
ーム11が矢印S方向に回転しているので、押動ロッド
29が作動位置に配置されていると、ワークホルダ23
から突出しているウエイト25に当接する。その結果、
ウエイト25は押動ロッド29に押動される。このウエ
イト25の押動方向は、このワークホルダ23の重心位
置側が持ち上がる方向であり、かつワークホルダ23に
設けたストッパ板26が支持枠21の第1のストッパ受
け27から離間する方向である。従って、図5に示した
ように、押動ロッド29によるウエイト25の押動によ
りワークホルダ23は反転軸22を中心として回動する
ことになる。このときには、ワークホルダ23に対して
は重力が回動方向とは反対方向に作用している。
【0025】この押動ロッド29によるウエイト25の
押動は、図6に示したように、ワークホルダ23がほぼ
垂直状態となるまで、若しくはその直前まで続く。ウエ
イト25はワークホルダ23から突出しているので、ワ
ークホルダ23の垂直状態では、ウエイト25が反転軸
22を中心として垂直な面Pにおいて、重心位置が図6
の右側、つまりワークホルダ23の反転方向の前方にシ
フトする。その結果、ワークホルダ23が遅くとも垂直
状態となる以前に、このワークホルダ23に作用する重
力は回動方向の順方向に向くようになる。その結果、押
動ロッド29による駆動力によらず、自重の作用で図中
の矢印GT方向に回動する。
【0026】ここで、本実施の形態ではウエイト25は
実質的に四角柱の形状としているが、前述したようにウ
エイト25は、ワークホルダ23の反転動作をより迅速
かつ確実に行なうためのものであり、この目的を達成す
るために種々の形状とすることができる。例えば、図2
に仮想線P1で示したように、反転方向の後方に向けて
傾斜する斜面部を形成することができる。この場合に
は、ドーム11の回転速度が一定であるとすれば、鉛直
面としたウエイト25より反転速度が速くなる。また、
図2に仮想線P2で示したように、ウエイトの上端部に
向かうに応じて反転方向の前方側に突出する突出部を形
成すれば、ワークホルダ23の反転軌跡において、反転
方向前方への重心シフトする時点を早めることができ
る。そして、ウエイト25をどのような形状にするかは
ともかくとして、押動ロッド29の作動位置において、
少なくともワークホルダ23の重心が反転方向前方にシ
フトするまでの間だけウエイト25を押動するようにな
っておれば良い。そして、この時点以後であれば、何時
でも押動ロッド29を作動位置から退避位置に変位させ
ることができる。
【0027】そして、ウエイト25は、図7に示したよ
うに、支持枠21の内側を通過して、図8に示したよう
に、ワーク2における未蒸着面が下を向くことになる。
ここで、図8の状態では、ワークホルダ23の重心位置
は反転軸22を境としてドーム11の回転方向の後方側
にシフトすることになる。そして、ワークホルダ23が
反転後位置になると、ワークホルダ23に設けたストッ
パ板26が第2のストッパ受け28に当接する。この状
態では、ワークホルダ23の重心位置がドーム11の回
転方向の後方側にオフセットした位置になっているの
で、ワークホルダ23はさらに矢印GT方向に回動しよ
うとする。その結果、ストッパ板26が第2のストッパ
受け28に押し付けられるようになり、ワークホルダ2
3は図8に示した反転後位置に安定的に保持される。
【0028】以上によりワークホルダ23が反転して、
ワーク2の他面側が蒸着源12に向くことになる。従っ
て、この状態でワーク2の既に蒸着膜が形成された面と
は反対側の面に蒸着膜の形成が行なわれる。これによっ
て、真空チャンバ10を大気圧状態にすることなく、連
続してワーク2の表裏両面に蒸着膜が形成される。
【0029】ここで、ワークホルダ23の重心位置は、
反転中心線Rを挟んで反転方向の前方側となっているだ
けではなく、この反転中心線Rと直交する面において、
つまりワークホルダ23の反転軸22の軸心位置を含
み、このワークホルダ23と平行な面(図6に示した面
P)に対して、反転方向の前方側に重心位置が存在して
いるので、ワークホルダ23が反転前位置から90°乃
至それ以下の角度だけ回動させると、その自重の作用で
確実に反転後位置に変位することになる。
【0030】このように、ワークホルダ23の反転は、
