KR20110072905A - 챔버용 기판 이송장치 및 그 챔버 시스템 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 챔버용 기판 이송장치를 개시한다. 본 발명의 챔버용 기판 이송장치는 가상의 타원형 이송 트랙이 구비된 베이스 프레임과, 이송 트랙을 따라 이동하게 설치된 기판 지지 유닛과, 기판 지지 유닛을 이송 트랙을 따라 이송시킴으로써 기판 지지 유닛을 공전시키는 공전 유닛과, 그 공전 유닛과 연계하여 기판 지지 유닛을 자전시키는 자전 유닛을 포함하여 다양한 종류의 챔버 내에 구비되어, 기판 지지 유닛을 이송트랙을 따라 공전시킴과 동시에 자전시킬 수 있다. 예컨대, 스퍼터링 챔버 내에 장착될 경우, 기판이 챔버내에 구비된 다양한 증착원에 노출되도록 함과 동시에 기판의 양면 증착을 가능하게 한다.
부품(기판) 이송, 공전, 자전, 스퍼터링, 증착

Description

챔버용 기판 이송장치 및 그 챔버 시스템{Substrate Transfering Apparatus for Chamber System and Chamber System thereof}
본 발명은 그 내부에 배치된 기판(Substrate)에 물리적 또는 화학적 공정에 따른 처리를 자동으로 수행하는 챔버 시스템에 포함되는 것으로, 스퍼터링 챔버와 같은 고온, 고진공 챔버에서 기판의 자전과 공전 운동을 연계시켜 무한궤도상으로 연속 이송시켜 주기 위한 챔버용 기판 이송장치 및 그 챔버 시스템에 관한 것이다.
산업계에는 그 내부에 배치된 기판에 물리적 또는 화학적 공정에 따른 처리를 자동으로 수행하는 다양한 종류의 챔버(Chamber)가 사용되며, 특히 반도체, 광학 필터, 또는 디스플레이 소자 등을 생산하기 위한 공정에는 고온, 고진공 챔버가 사용된다.
예컨대, 마그네트론 스퍼터링을 위한 스퍼터링 챔버는 이러한 기판의 처리를 위한 공정 등에 사용되는 챔버의 일 예가 될 것이다. 스퍼터링 기술은 예컨대, 글라스나 실리콘 또는 플라스틱 필름과 같은 기판에 각종 박막을 효율적으로 증착시 키기 위한 기술로서, 반도체 분야와 광학 필터 및 디스플레이 분야 등과 같은 첨단산업 분야에 필수적인 기술로 널리 알려져 있다.
통상적으로 챔버는 그 형태에 따라 소위 배치(Batch)형과 인라인(In Line)형으로 나뉘며, 내부에 기판을 고정하여 원하는 공정을 수행한다. 공정의 종류에 따라서 챔버 내부의 기판을 지지하는 기판고정부는 챔버 내부를 공전할 수 있다. 예컨대, 기판 상에 서로 다른 물질을 순차적으로 증착하는 공정을 위해, 하나의 스퍼터링 챔버가 서로 다른 타깃 물질을 가진 복수 개의 증착원을 장착하고, 챔버 내부의 기판고정부는 챔버의 복수 개 증착원과 대향하기 위해 챔버 내를 공전할 수 있다.
최근에는 기판고정부의 공전과 더불어 자전의 필요성도 제기되고 있다. 예컨대, 기판의 양면에 금속막을 증착코자 한다면, 기판이 공전과 더불어 자전할 필요가 발생한다.
기판의 공전과 자전은 일반적인 기계적 공전 및 자전과 달리 그 챔버 내부의 환경이나 공정 특성에 따라 다양한 고려가 필요할 수 있다. 예컨대, 스퍼터링 챔버 내부는 고온 환경이고 기판을 지지하는 기판고정부는 고온 환경에서 열적 변형이 발생할 수 있으므로, 그 열적 변형을 고려한 설계가 필요한 것이다.
본 발명의 목적은 기판을 고정하는 기판고정부를 공전시킴과 동시에 자전시킬 수 있는 챔버용 기판 이송장치 및 그 챔버 시스템을 제공함에 있다.
본 발명의 다른 목적은, 고온 환경에서의 열적 변형을 고려하고 공전에 의해 기판 지지 유닛이 공전 방향으로 기울어지지 않도록 제어하는 챔버용 기판 이송장치 및 그 챔버 시스템을 제공함에 있다.
