JP2014078600A - 成膜装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】装置全体での省スペース化を図ることが可能な成膜装置を提供する。
【解決手段】基板を収容可能な真空容器121〜125と、当該真空容器内で、基板に成膜する成膜機構140と、基板の板厚方向が水平方向となるように、基板を直立させた状態で、基板を保持可能な基板搬送トレイ20を、平面視において環状の周回軌道に沿って搬送させるトレイ搬送機構10と、基板を水平状態で搬送し、周回軌道の外側から内側へ通過させる基板搬送機構195と、周回軌道の内側で、水平状態の基板搬送トレイ上に基板を載置して、基板搬送トレイに基板を保持させ、基板搬送トレイ及び基板を回転移動させ、直立させた状態にする基板受入部160Aと、を備える構成とする。
【選択図】図1
【解決手段】基板を収容可能な真空容器121〜125と、当該真空容器内で、基板に成膜する成膜機構140と、基板の板厚方向が水平方向となるように、基板を直立させた状態で、基板を保持可能な基板搬送トレイ20を、平面視において環状の周回軌道に沿って搬送させるトレイ搬送機構10と、基板を水平状態で搬送し、周回軌道の外側から内側へ通過させる基板搬送機構195と、周回軌道の内側で、水平状態の基板搬送トレイ上に基板を載置して、基板搬送トレイに基板を保持させ、基板搬送トレイ及び基板を回転移動させ、直立させた状態にする基板受入部160Aと、を備える構成とする。
【選択図】図1
Description
本発明は、成膜装置に関する。
例えば基板などの対象物に成膜を行う成膜装置において、基板の板厚方向が水平方向になるように基板を直立させた状態で搬送するものがある(例えば、特許文献1参照)。特許文献1に記載の成膜装置は、複数のチャンバーとして、例えば加熱室、複数の成膜室を備えている。この成膜装置では、複数のチャンバーに渡って、基板を直立させた状態で搬送している。
基板搬送トレイによって基板を直立させた状態で保持し、基板及び基板搬送トレイを搬送する成膜装置において、成膜装置全体での省スペース化が求められている。
本発明は、装置全体での省スペース化を図ることが可能な成膜装置を提供することを目的とする。
本発明は、基板に成膜処理を行う成膜装置であって、基板を収容可能な真空容器と、当該真空容器内で、基板に成膜する成膜機構と、基板の板厚方向が水平方向となるように、基板を直立させた状態で、基板を保持可能な基板搬送トレイを、平面視において環状の周回軌道に沿って搬送させるトレイ搬送機構と、基板を水平状態で搬送し、周回軌道の外側から内側へ通過させる基板搬送機構と、周回軌道の内側で、水平状態の基板搬送トレイ上に基板を載置して、基板搬送トレイに基板を保持させ、基板搬送トレイ及び基板を回転移動させ、直立させた状態にする基板受入部と、を備える成膜装置を提供する。
この成膜装置は、水平状態で搬送された基板を、基板搬送トレイの周回軌道の内側まで進入させる。成膜装置は、基板搬送トレイの周回軌道の内側で、水平状態の基板搬送トレイ上に基板を載置する。基板は基板搬送トレイに保持される。成膜装置は、基板搬送トレイ及び基板を回転させて、水平状態から直立させた状態に基板搬送トレイ及び基板の姿勢を変更する。この成膜装置では、基板を受け入れる基板受入部が、基板搬送トレイの周回軌道の内側に設けられているので、周回軌道の内側のスペースを利用することができる。周回軌道の外側に、基板受入部を形成する必要がなく、成膜装置全体としての省スペース化を図ることができる。なお、「基板を直立させた状態」とは、基板が傾斜した状態でもよい。
真空容器から搬出された成膜後の基板を、基板搬送トレイから取り外して回収する基板回収部を備え、トレイ搬送機構は、基板搬送トレイを直立させた状態で、基板回収部から基板受入部へ搬送してもよい。これにより、基板搬送トレイを直立させた状態で、基板回収部から基板受入部へ搬送することができる。これにより、周回軌道の全周において、基板搬送トレイを直立させた状態で搬送することができ、成膜装置全体として省スペース化を図ることが可能となる。基板搬送トレイを直立させて搬送することで、水平状態で搬送する場合と比較して、搬送速度を上げることができる。これにより、生産効率の向上を図ることができる。
トレイ搬送機構は、周回軌道が平面視において矩形状であり、基板及び当該基板を保持する基板搬送トレイを、基板の板厚方向と交差する第1の搬送方向に搬送する第1の直線部と、基板を保持していない基板搬送トレイを、第1の搬送方向と逆方向である第2の搬送方向に搬送する第2の直線部と、第1の直線部と第2の直線部との間で基板搬送トレイの板厚方向に基板搬送トレイを搬送する第3の直線部と、を備える構成でもよい。
基板搬送トレイの周回軌道が矩形状に形成されているので、更なる省スペース化を図ることができる。第1の直線部及び第2の直線部において、基板搬送トレイの板厚方向に基板搬送トレイを搬送し、周回軌道の折り返し部に相当する第3の直線部において、板厚方向と交差する方向に基板搬送トレイを搬送することができるので、第3の直線部での搬送速度の低下を抑制することが可能である。基板搬送トレイが、周回軌道を1周する時間を短縮することができる。
本発明によれば、装置全体での省スペース化を図ることが可能な成膜装置を提供することができる。
本発明に係る成膜装置について図面を参照して説明する。なお、「上」、「下」等の方向を示す語は、図面に示される状態に基づいており、便宜的なものである。また、図1〜図14には、説明を容易にする為にXYZ直交座標系も示されている。
(成膜装置)
図1に示す成膜装置100は、基板101(例えばガラス基板)に対して成膜等の処理を施すためのものである。成膜装置100は、例えばRPD法(反応性プラズマ蒸着法)による成膜を行う装置である。成膜装置100は、プラズマを生成するプラズマガン(蒸着源140)を備え、生成されたプラズマを用いて、成膜材料をイオン化し、成膜材料の粒子を基板101の表面に付着させることにより成膜を行う。
図1に示す成膜装置100は、基板101(例えばガラス基板)に対して成膜等の処理を施すためのものである。成膜装置100は、例えばRPD法(反応性プラズマ蒸着法)による成膜を行う装置である。成膜装置100は、プラズマを生成するプラズマガン(蒸着源140)を備え、生成されたプラズマを用いて、成膜材料をイオン化し、成膜材料の粒子を基板101の表面に付着させることにより成膜を行う。
成膜装置100は、ロードロックチャンバー121、バッファチャンバー122、成膜チャンバー(成膜室)123、バッファチャンバー124、ロードロックチャンバー125を備えている。これらのチャンバー121〜125は、この順に並んで配置されている。全てのチャンバー121〜125が真空容器にて構成され、チャンバー121〜125の出入口には、開閉ゲート131〜136が設けられている。成膜装置100は、バッファチャンバー122,124、成膜チャンバー123が複数並べられている構成でもよい。また、一連のチャンバーによって構成されている成膜装置でもよい。
各真空チャンバー121〜125には、内部を適切な圧力とするための真空ポンプ(不図示)が接続されている。また、各真空チャンバー121〜125には、チャンバー内の圧力を監視するための真空計(不図示)が設置されている。各チャンバー121〜125には、真空ポンプに接続された真空排気管が連通され、この真空排気管に真空計が設置されている。
図2に示すように、成膜装置100には、基板101を保持する搬送トレイ20を搬送するための搬送装置10が設けられている。搬送装置10は、真空チャンバー121〜125内で、基板101及び搬送トレイ20を直立させた状態で搬送する装置である(詳しくは後述する)。なお、図2及び図3では、搬送トレイ20を簡略化して記載している。
(真空チャンバー)
次に、図1を参照して各種真空チャンバー121〜125について説明する。ロードロックチャンバー121は、入口側に設けられた開閉ゲート131を開放することで、大気開放され、処理される基板101、及びこの基板101を保持する搬送トレイ20が導入されるチャンバーである。ロードロックチャンバー121の出口側は、開閉ゲート132を介して、バッファチャンバー122の入口側に接続されている。
次に、図1を参照して各種真空チャンバー121〜125について説明する。ロードロックチャンバー121は、入口側に設けられた開閉ゲート131を開放することで、大気開放され、処理される基板101、及びこの基板101を保持する搬送トレイ20が導入されるチャンバーである。ロードロックチャンバー121の出口側は、開閉ゲート132を介して、バッファチャンバー122の入口側に接続されている。