ワークホルダ23の重心移動とドーム11の回転動作を
利用して行なうようにしているので、押動ロッド29を
退避位置から作動位置に変位させるという極めて単純な
動作を行わせるだけで、ドーム11がほぼ1回転する間
に、円滑かつ確実にワーク2を装着したワークホルダ2
3を反転させることができる。
【0031】さらに、ワークホルダ23は、その反転前
位置でも、また反転後位置でも、反転中心線Rからオフ
セットしている重心による重量差に基づいてストッパ板
26の第1,第2のストッパ受け27,28への押し付
け力が作用するので、その固定性及び安定性が十分得ら
れる。
【0032】以上のことから、ワーク2を装着したワー
クホルダ23の反転駆動機構の構成が極めて簡略化され
る。その結果、真空チャンバ10を必要以上大きくする
必要もなくなる。さらに、ワークを反転させるために、
ドームを分割する必要もないので、全体として真空蒸着
装置1の構成が簡単になり、組み立て性等の点でも優れ
たものとなる。
【0033】ところで、前述した実施の形態では、ワー
クホルダには1枚のワークしか保持されていないが、ワ
ークの片面だけに蒸着膜を形成する場合には、ワークホ
ルダに2枚のワークを装着させるように構成する。即
ち、図9に示したように、ワークホルダ40を3つの部
材で形成する。同図から明らかなように、ワークホルダ
40は上ホルダフレーム40U,下ホルダフレーム40
L及びスペーサフレーム40Mから構成される。スペー
サフレーム40Mは反転軸22に連結される本体部41
に上下2枚のワーク2a,2b間に間隔を持たせるスペ
ーサ部42を内側に張り出させたもので構成される。ま
た上ホルダフレーム40U及び下ホルダフレーム40L
は同じ形状のものであり、スペーサフレーム40Mの本
体部41に接合される枠状の本体43にワーク2a,2
bの端面と当接する突条部44とを有する。そして、ス
ペーサフレーム40Mのスペーサ部42の上下両面にワ
ーク2a,2bを接合させた状態で、上ホルダフレーム
40Uは突条部44を下向きにし、また下ホルダフレー
ム40Lは突条部44を上向きにしてスペーサフレーム
40Mに接合させて、ねじ等の手段で固定するようにし
て組み付けられる。また、ウエイト25は上ホルダフレ
ーム40Uから突出するように設けられる。
【0034】このように構成すれば、2枚のワーク2
a,2bを保持するワークホルダ40を支持枠45に装
着した状態で、ドーム11に装着することによって、ま
ずこのワークホルダ40を反転前位置として、1枚のワ
ーク、例えばワーク2aの表面に蒸着膜を形成した後
に、ワークホルダ40を反転させることによって、もう
1枚のワーク2bの表面に蒸着膜を形成することができ
る。従って、真空蒸着装置1において、真空チャンバ1
0内の真空を解放することなく、ドーム11におけるワ
ーク装着部14の数の2倍のワークに対して蒸着膜の形
成処理を行なえることになる。なお、ワークホルダ23
と実質的に同じ構成となし、間にリング状のスペーサを
配置することによっても2枚装着用のワークホルダを構
成することもできる。
【0035】ところで、ドームは真空チャンバ内で回転
するようになっているが、このドームの回転駆動方式と
しては、例えば、図10に示したように、真空チャンバ
10の上部側に回転軸50を設けて、この回転軸50の
下端部にホルダアーム51を複数本(少なくとも120
°の位置関係に3本)連結して設け、これら各ホルダア
ーム51を斜め下方向に放射状に延在させ、それらの端
部にフック52を取り付けて、これら各フック52上に
多数のワーク装着部14を設けたドーム11を設置する
ことにより保持するように構成したものがある。この場
合には、ドーム11の上部位置にホルダアーム51が位
置しているので、押動ロッドをドーム11の上面部側に
配置すると、この押動ロッドは、その作動位置に変位さ
せると、ホルダアーム51と干渉することになる。
【0036】この場合には、ドーム11に装着したワー
クホルダ53を反転させるための反転駆動手段はドーム
11の下面側に配置する。即ち、ドーム11の下面と実
質的に平行になるように作動軸54を設けて、この作動
軸54に押動板55を取り付けるように構成する。この
押動板55はドーム11において、最上段のワークホル
ダ53の位置から最下段のワークホルダ53の位置まで