상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 챔버용 기판 이송장치는, 챔버 내의 무한궤도상의 이송 트랙이 구비된 베이스 프레임, 상기 이송 트랙을 따라 이동 가능하게 설치된 기판 지지 유닛, 상기 이송 트랙을 따라 상기 기판 지지 유닛을 이송시켜 주기 위한 공전 유닛, 및 상기 공전 유닛과 연계하여 기판 지지 유닛을 자전운동시켜 주기 위한 자전 유닛을 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 실시 예에 따른 챔버 시스템은, 스퍼터링 프로세스 수행이 가능한 챔버의 내부에 스퍼터링용 기판의 자전과 공전 운동을 연계시켜 무한궤도상으로 연속 이송시켜 주기 위하여, 무한궤도상의 이송 트랙이 구비된 베이스 프레임, 상기 이송 트랙을 따라 이동 가능하게 설치된 기판 지지 유닛, 상기 이송 트랙을 따라 상기 기판 지지 유닛을 이송시켜 주기 위한 공전 유닛, 및 상기 공전 유닛과 연계하여 상기 기판 지지 유닛을 자전운동시켜 주기 위한 자전 유닛을 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따르면, 상기 기판 지지 유닛은, 상기 이송 트랙을 따라 이동 가능하도록 상기 공전 유닛에 연결되어 회전 가능한 상태로 설치된 회전축과; 상기 회전축의 상단부에 구비된 플랜지와, 상기 플랜지에 결합되는 지지플레이트 및 상기 지지플레이트에 지지되도록 스퍼터링용 기판이 세팅되는 기판고정부를 포함하여 구성되는 것이 바람직하다.
상기 공전 유닛은 구동원의 출력축과 종동축에 의해 연결되어 무한궤도상의 주행이 가능한 상태로 설치되며, 상기 기판 지지 유닛이 연동되도록 결합되는 체인부재를 포함하여 구성된 것이 바람직하다.
상기 자전 유닛은 상기 이송 트랙의 궤적과 나란하게 배치되어 자전 트랙을 형성하도록 상기 베이스 프레임에 구비된 자전 유도용 체인과, 상기 자전 유도용 체인과 상보적으로 결합하여 주행하도록 상기 기판 지지 유닛에 구비된 체인기어를 포함하여 구성된 것이 바람직하다.
한편, 상기 자전 유닛은 상기 이송 트랙의 궤적과 나란하게 배치되어 자전 트랙을 형성하도록 상기 베이스 프레임에 구비된 랙부재와, 상기 랙부재와 상보적으로 결합하여 주행하면서 자전하도록 상기 기판 지지 유닛에 구비된 피니언을 포함하여 구성될 수 있다.
본 발명의 일측면에 따르면, 상기 기판 지지 유닛은 상기 기판고정부의 결합 각도를 세팅할 수 있는 결합각 조절수단을 더 포함하여 구성될 수 있다.
상기 결합각 조절수단은 상기 플랜지에 대한 결합 좌표 이동을 허용하도록 상기 플레이트에 구비된 원호형 장공을 포함하여 구성된 것이 바람직하다.
본 발명의 다른 측면에 따르면, 상기 기판 지지 유닛의 이송 안내수단을 더 포함하여 구성될 수 있다. 상기 이송 안내수단은 상기 이송 트랙과 나란한 궤적을 가지도록 상기 베이스 프레임에 구비된 가이드 레일과, 상기 가이드 레일을 따라 주행하도록 상기 기판 지지 유닛에 구비된 가이드 롤러를 포함하여 구성되는 것이 바람직하다.
본 발명에 따른 챔버용 기판 이송장치에 따르면, 챔버 내의 기판 지지 유닛을 공전 및 자전시킬 수 있다.
나아가, 본 발명의 기판 이송장치는 공전에 의해 기판 지지 유닛이 공전 방향으로 기울어지지 않도록 함으로써 기판 지지 유닛에 지지되는 기판고정부끼리 상호 간섭하지 않도록 할 수 있다.
스퍼터링 챔버에 적용될 경우, 기판 이송장치는 증착원에 대한 증착 기판의 노출 및 이송 시간에 대한 제어가 용이하여 증착막의 두께 조절과 응력 제거를 통한 증착 품질의 신뢰성과 재현성을 높일 수 있는 동시에 양산성의 향상을 도모할 수 있다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 바람직한 실시예에 따른 본 발명의 챔버용 기 판 이송장치를 상세하게 설명한다.