バッファチャンバー122は、入口側に設けられた開閉ゲート132を開放することで、ロードロックチャンバー121と連通され、ロードロックチャンバー121を通過した基板101が導入される圧力調整用チャンバーである。バッファチャンバー122の出口側は、開閉ゲート133を介して、成膜チャンバー123の入口側に接続されている。また、バッファチャンバー122には、基板101を加熱するためのヒーター(不図示)が設けられている。このヒーターは、基板101の成膜面(成膜される面)を加熱すべく、成膜面と対向して配置されている。本実施形態では、基板101は直立状態で配置されているため、成膜面は、上下方向に沿って配置されている。バッファチャンバー122では、基板温度が例えば200℃程度になるように加熱する。バッファチャンバー122は、成膜チャンバー123の前段に設置され、基板101を加熱する加熱用チャンバーとして機能する。
ヒーターとしては、例えばランプヒーターを使用することができる。ランプヒーターは、棒状を成し、上下方向Zに延在している。ランプヒーターは、バッファチャンバー122内に複数本(例えば12本)設置され、搬送方向L(Y方向)に所定の間隔を空けて配置されている。ヒーターの熱は基板101に伝熱され、基板101が加熱される。
成膜チャンバー123は、入口側に設けられた開閉ゲート133を開放することで、バッファチャンバー122と連通され、バッファチャンバー122を通過した基板101及び搬送トレイ20が導入され、基板101に薄膜層を成膜する処理チャンバーである。成膜チャンバー123の出口側は、開閉ゲート134を介して、バッファチャンバー124の入口側に接続されている。図3に示すように、成膜チャンバー123には、基板101に成膜材料(薄膜層)を成膜するための蒸着装置140が設置されている。蒸着装置140は、成膜材料を保持する主ハース、プラズマビームを主ハースへ照射するプラズマガン等で構成される。また、成膜チャンバー123には、基板101を加熱するためのヒーターが設けられている。このヒーターは、例えば基板101を背面101f(成膜面101eと反対側の面)側から基板101を加熱するように設置されている。成膜チャンバー123では、基板温度が例えば200℃程度に維持される。
図1に示すバッファチャンバー124は、入口側に設けられた開閉ゲート134を開放することで、成膜チャンバー123と連通され、成膜チャンバー123によって成膜された基板101及びこれを保持する搬送トレイ20が導入される圧力調整用チャンバーである。バッファチャンバー124の出口側は、開閉ゲート135を介して、ロードロックチャンバー125の入口側に接続されている。また、バッファチャンバー124には、基板101を冷却するための冷却板(不図示)が設けられている。この冷却板は、基板101の成膜面を冷却すべく、基板101の成膜面に対向して配置されている。基板101の背面101f側から、基板101を冷却する冷却板を備える構成でもよい。バッファチャンバー124では、基板温度が例えば120℃程度になるように冷却される。バッファチャンバー124は、成膜チャンバー123の後段に設置され、基板101を冷却する冷却用チャンバーとして機能する。なお、バッファチャンバー124に冷却手段が設置されていない構成でもよい。真空チャンバーから出た後の大気圧環境において、基板101を大気により冷却(空冷)する構成でもよい。
冷却板は、基板101を冷却する冷却手段として機能するものである。冷却板は、例えば銅板から形成され、板状を成し、基板101と対面するように配置されている。冷却板には、冷却水が通水される冷却管(不図示)が設けられている。基板101の熱は、冷却板93に伝熱され、冷却板に伝達された熱が冷却管に伝熱され、冷却管は管内を流れる冷却水により冷却される。これにより、冷却板が冷却されて基板101が冷却される。
図2及び図3に示すように、真空チャンバー121〜125は、箱型を成し、天板151、底板152、正面壁153(図1参照)、背面壁154、入側壁155、及び出側壁156を備えている。天板151及び底板152は、上下方向Zに対向して配置された壁体である。入側壁155及び出側壁156は、搬送方向Yに対向して配置された壁体である。入側壁155は、基板101及び搬送トレイ20が真空チャンバー121〜125内に搬入される側である入口側の壁体である。出側壁156は、基板101及び搬送トレイ20が真空チャンバー121〜125外へ搬出される側である出口側の壁体である。正面壁153及び背面壁154は、基板101の板厚方向(X)に対向して配置された壁体である。なお、図3では、正面壁153の図示を省略している。
入側壁155には、搬送トレイ20及び基板101を、真空チャンバー121〜125内へ搬入させるための入口(開口部)155aが形成されている。出側壁156には、搬送トレイ20及び基板101を、真空チャンバー121〜125外へ搬出させるための出口(開口部)156aが形成されている。
図3では、成膜チャンバー123の断面を示している。成膜チャンバー123は、背面壁154の少なくとも一部が、外方(基板101が搬送される搬送経路から離れる方向へ)に張り出すように配置されることで、凹部154aが形成されている。この凹部154aには、上記の蒸着装置140が配置されている。成膜チャンバー123では、プラズマガンによってプラズマを生成し、主ハースに保持された成膜材料を加熱して蒸発させる。成膜材料が蒸発してイオン化され、成膜材料の粒子が凹部154a内に拡散する。凹部154a内に拡散した成膜材料の粒子は、基板101に向けて飛行し、基板101の表面(成膜面101e)に付着する。
天板151及び底板152は、搬送方向Yの一方の端部において、入側壁155と接合され、搬送方向Yの他方の端部において、出側壁156と接合されている。正面壁153及び背面壁154は、搬送方向Yの一方の端部において、入側壁155と接合され、搬送方向Yの他方の端部において、出側壁156と接合されている。天板151及び底板152は、正面側で正面壁153と接合され、背面側で背面壁154と接合されている。これらの壁体151〜156は、例えば溶接により一体的に結合されている。なお、成膜チャンバー123内のメンテナンスを行うために、一部の壁体(例えば、正面壁153)をヒンジ結合して、開閉自在な構成にしても良い。
(搬送装置)
次に、基板101を搬送する搬送装置10について説明する。搬送装置10は、図2及び図3に示すように、基板101の下端側に配置された複数の搬送ローラー11と、基板101の上端側に配置された複数の従動ローラー(ガイドローラー)12,13とを備えている。
次に、基板101を搬送する搬送装置10について説明する。搬送装置10は、図2及び図3に示すように、基板101の下端側に配置された複数の搬送ローラー11と、基板101の上端側に配置された複数の従動ローラー(ガイドローラー)12,13とを備えている。
複数の搬送ローラー11は、搬送方向Yに所定の間隔で配置されている。搬送ローラー11は、図3に示すように、X方向に延在する回転軸14に固定されている。回転軸14は、一対の軸受け19によって回転可能支持されている。一対の軸受け19は、底板152固定されている。
回転軸14は、真空チャンバー121〜125の背面壁154に設けられた開口部154aに挿通されている。開口部154aには、回転軸14を回転可能に支持し真空チャンバー121〜125内と外部環境との間を封止する軸封装置15が設けられている。軸封装置15として、例えば磁性流体軸受けを使用することができる。回転軸14は、背面壁154を貫通して、真空チャンバー121〜125の内部から外部まで延在している。なお、回転軸14は、一体物として構成されているものでもよく、複数の部材を軸線方向に連結することで構成されているものでもよい。