カバーする長さを有するものである。
【0037】一方、ワークホルダ53は、図11に示し
たように、その反転軸56を中心として、ドーム11に
装着した支持枠57に反転可能に支持されており、この
ワークホルダ53には、反転前位置において、上方に突
出するウエイト58が設けられて、このウエイト58に
よりワークホルダ53の重心位置が反転軸56の位置か
らオフセットしている点は、前述した第1の実施の形態
と同様である。前述したように、反転駆動手段はこのウ
エイト58に反転駆動力を作用させることはできない。
そこで、ワークホルダ53におけるウエイト58の突出
側とは反対側に反転作動用突起としての反転作動ピン5
9が設けられている。ここで、反転作動ピン59は、ウ
エイト58によるワークホルダ53の重心位置をシフト
させる機能に対してできるだけ影響を与えないようにす
るために、軽量のものとし、かつ反転軸56の配設位置
に設けるのが望ましい。
【0038】以上のように構成することによって、図1
1から明らかなように、作動軸54の押動板55をドー
ム11とは反対方向に向けると、ワークホルダ53に設
けた反転作動ピン59に対しては非接触状態に保たれ、
支持枠57に設けた第1のストッパ受け60にワークホ
ルダ53のストッパ板61が当接して、ウエイト58に
よる重心の作用で反転前位置に安定的に保持される。従
って、ドーム11の回転によりワークの表面に蒸着膜が
形成される。ワークの一側面に所定の膜厚を有する蒸着
膜が形成されると、ドーム11の回転を継続しながら、
作動軸54を所定角度(好ましくは180°)回動させ
て、図11の仮想線の位置に配置する。これによって、
作動軸54に取り付けた押動板55がワークホルダ53
に設けた反転作動ピン59と当接する状態となる。な
お、この場合には、ドーム11の回転方向は図11の矢
印方向となる。
【0039】その結果、ドーム11の回転により反転作
動ピン59が押動板55により押動されて、図12に示
したように、ワークホルダ53が反転軸56を中心とし
て反転動作する。そして、第1の実施の形態で説明した
と同様、ワークホルダ53がほぼ垂直状態になる前に、
ウエイト58の作用によって、その重心位置がワークホ
ルダ53の反転方向前方にシフトするから、それ以後は
自重の作用によって反転動作を継続し、図13に示した
ように、ストッパ板61が支持枠57に設けた第2のス
トッパ受け62に当接した反転後位置になり、その位置
で安定的に保持される。従って、そのままワークの反対
面の蒸着を行なうことができる。なお、ドーム11に装
着されている全てのワークホルダ53が反転すると、作
動軸54を図13の矢印方向に回動させることによっ
て、押動板55は、反転作動ピン59はもとより、ウエ
イト58に対しても非接触状態に保つことができ、ワー
クに対する成膜工程をそのまま続行できる。
【0040】ところで、ワークの表面全体にわたって蒸
着膜を形成するのではなく、ワークの表面における一部
分に蒸着膜を形成する場合には、図14及び図15に示
したように、ワークホルダ70の上ホルダユニット70
Uと下ホルダユニット70Lとの間に、ワーク71と共
に、このワーク71の表面に転写すべきコートマスク7
2を挟み込むように装着する。ここで、コートマスク7
2は、例えば図15に示したように、所定の打ち抜きパ
ターン72aを設けたものから構成される。また、コー
トマスクはワークホルダに装着したワークの両面に同じ
パターンを有するもの、若しくは相互に異なるパターン
を有するコートマスクを装着するようにしても良い。さ
らに、図9に示した2枚のワークを保持するワークホル
ダにも、その片側若しくは両側にコートマスクを接合さ
せるようにして装着することもできる。
【0041】ところで、前述した実施の形態では、ウエ
イト25は、ドーム11が1回転する間に、このドーム
11の各ワーク装着部14に装着されている全てのワー
クホルダ23を反転させるようにしているが、ワークホ
ルダ23の反転に時間差を持たせることもできる。この
ためには、反転駆動手段を、例えば図16に示したよう
に構成すれば良い。即ち、同図に示したように、ドーム
11の傾斜角とほぼ一致する取付板80を真空チャンバ
10に設け、この取付板80にソレノイド,シリンダ等
からなる駆動手段81を装着するように構成されてい