도 1을 참조하면, 본 발명에 따른 챔버용 기판 이송장치(100)는 그 내부에 배치된 기판(1)에 물리적 또는 화학적 공정에 따른 처리를 자동으로 수행하는 다양한 종류의 챔버(10) 내에 설치되어, 챔버 내에 기판이 고정되는 기판고정부(125)가 가상의 타원형 트랙을 따라 공전하면서 자전할 수 있도록 한다.
다만, 이하에서는 그 일 예로서 스퍼터링 챔버를 상정하고, 스퍼터링 챔버를 중심으로 설명한다. 따라서 도 1 내지 도 5에 도시된 기판 이송장치(100)는 통상의 스퍼터링 프로세스 수행이 가능하도록 구비된 진공 챔버(10)의 내부에 스퍼터링 기판(1)의 자전 운동과 공전 운동을 연계시켜 무한궤도상으로 연속 이송시켜 주기 위한 것이다.
도 1 내지 도 5의 예에서, 본 발명의 기판 이송장치(100)는 인라인(In-Line) 형태의 스퍼터링 챔버 내에 설치되는 것으로 설명되고 있으나 챔버의 외형에 구애받지 아니하며, 타원형 공전 트랙을 따라 기판고정부를 공전 및 자전시킬 필요가 있는 어떠한 형태의 챔버에도 설치가능하다.
도 2의 스퍼터링 챔버의 평면도를 참조하면, 기판 이송장치(100)는 복수 개의 증착원(S)이 연속적으로 마련된 스퍼터링 챔버(10) 내부에 마련된다. 기판 이송장치(100)는 타원형 이송 트랙(111)이 구비된 베이스 프레임(110)과, 상기 이송 트랙(111)을 따라 이동 가능하게 설치된 복수의 기판 지지 유닛(120)과, 상기 이송 트랙(111)을 따라 각각의 기판 지지 유닛(120)을 이송 트랙(111)에 의한 무한궤도상으로 공전시켜 주기 위해 구동되는 공전 유닛(130)과, 그 공전 유닛(130)과 연계 하여 각각의 기판 지지 유닛(120)을 자전운동시켜 주기 위한 자전 유닛(140; 도 3 참조) 및 챔버(10) 내의 고온 플라즈마로부터 공전 유닛(130)과 자전 유닛(140)을 보호하는 덮개(150)를 포함한다.
도 4 및 도 5를 참조하면 상기 기판 지지 유닛(120)은 상기 타원형 이송 트랙(111)을 따라 이동 가능하게 설치되는 동시에 상기 공전 유닛(130)과 상보적인 작용에 의해 회전운동 가능하게 연결된 회전축(121)과, 그 회전축(121)의 상단부에 구비된 원반형 플랜지(Flange)(123)와, 상기 원반형 플랜지(123)에 대면하도록 결합되는 지지플레이트(124)와, 기판(1)이 지지되어 세팅되도록 상기 지지플레이트(124)에 직립된 상태로 결합되는 기판고정부(125)를 포함한다.
또한, 기판 지지 유닛(120)은 상기 회전축(121)을 회전 가능한 상태로 에워싸도록 결합되는 하우징(122)과, 상기 하우징(122)을 후술하는 공전 유닛(130)의 체인부재(133, 134)에 결합시켜 주기 위한 앵글형 결합부재(122a)를 포함한다.
지지플레이트(124)에는 상기 기판고정부(125)를 지지플레이트(124)에 안착시켜 결합하기 위한 1쌍의 결합공(124a)과, 상기 지지플레이트(124)에 대칭적으로 형성된 1쌍의 원호형 장공(124b)이 형성되어 있다.
지지플레이트(124)는 원호형 장공(124b)를 관통하는 볼트 등에 의해 원반형 플랜지(123)에 결합되는데, 이 과정에서 원호형 장공(124b) 내에서 볼트의 결합 위치를 변경함으로써 결합공(124a)에 고정되는 기판고정부(125)의 위치(결합 각도)를 자유롭게 결정할 수 있다. 다시 말해, 지지플레이트(124)가 플랜지(123)에 결합될 때 원호형 장공(124b)내의 일 지점에서 선택적으로 결합됨으로써, 기판고정부(125) 의 결합공(124a)의 위치를 선택적으로 조정할 수 있는 것이다.