真空チャンバー121〜125の外部には、回転軸14を回転駆動するための駆動源(例えば電動モーター)16が設置されている。駆動源16から出力された駆動力は、ベルト車17及び無端ベルト18を有する動力伝達機構によって複数の回転軸14に伝達される。回転軸14の真空チャンバー121〜125の外部に配置された端部には、複数のベルト車17が取り付けられている。搬送方向Yに隣接する回転軸14に設けられたベルト車17には、無端ベルト18が架け渡されている。同様に、駆動源16の出力軸には、ベルト車17が取り付けられ、出力軸のベルト車17及び隣接する回転軸14に取り付けられたベルト車17には、無端ベルト18が架け渡されている。これにより、駆動源16から出力された駆動力を分配して、複数の回転軸14を回転駆動させることができる。なお、動力伝達機構は、ベルト18及びベルト車17を備えるものに限定されず、その他の動力伝達機構でもよい。例えば、チェーン及びスプロケットを備えるものでもよく、その他の動力伝達軸などを備えるものでもよい。
また、搬送ローラー11は、搬送トレイ20の下端部保持部32(レール部26)の両側を挟むように配置された一対のつば部を有する構成でもよい。これにより、つば部が、搬送トレイ20のレール部26(詳細は後述する)の側面(X方向に対向する面)に当接して、搬送トレイ20のX方向の位置を規制する。
従動ローラー12,13は、搬送方向Yに所定の間隔で配置されている。従動ローラー12,13は、Z方向に延在する軸回りに回転可能に、天板151に支持されている。従動ローラー12,13として、ころがり軸受けを使用することができる。従動ローラー12,13は、その他の回転体でもよい。従動ローラー12,13は、搬送トレイ20との接触時の回転を衝撃なく円滑に行うため、回転慣性が小さい方が好ましい。従動ローラー12,13は、搬送トレイ20の後述するガイド溝25の内壁に当接可能であり、搬送トレイ20の移動に従って回転する。
(レイアウト)
搬送装置10は、図1に示すように、真空チャンバー125から排出された搬送トレイを搬送(返送)し、真空チャンバー121へ再び搬入する。搬送装置10は、搬送トレイ20を繰り返し使用できるように、搬送トレイ20の搬送経路L(L1〜L4)が平面視において矩形の周回軌道を成すように形成されている。
搬送装置10は、図1に示すように、真空チャンバー125から排出された搬送トレイを搬送(返送)し、真空チャンバー121へ再び搬入する。搬送装置10は、搬送トレイ20を繰り返し使用できるように、搬送トレイ20の搬送経路L(L1〜L4)が平面視において矩形の周回軌道を成すように形成されている。
搬送トレイ20の搬送経路は、図示Y方向に延在する第1搬送経路L1(第1の直線部)と、第1搬送経路L1の下流で図示X方向に延在する第2搬送経路L2(第3の直線部)と、第2搬送経路L2の下流でY方向に延在し、第1搬送経路L1と逆方向に搬送トレイ20を搬送する第3搬送経路L3(第2の直線部)と、第3搬送経路L3の下流でX方向に延在し、第2搬送経路L2と逆方向に搬送トレイ20を搬送する第4搬送経路L4(第3の直線部)とを備えている。第4搬送経路L4の下流側は、第1搬送経路L1の上流側に接続している。
第1搬送経路L1、第2搬送経路L2、第3搬送経路L3、及び第4搬送経路L4は、平面視において、直線的に形成されている。第1搬送経路L1及び第3搬送経路L3は、平行に配置され、第2搬送経路L2及び第4搬送経路L4は、平行に配置されている。搬送トレイ20は、第1搬送経路L1、第2搬送経路L2、第3搬送経路L3、及び第4搬送経路L4を通過して、再び、第1搬送経路L1へ進入する。上記の真空チャンバー121〜125は、第1搬送経路L1を構成している。
第1搬送経路L1及び第3搬送経路L3では、搬送トレイ20は、板厚方向と交差する方向(Y方向)に搬送される。第2搬送経路L2及び第4搬送経路L4では、搬送トレイ20は、板厚方向(X方向)に搬送される。これにより、各搬送経路の接続点において、搬送トレイ20は、姿勢を変更せずに搬送方向を変更するので、装置全体としての搬送時間を短縮することができる。また、搬送トレイ20の姿勢を変更する機構が必要なくなるので、装置が複雑化されるのを防止することができる。
成膜装置100は、成膜前の基板101を水平状態で搬送し、周回軌道(L1〜L4)の外側から内側へ通過させる第5搬送経路L5(基板搬送機構)と、成膜後の基板101を水平状態で搬送し、周回軌道(L1〜L4)の内側から外側へ通過させる第6搬送経路L6とを備えている。
第5搬送経路L5は、ロードロックチャンバー121の上流側で、第1搬送経路L1を横切るようにX方向に形成されている。第5搬送経路L5は、周回軌道の外側でX方向に基板101を搬送する基板搬入コンベア195、後述する基板装着装置160Aの搬送ローラ191,192によって構成されている。成膜前の基板101は、第5搬送経路L5を通過して、第1搬送経路L1を横切って、周回軌道の外側から内側に搬入されて、成膜装置100に受け入れられる。なお、第5搬送経路L5は、例えば、第3搬送経路L3、第4搬送経路L4などその他の搬送経路を横切るように形成されていてもよい。
第6搬送経路L6は、ロードロックチャンバー125の下流側で、第1搬送経路L1を横切るようにX方向に形成されている。第6搬送経路L6は、第5搬送経路L5とは逆方向に基板101を搬送する。第6搬送経路L6は、周回軌道の外側でX方向に基板を搬送する基板搬出コンベア196、後述する基板離脱装置160Bの搬送ローラ191,192によって構成されている。成膜後の基板101は、基板離脱装置160Bによって、搬送トレイ20から取り外された後、第6搬送経路L6を通過して、第1搬送経路L1を横切って、周回軌道の内側から外側へ搬送され、成膜後の基板101が回収される。回収された基板101は、成膜装置100外へ搬出される。なお、第6搬送経路L6は、例えば、第2搬送経路L2、第3搬送経路L3などその他の搬送経路を横切るように形成されていてもよい。
(基板着脱装置、基板搬送トレイ起伏装置)
図4は、基板着脱装置160(基板装着装置160A、基板離脱装置160B)を搬送方向の前方から示す右側面図である。基板装着装置160A(基板受入部)は、基板101を搬送トレイ20に装着する装置である。基板離脱装置160B(基板回収部)は、基板101を搬送トレイ20から取り外す装置である。本実施形態では、基板装着装置160A及び基板離脱装置160Bは、同様の構成である。基板装着装置160A及び基板離脱装置160Bを区別しないときは、基板着脱装置160と記す。
図4は、基板着脱装置160(基板装着装置160A、基板離脱装置160B)を搬送方向の前方から示す右側面図である。基板装着装置160A(基板受入部)は、基板101を搬送トレイ20に装着する装置である。基板離脱装置160B(基板回収部)は、基板101を搬送トレイ20から取り外す装置である。本実施形態では、基板装着装置160A及び基板離脱装置160Bは、同様の構成である。基板装着装置160A及び基板離脱装置160Bを区別しないときは、基板着脱装置160と記す。
図1に示すように、基板装着装置160Aは、ロードロックチャンバー121の上流側で、第5搬送経路L5と第1搬送経路L1との交差点を形成している。基板離脱装置160Bは、ロードロックチャンバー125の下流側で第6搬送経路L6と第1搬送経路L1との交差点を形成している。
基板着脱装置160として、基板装着装置160Aについて説明するが、基板離脱装置160Bも同様の構成である。基板装着装置160Aは搬送トレイ20を支持するトレイ傾転フレーム161を備えている。基板装着装置160Aは、搬送トレイ20を直立状態で保持する第1の姿勢と、搬送トレイ20を水平状態で保持する第2の姿勢に、トレイ傾転フレーム161の姿勢を切替え可能な構成となっている。
(トレイ傾転フレーム)
図5に示すように、トレイ傾転フレーム161は、第1の姿勢における正面視において(搬送トレイ20の板厚方向から見て)矩形を成す枠体として構成されている。トレイ傾転フレーム161は、天部162、底部163、入側連結部材164、及び出側連結部材165を備えている。以下、第1の姿勢のときの位置関係に基づいて、トレイ傾転フレーム161を説明する。
図5に示すように、トレイ傾転フレーム161は、第1の姿勢における正面視において(搬送トレイ20の板厚方向から見て)矩形を成す枠体として構成されている。トレイ傾転フレーム161は、天部162、底部163、入側連結部材164、及び出側連結部材165を備えている。以下、第1の姿勢のときの位置関係に基づいて、トレイ傾転フレーム161を説明する。
天部162は、トレイ傾転フレーム161の上側の部分を形成している。天部162は、例えば棒状を成すように形成されている。天部162の板厚方向が上下方向Zに沿うように配置されている。天部162は、搬送トレイ20の搬送方向(Y方向,L1)に延在している。搬送方向において、天部162は、搬送トレイ20よりも長く形成されている。天部162は、搬送トレイ20よりも上方に配置されるように形成されている。図5において、搬送トレイ20は、2点鎖線で図示されている。