る。駆動手段81は、それぞれドーム11における傾斜
面方向に並んだ各段のワークホルダユニット20の位置
に配置されており、これら各駆動手段81のロッド81
aの先端に反転駆動板82を取り付けるように構成して
いる。
【0042】反転駆動板82はワークホルダ23に設け
たウエイト25と係合して押動することによって、ワー
クホルダ23を反転させるためのものである。従って、
所望のタイミングで各々の駆動手段81におけるロッド
81aを伸長させれば、それに対応する段を構成する各
ワークホルダ23が反転するが、他の段のワークホルダ
23は反転前位置に保持される。
【0043】
【発明の効果】以上、説明したように、本発明によれ
ば、ドームの回転動作を利用して、ワークを保持するワ
ークホルダの重心移動により反転させるようにしたの
で、簡単な構成で、ドームがほぼ1回転する間に、容易
に、しかも円滑かつ確実にワークホルダをドームのワー
ク装着部で反転させることができ、かつ反転前位置及び
反転後位置でワークホルダを安定的に保持できる等の効
果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施の形態を示す真空蒸着装置の概
略構成図である。
【図2】ワークホルダユニットの分解斜視図である。
【図3】図1のR−R線に沿った位置の拡大断面図であ
る。
【図4】ワークホルダの反転前位置を示す動作説明図で
ある。
【図5】ワークホルダの反転開始直後の状態を示す動作
説明図である。
【図6】ワークホルダの垂直状態を示す動作説明図であ
る。
【図7】ワークホルダが支持枠の内部を通過する状態を
示す動作説明図である。
【図8】ワークホルダの反転後位置を示す動作説明図で
ある。
【図9】ワークホルダの他の構成例を示す断面図であ
る。
【図10】本発明の第2の実施の形態を示す真空蒸着装
置の概略構成図である。
【図11】ワークホルダの反転開始前位置を示す動作説
明図である。
【図12】ワークホルダの反転開始直後の状態を示す作
動説明図である。
【図13】ワークホルダの反転後位置を示す動作説明図
である。
【図14】コートマスクを装着した状態のワークホルダ
の断面図である。
【図15】コートマスクの一例を示す正面図である。
【図16】反転駆動手段の他の構成例を示す構成説明図
である。
【図17】従来技術による真空蒸着装置の概略構成図で
ある。
【符号の説明】
1 真空蒸着装置 2,2a,2b,71 ワーク 10 真空チャンバ 11 ドーム 12 蒸着源 13 回転軸 14 ワーク装着部 20 ワークホルダユニット 21,45,57 支持枠 22,56 反転軸 23,40,53,70 ワークホルダ 23U,40U,70U 上ホルダユニット 23L,40L,70L 下ホルダユニット 25,58 ウエイト 26,61 ストッパ板 27,60 第1のストッパ受け 28,62 第2のストッパ受け 29 押動ロッド 40M スペーサフレーム 54 作動軸 55 押動板 59 反転作動ピン 72 コートマスク 81 駆動手段 82 反転駆動板

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 真空チャンバ内に垂直軸の軸回りに回転
    するドームが設けられ、このドームの斜面に円周方向及
    び傾斜方向に向けて複数のワーク装着部が設けられ、ド
    ームの下部位置に蒸着源を配置して、各ワーク装着部に
    装着されたワーク表面に蒸着膜を形成する真空蒸着装置
    において、 前記ワークが着脱可能に装着されるワークホルダと、 前記ドームの斜面の傾斜方向に向けた反転中心線を中心
    として、前記ワークホルダを180°回動可能に前記ワ
    ーク装着部に支持させる反転軸と、 前記ワークホルダを反転前位置と反転後位置とにそれぞ
    れ位置決めする反転前位置決め手段及び反転後位置決め
    手段と、 前記ドームが回転する間に前記ワークホルダを反転前位
    置から反転後位置に反転させるための反転駆動手段と、
    前記ワークホルダの反転前位置では、このワークホルダ
    は前記反転前位置決め手段に保持させる方向に重心が作
    用し、また前記反転駆動手段により前記ワークホルダを
    反転させる途中から反転後位置に至るまで、このワーク