스퍼터링 챔버 내에서, 이러한 지지플레이트(124)의 구조는 기판고정부(125)가 최초 결합될 때의 결합 각도를 임의로 조절할 수 있게 한다. 예컨대, 상호 인접하게 마련되는 복수 개의 기판고정부(125)가 지지플레이트(124)에 결합시에 상호 다른 각도로 결합되면 공전과 자전 중에 그 각도 차가 그대로 유지되고, 상호 인접하게 마련된 기판고정부(125)가 자전 및 자전에 따른 세차운동 등에 불구하고 상호 간섭되는 것을 차단할 수 있다.
상기 공전 유닛(130)은 구동원(M)의 출력축(131)과 종동축(132), 및 출력축(131) 및 종동축(132)에 의해 폐곡선상으로 연결되어 무한궤도상의 주행이 가능하도록 설치된 1쌍의 체인부재(133, 134)를 포함한다.
구동원(M)의 출력축(131)과 종동축(132)은 도 2 및 도 3에 나타낸 바와 같이 각각 타원형 이송 트랙(111)의 양 코너의 중심부에 위치하여 서로 대향된 상태로 베이스 프레임(110)에 회전 가능하게 설치된다.
체인부재(133, 134)는 각각 상기 구동원(M)의 출력축(131)과 종동축(132)의 상부 스프라켓(Sprocket)(131b, 132b) 및 하부 스프라켓(131a, 132a)에 연결되어 회전하도록 설치된다.
상기한 바와 같은 구성에 따르면, 상기 체인부재(131)(132)는 타원형 이송 트랙(111)과 나란한 상태의 궤적으로, 출력축(131)과 종동축(132)의 회전에 따라 무한궤도상의 공전 주행이 가능하게 설치된다. 구동원(M)의 회전 속도는 출력축(131)과 종동축(132)의 회전속도가 되어 시스템의 공전속도가 된다.
그리고, 상기 1쌍의 체인부재(133, 134)에는 상기 기판 지지 유닛(120)의 하우징(122)의 상단부와 하단부가 동시에 앵글형 결합부재(122a)에 의해 지지되도록 결합되는 구성을 가진다. 이러한 2단 결합 지지 구조에 의해, 상기 지지플레이트(124)에 직립된 상태로 결합되는 기판고정부(125)는 공전 운동에 불구하고 그 유동을 억제되어 기판(1)의 안정된 세팅상태를 유지할 수 있다. 이러한 특징은 특히 고온 상태의 스퍼터링 챔버내에서 직립된 기판고정부(125)가 열적변형에 의해 다소 변형되더라도 인접한 다른 기판고정부와 간섭되지 않도록 하는 역할을 한다.
도 4 및 도 5의 미설명 도면 부호 112는 이송 트랙(111)과 나란한 궤적을 가지도록 베이스 프레임(110)에 구비된 가이드 레일을 나타낸 것이다. 그리고, 도면 부호 R은 상기 가이드 레일(112)상을 주행하도록 기판 지지 유닛(120)의 하우징(122) 일측으로 돌출되게 설치된 가이드 롤러를 나타낸 것이다. 이러한 구성에 따르면, 가이드 롤러(R)는 공전 중에 상기 가이드 레일(112)에 의해 지지되기 때문에, 그 상보적인 작용으로 기판 지지 유닛(120)의 공전을 안정된 상태로 안내하는 이송 안내수단으로 기능하게 된다.
이러한 가이드 레일(112)과 가이드 롤러(R) 구조에 의해, 상기 지지플레이트(124)에 직립된 상태로 결합되는 기판고정부(125)는 공전운동에 불구하고, 그 유동을 더욱 효율적으로 방지할 수 있게 되어 스퍼터링용 기판(1)의 안정된 세팅상태를 보다 더 용이하게 유지할 수 있다.
상기 자전 유닛(140)은 타원형 이송 트랙(111)의 궤적과 나란하게 배치되도록 베이스 프레임(110)에 타원형으로 설치된 자전 유도용 체인(141)과, 그 자전 유 도용 체인(141)과 상보적으로 결합하여 주행하도록 상기 기판 지지 유닛(120)의 회전축(121)에 구비된 체인기어(142)를 포함한다. 기판 지지 유닛(120)이 공전을 시작하면서 이송되면 그 회전축(121)에 마련된 체인기어(142)가 자전 유도용 체인(141)을 따라 회전하게 되면서 회전축(121)의 회전, 즉 기판 지지 유닛(120)의 자전이 일어난다.