底部163は、トレイ傾転フレーム161の下側の部分を形成している。底部163は、例えば棒状を成すように形成されている。底部163は、搬送トレイ20の搬送方向に延在している。搬送方向において、底部163は、搬送トレイ20よりも長く形成されている。底部163は、搬送トレイ20よりも下方に配置されるように形成されている。
入側連結部材164は、トレイ傾転フレーム161の入側の部分を形成している。入側とは、搬送トレイ20の搬送方向の上流側であり、トレイ傾転フレーム161における入口側である。入側連結部材164は、例えば棒状を成すように形成されている。入側連結部材164は、上下方向Zに延在している。上下方向Zにおいて、入側連結部材164は、搬送トレイ20よりも長く形成されている。入側連結部材164は、上下方向Zにおいて、天部162及び底部163を連結している。入側連結部材164は、例えば溶接によって、天部162及び底部163と接合されている。
出側連結部材165は、トレイ傾転フレーム161の出側の部分を形成している。出側とは、搬送トレイ20の搬送方向の下流側であり、トレイ傾転フレーム161における出口側である。出側連結部材165は、例えば棒状を成すように形成されている。出側連結部材165は、上下方向Zに延在している。上下方向Zにおいて、出側連結部材165は、搬送トレイ20よりも長く形成されている。出側連結部材165は、上下方向において、天部162及び底部163を連結している。出側連結部材165は、例えば溶接によって、天部162及び底部163と接合されている。
トレイ傾転フレーム161は、図4に示すように、搬送トレイ20の搬送経路L(周回軌道)の内側に、入側連結部材164及び出側連結部材165が配置されている。図4において、搬送トレイ20は、搬送経路L上に配置されている。天部162は、入側連結部材164及び出側連結部材165の上端に接続され、搬送経路L側へ張り出している。
図5に示すように、入側連結部材164及び出側連結部材165には、下端に接続され、搬送経路L側へ張り出す支持部材166が各々設けられている。支持部材166は、底部163の長手方向の両端に連結されている。底部163は、支持部材166を介して、入側連結部材164及び出側連結部材165に連結されている。
基板装着装置160Aは、搬送トレイ20を搬送方向に搬送するトレイ搬送機構170(10)を備えている。トレイ搬送機構170は、トレイ傾転フレーム161に設けられている。トレイ搬送機構170は、真空チャンバー内に設けられた搬送装置10と同様の構成である(ただし、トレイ搬送機構170には、軸封装置15は設けられていない)。トレイ搬送機構170は、搬送トレイ20を搬送するための複数の搬送ローラ171を有する。これらの搬送ローラ171は、底部163に設けられている。トレイ搬送機構170は、搬送トレイ20の上端部の移動方向を拘束可能なガイドローラ172を有する。これらのガイドローラ172は、天部162に設けられている。
基板装着装置160Aは、トレイ搬送機構170によって、上下方向Zの両側から搬送トレイ20を支持している。基板着脱装置160は、後述する外部開閉駆動装置200を備えている。基板装着装置160Aに支持された搬送トレイ20は、外部開閉駆動装置200によって、トレイ傾転フレーム161に対して位置が規制されている。外部開閉駆動装置200を作動させることで、搬送トレイ20とトレイ傾転フレーム161が合体可能である。基板装着装置160Aでは、トレイ傾転フレーム161、トレイ搬送機構170、及び外部開閉駆動装置200によって、搬送トレイ20を保持する保持部が形成されている。
基板装着装置160Aは、設置面(床面)に載置される土台167を備えている。土台67は、強度部材によって構成され、例えば矩形の枠体として形成されている。土台167は、図4に示すように、搬送方向から見た場合、搬送経路L側から周回軌道の内側へ(図示左側へ)張り出すように配置されている。土台167は、図5に示すように、X方向から見た場合、トレイ搬送機構170の下方で、搬送経路Lに沿うように延在している。
(傾転駆動機構)
基板装着装置160Aは、傾転駆動機構180を備え、トレイ傾転フレーム161が土台167に対して回転可能に支持されている。傾転駆動機構180は、搬送トレイ20を直立状態で保持可能な第1の姿勢(図4及び図5参照)、及び搬送トレイ20を水平状態で保持可能な第2の姿勢(図6参照)に、トレイ傾転フレーム161の姿勢を切替え可能な構成とされている。
基板装着装置160Aは、傾転駆動機構180を備え、トレイ傾転フレーム161が土台167に対して回転可能に支持されている。傾転駆動機構180は、搬送トレイ20を直立状態で保持可能な第1の姿勢(図4及び図5参照)、及び搬送トレイ20を水平状態で保持可能な第2の姿勢(図6参照)に、トレイ傾転フレーム161の姿勢を切替え可能な構成とされている。
図5に示すように、傾転駆動機構180は、搬送方向に延在する一対の回転軸181を備えている。一対の回転軸181は、搬送方向に離間し、トレイ傾転フレーム161(入側連結部材164、出側連結部材165)の外側に張り出すように配置されている。一対の回転軸181は、上下方向Zにおいて、トレイ傾転フレーム161の下端側に配置されている。
一対の回転軸181は、軸受け182によって回転可能に支持されている。軸受け182は、回転軸181の長手方向の中央に配置されている。軸受け182には、軸受け支持部材183によって、支持されている。軸受け支持部材183は、土台167から上方へ張り出すように形成されている。軸受け支持部材183は、搬送方向の両側で、一対の回転軸181を各々支持している。
回転軸181の一方の端部には、トレイ傾転フレーム161が連結されている。一対の回転軸181は、搬送方向の上流側に配置された第1回転軸181Aと、搬送方向の下流側に配置された第2回転軸181Bとを有する。第2回転軸181Bの他方の端部には、傾動駆動アーム184が固定されている。図4及び図6に示すように、傾動駆動アーム184は、回転軸181Bから径方向の外側へ張り出すように延在している。傾動駆動アーム184の先端には、電動シリンダ185(駆動源)が連結されている。電動シリンダ185の基端部は、土台167に揺動可能に支持されている。電動シリンダ185を作動させることで、傾動駆動アーム184を駆動し、トレイ傾転フレーム161を回転軸181回りに回転させる。
図5に示すように、第1回転軸181Aの他方の端部には、カウンターバランス(カウンタートルク発生部)186が設けられている。カウンターバランス186は、第1回転軸181Aの他方の端部に固定されたカウンターアーム187と、カウンターアーム187に連結されたコイルばね189とを有する。
カウンターアーム187は、第1回転軸181Aから径方向の外側へ張り出すように延在している。コイルばね189の一方の端部は、カウンターアーム187の先端に連結され、コイルばね189の他方の端部は、土台167に連結されている。カウンターアーム187は、回転軸181の回転に伴って回転する。コイルばね189は、トレイ傾転フレーム161が水平状態のときに引張力を作用させ、カウンターアーム187を介して、回転軸181にトルクを発生させる。このときのトルクは、トレイ傾転フレーム161を水平状態から直立状態へ姿勢変化させる方向のトルクである。カウンターバランス186は、トレイ傾転フレーム161が水平状態のときに、トレイ傾転フレーム161の自重による発生するトルクを打ち消す方向のトルクを、トレイ傾転フレーム161に作用させる。
図4及び図6に示すように、基板装着装置160Aは、水平状態の基板101を搬送可能な複数の搬送ローラ191(基板移載ローラ)を有する。搬送ローラ191は、土台167に支持され、X方向に複数配置されている。これらの搬送ローラ191は、土台167に対して昇降可能に設けられている。基板装着装置160Aは、搬送ローラ191を上昇させることで、隣接する基板搬入コンベア195に対応する高さに配置することができる。搬送ローラ191は、基板101を図示X方向に搬送する。
基板装着装置160Aは、搬送ローラ191を下降させることができる。搬送ローラ191は、基板搬入コンベア195に対応する高さから下降し、水平状態の搬送トレイ20より下方の位置に移動可能である。搬送ローラ191を上昇又は下降させる昇降機構としては、ボールねじを有する機構、シリンダを有する機構などが挙げられる。搬送ローラ191を回転可能に支持する支持部材を、昇降可能な構成であればよい。