    ホルダが前記反転後位置決め手段に保持させる方向に重
    心が作用するように、前記ワークホルダの重心位置をシ
    フトさせる重心シフト手段とを備える構成としたことを
    特徴とする真空蒸着装置。
  2. 【請求項2】 前記重心シフト手段は前記ワークホルダ
    の表面から突出するウエイトで構成され、このウエイト
    は前記ワークホルダが前記反転前位置となっているとき
    には、このワークホルダの上面から突出していることを
    特徴とする請求項1記載の真空蒸着装置。
  3. 【請求項3】 前記反転駆動手段は前記ウエイトを押動
    する押動部材から構成したことを特徴とする請求項2記
    載の真空蒸着装置。
  4. 【請求項4】 前記ワークホルダの前記ウエイト突出面
    とは反対側の面に反転作動用突起を突出させて設け、前
    記反転駆動手段はこの反転作動用突起を押動するもので
    あることを特徴とする請求項2記載の真空蒸着装置。
  5. 【請求項5】 前記ワークホルダは上下2枚のフレーム
    部材からなり、前記ワークはこれら両フレーム部材間に
    挟持されるものであることを特徴とする請求項1記載の
    真空蒸着装置。
  6. 【請求項6】 前記両フレーム間に所定の間隔を置いて
    2枚のワークを挟持させる構成としたことを特徴とする
    請求項5記載の真空蒸着装置。
  7. 【請求項7】 前記ワークホルダには、それに装着した
    ワークの少なくとも一方の蒸着膜形成面に当接させて、
    コートマスクを配置する構成としたことを特徴とする請
    求項4記載の真空蒸着装置。
  8. 【請求項8】 前記ドームの前記ワーク装着部には支持
    枠が装着され、前記ワークホルダはこの支持枠に前記反
    転軸を介して反転可能に装着する構成としたことを特徴
    とする請求項1記載の真空蒸着装置。
  9. 【請求項9】 前記反転前位置決め手段及び反転後位置
    決め手段は、前記ワークホルダの前記反転中心線と平行
    な2つの辺から突出するストッパ部材と、前記支持枠の
    2辺に設けた第1,第2のストッパ受けとで構成したこ
    とを特徴とする請求項8記載の真空蒸着装置。
  10. 【請求項10】 前記反転駆動手段は、前記ドームにお
    ける各段のワーク装着部に装着された前記ワークホルダ
    を一斉に反転させるものであることを特徴とする請求項
    1記載の真空蒸着装置。
  11. 【請求項11】 前記反転駆動手段は、前記ドームにお
    ける各段のワーク装着部毎に個別的に反転させるもので
    あることを特徴とする請求項1記載の真空蒸着装置。
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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005215216A (ja) * 2004-01-28 2005-08-11 Kyocera Kinseki Corp 光学用部品の基板の蒸着ジグ
WO2008025519A1 (de) * 2006-09-01 2008-03-06 Carl Zeiss Vision Gmbh Vorrichtung zum wenden eines gegenstands in einer vakuumbeschichtungsanlage, verfahren zum wenden eines gegenstands in einer vakuumbeschichtungsanlage sowie deren verwendung
DE102007062618A1 (de) * 2007-12-22 2009-06-25 Carl Zeiss Vision Gmbh Verfahren und Vorrichtung zum Beschichten von Gläsern
JP2011063845A (ja) * 2009-09-17 2011-03-31 Fujifilm Corp ワーク反転ユニット
CN107574419A (zh) * 2017-10-11 2018-01-12 新乡市百合光电有限公司 一种真空室的玻璃镀膜架及电加热装置