한편, 본 발명의 다른 실시예로서, 비록 도면으로 예시하지는 않았으나 상기 자전 유닛(140)은 자전 유도용 체인(141)과 체인기어(142)를 각각 랙(Rack)부재와 피니언(Pinion)으로 대체할 수 있다.
이하에서는 상술한 바와 같은 구성을 가지는 본 발명에 의한 챔버용 기판 이송장치의 동작상태를 상세하게 설명한다.
스퍼터링 프로세스의 수행을 위한 초기화 동작과 함께 기판 지지 유닛(120)의 기판고정부(125)에 기판(1)의 세팅을 완료한다. 이때, 지지플레이트(124)를 회전시켜며 원호형 장공(124b)을 통하여 기판고정부(125)의 결합공(124a)의 위치를 선택적으로 조정하여 플랜지(123)에 결합시킴으로써, 복수 개의 인접한 기판고정부(125)가 결합 시(공전 전)의 각도를 상호 다르게 설정할 수 있게 되고, 이와 같은 기판고정부(125)의 결합각도의 차이는 공전과 자전 중에 그대로 유지됨으로써 인접한 다른 기판고정부와의 간섭이 발생하지 않도록 한다.
초기화 동작에 의해 상기 구동원(M)의 구동에 따라 출력축(131)과 종동축(132)에 연결된 1 쌍의 체인부재(133, 134)가 무한궤도상의 주행을 시작한다. 이 로써, 상기 체인부재(133, 134)에 각각 일정한 간격을 유지한 상태로 결합된 복수의 기판 지지 유닛(120)이 각각 타원형 이송 트랙(111)을 따라 무한궤도상으로의 연속 이송 동작이 수행되어 공전이 이루어진다.
기판 지지 유닛(120)은 1쌍의 체인부재(133, 134)에 의해 동시에 당겨지기 때문에 그 직립연결된 상태가 변형되어 공전방향으로 기울어지는 등의 문제가 발생하지 아니한다. 또한, 기판 지지 유닛(120)의 하우징(122) 일측으로 돌출되게 설치된 가이드 롤러(R)가 이송트랙(111)에 나란하게 마련된 가이드 레일(112)에 의해 지지됨으로써 그 직립성이 유지되어 공전방향으로 기판 지지 유닛(120) 또는 기판고정부(125)가 기울어지는 문제가 발생하지 아니한다. 기판 지지 유닛(120) 또는 기판고정부(125)의 직립성 유지는 특히 고온 챔버 내에서 상호 인접한 기판고정부(125)들 간의 간섭이 발생하지 않도록 한다.
공전의 시작과 동시에 기판 지지 유닛(120)의 회전축(121)에 구비된 체인기어(142)가 베이스 프레임(110)에 타원형으로 설치된 자전 유도용 체인(141)을 따라 공전 궤도상을 주행하면서 기판 지지 유닛(120)의 회전축(121)을 회전운동시킨다. 회전축(121)의 회전운동에 따라 기판 지지 유닛(120) 및 기판고정부(125)가 자전하게 된다.
기판 지지 유닛(120)의 기판고정부(125)에 세팅된 스퍼터링 기판(1)은 진공/고온 챔버(10)의 내부에서 자전 운동과 동시에 무한궤도상으로의 공전 운동을 연속적으로 수행함으로써, 기판(1)의 양면에 동시에 증착이 이루어진다.
나아가, 이송장치(100)는 반복적인 스퍼터링 과정에서 기판 이송 시간을 용 이하게 제어하여 보다 효율적으로 균일한 증착막 형성을 유도할 수 있으므로 증착막의 품질 및 양산성의 향상을 유효하게 도모할 수 있다.
이상에서 스퍼터링 장치(챔버)에 장착된 예를 중심으로, 본 발명의 챔버용 기판 이송장치에 대하여 설명하였다. 앞서 언급한 바와 같이, 본 발명의 기판 이송장치는 스퍼터링 챔버에 국한되어 적용되지 아니한다.
이상에서는 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 도시하고 설명하였지만, 본 발명은 상술한 특정의 실시예에 한정되지 아니하며, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변형실시가 가능한 것은 물론이고, 이러한 변형실시들은 본 발명의 기술적 사상이나 전망으로부터 개별적으로 이해되어서는 안 될 것이다.