トレイ傾転フレーム161には、トレイ傾転フレーム161が水平状態(第2の姿勢)のときに、基板101を搬送可能な基板搬送ローラ192が複数設けられている。基板搬送ローラ192は、トレイ傾転フレーム161に取り付けられ、トレイ傾転フレーム161の姿勢変化に伴って移動する。図4に示すように、トレイ傾転フレーム161が第1の姿勢(直立状態)のときには、基板搬送ローラ192は、上下方向Zに並んだ状態に配置されている。図6に示すように、トレイ傾転フレーム161が第2の姿勢(水平状態)のときには、基板搬送ローラ192は、水平方向Xに並んだ状態に配置されている。基板搬送ローラ192は、トレイ傾転フレームが第2の姿勢であるときに、基板搬入コンベア195(基板搬出コンベア196)に対応した高さ位置に配置される。
(搬送トレイ)
次に、搬送トレイ20について説明する。図7に示す搬送トレイ20は、本実施形態の成膜装置100に使用可能なものである。搬送トレイ20は、基板101を直立させた状態で搬送する際に基板101を保持する。基板101を直立させた状態とは、基板101の板厚方向Xが水平方向となる状態である。このとき、基板101の成膜面は、上下方向Zに沿って配置される。なお、基板101が直立した状態から傾斜した状態で、基板101を保持する構成でもよい。基板101の板厚方向Xが略水平な方向でもよく、水平方向より傾斜していてもよい。方向Xは、垂直方向Zと直交し、且つ、基板101の搬送方向Yと直交する方向である。
次に、搬送トレイ20について説明する。図7に示す搬送トレイ20は、本実施形態の成膜装置100に使用可能なものである。搬送トレイ20は、基板101を直立させた状態で搬送する際に基板101を保持する。基板101を直立させた状態とは、基板101の板厚方向Xが水平方向となる状態である。このとき、基板101の成膜面は、上下方向Zに沿って配置される。なお、基板101が直立した状態から傾斜した状態で、基板101を保持する構成でもよい。基板101の板厚方向Xが略水平な方向でもよく、水平方向より傾斜していてもよい。方向Xは、垂直方向Zと直交し、且つ、基板101の搬送方向Yと直交する方向である。
搬送トレイ20は、基板101の端部を保持する矩形の枠体として形成されている。搬送トレイ20は、搬送方向(方向Y、第1の方向)に対向する一対の辺が平行であると共に、上下方向Z(第2の方向)に対向する一対の辺が平行であるトレイ本体21を有する。
トレイ本体21は、例えば2重の枠体として形成され、内側に配置された基板支持枠30と、基板支持枠30の外側に配置された外枠40とを備えている。図8は、搬送トレイ20の一部を拡大して示している。基板支持枠30と外枠40との間には、隙間Gが形成されている。隙間Gには、基板支持枠30を外枠40に対して支持する弾性支持体22が配置されている。弾性支持体22として、圧縮ばねを使用することができる。弾性支持体22として、板ばねなどを使用してもよい。図7及び図8では、弾性支持体として、圧縮ばねを使用した場合を示している。
(基板支持枠)
図7に示すように、基板支持枠30は、基板101の上端部101aを保持する上端部保持部31と、基板101の下端部101bを保持する下端部保持部32と、基板101の側端部101cを保持する一対の側端部保持部33と、を備えている。本実施形態の搬送トレイ20は、1枚の基板101を保持するように構成されている。搬送トレイは、基板101の縁部の全周を保持するものでもよく、基板101の縁部を部分的に保持するものでもよい。上端部保持部31、下端部保持部32、側端部保持部33の材質としては、例えばステンレス鋼を用いることができる。
図7に示すように、基板支持枠30は、基板101の上端部101aを保持する上端部保持部31と、基板101の下端部101bを保持する下端部保持部32と、基板101の側端部101cを保持する一対の側端部保持部33と、を備えている。本実施形態の搬送トレイ20は、1枚の基板101を保持するように構成されている。搬送トレイは、基板101の縁部の全周を保持するものでもよく、基板101の縁部を部分的に保持するものでもよい。上端部保持部31、下端部保持部32、側端部保持部33の材質としては、例えばステンレス鋼を用いることができる。
上端部保持部31及び下端部保持部32は、上下方向Zに対向し搬送方向に延在している。一対の側端部保持部33は、搬送方向に対向し上下方向Zに延在している。上端部保持部31は、基板101の上端部101aに沿うように配置されている。下端部保持部32は、基板101の下端部101bに沿うように配置されている。下端部保持部32は、上端部保持部31と、上下方向(Z方向)に対向して配置されている。一対の側端部保持部33は、基板101の側端部101cに沿うように配置されている。一対の側端部保持部33は、上端部保持部31及び下端部保持部32のY方向の端部同士を連結し、矩形の枠体を形成している。基板支持枠30は、一体成形されたものでもよく、別体のものを接続したものでもよい。
(把持部)
基板支持枠30には、基板101の周縁を把持する把持部(基板支持部)が形成されている。図9に示すように、基板支持枠30には、トレイ本体21の中央側に(図9では上方へ)張り出す支持板21a(つば部)が形成されている。支持板21aは、基板101の周縁に重なるように形成されている。支持板21aは、正面視において、基板101の非成膜面(裏面)の周縁と対面するように形成されている。
基板支持枠30には、基板101の周縁を把持する把持部(基板支持部)が形成されている。図9に示すように、基板支持枠30には、トレイ本体21の中央側に(図9では上方へ)張り出す支持板21a(つば部)が形成されている。支持板21aは、基板101の周縁に重なるように形成されている。支持板21aは、正面視において、基板101の非成膜面(裏面)の周縁と対面するように形成されている。
支持板21aは、基板支持枠30の4辺(上端部保持部31、下端部保持部32、及び一対の側端部保持部33)に各々形成されている。支持板21aは、上端部保持部31及び下端部保持部32において、Y方向に沿って配置されている。支持板21aは、一対の側端部保持部33において、Z方向に沿って配置されている。
支持板21aの基板101と対向する面には、基板101の裏面101f(非成膜面)と当接する基板受け21bが設けられている。基板受け21bは、X方向から見て、例えば円形に形成されている。基板受け21bは、基板101よりも柔らかい材質によって構成されていると基板101の損傷を抑制できる。基板受け21bは、例えば樹脂によって形成されている。基板受け21bは、支持板21aの長手方向において複数設けられている。支持板21a及び基板受け21bは、基板101の一方の面101f(裏面)に当接可能な第1支持部を構成する。
(開閉式シールド板)
図11に示すように、搬送トレイ20は、基板支持枠30の成膜面側を覆う開閉式シールド板21cを備えている。開閉式シールド板21cは、基板支持枠30に揺動可能に支持されている。基板支持枠30の成膜面側の表面には、回転軸21dが設けられている。開閉式シールド板21cは、回転軸21dを介して、基板支持枠30に支持されている。回転軸21dは、上端部保持部31及び下端部保持部32において、Y方向に延在し、一対の側端部保持部33において、Z方向に延在している。開閉式シールド板21cは、回転軸21d回りに揺動可能な構成とされている。開閉式シールド板21cの先端側が、支持板21aに対して接近、離間する。
図11に示すように、搬送トレイ20は、基板支持枠30の成膜面側を覆う開閉式シールド板21cを備えている。開閉式シールド板21cは、基板支持枠30に揺動可能に支持されている。基板支持枠30の成膜面側の表面には、回転軸21dが設けられている。開閉式シールド板21cは、回転軸21dを介して、基板支持枠30に支持されている。回転軸21dは、上端部保持部31及び下端部保持部32において、Y方向に延在し、一対の側端部保持部33において、Z方向に延在している。開閉式シールド板21cは、回転軸21d回りに揺動可能な構成とされている。開閉式シールド板21cの先端側が、支持板21aに対して接近、離間する。