CN107619196A (zh) * 2017-10-11 2018-01-23 新乡市百合光电有限公司 一种椭面形玻璃镀膜架
CN116716582A (zh) * 2023-08-10 2023-09-08 南京银茂微电子制造有限公司 一种电子元件用的真空蒸镀膜设备
CN117512553A (zh) * 2024-01-03 2024-02-06 上海米蜂激光科技有限公司 一种微晶玻璃真空镀膜方法

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102994971A (zh) * 2012-11-28 2013-03-27 江苏宜达光电科技有限公司 灯杯镀膜治具

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005215216A (ja) * 2004-01-28 2005-08-11 Kyocera Kinseki Corp 光学用部品の基板の蒸着ジグ
CN101512039B (zh) * 2006-09-01 2011-06-15 弗兰克·马乔齐克 用于在真空涂覆设备中翻转物品的装置、用于在真空涂覆设备中翻转物品的方法及其应用
WO2008025519A1 (de) * 2006-09-01 2008-03-06 Carl Zeiss Vision Gmbh Vorrichtung zum wenden eines gegenstands in einer vakuumbeschichtungsanlage, verfahren zum wenden eines gegenstands in einer vakuumbeschichtungsanlage sowie deren verwendung
US8356808B2 (en) 2006-09-01 2013-01-22 Carl Zeiss Vision Gmbh Apparatus for turning over an article in a vacuum coating system and method for turning over said article in a vacuum coating system
JP2010501734A (ja) * 2006-09-01 2010-01-21 マシオンクジク、フランク 真空コーティング設備の中で物体を旋回させるための装置、真空コーティング設備の中で物体を旋回させるための方法ならびに装置および方法の使用
DE102007062618B4 (de) * 2007-12-22 2009-11-05 Carl Zeiss Vision Gmbh Verfahren und Vorrichtung zum Beschichten von Gläsern
DE102007062618A1 (de) * 2007-12-22 2009-06-25 Carl Zeiss Vision Gmbh Verfahren und Vorrichtung zum Beschichten von Gläsern
JP2011063845A (ja) * 2009-09-17 2011-03-31 Fujifilm Corp ワーク反転ユニット
CN107574419A (zh) * 2017-10-11 2018-01-12 新乡市百合光电有限公司 一种真空室的玻璃镀膜架及电加热装置
CN107619196A (zh) * 2017-10-11 2018-01-23 新乡市百合光电有限公司 一种椭面形玻璃镀膜架
CN116716582A (zh) * 2023-08-10 2023-09-08 南京银茂微电子制造有限公司 一种电子元件用的真空蒸镀膜设备
CN116716582B (zh) * 2023-08-10 2023-11-14 南京银茂微电子制造有限公司 一种电子元件用的真空蒸镀膜设备
CN117512553A (zh) * 2024-01-03 2024-02-06 上海米蜂激光科技有限公司 一种微晶玻璃真空镀膜方法
CN117512553B (zh) * 2024-01-03 2024-04-02 上海米蜂激光科技有限公司 一种微晶玻璃真空镀膜方法

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