도 1은 본 발명의 챔버용 기판 이송장치를 구비한 챔버의 일 예를 간략히 도시한 도면,
도 2는 본 발명에 의한 챔버용 기판 이송장치를 구비한 스퍼터링 챔버를 개략적으로 도시한 평면도,
도 3은 본 발명의 챔버용 기판 이송장치를 개략적으로 도시한 사시도,
도 4는 도 1 및 도 2의 요부를 발췌하여 도시해 보인 개략적 사시도,
도 5는 도 3의 A-A선을 따라 절제하여 도시해 개략적 단면도.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
110: 베이스 프레임 111: 이송 트랙
112: 가이드 레일 120: 기판지지 유닛
121: 회전축 122: 하우징
123: 플랜지 124: 지지플레이트
125: 기판고정부 130: 공전 유닛
131: 구동축 132: 종동축
133, 134: 체인부재 R: 가이드 롤러

Claims (11)

  1. 챔버 내의 무한궤도상의 이송 트랙이 구비된 베이스 프레임;
    상기 이송 트랙을 따라 이동 가능하게 설치된 기판 지지 유닛;
    상기 이송 트랙을 따라 상기 기판 지지 유닛을 이송시켜 주기 위한 공전 유닛;
    상기 공전 유닛과 연계하여 상기 기판 지지 유닛을 자전운동시켜 주기 위한 자전 유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 챔버용 기판 이송장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 기판 지지 유닛은,
    상기 이송 트랙을 따라 이동 가능하도록 상기 공전 유닛에 연결되어 회전 가능한 상태로 설치된 회전축;
    상기 회전축의 상단부에 구비된 플랜지;
    상기 플랜지에 결합되는 지지플레이트; 및
    기판이 세팅되며, 상기 지지플레이트에 지지되는 기판고정부를 포함하는 것을 특징으로 하는 챔버용 기판 이송장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 기판 지지 유닛은 상기 기판고정부의 결합 각도를 세팅할 수 있는 결합각 조절수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 챔버용 기판 이송장치.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 결합각 조절수단은,
    상기 플랜지에 대한 결합 좌표 이동을 허용하도록 상기 플레이트에 구비된 원호형 장공인 것을 특징으로 하는 챔버용 기판 이송장치.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 기판 지지 유닛의 이송 안내수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 챔버용 기판 이송장치.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 이송 안내수단은,
    상기 이송 트랙과 나란한 궤적을 가지도록 상기 베이스 프레임에 구비된 가이드 레일; 및
    상기 가이드 레일을 따라 주행하도록 상기 기판 지지 유닛에 구비된 가이드 롤러를 포함하는 것을 특징으로 하는 챔버용 기판 이송장치.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 공전 유닛은,
    구동원의 출력축과 종동축에 의해 연결되어 무한궤도상의 주행이 가능한 상태로 설치되며, 상기 기판 지지 유닛이 연동되도록 결합되는 체인부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 챔버용 기판 이송장치.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 체인부재는 상기 구동원의 출력축과 종동축에 상하 나란하게 1쌍이 배치되도록 설치되는 것을 특징으로 하는 챔버용 기판 이송장치.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 자전 유닛은,
    상기 이송 트랙의 궤적과 나란하게 배치되어 자전 트랙을 형성하도록 상기 베이스 프레임에 설치된 자전 유도용 체인; 및
    상기 자전 유도용 체인과 상보적으로 작용하도록 상기 기판 지지 유닛에 구비된 체인기어를 포함하는 것을 특징으로 하는 챔버용 기판 이송장치.
  10. 제1항에 있어서,
    상기 자전 유닛은,
    상기 이송 트랙의 궤적과 나란하게 배치되어 자전 트랙을 형성하도록 상기 베이스 프레임에 구비된 랙부재; 및
    상기 랙부재와 상보적으로 작용하도록 상기 기판 지지 유닛에 구비된 피니언을 포함하는 것을 특징으로 하는 챔버용 기판 이송장치.
  11. 스퍼터링 프로세스 수행이 가능한 챔버의 내부에 스퍼터링 기판의 자전과 공전 운동을 연계시켜 무한궤도상으로 연속 이송시켜 주기 위한 것으로,
    무한궤도상의 이송 트랙이 구비된 베이스 프레임;
    상기 이송 트랙을 따라 이동 가능하게 설치된 기판 지지 유닛;
    상기 이송 트랙을 따라 상기 기판 지지 유닛을 이송시켜 주기 위한 공전 유닛; 및
    상기 공전 유닛과 연계하여 상기 기판 지지 유닛을 자전운동시켜 주기 위한 자전 유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 스퍼터링장치.
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