開閉式シールド板21cが閉じられた状態(図11において実線で図示)において、開閉式シールド板21cの先端側が支持板21aに接近し、開閉式シールド板21cと基板支持枠30とが平行に配置される。開閉式シールド板21cが開いた状態(図11において仮想線で図示)において、開閉式シールド板21cの先端が支持板21aと離間し、開閉式シールド板21cは基板支持枠30に対して傾斜した状態となる。
開閉式シールド板21cの先端の基板101と対向する面には、基板101の表面(成膜面)と当接する基板受け21eが設けられている。基板受け21eは、X方向から見て、例えば円形に形成されている。基板受け21bは、基板101よりも柔らかい材質によって構成されていると基板101の損傷を抑制できる。基板受け21eは、例えば樹脂によって形成されている。基板受け21eは、開閉式シールド板21cの長手方向において複数設けられている。開閉式シールド板21c及び基板受け21eは、基板101の他方の面101e(表面)に当接可能な第2支持部を構成する。
開閉式シールド板21cは、例えば、磁石によって吸引可能な磁性体によって構成されている。図11に示すように、基板支持枠30の開閉式シールド板21cと対向する表面には、磁石21fが設けられている。磁石21fは、開閉式シールド板21cが閉じた状態において、開閉式シールド板21cを吸着する。なお、開閉式シールド板21cが磁石によって構成されて、基板支持枠30に吸着することで、開閉式シールド板21cが閉じられてもよい。開閉式シールド板21c及び基板支持枠30の両方が磁石によって構成されていてもよい。また、その他の構成により、開閉式シールド板21cが閉じられて、開閉式シールド板21cの移動が拘束されてもよい。
開閉式シールド板21cは、押出棒21gによって押し出されて開いた状態となる。基板支持枠30には、板厚方向に貫通する開口部34が設けられている。押出棒21gは、例えば、外部開閉駆動装置200に設けられている。押出棒21gは、基板支持枠30の開口部34を通過して、開閉式シールド板21cを押圧して、開閉式シールド板21cを開状態とする。
図12に示すように、基板支持枠30には、一対のシールド板45,46間で、移動可能な回転ローラ35が設けられている。回転ローラ35は、Y方向に延在する回転軸回りに回転可能に設けられている。回転ローラ35は、基板支持枠30の外枠40と対向する端面に設けられ、一対のシールド板45,46間に配置されている。基板支持枠30の上下動に伴ってシールド板45,46に接すると、回転ローラ35が回転する。回転ローラ35は、基板支持枠30の全ての端面(4辺)に設けられていてもよく、一部の端面に設けられていてもよい。基板支持枠30は、回転ローラ35を備えていない構成でもよい。基板支持枠30が、回転ローラ35を備えていると、基板支持枠30が外枠40に対して、上下方向に変位する際の動きを滑らかにすることができる。これにより、外枠40の振動を吸収し基板101に作用する応力を緩和することができる。
(外枠)
図7に示すように、外枠40は、基板支持枠30の外周側で、基板支持枠30を囲むように形成された矩形の枠体である。外枠40は、上部材41、下部材42、及び一対の側部材43を有する。上部材41、下部材42、及び一対の側部材43は、棒状に形成され、板厚方向がX方向となるように配置されている。外枠40の板厚は、基板支持枠30の板厚よりも少し厚くなっている。
図7に示すように、外枠40は、基板支持枠30の外周側で、基板支持枠30を囲むように形成された矩形の枠体である。外枠40は、上部材41、下部材42、及び一対の側部材43を有する。上部材41、下部材42、及び一対の側部材43は、棒状に形成され、板厚方向がX方向となるように配置されている。外枠40の板厚は、基板支持枠30の板厚よりも少し厚くなっている。
上部材41は、基板支持枠30の上端部保持部31に沿って配置されている。上部材41の天面(上端面)24には、搬送トレイ20の搬送方向(Y方向)を規制するためのガイド溝25が形成されている。ガイド溝25は、後述する従動ローラー12,13(ガイドローラー)が進入可能な構成とされている。ガイド溝25は、Y方向において、天面24の全長にわたり形成されている。ガイド溝25は、下方へ凹むように形成されている。ガイド溝25は、例えば、天面24を切削することで形成されていてもよく、複数の部材を組み付けることで形成されていてもよい。
下部材42は、基板支持枠30の下端部保持部32に沿って配置されている。下部材42は、上部材41と、上下方向(Z方向)に対向して配置されている。下部材42の底面には、搬送方向に延在し、搬送ローラー11の周面に当接可能なレール部26が設けられている。レール部26は、搬送トレイ20の搬送方向Lの全長にわたり直線的に形成されている。搬送トレイ20には、レール部26が設けられているので、搬送トレイ20の搬送を安定化させることができる。レール部26の材質としては、例えばステンレス鋼を用いることができる。
側部材43は、基板支持枠30の側端部保持部33に沿って配置されている。一対の側部材43は、上部材41及び下部材42のY方向の端部同士を連結し、矩形の枠体を形成している。上部材41、下部材42、及び側部材43は、一体成形されたものでもよく、別体のものを接続したものでもよい。
(シールド板)
図9は、下部材42及び下端部保持部32のY方向に交差する断面を示しているが、上部材41及び上端部保持部31、並びに、側部材43及び側端部保持部33も同様の構成である。搬送トレイ20には、基板支持枠30と外枠40との間の隙間GをX方向の両側から覆う一対のシールド板45,46が設けられている。図7及び図8では、シールド板45の図示を省略している。
図9は、下部材42及び下端部保持部32のY方向に交差する断面を示しているが、上部材41及び上端部保持部31、並びに、側部材43及び側端部保持部33も同様の構成である。搬送トレイ20には、基板支持枠30と外枠40との間の隙間GをX方向の両側から覆う一対のシールド板45,46が設けられている。図7及び図8では、シールド板45の図示を省略している。
シールド板45は、外枠40の成膜面側の表面を全面覆うように形成されている。シールド板45は、上部材41、下部材42、及び側部材43に各々固定されている。シールド板45は、取替え可能なように例えばボルト47によって固定されている。
隙間Gは、シールド板45によって成膜面側から覆われている。シールド板45は、基板支持枠30の外側(外枠側)の端部(成膜面側)を覆う位置まで形成されている。図9に示すように、シールド板45は、下部材42及び隙間Gを覆うと共に、下端部保持部32の下端部の一部を覆っている。
シールド板46は、外枠40の非成膜面側の表面の一部(基板支持枠30側)を覆うように形成されている。シールド板46は、上部材41、下部材42、及び側部材43に各々固定されている。シールド板46は、取替え可能なように例えばボルトによって固定されている。
隙間Gは、シールド板46によって非成膜面側から覆われている。シールド板46は、基板支持枠30の外側(外枠側)の端部(非成膜面側)を覆う位置まで形成されている。図9に示すように、シールド板46は、下部材42の一部及び隙間Gを覆うと共に、下端部保持部32の下端部の一部を覆っている。
一対のシールド板45,46は、外枠40に固定され、基板支持枠30側へ張り出すように形成されている。基板支持枠30は、一対のシールド板45,46によって、板厚方向Xの動きが拘束されている。同様に、隙間Gに配置された弾性支持体22は、一対のシールド板45,46によって、板厚方向Xの動きが拘束されている。
(基板位置決めホルダ)
搬送トレイ20は、基板101の位置決めを行う複数の基板位置決めホルダ50を備えている。基板位置決めホルダ50は、上端部保持部31、下端部保持部32、及び一対の側端部保持部33に各々設けられている。基板位置決めホルダ50は、トレイ本体21の4辺全てに設けられている。
搬送トレイ20は、基板101の位置決めを行う複数の基板位置決めホルダ50を備えている。基板位置決めホルダ50は、上端部保持部31、下端部保持部32、及び一対の側端部保持部33に各々設けられている。基板位置決めホルダ50は、トレイ本体21の4辺全てに設けられている。
図13に示すように、基板位置決めホルダ50は、基板101の端面(下端面101b)に当接可能な基板支持部材51を有する。基板支持部材51は、基板101の端面と平行な状態を維持しつつトレイ本体21の中央側へ(図13では上方へ)移動可能なように構成されている。基板位置決めホルダ50は、複数の基板支持部材51を連動させるリンク機構52を備えている。
リンク機構52は、トレイ本体21の板厚方向Xに延在するホルダ開閉軸53(図10参照)と、基端部がホルダ開閉軸53に連結されたリンク部材54と、リンク部材54に連動すると共に、複数の基板支持部材51を連結する連結バー55とを備えている。リンク機構52は、複数の開閉軸53を有する。
図10に示すように、ホルダ開閉軸53は、基板支持枠30を貫通している。ホルダ開閉軸53は、軸受け56によって軸回りに回転可能に支持されている。ホルダ開閉軸53の正面側(非成膜面側、図10における左側)の端部53aは、搬送トレイ20の正面側に突出している。ホルダ開閉軸53の正面側の端部53aに、外部開閉駆動装置200が連結され回転駆動力が伝達される。
ホルダ開閉軸53の背面側の端部53bは、搬送トレイ20の背面側に突出している。本実施形態では、一つのリンク機構52に対して、3本のホルダ開閉軸53が設けられている。複数のホルダ開閉軸53の背面側の端部53bには、リンク部材54が各々連結されている。リンク部材54は、ホルダ開閉軸53の径方向に張り出すように延在している。リンク部材54は、ホルダ開閉軸53の回転に伴って回転する。
リンク部材54の先端部は、X方向に延在するピン57を介して、連結バー55に連結されている。連結バー55は、複数のリンク部材54によって支持されている。複数のリンク部材54は、互いに平行となるように配置されている。連結バー55は、複数のリンク部材54に連動し、リンク部材54の先端部の位置に応じて、基板101の端面との平行を維持しつつ移動する。
(回動ストッパー)
基板位置決めホルダ50は、設置される位置(上端部保持部31、下端部保持部32、又は側端部保持部33)に応じて、異なる構成でもよい。図13に示すように、基板位置決めホルダ50は、連結バー55の停止位置を規制する回動ストッパー58を備えている。下端部保持部32に設けられた基板位置決めホルダ50の回動ストッパー58は、例えばリンク部材54が上死点となる位置で、連結バー55の位置を規制し、リンク部材54、回動ストッパー58、及び基板支持部材51の停止位置を規制する。連結バー55は、回動ストッパー58に当接してその動きを停止させる。
基板位置決めホルダ50は、設置される位置(上端部保持部31、下端部保持部32、又は側端部保持部33)に応じて、異なる構成でもよい。図13に示すように、基板位置決めホルダ50は、連結バー55の停止位置を規制する回動ストッパー58を備えている。下端部保持部32に設けられた基板位置決めホルダ50の回動ストッパー58は、例えばリンク部材54が上死点となる位置で、連結バー55の位置を規制し、リンク部材54、回動ストッパー58、及び基板支持部材51の停止位置を規制する。連結バー55は、回動ストッパー58に当接してその動きを停止させる。
上端部保持部31(図示上側)又は側端部保持部33(図示左側及び右側)に設けられた基板位置決めホルダ50の回動ストッパー58は、例えばリンク部材54が上死点を通り過ぎた後で、連結バー55の位置を規制し、リンク部材54、回動ストッパー58、及び基板支持部材51の停止位置を規制する。具体的には、リンク部材54が上死点となる位置よりも手前で、基板支持部材51と基板101とを当接させることで、リンク部材54が上死点となる位置より手前で停止する。基板101を固定する際に、上側、左側、及び右側のリンク部材54は、回動ストッパー58に接触していない。これにより、弾性力が効いた状態で、基板101の上端面、左側端面、及び右側端面を保持するため、基板101の損傷を抑制しつつ基板を位置決めすることが可能となる。なお、下側のリンク部材54のみ回動ストッパー58に接触させて上死点で停止させるのは、下側のリンク部材54には基板101の重量が作用するためである。
(付勢機構)
基板位置決めホルダ50は、図8に示すように、連結バー55を付勢する付勢機構61を備えている。付勢機構61は、連結バー55と基板支持枠30とを連結する引張コイルばね62を有する。連結バー55には、外枠40側へ張り出す張出部55aが設けられている。引張コイルばね62の一端側は、張出部55aに連結され、引張コイルばね62の他端側は、基板支持枠30(上端部保持部31、下端部保持部32、一対の側端部保持部33)に連結されている。連結バー55は、引張コイルばね62の引張力により付勢されて、基板支持部材51が基板101側へ移動する。連結バー55は、引張コイルばね62により付勢されて、回動ストッパー58に当接して停止する。
基板位置決めホルダ50は、図8に示すように、連結バー55を付勢する付勢機構61を備えている。付勢機構61は、連結バー55と基板支持枠30とを連結する引張コイルばね62を有する。連結バー55には、外枠40側へ張り出す張出部55aが設けられている。引張コイルばね62の一端側は、張出部55aに連結され、引張コイルばね62の他端側は、基板支持枠30(上端部保持部31、下端部保持部32、一対の側端部保持部33)に連結されている。連結バー55は、引張コイルばね62の引張力により付勢されて、基板支持部材51が基板101側へ移動する。連結バー55は、引張コイルばね62により付勢されて、回動ストッパー58に当接して停止する。
(外部開閉駆動装置)
図14は、外部開閉駆動装置200を示す背面図である。図14では、搬送トレイ20を二点鎖線で図示し、外部開閉駆動装置200を搬送トレイ20と対面する側から示している。外部開閉駆動装置200は、基板着脱装置160に設けられ、搬送トレイ20の基板位置決めホルダ50を駆動する。
図14は、外部開閉駆動装置200を示す背面図である。図14では、搬送トレイ20を二点鎖線で図示し、外部開閉駆動装置200を搬送トレイ20と対面する側から示している。外部開閉駆動装置200は、基板着脱装置160に設けられ、搬送トレイ20の基板位置決めホルダ50を駆動する。
外部開閉駆動装置200は、駆動源となるエアシリンダ201と、エアシリンダ201によって回転駆動されるホルダ開閉歯付プーリー202と、ホルダ開閉歯車202の回転に連動する歯付ベルト203と、歯付ベルト203の移動に伴って回転するホルダ開閉歯付プーリー204と、ホルダ開閉歯車202,204に隣接して設けられたアイドラープーリー205(従動車)と、を備えている。外部開閉駆動装置200は、例えば矩形の枠体210を備え、エアシリンダ201、ホルダ開閉歯車202,204、及びアイドラープーリー205は、枠体210に支持されている。
ホルダ開閉歯車202は、エアシリンダ201によって駆動され、X方向に延在する回転軸回りに回転する。ホルダ開閉歯車202の回転軸は、基板位置決めホルダ50のホルダ開閉軸53と連結可能な構造となっている。ホルダ開閉歯車202の搬送トレイ20側の端部には、ホルダ開閉軸53の端部53a(図10参照)が挿入される凹部(駆動穴)が設けられている。
歯付ベルト203(無端ベルト)は、ホルダ開閉歯車202,204、アイドラープーリー205に架け渡されている。ホルダ開閉歯車202の回転駆動力が、歯付ベルト203によって伝達され、ホルダ開閉歯車204、及びアイドラープーリー205がX方向に延在する回転軸回りに回転する。ホルダ開閉歯車204の回転軸は、基板位置決めホルダ50のホルダ開閉軸53と連結可能な構造となっている。ホルダ開閉歯車202の搬送トレイ20側の端部には、ホルダ開閉軸53の端部53aが挿入される凹部が設けられている。
アイドラープーリー205は、ホルダ開閉歯車202,204の近傍に配置され、歯付ベルト203をホルダ開閉軸53へ押し付ける。これにより、歯付ベルト203をホルダ開閉歯車202,204に確実に噛み合わせることができる。
外部開閉駆動装置200は、枠体210をX方向に駆動することで、搬送トレイ20に対して接近、離間させる。枠体210を駆動する機構としては、例えば、ボールねじを有する機構が挙げられる。その他のシリンダ、駆動モータ、ガイド部材などを備える駆動機構でもよい。外部開閉駆動装置200は、枠体210を搬送トレイ20に接近させて、ホルダ開閉歯車202,204と、基板位置決めホルダ50のホルダ開閉軸53を連結する。これにより、外部開閉駆動装置200による駆動力がホルダ開閉軸53に伝達され、基板位置決めホルダ50を開閉することができる。
外部開閉駆動装置200は、枠体210を搬送トレイ20から離間させて、ホルダ開閉歯車202,204と、ホルダ開閉軸53との接続を解除することができる。
(動作・作用)
次に、本実施形態の成膜装置100の作用について説明する。まず、基板101は、水平状態で搬送されて、成膜装置100に搬入される。基板101は、基板搬入コンベア195によって、搬送されて、周回軌道(搬送経路L)の外側から内側へ搬送される。
次に、本実施形態の成膜装置100の作用について説明する。まず、基板101は、水平状態で搬送されて、成膜装置100に搬入される。基板101は、基板搬入コンベア195によって、搬送されて、周回軌道(搬送経路L)の外側から内側へ搬送される。
成膜装置100は、搬送トレイ20の周回軌道の内側で、水平状態の搬送トレイ20上に基板101を載置する。基板101は搬送トレイ20に保持される。成膜装置100は、搬送トレイ20及び基板101を回転させて、水平状態から直立させた状態に搬送トレイ20及び基板101の姿勢を変化させる。この成膜装置100では、搬送トレイ20の周回軌道の内側に基板101を受入れることができるので、周回軌道の内側のスペースを利用することができる。これにより、成膜装置全体としての省スペース化を図ることができる。
成膜装置100の基板着脱装置160は、搬送トレイ20を保持するトレイ傾転フレーム161を直立状態(第1の姿勢)から水平状態(第2の姿勢)へ、トレイ傾転フレーム161の姿勢を切替えることができる。基板着脱装置160は、トレイ傾転フレーム161が第2の姿勢のときに、水平状態で搬送されてきた基板101を、搬送トレイ20に載置する。基板着脱装置160は、トレイ傾転フレーム161を傾転させて第2の姿勢から第1の姿勢へ変更することで、搬送トレイ20及びこの搬送トレイ20に保持された基板101を直立させることができる。
水平状態の基板101が水平状態の搬送トレイ20に載置された後、外部開閉駆動装置200は、基板位置決めホルダ50を駆動する。基板位置決めホルダ50は、トレイ本体21の辺(上端部保持部31、下端部保持部32、及び側端部保持部33)と平行な状態を維持しながら、基板支持部材51を基板101に接近させる。これにより、基板支持部材51は、基板101の端面と平行な状態を維持しながら、基板101の端面に当接する。そのため、基板101の端面と基板支持部材51とが点接触することが回避され、基板101を保持する際に基板101に作用する応力を分散させることができる。
また、搬送トレイ20では、基板支持部材51が、トレイ本体21の各々の辺に取り付けられているので、Z方向及びY方向の両側から保持することができ、基板101を保持する際に基板101に作用する応力を分散させることができる。また、基板支持部材51を、複数の方向からトレイ本体21の中央へ移動させて基板101の端面に当接させることで、基板101の位置を調整して基板101を保持することができる。そのため、トレイ本体21に対して基板が正確に配置されていない状態であっても、基板を位置決めして保持することができる。
搬送トレイ20は、リンク機構52を備え、複数の基板支持部材51を連動させて、基板101を位置決めして保持することができるので、複数の基板支持部材51を同時に基板101の各端面に当接させることができる。これにより、基板101に作用する応力を分散さえることができる。
基板101の下端面に当接する基板支持部材51を有するリンク機構52は、上死点でリンク部材54の位置を固定することができ、この位置で基板101を保持することができるので、基板101に過度の応力が作用することが防止されている。基板101の上端面又は側端面に当接する基板支持部材51を有するリンク機構52は、上死点の手前でリンク部材54を停止させるように、基板支持部材51と基板101とを当接させることができるので、弾性力が効いた状態で、基板101の上端面及び側端面を保持することができる。そのため、基板101の損傷を抑制しつつ基板101を位置決めすることができる。また、常に基板101の端面に平行に当接する基板支持部材51が、4辺に対応するリンク機構52にそれぞれ設けられているので、基板101に作用する応力の分散化を図ることができる。
搬送トレイ20は、基板支持枠30が弾性支持体22によって外枠40に対して支持されているので、基板101に作用する振動を緩和することができる。なお、基板支持枠30の底面側の辺に対して配置された弾性支持体22の剛性は、その他の辺に対して配置された弾性支持体22の剛性よりも高くてもよい。これにより、搬送方向Lの振動よりも、上下方向Zの振動を抑制することができる。
以上、本発明をその実施形態に基づき具体的に説明したが、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。本発明の成膜装置は、イオンプレーティング法に限定されず、その他の成膜法(例えばスパッタリング法など)を適用してもよい。
本発明の成膜装置及び成膜装置用トレイは、基板を直立させて搬送するものに限定されず、基板を傾斜させて搬送するものでもよい。例えば、上記の成膜装置及び搬送トレイを傾けることで、傾斜した基板を搬送する構成でもよい。例えば、搬送ローラーの周面が、回転軸線と交差するように形成されているものでもよい。基板を傾斜させて支持する搬送トレイを用いて、基板を搬送する成膜装置でもよい。基板を傾ける場合の傾斜角度は、鉛直方向に対して0°〜15°程度とすることができる。
上記実施形態では、成膜チャンバー123の一部の壁体を開閉自在な構成としているが、その他のチャンバーも成膜チャンバー123と同様に一部の壁体を開閉自在な構成としてもよい。
10…搬送装置(トレイ搬送機構)、20…搬送トレイ、100…成膜装置、101…基板、121〜125…真空容器、140…蒸着装置(成膜機構)、160A…基板装着装置(基板受入部)、160B…基板離脱装置(基板回収部)、161…トレイ傾転フレーム、191,192,195…搬送ローラ(基板搬送機構)、L1…第1搬送経路(第1の直線部)、L2…第2搬送経路(第3の直線部)、L3…第3搬送経路(第2の直線部)、L4…第4搬送経路(第3の直線部)。
Claims (3)
- 基板に成膜処理を行う成膜装置であって、
前記基板を収容可能な真空容器と、
前記真空容器内で、前記基板に成膜する成膜機構と、
前記基板の板厚方向が水平方向となるように、前記基板を直立させた状態で、前記基板を保持可能な基板搬送トレイを、平面視において環状の周回軌道に沿って搬送させるトレイ搬送機構と、
前記基板を水平状態で搬送し、前記周回軌道の外側から内側へ通過させる基板搬送機構と、
前記周回軌道の内側で、水平状態の前記基板搬送トレイ上に前記基板を載置して、前記基板搬送トレイに前記基板を保持させ、前記基板搬送トレイ及び前記基板を回転移動させ、前記直立させた状態にする基板受入部と、を備える成膜装置。 - 前記真空容器から搬出された成膜後の前記基板を、前記基板搬送トレイから取り外して回収する基板回収部を備え、
前記トレイ搬送機構は、前記基板搬送トレイを直立させた状態で、前記基板回収部から前記基板受入部へ搬送する請求項1に記載の成膜装置。 - 前記トレイ搬送機構は、前記周回軌道が平面視において矩形状であり、
前記基板及び当該基板を保持する前記基板搬送トレイを、前記基板の板厚方向と交差する第1の搬送方向に搬送する第1の直線部と、
基板を保持していない前記基板搬送トレイを、前記第1の搬送方向と逆方向である第2の搬送方向に搬送する第2の直線部と、
前記第1の直線部と前記第2の直線部との間で前記基板搬送トレイの板厚方向に前記基板搬送トレイを搬送する第3の直線部と、を備える請求項1又は2に記載の成膜装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2012225405A JP2014078600A (ja) | 2012-10-10 | 2012-10-10 | 成膜装置 |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2016167233A1 (ja) * | 2015-04-15 | 2018-01-11 | 株式会社アルバック | 基板保持機構、成膜装置、および基板の保持方法 |
CN113677823A (zh) * | 2019-02-20 | 2021-11-19 | 欧瑞康表面处理解决方案股份公司普费菲孔 | 用于在模块式涂覆设备中输送并移动基片的优化系统和方法 |
-
2012
- 2012-10-10 JP JP2012225405A patent/JP2014078600A/ja active Pending
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